JP2002222853A - 基板用キャリア、キャリアホルダ及びこれらを利用した基板処理装置及び方法 - Google Patents

基板用キャリア、キャリアホルダ及びこれらを利用した基板処理装置及び方法

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JP2002222853A JP2001019860A JP2001019860A JP2002222853A JP 2002222853 A JP2002222853 A JP 2002222853A JP 2001019860 A JP2001019860 A JP 2001019860A JP 2001019860 A JP2001019860 A JP 2001019860A JP 2002222853 A JP2002222853 A JP 2002222853A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 容易なハンドリングと良好な位置決め精度を
達成でき、以て生産効率の向上と品質の安定化を促進す
ることができる基板用キャリア及び該基板用キャリアの
キャリアホルダを提供すること。 【解決手段】 基板2を保持した基板用キャリア1をキ
ャリアホルダ10に収容することで、基板2を基板支持
面13Aに載置する。基板2が基板支持面13Aに載置
されたら基板2を真空吸着穴13Bを介して吸着支持す
ると共に、グリップ26を解放してスプリング27の弾
性力を介して、押圧部材21で基板2を基板側面支持面
13Eに押圧付勢する。これにより、容易なハンドリン
グと良好な位置決め精度を達成でき、以て生産効率の向
上と品質の安定化を促進できる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、基板用キャリア、
該基板用キャリアを収容して保持するキャリアホルダ、
及びこれらを利用して基板に対する各種処理(搬送、搬
入、搬出、ボンディング等の実装処理等)を行う基板処
理装置及び方法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来においては、SAW(表面弾性波)
フィルターやTCXO(温度補償型水晶発振器)のパッ
ケージ等のように、1つ1つの基板が小さい場合には、
扱い易さ等の観点から、かかる小さな基板を一体的に複
数集合させて所謂集合基板を形成し、これを用いて実装
装置への搬入(供給)、搬出(排出)、保持(クラン
プ)などを行うようにしている。例えば、TCXOの単
体基板(W5mm×D3.2mm×T0.65mm,
W;幅、D;奥行き、T厚さ)を、14列×18列=2
52個の集合板としたもの等がある。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかし、例えば、セラ
ミック製の集合基板においては、個々の基板(単体基
板)としては良品であっても、集合された結果、集合基
板全体として比較的反りが大きくなる等するため、フリ
ップチップの実装に悪影響を与える惧れがある。即ち、
フリップチップの実装では、前記反りの影響で各基板の
高さ位置にバラツキが生じる惧れがあり、以って接合に
悪影響を及ぼす惧れがある。また、超音波振動を用いて
接合する場合、前記反りの影響で基板下面が十分に支持
面に接触して支持されなくなる惧れがあり、かかる場合
には、振動の逃げが生じる等して安定した品質を維持で
きなくなる惧れがある。
【0004】また、個々の基板(単体基板)の製作が困
難で歩留まりが悪い場合に集合基板とするような場合に
は、集合基板が不良な単体基板を含んでいる惧れが比較
的高いが、このような場合においては、不良な部分も良
好な部分と伴に集合基板として各工程を流すことになる
ため、不良な部分に対しても良好な部分と同様に各種処
理操作を行うこととなり、以て無駄な作業が発生し作業
効率が低下するといった惧れがある。
【0005】以上のような場合に、基板単体を個々に各
工程に流すことも考えられるが、小さな基板単体を一個
一個実装ステージに供給し、固定し、実装し、排出する
ことは、煩雑であると共に、ハンドリング時間が基板単
体毎に必要になるため、生産の能率が低下するといった
惧れや、ハンドリング装置が専用的なものとなり汎用性
が低下するといった惧れがある。
【0006】ところで、比較的扱い易い大きさのキャリ
アに基板(単体或いは複数の場合がある)を収容して各
種処理操作を行う方法もあるが、かかる場合でも、振動
により位置ズレが起きたり、キャリアの反りや厚さのバ
ラツキなどにより処理操作延いては品質が不安定となる
などの惧れがある。
【0007】本発明は、かかる従来の実情に鑑みなされ
たもので、容易なハンドリングと良好な位置決めを達成
