JP2002220421A - 液晶相を示す重合性組成物及びこれを用いた光学異方体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 ネマチック相を示す温度が低く、併用する他
の重合性を有する液晶性化合物との相溶性に優れ、重合
後の透明性及び機械的強度が高いものが得られる重合性
を有する液晶性化合物を含有する重合性液晶組成物を提
供すること。 【解決手段】 ２以上の環構造を有する液晶性骨格と、
一般式 【化１】 [P¹；重合性官能基、S¹；-(CH₂)_w-、-O(CH₂)_w-、-(CH₂)
_wO-、-(CH₂)_wC(=O)O-、-(CH₂)_wOC(=O)-、-C(=O)O(CH₂)_w
-、-OC(=O)(CH₂)_w- (w；１〜20）、A¹、E¹；炭化水素
環、ヘテロ環、E¹；液晶性骨格に含まれる環、D¹；-C(=
O)-O-(CH₂)_m-O-、-O(CH₂)_m-O-C(=O)-、-O-C(=O)-(CH₂)_m
-O-、-O-(CH₂)_m-C(=O)-O- (ｍ；１〜15)]で表わされる
部分構造を有する化合物（Ｉ）を含有し、液晶相を示す
重合性組成物。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、位相差板、偏光
板、偏光プリズム、光導波路、圧電素子、非線形光学素
子、各種光フィルター、コレステリック液晶相等の選択
反射を利用した液晶顔料、液晶−樹脂複合ディスプレ
ー、ホログラフィック液晶ディスプレー、高分子安定化
液晶（強誘電性液晶、反強誘電性液晶）ディスプレー、
光ファイバー等の被覆剤などとして有用な重合性を有す
る液晶性化合物を含有する重合性液晶組成物に関する。

【０００２】

【従来の技術】重合性官能基を有する液晶性化合物（以
下、重合性液晶化合物という。）又はこのような化合物
を含有する重合性液晶組成物を、液晶状態で配向させた
後、その状態で紫外線等の活性エネルギー線を照射する
と、液晶分子の配向状態構造を固定化した高分子を作製
することができる。このようにして得られた高分子は、
屈折率、誘電率、磁化率、弾性率、熱膨張率等の物理的
性質の異方性を有しているので、例えば、位相差板、偏
光板、偏光プリズム、導波路、圧電素子、非線形光学素
子、各種光フィルター、コレステリック液晶相等の選択
反射を利用した顔料、光ファイバー等の被覆剤として応
用可能である。

【０００３】このような用途に用いる重合性液晶組成物
として、特開平８−３１１１号公報には、１分子中に
（メタ）アクリル基を１個有する液晶性化合物を含有す
る重合性液晶組成物を提供した。該公報に開示した重合
性液晶組成物は、室温で液晶性を示すという特徴を有す
るものの、重合後の透明性や重合物の機械的強度が不十
分であるという問題点があった。

【０００４】特表平６−５０７９８７号公報（米国特許
第５８７１６６５号明細書）、特開平１０−３１０６１
２号公報（欧州特許公開第８６９１１２号公報）、特表
平１１−５１３３６０号公報（米国特許第５８３３８８
０号明細書）、ドイツ国公開特許第４２２６９９４号公
報、イギリス国公開特許第２３０６４７０号公報及び国
際特許出願公開第９８／２３５８０号明細書などには、
１分子中に（メタ）アクリル基の如き重合性官能基を２
個有する液晶性化合物及びそのような化合物を含有する
重合性液晶組成物が開示されている。これらの公報に記
載の化合物は、少なくとも一方の重合性官能基がアルキ
レンオキシ基の如き連結鎖を介して環Ａと結合し、この
環Ａが、直接、あるいは、エーテル結合、チオエーテル
結合、アルキレン基、オキシアルキレン基、アルキレン
オキシ基、カルボニル基、エステル結合、チオエステル
結合、ビニル基、ビニルカルボニルオキシ基、ビニルア
ルレン基、アルキレンビニル基、メチルイミノ基、アゾ
基又はアミド基を介して、別の環Ｂと結合した部分構造
を有するものである。

【０００５】これらの化合物のうち、環に置換基を有し
ない化合物は、ネマチック相を示す下限温度が１００℃
以上のものであり、また、環にフッ素原子、メチル基、
メトキシ基、メチルカルボニル基の如き置換基を有する
化合物の中には、ネマチック相を示す温度の下限が、一
部、６０℃前後まで低下したものが開示されている。重
合性液晶組成物は、液晶状態で均一に配向させた後、液
晶状態を保持したまま紫外線などのエネルギー線を照射
することによって光重合させて均一な配向状態を半永久
的に固定するので、ネマチック相を示す下限温度が室温
よりも高いと、液晶状態に保持し、均一な配向とするた
めに、加温する必要があり、この加温が原因で、エネル
ギー線による光重合だけでなく、意図しない熱重合も誘
起されて、液晶分子の均一な配向状態が失われ、所望す
る配向状態とは異なる不均一な配向状態が固定化されて
しまうという問題点がある。さらに、これらの材料を用
いて、熱重合を誘起しない温度範囲であり、かつ、作業
性に優れた室温ないし４０℃程度でネマチック相を示す
重合性液晶組成物を調製するには、多くの種類の液晶化
合物を併用しなければならないという問題点もあった。
また、環に置換基を有する化合物は、合成が複雑となる
上、特に、環にフッ素原子を有する化合物は、非塗工物
との密着性に劣る、という問題点があった。