でき、以て生産効率の向上と品質の安定化を促進するこ
とができる基板用キャリア及び該基板用キャリアのキャ
リアホルダを提供することを目的とする。また、これら
を用いて基板に対する各種処理を行う基板処理装置及び
基板処理方法を提供することを目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】このため、請求項1に記
載の発明に係る基板用キャリアは、基板を所定の収容部
に収容可能な基板用キャリアであって、前記収容部が、
当該基板用キャリアを貫通して形成される開口部であっ
て、収容する基板の奥行き方向におけるD寸法より所定
量大きなD1寸法を有すると共に、収容する基板の幅方
向におけるW寸法より所定量小さなW1寸法を有する開
口部と、前記幅方向において前記開口部の開口に臨んで
配設される一対の相対面する窪み部であって、各窪み部
が基板の幅方向における端部の少なくとも一部を収容
し、基板の収容部への挿入方向と対向する方向から基板
を支持可能に構成された窪み部と、を含んで構成され
る。
【0009】請求項2に記載の発明では、前記収容部が
複数配設される構成とする。請求項3に記載の発明に係
るキャリアホルダは、請求項1又は請求項2に記載の基
板用キャリアを支持するキャリアホルダであって、前記
基板用キャリアのキャリアホルダへの搬入方向と対向す
る方向から当該基板用キャリアを支持するキャリア支持
部と、該キャリア支持部と一体的に構成されるベース部
と、基板用キャリアのキャリア支持部への搬入方向と対
向する方向に前記ベース部から突設される基板支持部で
あって、前記基板用キャリアが前記キャリア支持部に少
なくとも完全に支持されたときに、基板用キャリアが収
容していた基板の下面を、基板の厚さ方向において前記
基板用キャリアから所定量離間させた状態で載置可能
な、加工基準面としての機能を有する基板支持面を含ん
で構成された基板支持部と、を含んで構成される。
【0010】即ち、本発明に係る扱い易い基板用キャリ
アと、基板の下面を高精度に位置決め支持することがで
きるキャリアホルダと、によれば、基板のハンドル(搬
入、搬出、実装等)を容易なものとすることができると
共に、基板を基板用キャリアとは別個独立の基板支持面
に載置して支持するので、基板用キャリアの反りや加工
精度の影響を極力回避できるため、基板の高さ方向にお
ける位置決めを高精度化することができると共に、基板
下面が基板支持面に十分に接触支持されない場合に生じ
る超音波振動における振動の逃げの問題等をも回避する
ことができ、以って品質の安定化等を促進することがで
きることとなる。
【0011】請求項4に記載の発明では、前記基板支持
面に基板を載置したときに、該基板の下面が、前記ハウ
ジング部の凹部に収容されている前記基板用キャリアの
上面から突出しないように、各部の寸法を設定する。
【0012】請求項5に記載の発明に係るキャリアホル
ダは、更に、前記キャリア支持部への基板用キャリアの
搬入方向と対向する方向に前記ベース部から突設され、
前記基板支持面に略直交しかつ前記D方向に略直交する
平面であって前記基板支持面に載置された基板の一側面
に当接して加工基準面として機能する基板側面支持面を
含む基板側面支持部と、前記ベース部に一体的に配設さ
れ、前記基板支持面に載置された基板を、前記基板側面
支持面に当接させ押圧付勢することができると共に、該
押圧付勢を解放することができる押圧・解放手段と、を
含んで構成される。
【0013】上記のように構成すれば、ボンディングス
テージ等のフリップチップ実装時に基板が基板支持面内
で遊動することを効果的に抑制することが可能となるた
め、実装特性を一層良好なものとすることができ、延い
ては生産能率と品質の向上を一層促進することができる
こととなる。請求項6に記載の発明では、更に、前記基
板支持面に臨んで開口される真空吸着穴を介して前記基
板支持面に載置される基板の下面を真空吸着する真空吸
着手段を含んで構成する。
【0014】かかる構成とすれば、基板の基板支持面に
対する密着度合いを高めることができるため、より一
層、基板2のハンドル特性等を改善できると共に、品質
の向上等を促進することができる。請求項7に記載の発
明では、更に、前記基板支持部の前記基板支持面を介し
て、該基板支持面に載置される基板を加熱する加熱手段
を含んで構成される。請求項8に記載の発明では、前記
基板側面支持部の前記基板側面支持面を介して、前記基
板支持面に載置される基板を加熱する側面加熱手段を含
んで構成される。
【0015】上記のように構成すれば、基板用キャリア
を加熱して基板を間接的に加熱する従来のものに比べ、
基板を基板支持面(基板側面支持面)等を介して直接加
熱することができるので、基板用キャリアの温度による
変形や反り等を極力抑制することができ、基板の製造品
質を一層高精度化することが可能となる。また、比較的
接触面の大きな基板支持面(基板側面支持面)等を介し
て基板を加熱するので、加熱効率が向上し、以て安定し
たボンディング品質の提供と少ない電力消費とを達成す
ることが可能となる。なお、例えば、良好な温度特性を
実現するために、温度センサ(熱電対)等を設け、該検
出温度結果に応じて加熱手段(側面加熱手段)の加熱量
をフィードバック制御等することもできるものである。
【0016】請求項9に記載の発明に係る基板処理装置
は、請求項3〜請求項8の何れか1つに記載のキャリア
ホルダを備えて構成される。かかる構成によれば、本発
明に係るキャリアホルダを備えた基板処理装置を提供で
きることになる。なお、本発明では、基板処理方法とし
て、基板が収容された請求項1又は請求項2に記載の基
板用キャリアを、請求項3〜請求項5の何れか1つに記
載のキャリアホルダに支持させ、前記基板用キャリアが
収容する基板を前記基板支持面に載置させると共に、前
記押圧・解放手段を介して当該基板を前記基板側面支持
面に押圧付勢しつつ、当該基板に対して所定処理を実行
することを特徴とする処理方法を提供する。
【0017】また、本発明では、更に、請求項6に記載
の真空吸着手段が備わる場合に、該真空吸着手段を介し
て基板を前記基板支持面に真空吸着しつつ、前記基板に
対して処理を実行することを特徴とする基板処理方法を
提供する。更に、本発明では、請求項7又は請求項8に
記載の加熱手段の少なくとも一方が備わる場合に、該加
熱手段を介して前記基板を所定に加熱しつつ、前記基板
に対して処理を実行することを特徴とする基板処理方法
を提供する。
【0018】
【発明の実施の形態】以下、本発明の一実施の形態を、
添付の図面に基づいて説明する。図1、図2は、本発明
の一実施の形態に係る基板用キャリアの構成例を示す。
図1、図2に示すように、本実施形態に係る基板用キャ
リア1は、比較的小さな基板2、例えばTCXOの単体
基板(W5mm×D3.2mm×T0.65mm)を収
容可能な収容部4を有する所定サイズの板状部材3で構
成される。なお、図1,図2では、単一の収容部4を備
えたキャリアを例示しているが、基板用キャリア1は収
容部4を複数備えることもできるものである。また、板
状部材3は、一例に過ぎず、図示した形状に限定される
ものではなく、また板状形状に限定されるものでもな
い。
【0019】かかる収容部4は、図1,図2に示すよう
に、板状部材3の表面3Aに略直交する方向に板状部材
3を貫通して形成される開口であって、収容する基板2
の奥行き方向(D方向)における寸法(D寸法)より所
定量大きなD1寸法を有する一方、収容する基板2の幅
方向(W方向)における寸法(W寸法)より所定量小さ
なW1寸法を有する開口部5と、該開口部5のW方向に
おいて該開口部5の開口に臨んで配設される一対の相対
面する窪みであって、基板2のW方向端部2A,2Bを
各々収容し、基板2の収容部4への挿入方向(図2参
照)と対向する方向から基板2を支持する窪み部6A,
6Bと、を含んで構成される。
【0020】なお、前記開口部5のD1寸法やW1寸法
は、例えば、基板用キャリア1(窪み部6A,6B)へ
の基板2の搬入・搬出・固定等に要するスペース(例え
ば、搬入・搬出アーム等の挿入スペースの確保)や、後
述する基板側面支持部13Dや押圧部材21等を収容可
能なスペース等が考慮されて決定される。
【0021】前記窪み部6A,6Bは、該窪み部6A,
6Bに収容され支持される基板2を板状部材3との相対
位置関係を所定に維持できるようなW2,D2寸法及び
厚さ方向T2寸法(板状部材3の表面3Aからの深さ)
をもって形成される(図1,図2参照)。即ち、基板2
を収容した基板用キャリア1のハンドル時(装置への搬
入・搬出・実装時など)において、基板2が脱落等する
ことのない良好なハンドル特性を達成できるサイズで、
窪み部6A,6Bは形成されることができる。次に、本
実施の形態に係るキャリアホルダ10について、図2〜
図5に基づいて説明する。
【0022】本実施の形態に係るキャリアホルダ10
は、移動可能として基板用キャリア1のハンドル時に用
いることができるが、例えば、ボンディングステージ等
の実装時等において、基板用キャリア1延いては基板2
の位置決め等を達成するために実装装置等に固定して利
用することもできる。
【0023】図2に示すように、キャリアホルダ10
は、ハウジング部11と、ベース部14と、を備え、前
記基板用キャリア1の周囲を包囲して該基板用キャリア
1の周囲をキャリア挿入(或は搬入)方向と対向する方
向から支持する凹部12をハウジング部11の上端部の
内周側に備えると共に、該キャリアホルダ10に収容さ
れる基板用キャリア1の収容部4に対応して設けられ、
基板用キャリア1の前記凹部12への挿入方向と対向す