【０００６】また、特開平１０−３１０６１２号公報
（欧州特許公開第８６９１１２号公報）及び国際特許出
願公開第９８／２３５８０号明細書に記載の化合物は、
１分子中に複数の架橋性中間相（液晶相）形成性残基を
有するので、ガラス状に凝固するという性質があり、し
かも、分子量が１０００乃至３０００と大きいので、粘
度が高く、併用する他の重合性を有する液晶性化合物と
の相溶性が悪いという問題点を有していた。

【０００７】さらに、特開平９−４０５８５号公報（米
国特許第５８００７３３号明細書）及び特開平９−５２
８５７号公報（欧州特許第７５５９１５号公報）には、
２つの架橋性中間相（液晶相）形成性残基が６員環の
１，２−位に結合した構造を有する化合物が開示されて
いる。これらの化合物は、ネマチック相を示さず、一
部、スメクチックＡ相を示す化合物が開示されている
が、スメクチックＡ相は、粘度が高く、配向性が悪いと
いう問題点がある。

【０００８】さらにまた、「リキッドクリスタルズ」
（第２４巻、第３号、第３７５〜３７９頁、１９９８
年）には、目的化合物である分子の末端に２−（アルケ
ニルオキシフェニルオキシ）−５−（ヒドロチオアルキ
レンオキシフェニルオキシ）トルエンを合成した際に生
じる不純物として、この化合物のヒドロチオ基と、４−
ヒドロチオアルキレンオキシ安息香酸とが結合した構造
を有する化合物が記載されている。しかしながら、この
文献には、不純物として特定されたことが開示されてい
るに過ぎず、不純物として特定された化合物の重合性液
晶組成物への使用可能性については、全く論じられてい
ない。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】本発明が解決しようと
する課題は、環にフッ素原子などの置換基を特に導入し
なくても、ネマチック相を示す温度が低く、併用する他
の重合性を有する液晶性化合物との相溶性に優れ、ま
た、重合後の透明性及び機械的強度が高いものが得られ
る重合性を有する液晶性化合物を含有する重合性液晶組
成物を提供することにある。

【００１０】

【課題を解決するための手段】本発明者等は、重合性を
有する液晶性化合物の化学構造と物性との相関について
鋭意検討した結果、重合性官能基が結合する環（Ａ）
と、カルボニルオキシアルキレンオキシ基又はオキシア
ルキレンカルボニルオキシ基（Ｄ）を介して環（Ａ）と
結合する環（Ｈ）を有する液晶性化合物の使用により、
上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成する
に至った。

【００１１】即ち、本発明は上記課題を解決するため
に、（Ａ）２以上の環構造を有する液晶性骨格と、一般
式

【化９】 ［式中、Ｐ¹は、重合性官能基を表わす。Ｓ¹は、−（Ｃ
Ｈ₂）_w−、−Ｏ（ＣＨ₂）_w−、−（ＣＨ₂）_wＯ−、−
（ＣＨ₂）_wＣ（＝Ｏ）Ｏ− 、−（ＣＨ₂）_wＯＣ（＝
Ｏ）− 、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ（ＣＨ₂）_w−及び−ＯＣ（＝
Ｏ）（ＣＨ₂）_w−（ｗは、１〜２０の整数を表わす。）
からなる群から選ばれる連結鎖を表わす。Ａ¹及びＥ
¹は、おのおの独立的に、炭化水素環又はヘテロ環を表
わす。ただし、Ｅ¹は、液晶性骨格に含まれる環であ
る。Ｄ¹は、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−（ＣＨ₂）_m−Ｏ−、−
Ｏ（ＣＨ₂）_m−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−
（ＣＨ₂）_m−Ｏ−又は−Ｏ（ＣＨ₂）_m−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ
−（ｍは、１〜１５の整数を表わす。）を表わされる連
結鎖を表わす。］で表わされる部分構造を有する化合物
（Ｉ）を含有し、液晶相を示すことを特徴とする重合性
組成物を提供する。