る方向に前記ベース部14から突設される基板支持部1
3を備えて構成される。前記凹部12は、本発明に係る
キャリア支持部として機能するものであるが、本発明に
係るキャリア支持部は、当該凹部12に限定されるもの
ではなく、例えば、基板用キャリア1に開口部(複数で
あっても良い)を設けると共に、これにキャリア1を挿
通し挿入方向反対側から該基板用キャリア1を所定位置
に支持可能なピン状部材をベース部14から突設して構
成することもできる。
【0024】なお、図2に示すように、基板用キャリア
1がキャリアホルダ10(凹部12)に収容されたとき
の基板支持部13の基板支持面13A(該基板支持面1
3Aは、基板2の下面基準面、即ち高さ方向(T方向)
における加工基準面として機能する)の基板用キャリア
1の上面1Aからの距離(深さ)Xは、基板支持部13
がないとした場合に基板用キャリア1が基板2を収容し
たとしたときの基板用キャリア1の上面1Aから基板2
の下面(本実施の形態では、基板用キャリア1の上面1
Aから深さ1mmの位置)までの距離Yより小さな値と
なるように、基板支持部13は構成されている。
【0025】従って、本実施の形態においては、基板2
を収容した基板用キャリア1を、キャリアホルダ10の
凹部12に挿入する際、基板用キャリア1の下面1Bが
凹部12のキャリア支持面12Aに着座する前に、基板
用キャリア1に収容保持されている基板2は基板支持部
13の基板支持面13Aに当接することとなるため、基
板用キャリア1が凹部12に完全に収容されたときに
は、基板2はT方向において基板用キャリア1から離
れ、加工基準面として精確に形成されている基板支持面
13Aに載置され支持されることになる。即ち、該キャ
リアホルダ10を用いれば、基板用キャリア1の精度
(反りや厚さのバラツキ)等の影響を受けることなく水
平度を高精度に維持することができ、以て基板2の高さ
方向(T方向)における高精度な位置決めが可能とな
る。
【0026】なお、本実施の形態においては、図2に示
すように、基板用キャリア1がキャリアホルダ10に完
全に収容され基板2が基板支持部13によって支持され
たときでも、基板2の下面が、基板用キャリア1の上面
1Aから突き出ることがないような位置関係に各寸法が
設定されることが好ましい。これにより、例えば実装終
了後などにおいて、キャリア1をキャリアホルダ10か
ら脱退させる際に、基板2が収容部4の内側壁によって
良好にガイドされ、基板2の基板用キャリア1の収容部
4への再収容が円滑に行われることになる。
【0027】ところで、本実施の形態においては、図
2、図4、図5等に示すように、基板2が安定して基板
支持面13Aに支持され得るように、基板2の下面を基
板支持面13A側に吸着するための真空吸着手段を含む
ことができ、当該手段に係る真空吸着穴13Bを基板支
持面13Aに設けることができる。この真空吸着穴13
Bは、図5に示すように、通路13C等を介して図示し
ない吸着/解放切換弁延いては真空ポンプ等に連通され
る。
【0028】また、本実施の形態に係るキャリアホルダ
10には、基板支持面13Aに載置された基板2を、図
1、図3〜図6等におけるD方向において位置決めする
ための基板ロック装置20が設けられている。該基板ロ
ック装置20は、キャリアホルダ10を移動可能として
基板用キャリア1のハンドル時に用いることができる
が、例えば、ボンディングステージ等の実装時等におい
て、基板用キャリア1延いては基板2の位置決め等を達
成するために実装装置等に固定されて利用されることも
できる。
【0029】この基板ロック装置20は、本発明に係る
押圧・解放手段に相当するもので、図3に示すように、
基板2の側面2Cに当接して押圧する押圧部材21と、
該押圧部材21を支持するロックアーム22と、該ロッ
クアーム22を枢動自在に支持すると共にベース部14
に固定される枢動支持部23と、前記枢動支持部23と
前記押圧部材21を挟んで反対側でロックアーム22に
設けられ該ロックアーム22とロック開閉バー25とを
回動自由に連結する連結部24と、を含んで構成され
る。更に、キャリアホルダ10とロックアーム22との
間で作用して、ロックアーム22を前記枢動支持部23
を中心として図3及び図4中時計回転方向に押圧付勢す
るためのスプリング28が配設される。
【0030】前記ロック開閉バー25は、図3,図4,
図6等に示すように、キャリアホルダ10のハウジング
部11をD方向にスライド可能に挿通されており、一端
部にグリップ26が取り付けられると共に、他端部25
Aとキャリアホルダ10との間にスナップリング等を介
してスプリング27が取り付けられている。また、この
ロック開閉バー25は、図6に示すように、前記連結部
24との連結部位において、ロックアーム22の回転平
面と略平行な平板形状部25Cを有しており、該平板形
状部25CをT方向から挟み込むようなかたちで、前記
連結部24が該ロックアーム22に回動自由に連結され
る。この一方、D方向においては、連結部24は、平板
形状部25Cの両サイドの立ち上がり側壁25D及び2
5Eとの間で、前記ロック開閉バー25に対して遊動可
能に連結されている。
【0031】ところで、前記基板支持部13には、図3
〜図6に示すように、前記基板支持面13Aに略直交し
かつD方向に略直交する、前記基板支持面13Aから該
基板支持面13Aに載置される基板2側に延び加工基準
面として機能する基板側面支持面13Eを含む基板側面
支持部13Dが、前記基板支持面13Aに載置される基
板2を挟んで前記押圧部材21と対向する位置に備えら
れている。前記基板支持部13と、基板側面支持部13
Dと、は別体で設けることも可能である。
【0032】なお、前記押圧部材21と前記基板側面支
持部13Dは、前記基板用キャリア1の開口部5に臨ん
で収容されており、且つ、基板2を前記押圧部材21と
前記基板側面支持部13Dとの間で挟持することができ
るように、図5,図6に示す如く基板2表面から所定量
突出して形成されている。そして、本実施の形態におい
ては、前記基板ロック装置20と、前記基板側面支持部
13Dと、により、以下のようにして、基板2は、図3
においてD方向における位置決めが行われる。
【0033】まず、基板2を保持した基板用キャリア1
をキャリアホルダ10に収容して、基板2を基板支持面
13Aに載置させる際には、基板2が円滑かつ良好に基
板支持面13Aに載置されるべく、基板2が前記押圧部
材21と当接しないように、前記開閉バー25を、前記
グリップ26を介して、前記スプリング27及びスプリ
ング28の付勢力に抗して押圧部材21を基板2から離
間させる方向(図3において下方)にスライドさせてお
く。
【0034】なお、基板2を保持した基板用キャリア1
をキャリアホルダ10に収容する際には、前記基板2が
基板側面支持部13Dと当接等して基板用キャリア1に
対して位置ズレを起こしたり脱落などしないように、基
板2を窪み部6A,6BのD方向における略中央部に配
置する一方、基板側面支持面13Eが基板2から十分離
間した開口部5内の所定位置に位置するように基板用キ
ャリア1はキャリアホルダ10に収容される。その後、
基板用キャリア1とキャリアホルダ10とを、例えばエ
アシリンダ等のアクチュエータ及びガイド等を介して相
対移動させ、基板2と基板側面支持面13Eとを当接さ
せる。このようにするのは、加工精度などの問題で、後
述するようにして押圧部材21で基板2を押圧したとき
に、基板2が、基板側面支持面13Eに当接するより先
に、窪み部6A、6Bの基板側面支持面13E側のD方
向に略直交する側面に当接してしまい、基板2を基板側
面支持面13Eに押圧することにより達成される良好な
位置決め特性を得ることができなくなるのを回避するた
めである。
【0035】続いて、基板2がキャリアホルダ10の基
板支持面13Aに載置され、基板用キャリア1とキャリ
アホルダ10とが相対移動され、基板2と基板側面支持
面13Eとが当接したら、基板2を真空吸着穴13Bを
介して基板支持面13Aに吸着支持する一方で、前記グ
リップ26を解放し、前記スプリング28の付勢力を介
して、押圧部材21が基板2へ接近する方向(図5にお
いて上方)に前記開閉レバー25をスライドさせる。即
ち、これにより、前記開閉バー25に前記連結部24を
介して連結されたロックアーム22が前記枢動支持部2
3を枢動支点として図3中時計方向に回動され、前記押
圧部材21が基板2の側面2Cと当接して当該基板2を
前記基板側面支持面13Eに前記スプリング28の付勢
力で押圧することになる。
【0036】なお、スプリング27は、開閉レバー25
の遊動等を防止するために主に機能するもので、基板2
を前記基板側面支持面13Eに押圧付勢することには寄
与しない。即ち、ロックアーム22の連結部24は、押
圧部材21で基板2を前記基板側面支持面13Eに押圧
付勢しているときは、図6に示すように、ロックアーム
22の平板形状部25Cからの立ち上がり側面25Dと
連結部24の端部との間には所定間隙Cが存するように
構成されているため(但し、開閉レバー25を図6中下
方に引いたときには、立ち上がり側面25Dと連結部2
4の端部とが当接してロックアーム22を基板2から離
間する方向に回動させることができるようになってい
る)、スプリング27の付勢力はロックアーム22には
作用しないからである。このようにすると、図6に示す
ように、複数ロックアーム22を設けた場合でも、各ロ
ックアーム22は各々独立して各スプリング28により
各基板2を各基板側面支持面13Eに押圧付勢する構成
とすることができるから、各要素に加工誤差などがあっ