【００１２】また、本発明は上記課題を解決するため
に、（Ｂ）上記（Ａ）記載の重合性液晶組成物を重合さ
せて得られる重合体から構成される光学異方体を提供す
る。

【００１３】さらに、本発明は上記課題を解決するため
に、（Ｃ）上記(Ｂ)記載の光学異方体を構成要素とする
光学的ローパスフィルターを提供する。

【００１４】

【発明の実施の形態】

【００１５】本発明の重合性液晶組成物に用いられる化
合物（Ｉ）は、一般式（II）

【００１６】

【化１０】

【００１７】［式中、Ｐ²及びＰ³は、おのおの独立的
に、（メタ）アクリロイルオキシ基、（メタ）アクリル
アミド基、ビニル基、エポキシ基、メルカプト基、ビニ
ルオキシ基及びマレイミド基からなる群から選ばれる重
合性官能基を表わす。Ｓ²及びＳ³は、おのおの独立的
に、−（ＣＨ₂）_w−、−Ｏ（ＣＨ₂）_w−、−（ＣＨ₂）_w
Ｏ−、−（ＣＨ₂）_wＣ（＝Ｏ）Ｏ− 、−（ＣＨ₂）_wＯ
Ｃ（＝Ｏ）− 、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ（ＣＨ₂）_w−及び−Ｏ
Ｃ（＝Ｏ）（ＣＨ₂）_w−（ｗは、１〜２０の整数を表わ
す。）からなる群から選ばれる連結鎖を表わす。Ａ²、
Ａ³、Ｅ²、Ｆ¹及びＧ¹は、おのおの独立的に、

【００１８】

【化１１】

【００１９】（式中、ｐは１〜４の整数を表わす。）か
らなる群から選ばれる環構造を表わす。Ｄ²及びＤ³は、
おのおの独立的に、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−（ＣＨ₂）_m−Ｏ
−、−Ｏ（ＣＨ₂）_m−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｏ−Ｃ（＝
Ｏ）−（ＣＨ₂）_m−Ｏ−又は−Ｏ（ＣＨ₂）_m−Ｃ（＝
Ｏ）−Ｏ−（ｍは、１〜１５の整数を表わす。）からな
る群から選ばれる連結鎖を表わす。Ｙ¹及びＹ²は、おの
おの独立的に、単結合、−ＣＨ₂ＣＨ₂−、−ＣＨ₂Ｏ
−、−ＯＣＨ₂− 、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）
−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−
（ＣＨ₂）₄−、−ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ− 、−ＯＣＨ₂Ｃ
Ｈ₂ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ₂ＣＨ₂−、−ＣＨ₂Ｃ
Ｈ₂−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−及
び−ＯＣ（＝Ｏ）−ＣＨ＝ＣＨ−からなる群から選ばれ
る連結基を表わす。ｎは、０〜３の整数を表わし、ｑは
０又は１を表わす。］で表わされる化合物であることが
好ましい。

【００２０】本発明の液晶性を有する重合性組成物に用
いる化合物（Ｉ）及び一般式（II）で表わされる化合物
において、重合性官能基は、ラジカル重合、カチオン重
合、アニオン重合の如き重合反応可能なものであれば、
特に制限はないが、紫外線、電子線、α線、β線、γ線
のような電離放射線、マイクロ波、高周波活性光線の如
き活性エネルギー線の照射によって重合する官能基が特
に好ましい。

【００２１】重合性官能基としては、例えば、（メタ）
アクリロイルオキシ基、（メタ）アクリルアミド基、ビ
ニル基、エポキシ基、エチニル基、メルカプト基、ビニ
ルオキシ基、マレイミド基、などが挙げられるが、これ
らの中でも、（メタ）アクリロイルオキシ基、ビニル
基、エポキシ基、メルカプト基又はビニルオキシ基が好
ましく、（メタ）アクリロイルオキシ基、ビニル基、エ
ポキシ基、ビニルオキシ基が特に好ましく、（メタ）ア
クリロイルオキシ基が更に好ましい。

【００２２】Ｓ¹、Ｓ²及びＳ³は、おのおの独立的に、
−（ＣＨ₂）_w−、−Ｏ（ＣＨ₂）_w−、−（ＣＨ₂）_wＯ
−、−（ＣＨ₂）_wＣ（＝Ｏ）Ｏ− 、−（ＣＨ₂）_wＯＣ
（＝Ｏ）− 、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ（ＣＨ₂）_w−及び−ＯＣ
（＝Ｏ）（ＣＨ₂）_w−（ｗは、１〜２０の整数を表わ
す。）からなる群から選ばれる連結鎖を表わすが、ｗは
２〜１８の範囲のものが好ましく、４〜１０の範囲のも
のが特に好ましい。

【００２３】化合物（Ｉ）において、Ａ¹及びＥ¹は、お
のおの独立的に、脂肪族炭化水素環、芳香族炭化水素環
の如き炭化水素環、又は、複素環の如きヘテロ環を表わ
す。これらの環は、６員環あるいは、６員環同士の縮合
環であることが好ましい。また、環上の水素原子は、フ
ッ素原子、塩素原子の如きハロゲン原子、メチル基の如
き低級アルキル基、メトキシ基の如き低級アルコキシル
基などの置換基で置換されていてもよい。また、Ｅ
¹は、液晶性骨格に含まれる環である。さらに、化合物
（Ｉ）における液晶性骨格は、炭化水素環及び／又はヘ
テロ環の如き環構造を２以上、好ましくは２〜６個有す
るものである。そのような液晶性骨格としては、上記一
般式（II）における一般式 −Ｅ²−（Ｙ¹−Ｆ¹）_n−Ｙ
²−Ｇ¹− で表わされる液晶性骨格が好ましい。

【００２４】Ａ¹、Ａ²、Ａ³、Ｅ¹、Ｅ²、Ｆ¹及びＧ
¹は、おのおの独立的に、

【００２５】

【化１２】

【００２６】（式中、ｐは１〜４の整数を表わす。）か
らなる群から選ばれる環構造であることが好ましい。こ
れらの中でも、

【００２７】

【化１３】 （式中、ｐは１〜４の整数を表わす。）からなる群から
選ばれる環構造であることが特に好ましく、

【００２８】

【化１４】 であることが更に好ましい。

【００２９】Ｄ¹、Ｄ²及びＤ³は、おのおの独立的に、
−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−（ＣＨ₂）_m−Ｏ−、−Ｏ（ＣＨ₂）_m
−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−（ＣＨ₂）_m−
Ｏ−又は−Ｏ（ＣＨ₂）_m−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−（ｍは、２
〜１５の整数を表わす。）からなる群から選ばれる連結
鎖を表わすが、これらの連結鎖の中でも、−Ｃ（＝Ｏ）
Ｏ（ＣＨ₂）_m−Ｏ−又は−Ｏ（ＣＨ₂）_m−Ｏ−Ｃ（＝
Ｏ）−が特に好ましい。なお、この場合、ｍ＝１の場合
の連結鎖−Ｃ（＝Ｏ）ＯＣＨ₂−Ｏ−では、１つの炭素
原子に２つのエーテル基が結合した構造であるので、化
合物単体が耐光性に劣るだけでなく、重合物も耐光性に
劣るので、好ましくない。

【００３０】Ｙ¹及びＹ²は、おのおの独立的に、単結
合、−ＣＨ₂ＣＨ₂−、−ＣＨ₂Ｏ− 、−ＯＣＨ₂− 、−
Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−Ｃ≡Ｃ−、−Ｃ
Ｈ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−（ＣＨ₂）₄−、−ＣＨ
₂ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ− 、 −ＯＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂−、−ＣＨ＝
ＣＨ−ＣＨ₂ＣＨ₂−、−ＣＨ₂ＣＨ₂−ＣＨ＝ＣＨ−、−
ＣＨ＝ＣＨ−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−又は−ＯＣ（＝Ｏ）−ＣＨ
＝ＣＨ−を表わす。また、ｎは、０〜３の整数を表わ
す。また、ｎが２又は３である場合、それぞれのＹ ¹と
Ｆ¹は、同じであっても、異なっていても良い。

【００３１】液晶性骨格の例である一般式 −Ｅ²−
（Ｙ¹−Ｆ¹）_n−Ｙ²−Ｇ¹−で表わされる構造として
は、例えば、以下の式（１）〜（４４６）で表わされる
ような構造を挙げることができる。

【００３２】

【化１５】

【００３３】

【化１６】

【００３４】

【化１７】

【００３５】

【化１８】

【００３６】

【化１９】

【００３７】

【化２０】

【００３８】

【化２１】

【００３９】

【化２２】

【００４０】

【化２３】

【００４１】

【化２４】

【００４２】

【化２５】

【００４３】

【化２６】

【００４４】

【化２７】

【００４５】

【化２８】

【００４６】

【化２９】

【００４７】

【化３０】

【００４８】

【化３１】

【００４９】

【化３２】

【００５０】

【化３３】

【００５１】

【化３４】

【００５２】

【化３５】

【００５３】

【化３６】

【００５４】

【化３７】

【００５５】

【化３８】

【００５６】

【化３９】

【００５７】

【化４０】

【００５８】

【化４１】

【００５９】

【化４２】

【００６０】

【化４３】

【００６１】

【化４４】

【００６２】

【化４５】

【００６３】

【化４６】

【００６４】

【化４７】

【００６５】（式（１）〜（４４６）中の芳香環、脂
環、複素環及び縮合環は、シアノ基、ハロゲン原子、炭
素原子数１〜７のアルキル基、アルコキシ基及びアルカ
ノイル基からなる群から選ばれる一つ以上の置換基で置
換されていても良い。）

【００６６】一般式（II）で表わされる化合物の中で
も、一般式（VI）

【００６７】

【化４８】

【００６８】（式中、Ｘは、水素原子又はメチル基を表
わし、Ｙ³は、単結合、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝
Ｏ）Ｏ−、−Ｃ≡Ｃ−及び−ＣＨ₂ＣＨ₂−からなる群か
ら選ばれる連結基を表わし、ｑは、１〜２０の整数を表
わし、ｍは、２〜１５の整数を表わし、ｐは、０又は１
の整数を表わす。また、それぞれの１，４−フェニレン
基は、おのおの独立的に、シアノ基、ハロゲン原子、炭
素原子数１〜７のアルキル基、アルコキシ基及びアルカ
ノイル基からなる群から選ばれる一つ以上の置換基で置
換されていても良い。）で表わされる重合性液晶化合
物、一般式（VII）