ても、確実にロックアーム22(押圧部材21)で基板
2を基板側面支持面13Eに押圧付勢することができる
ことになる。
【0037】以上のように、本実施の形態に係る基板ロ
ック装置20によれば、スプリング28の付勢力によ
り、基板2が、図5や図6中D方向における加工基準面
として機能する基板側面支持面13Eに押圧固定される
ため、基板用キャリア1の加工精度などに影響されるこ
となく、基板2のD方向における高精度な位置決めを行
うことができることになる。
【0038】また、基板2は、W方向においては、基板
2は前記押圧部材21の押圧力により生じる基板2と押
圧部材21及び基板側面支持面13Eとの間の摩擦力で
固定される。従って、本実施形態に係る基板ロック装置
によれば、W方向において基板2が摩擦力で固定される
ため、超音波等、実装時に接合を行うための振動を基板
2に加えても、W方向において基板2が遊動等すること
を抑制できるので、以って高精度な実装を実現でき延い
ては品質の向上を促進することができることになる。
【0039】なお、基板2は、図2のW2とWとのクリ
アランスの範囲内で、基板用キャリア1の窪み部6A,
6B間に収容されており、実装精度が、前記クリアラン
スと基板用キャリア1の精度とをプラスした範囲内であ
れば、上記効果は良好に達成されるが、より高精度な実
装を必要とする場合には、固定された基板2を画像認識
等して位置補正を行うようにすることもできる。
【0040】ところで、図3では一部省略して示してあ
るが、図4に示すように、開閉バー25の軸方向に複数
の基板2が並設される場合には、開閉バー25、グリッ
プ26、スプリング27を共通化する一方で、各基板2
に対応して押圧部材21、ロックアーム22、枢動支持
部23、連結部24、スプリング28を配設し、これら
を共通の開閉バー25に連結し、各押圧部材21や各ロ
ックアーム22を連動させるようにすることができる。
【0041】また、図3,図4などのように、キャリア
ホルダ10のW方向に複数の基板2が並設される場合に
は、図4に示されるように、前記基板ロック装置20と
同様の構成の基板ロック装置30(符号31は符号21
の押圧部材に相当し、符号32は符号22のロックアー
ムに相当し、符号33は符号23の枢動支持部に相当
し、符号34は符号24の連結部に相当し、符号35は
符号25の開閉レバーに相当し、符号36は符号26の
グリップに相当し、符号37は符号27のスプリングに
相当し、符号38は符号28のスプリングに相当する)
をW方向に複数併設することができるものである。
【0042】なお、図3では一部省略しているが、図4
に示すように、開閉レバー35の軸方向に複数の基板2
が並設される場合には、開閉バー35、グリップ36、
スプリング37を共通化する一方で、各基板2に対応し
て押圧部材31、ロックアーム32、枢動支持部33、
連結部34、スプリング38を配設し、これらを共通の
開閉バー35に連結し、各押圧部材21や各ロックアー
ム22を連動させるようにすることもできる。
【0043】更に、前記開閉バー25と前記開閉バー3
5(或いはグリップ26とグリップ36)とを一体的に
連結し、これらを連動させることも可能である。ところ
で、前記基板ロック装置20(或は30)は、キャリア
ホルダ10に対して基板2を基板支持面13A(言い換
えれば、図3,図5平面)内における移動を規制するこ
とができるものであれば良く、従って、上記で一例とし
て説明したものには限られない。即ち、上述したスプリ
ング28(或は38)は、板バネ、コイルバネ等とする
ことができると共に、ゴムなどの他の弾性部材とするこ
とも可能であり、更には弾性部材による弾性力に代え
て、油圧、空気圧などの流体圧などの力を基板2に作用
させ、基板2が基板支持面13A内で移動しないように
位置決めすることも可能で、本発明に係る基板位置決め
手段として採用することができるものである。
【0044】以上のように、本実施の形態によれば、比
較的扱い易い基板用キャリア1を備えると共に、基板2
の下面を高精度に位置決め支持することができるキャリ
アホルダ10を備えるようにしたので、基板2のハンド
ルを容易なものとすることができると共に、基板2の高
さ方向における位置決めを高精度化することができる。
また、基板ロック装置20(或は30)を備えれば、ボ
ンディングステージ等のフリップチップ実装時に基板2
が基板支持面13A内で遊動することを効果的に抑制す
ることも可能となるため、実装特性を一層良好なものと
することができ、延いては生産能率と品質の向上を一層
促進することができる。
【0045】更に、図3に示すように、本実施の形態に
おいて、基板2を基板支持面13Aを介して直接加熱で
きるように、キャリアホルダ10は、基板支持部13を