【００６９】

【化４９】

【００７０】（式中、Ｘは、水素原子又はメチル基を表
わし、Ｙ³は、単結合、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝
Ｏ）Ｏ−、−Ｃ≡Ｃ−及び−ＣＨ₂ＣＨ₂−からなる群か
ら選ばれる連結基を表わし、ｑは、１〜２０の整数を表
わし、ｍは、２〜１５の整数を表わし、ｐは、０又は１
の整数を表わす。また、１，４−シクロヘキシレン基及
び１，４−フェニレン基は、おのおの独立的に、シアノ
基、ハロゲン原子、炭素原子数１〜７のアルキル基、ア
ルコキシ基及びアルカノイル基からなる群から選ばれる
一つ以上の置換基で置換されていても良い。）で表わさ
れる重合性液晶化合物、一般式（VIII）

【００７１】

【化５０】

【００７２】（式中、Ｘは、水素原子又はメチル基を表
わし、Ｙ³、Ｙ⁴及びＹ⁵は、おのおの独立的に、単結
合、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−Ｃ≡Ｃ−
及び−ＣＨ₂ＣＨ₂−からなる群から選ばれる連結基を表
わし、ｐ及びｑは、おのおの独立的に、０又は１を表わ
し、ｌは、１〜２０の整数を表わし、ｍは、２〜１５の
整数を表わし、環Ｊは、１，４−シクロヘキシレン基又
は１，４−フェニレン基を表わす。また、１，４−シク
ロヘキシレン基及び１，４−フェニレン基は、おのおの
独立的に、シアノ基、ハロゲン原子、炭素原子数１〜７
のアルキル基、アルコキシ基及びアルカノイル基からな
る群から選ばれる一つ以上の置換基で置換されていても
良い。）で表わされる重合性液晶化合物、一般式（XXX
V）

【００７３】

【化５１】

【００７４】（式中、Ｘ¹及びＸ²は、水素原子又はメチ
ル基を表わし、ｌ及びｎは、おのおの独立的に、１〜２
０の整数を表わし、ｍは、３〜１６の整数を表わす。ま
た、１，４−シクロヘキシレン基及び１，４−フェニレ
ン基は、おのおの独立的に、シアノ基、ハロゲン原子、
炭素原子数１〜７のアルキル基、アルコキシ基及びアル
カノイル基からなる群から選ばれる一つ以上の置換基で
置換されていても良い。）で表わされる重合性液晶化合
物、一般式（IX）

【００７５】

【化５２】

【００７６】（式中、Ｘは、水素原子又はメチル基を表
わし、Ｙ³、Ｙ⁴及びＹ⁵は、おのおの独立的に、単結
合、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−Ｃ≡Ｃ−
及び−ＣＨ₂ＣＨ₂−からなる群から選ばれる連結鎖を表
わし、ｐ及びｑは、おのおの独立的に、０又は１を表わ
し、ｌは１〜２０の整数を表わし、ｍは２〜１５の整数
を表わし、環Ｊは１，４−シクロヘキシレン基又は１，
４−フェニレン基を表わす。また、１，４−シクロヘキ
シレン基及び１，４−フェニレン基は、おのおの独立的
に、シアノ基、ハロゲン原子、炭素原子数１〜７のアル
キル基、アルコキシ基及びアルカノイル基からなる群か
ら選ばれる一つ以上の置換基で置換されていても良
い。）で表わされる重合性液晶化合物、一般式（Ｘ）

【００７７】

【化５３】

【００７８】（式中、Ｘ¹及びＸ²は、水素原子又はメチ
ル基を表わし、ｌは、１〜２０の整数を表わし、ｍ及び
ｎは、おのおの独立的に、３〜１６の整数を表わし、ｏ
は、１〜２０の整数を表わす。また、それぞれの１，４
−フェニレン基は、シアノ基、ハロゲン原子、炭素原子
数１〜７のアルキル基、アルコキシ基及びアルカノイル
基からなる群から選ばれる一つ以上の置換基で置換され
ていても良い。）で表わされる重合性液晶化合物が特に
好ましい。

【００７９】上記一般式（VI）、（VII）及び(XXXV)で
表される望ましい重合性液晶化合物を下記（表１)、
（表２）及び（表３）に示す。

【００８０】

【表１】（表１）

【００８１】表１に示したNo.１〜８は、一般式（V
I）、（VII）及び(XXXV)にあてはまる構造もしくは数字
を表す。

【００８２】

【表２】（表２）

【００８３】表２に示したNo.９〜１６は、一般式（V
I）、（VII）及び(XXXV)にあてはまる構造もしくは数字
を表す。

【００８４】

【表３】（表３）

【００８５】表３に示したNo.１７〜２４は、一般式（V
I）、（VII）及び(XXXV)にあてはまる構造もしくは数字
を表す。

【００８６】上記一般式（VIII）、（IX）及び（Ｘ）で
表される望ましい重合性液晶化合物を下記（表４)、
（表５）及び（表６）に示す。

【００８７】

【表４】（表４）

【００８８】表４に示したNo.２５〜３２は、一般式（V
III）、（IX）及び（Ｘ）にあてはまる構造もしくは数
字を表す。

【００８９】

【表５】（表５）

【００９０】表５に示したNo.３３〜４０は、一般式（V
III）、（IX）及び（Ｘ）にあてはまる構造もしくは数
字を表す。

【００９１】

【表６】（表６）

【００９２】表６に示したNo.４１〜４８は、一般式（V
III）、（IX）及び（Ｘ）にあてはまる構造もしくは数
字を表す。

【００９３】本発明の化合物の好ましい例として、（メ
タ）アクリレート化合物を挙げてきたが、反応性基とし
てエポキシ基を有する化合物も好ましい。そのような化
合物としては、例えば、以下の一般式（XI）及び（XI
I）で表わされる化合物を挙げることができる。

【００９４】

【化５４】

【００９５】（式中、Ｙ³は、単結合、−ＯＣ（＝Ｏ）
−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−Ｃ≡Ｃ−及び−ＣＨ₂ＣＨ₂−
からなる群から選ばれる連結基を表わし、ｑは、１〜２
０の整数を表わし、ｍは、２〜１５の整数を表わし、ｐ
は、０又は１の整数を表わす。また、それぞれの１，４
−フェニレン基は、シアノ基、ハロゲン原子、炭素原子
数１〜７のアルキル基、アルコキシ基及びアルカノイル
基からなる群から選ばれる一つ以上の置換基で置換され
ていても良い。）

【００９６】本発明の化合物の好ましい例として、（メ
タ）アクリレート化合物を挙げてきたが、反応性基とし
てビニルオキシ基を有する化合物も好ましい。そのよう
な化合物としては、例えば、以下の一般式（XIII）及び
（XIV）で表わされる化合物を挙げることができる。

【００９７】

【化５５】

【００９８】（式中、Ｙ³は、単結合、−ＯＣ（＝Ｏ）
−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−Ｃ≡Ｃ−及び−ＣＨ₂ＣＨ₂−
からなる群から選ばれる連結基を表わし、ｑは、１〜２
０の整数を表わし、ｍは、２〜１５の整数を表わし、ｐ
は、０又は１の整数を表わす。また、それぞれの１，４
−フェニレン基は、シアノ基、ハロゲン原子、炭素原子
数１〜７のアルキル基、アルコキシ基及びアルカノイル
基からなる群から選ばれる一つ以上の置換基で置換され
ていても良い。）

【００９９】上記一般式（XIII）及び（XIV）で表され
る望ましい重合性液晶化合物を下記（表７)及び（表
８）に示した。

【０１００】

【表７】（表７）

【０１０１】表７に示したNo.４９〜５６は、一般式（X
II）、（XII）、（XIII）及び（XIV）にあてはまる構造
もしくは数字を表す。

【０１０２】

【表８】（表８）

【０１０３】表８に示したNo.５７〜６４は、一般式（X
I）、（XII）、（XIII）及び（XIV）にあてはまる構造
もしくは数字を表す。

【０１０４】以上、本発明の化合物の好ましい例を挙げ
たが、これらの化合物において、シクロヘキサン環は、
トランスシクロヘキサン環が好ましい。

【０１０５】一般式（VI） で表わされる化合物は、例
えば、以下の方法により、合成することができる。

【０１０６】

【化５６】

【０１０７】（式中、Ｘ、Ｙ³、ｑ、ｍ及びｐは、一般
式（VI）の場合と同じ内容を表わす。また、ＤＣＣは、
ジシクロヘキシルカルボジイミドを表わす。）

【０１０８】即ち、一般式（XVI）で表わされるアルコ
ール誘導体と、これに対し２当量の一般式（XV）で表わ
されるカルボン酸誘導体をＤＣＣ（ジシクロヘキシルカ
ルボジイミド）等の縮合剤を用いることによりエステル
化反応させることにより、目的とする一般式（VI）で表
わされる化合物を合成することができる。

【０１０９】一般式（VI） で表わされる化合物の合成
原料となる一般式（XV）で表わされるカルボン酸誘導体
は、例えば、以下の方法により合成することができる。

【０１１０】

【化５７】

【０１１１】（式中、Ｘ及びｑは、一般式（VI） と同
じ内容を表わす。また、Ｍｅは、メチル基を表わす。）

【０１１２】即ち、式（XV-1）で表わされる４−ヒドロ
キシ安息香酸メチルと一般式（XV-2）で表わされるブロ
ム基を有するアルコール誘導体とを反応させて、一般式
（XV-3）で表わされる化合物を得た後、メチルエステル
を加水分解して、一般式（XV-4）で表わされる化合物を
得る。この化合物を酸触媒の存在下に、水を留去しなが
ら（メタ）アクリル酸と反応させることにより、目的と
する一般式（XV-5）で表わされるカルボン酸誘導体を得
ることができる。

【０１１３】一般式（VI） で表わされる化合物の合成
原料となる一般式（XV）で表わされるカルボン酸誘導体
であって、芳香環上の水素原子がフッ素原子で置換され
た化合物（一般式（XV-9）で表わされる化合物）は、例
えば、以下の方法により、合成することができる。