効果的に加熱するための電熱ヒータ等の加熱手段40を
含んで構成することができる。また、例えば、良好な温
度特性を実現するために、温度センサ41(熱電対)等
を設け、該検出温度結果に応じて加熱手段40の加熱量
をフィードバック制御等することもできるものである。
なお、同様に、基板側面支持面13Eを介して基板2を
加熱する側面加熱手段を含むことも可能である。
【0046】このように、基板用キャリア1を加熱して
基板2を間接的に加熱するのではなく、基板2を基板支
持面13A等を介して直接加熱するようにすれば、基板
用キャリア1を加熱して基板2を間接的に加熱する場合
に比べ、基板用キャリア1の温度による変形や反り等を
極力抑制することができるため、基板2の製造品質を高
精度化することが可能となる。また、基板との接触面積
が小さい基板用キャリア1を介して加熱するのではな
く、比較的接触面の大きな基板支持面13A等を介して
基板2を加熱するので、加熱効率が向上し、以て安定し
たボンディング品質の提供と少ない電力消費とを達成す
ることが可能となる。
【0047】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
扱い易い基板用キャリアと、基板の下面を高精度に位置
決め支持することができるキャリアホルダと、を提供す
ることができるため、基板のハンドルを容易なものとす
ることができると共に、基板の高さ方向における位置決
めを高精度化することができる。
【0048】また、基板側面支持部や押圧・解放手段を
備えれば、ボンディングステージ等のフリップチップ実
装時に基板が基板支持面内で遊動することを効果的に抑
制することが可能となり、実装特性を一層良好なものと
することができ、延いては生産能率と品質の向上を一層
促進することができることとなる。更に、真空吸着手段
を備えるようにすれば、基板の基板支持面に対する密着
度合いを高めることができるため、より一層、基板のハ
ンドル特性等を改善できると共に、品質の向上等を促進
することができる。
【0049】そして、本発明のように、加熱手段(側面
加熱手段)により基板を基板支持面等を介して直接加熱
できるようにすれば、基板用キャリアを加熱して基板を
間接的に加熱する場合に比べ、基板用キャリアの温度に
よる変形や反り等を極力抑制することができるため、基
板の製造品質を高精度化することが可能となる。また、
比較的接触面の大きな基板支持面等を介して基板を加熱
するので、加熱効率が向上し、以て安定したボンディン
グ品質の提供と少ない電力消費とを達成することが可能
となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】(A)は、本発明に係る基板用キャリアの平面
図である。(B)は、(A)のA−A方向矢視図であ
る。
【図2】図1(A)のB−B方向矢視図である。
【図3】基板を収容した基板用キャリアが収容された本
発明に係るキャリアホルダの上面図である。
【図4】基板を収容した基板用キャリアを省略して示す
キャリアホルダの上面図である。
【図5】図3の右側面図である。
【図6】図3の左側面図である。
【符号の説明】
1 基板用キャリア 2 基板 4 収容部 10 キャリアホルダ 13 基板支持部(基板下面用) 13A 基板支持面(基板下面用) 13B 真空吸着穴 13D 基板側面支持部 13E 基板側面支持面 20 基板ロック装置(押圧・解放手段) 40 加熱手段
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 5E313 AA11 CC03 CC07 CC09 DD13 FF12 FF13 5F031 CA13 DA05 DA11 EA06 FA05 FA07 GA23 GA37 GA38 JA01 JA46 KA02 MA35 PA13

Claims (13)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 基板を所定の収容部に収容可能な基板用
    キャリアであって、 前記収容部が、 当該基板用キャリアを貫通して形成される開口部であっ
    て、収容する基板の奥行き方向におけるD寸法より所定
    量大きなD1寸法を有すると共に、収容する基板の幅方
    向におけるW寸法より所定量小さなW1寸法を有する開
    口部と、 前記幅方向において前記開口部の開口に臨んで配設され
    る一対の相対面する窪み部であって、各窪み部が基板の
    幅方向における端部の少なくとも一部を収容し、基板の
    収容部への搬入方向と対向する方向から基板を支持可能
    に構成された窪み部と、 を含んで構成されたことを特徴とする基板用キャリア。
  2. 【請求項2】 前記収容部が複数配設されることを特徴
    とする請求項1に記載の基板用キャリア。