【０１１４】

【化５８】

【０１１５】（式中、Ｘ及びｑは、一般式（VI） と同
じ内容を表わす。）

【０１１６】即ち、式（XV-6）で表わされる２−フルオ
ロ−４−ヒドロキシベンゾニトリルと一般式（XV-2）で
表わされるブロム基を有するアルコール誘導体とを反応
させて、一般式（XV-7）で表わされる化合物を得た後、
シアノ基を加水分解して、一般式（XV-8）で表わされる
化合物を得る。この化合物を酸触媒の存在下で水を留去
しながら（メタ）アクリル酸と反応させることにより、
目的とする一般式（XV-9）で表わされるカルボン酸誘導
体を得ることができる。

【０１１７】一般式（VI） で表わされる化合物の合成
原料となる一般式（XV）で表わされるカルボン酸誘導体
であって、芳香環上の水素原子がメトキシ基で置換され
た化合物（一般式（XV-13）で表わされる化合物）は、
例えば、以下の方法により、合成することができる。

【０１１８】

【化５９】

【０１１９】（式中、Ｘ及びｑは、一般式（VI） と同
じ内容を表わす。また、Ｍｅは、メチル基を表わす。）

【０１２０】即ち、式（XV-10）で表わされるバニリン
酸メチルと一般式（XV-2）で表わされるブロム基を有す
るアルコール誘導体とを反応させて、一般式（XV-11）
で表わされる化合物を得た後、メチルエステルを加水分
解して、一般式（XV-12）で表わされる化合物を得る。
この化合物を酸触媒の存在下で水を留去しながら（メ
タ）アクリル酸と反応させることにより、目的とする一
般式（XV-13）で表わされるカルボン酸誘導体を得るこ
とができる。

【０１２１】一般式（VI） で表わされる化合物の合成
原料となる一般式（XV）で表わされるカルボン酸誘導体
であって、芳香環上の水素原子がメチル基で置換された
化合物（一般式（XV-17）で表わされる化合物）は、例
えば、以下の方法により、合成することができる。

【０１２２】

【化６０】

【０１２３】（式中、Ｘ及びｑは、一般式（VI） と同
じ内容を表わす。）

【０１２４】即ち、式（XV-14）で表わされる４−ヒド
ロキシ−２−メチルベンゾニトリルと一般式（XV-2）で
表わされるブロム基を有するアルコール誘導体を反応さ
せて、一般式（XV-15）で表わされる化合物を得た後、
さらにシアノ基を加水分解して、一般式（XV-16）で表
わされる化合物を得る。この化合物を酸触媒の存在下で
水を留去しながら（メタ）アクリル酸と反応させること
により、目的とする一般式（XV-17）で表わされるカル
ボン酸誘導体を得ることができる。

【０１２５】一般式（VI） で表わされる化合物の合成
原料となる一般式（XVI）において、Ｙ³ が単結合であ
り、ｐが１であるアルコール誘導体（一般式（XVI-3）
で表わされる化合物）は、例えば、以下の方法により合
成することができる。

【０１２６】

【化６１】

【０１２７】（式中、ｍは、一般式（VI） と同じ内容
を表わす。）

【０１２８】即ち、式（XVI-1）で表わされる４，４’
−ビフェノールと一般式（XVI-2）で表わされるブロム
基を有するアルコール誘導体とを反応させることによっ
て、目的とする一般式（XVI-3）で表わされるアルコー
ル誘導体を得ることができる。

【０１２９】一般式（XI） で表わされる化合物の合成
原料となる一般式（XVI）において、Ｙ³ が単結合であ
り、ｐが１であり、かつ、芳香環上の水素原子がフルオ
ロ基で置換されたアルコール誘導体（一般式（XVI-11）
で表わされる化合物）は、例えば、以下の方法により合
成することができる。

【０１３０】

【化６２】

【０１３１】（式中、ｍは、一般式（VI） と同じ内容
を表わす。）

【０１３２】即ち、式（XVI-4）で表わされる４−ブロ
モ−２−フルオロフェノールの水酸基を、テトラピラニ
ルエーテルを用いて保護した後、マグネシウムと反応さ
せて、式（XVI-6）で表わされるグリニアール試薬を得
る。次に、式（XVI-7）で表わされる４−ヨードフェノ
ールと一般式（XVI-2）で表わされるブロム基を有する
アルコール誘導体とを反応させた後、末端の水酸基をテ
トラピラニルエーテルとして保護して、一般式（XVI-
9）で表わされる化合物を得る。一般式（XVI-9）で表わ
される化合物と式（XVI-6）で表わされるグリニアール
試薬とを、パラジウム触媒の存在下に、クロスカップリ
ング反応させて、一般式（XVI-10）で表わされる化合物
を得た後、脱保護を行なうことによって、目的とする一
般式（XVI-11）で表わされるアルコール誘導体を得るこ
とができる。