  3. 【請求項3】 請求項1又は請求項2に記載の基板用キ
    ャリアを支持するキャリアホルダであって、 前記基板用キャリアのキャリアホルダへの搬入方向と対
    向する方向から当該基板用キャリアを支持するキャリア
    支持部と、 該キャリア支持部と一体的に構成されるベース部と、 基板用キャリアのキャリア支持部への搬入方向と対向す
    る方向に前記ベース部から突設される基板支持部であっ
    て、前記基板用キャリアが前記キャリア支持部に少なく
    とも完全に支持されたときに、基板用キャリアが収容し
    ていた基板の下面を、基板の厚さ方向において前記基板
    用キャリアから所定量離間させた状態で載置可能な、加
    工基準面としての機能を有する基板支持面を含んで構成
    された基板支持部と、 を含んで構成されたことを特徴とするキャリアホルダ。
  4. 【請求項4】 前記基板支持面に基板を載置したとき
    に、該基板の下面が、前記キャリア支持部に支持されて
    いる前記基板用キャリアの上面から突出しないように、
    各部の寸法が設定されることを特徴とする請求項3に記
    載のキャリアホルダ。
  5. 【請求項5】 基板用キャリアのキャリア支持部への搬
    入方向と対向する方向に前記ベース部から突設され、前
    記基板支持面に略直交しかつ前記D方向に略直交する平
    面であって前記基板支持面に載置された基板の一側面に
    当接して加工基準面として機能する基板側面支持面を含
    む基板側面支持部と、 前記ベース部に一体的に配設され、前記基板支持面に載
    置された基板を、前記基板側面支持面に当接させ押圧付
    勢することができると共に、該押圧付勢を解放すること
    ができる押圧・解放手段と、 を含んで構成されたことを特徴とする請求項3又は請求
    項4に記載のキャリアホルダ。
  6. 【請求項6】 前記基板支持面に臨んで開口される真空
    吸着穴を介して前記基板支持面に載置される基板の下面
    を真空吸着する真空吸着手段を含んで構成されたことを
    特徴とする請求項3〜請求項5何れか1つに記載のキャ
    リアホルダ。
  7. 【請求項7】 前記基板支持部の前記基板支持面を介し
    て、該基板支持面に載置される基板を加熱する加熱手段
    を含んで構成されたことを特徴とする請求項3〜請求項
    6の何れか1つに記載のキャリアホルダ。
  8. 【請求項8】 前記基板側面支持部の前記基板側面支持
    面を介して、前記基板支持面に載置される基板を加熱す
    る側面加熱手段を含んで構成されたことを特徴とする請
    求項3〜請求項7の何れか1つに記載のキャリアホル
    ダ。
  9. 【請求項9】 請求項3〜請求項8の何れか1つに記載
    のキャリアホルダを備えたことを特徴とする基板処理装
    置。
  10. 【請求項10】 基板が収容された請求項1又は請求項
    2に記載の基板用キャリアを、請求項3〜請求項5の何
    れか1つに記載のキャリアホルダに収容して、前記基板
    用キャリアが収容する基板を前記基板支持面に載置させ
    ると共に、前記押圧・解放手段を介して当該基板を前記
    基板側面支持面に押圧付勢しつつ、当該基板に対して所
    定処理を実行することを特徴とする基板処理方法。
  11. 【請求項11】 請求項6に記載の真空吸着手段が備わ
    る場合に、該真空吸着手段を介して基板を前記基板支持
    面に真空吸着しつつ、前記基板に対して処理を実行する
    ことを特徴とする請求項10に記載の基板処理方法。
  12. 【請求項12】 請求項7又は請求項8に記載の加熱手
    段の少なくとも一方が備わる場合に、該加熱手段を介し
    て、前記基板を所定に加熱しつつ、前記基板に対して処
    理を実行することを特徴とする請求項10又は請求項1
    1に記載の基板処理方法。
  13. 【請求項13】 前記基板に対する処理が、超音波振動
    を利用したボンディング処理であることを特徴とする請
    求項10〜請求項12の何れか1つに記載の基板処理方
    法。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
SG105541A1 (en) * 2001-07-31 2004-08-27 Advanced Systems Automation Method and apparatus for singulating semiconductor packages on a lead frame

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