【０１３３】一般式（VI） で表わされる化合物の合成
原料となる一般式（XVI）において、Ｙ³ が単結合であ
り、ｐが１であり、かつ、芳香環上の水素原子がフルオ
ロ基で置換されたアルコール誘導体（一般式（XVI-17）
で表わされる化合物）は、例えば、以下の方法により合
成することができる。

【０１３４】

【化６３】

【０１３５】（式中、ｍは、一般式（VI） と同じ内容
を表わす。）

【０１３６】即ち、式（XVI-4）で表わされる４−ブロ
モ−２−フルオロフェノールと一般式（XVI-2）で表わ
されるブロム基を有するアルコール誘導体を反応させた
後、末端の水酸基をテトラピラニルエーテルとして保護
し、さらにマグネシウムと反応させて一般式（XVI-14）
で表わされるグリニアール試薬を得る。次に、式（XVI-
7）で表わされる４−ヨードフェノールの水酸基をテト
ラピラニルエーテルとして保護して、式（XVI-15）で表
わされる化合物を得る。式（XVI-15）で表わされる化合
物と一般式（XVI-14）で表わされるグリニアール試薬と
を、パラジウム触媒の存在下に、クロスカップリング反
応させて、一般式（XVI-16）で表わされる化合物を得た
後、さらに脱保護を行なうことにより、目的とする一般
式（XVI-17）で表わされるアルコール誘導体を得ること
ができる。

【０１３７】一般式（VI） で表わされる化合物の合成
原料となる一般式（XVI）において、Ｙ³ が単結合であ
り、ｐが１であり、かつ、芳香環上の水素原子がフルオ
ロ基で置換されたアルコール誘導体（一般式（XVI-24）
で表わされる化合物）は、例えば、以下の方法により合
成することができる。

【０１３８】

【化６４】

【０１３９】（式中、ｍは、一般式（VI） と同じ内容
を表わす。）

【０１４０】即ち、式（XVI-18）で表わされる４−ブロ
モ−２−フルオロ−１−フェニルベンゼンにフリーデル
クラフツ反応を用いてアセチル基を導入して、式（XVI-
19）で表わされる化合物を得る。次に、式（XVI-19）で
表わされる化合物のアセチル基を、ｍ−クロロ過安息香
酸を用いて酸化してエステル基にした後、加水分解を行
なうことにより、式（XVI-20）で表わされる化合物を得
る。式（XVI-20）で表わされる化合物と式（XVI-2）で
表わされるブロム基を有するアルコール誘導体とを反応
させた後、水酸基をテトラピラニルエーテルとして保護
して、一般式（XVI-22）で表わされる化合物を得る。一
般式（XVI-22）で表わされる化合物をマグネシウムと反
応させてグリニアール試薬とした後、ジメチルホルムア
ミドと反応させ、さらに加水分解して、一般式（XVI-2
3）で表わされる化合物を得る。次に、一般式（XVI-2
3）で表わされる化合物のアルデヒド基を酸化し、さら
に加水分解することによって、目的とする一般式（XVI-
24）で表わされるアルコール誘導体を得ることができ
る。

【０１４１】上記に１，４−フェニレン基の水素原子の
１つがフッ素原子で置換された化合物の合成例を挙げた
が、２つ以上置換しても良く、フッ素原子と共に、ある
いはフッ素原子に代えて、メチル基やメトキシ基で置換
されている化合物も上記に準じて合成することができ
る。

【０１４２】一般式（VI） で表わされる化合物の合成
原料となる一般式（XVI）において、Ｙ³ が−Ｃ（＝
Ｏ）Ｏ−であり、ｐが１であるアルコール誘導体（一般
式（XVI-30）で表わされる化合物）は、例えば、以下の
方法により合成することができる。

【０１４３】

【化６５】

【０１４４】（式中、ｍは、一般式（VI） と同じ内容
を表わす。また、ＤＣＣは、ジシクロヘキシルカルボジ
イミドを表わし、Ｂａｓｅは、塩基を表わし、Ｐｈは、
フェニル基を表わす。）

【０１４５】即ち、式（XVI-25）で表わされる４−アセ
トキシ安息香酸と式（XVI-26）で表わされる４−ベンジ
ルオキシフェノールとをジシクロヘキシルカルボジイミ
ド等の縮合剤を用いて反応させて、式（XVI-27）で表わ
される化合物を得る。式（XVI-27）で表わされる化合物
をベンジルアミンと反応させて、式（XVI-28）で表わさ
れる化合物を得る。式（XVI-28）で表わされる化合物と
一般式（XVI-2）で表わされるブロム基を有するアルコ
ール誘導体とを反応させた後、さらに、ベンジル基を還
元的に脱離させることにより、目的とする一般式（XVI-
30）で表わされるアルコール誘導体を得ることができ
る。

【０１４６】一般式（VI） で表わされる化合物の合成
原料となる一般式（XVI）において、Ｙ³ が−Ｃ≡Ｃ−
であり、ｐが１であり、かつ、芳香環上の水素原子がフ
ルオロ基で置換されたアルコール誘導体（一般式（XVI-
36）で表わされる化合物）は、例えば、以下の方法によ
り合成することができる。

【０１４７】

【化６６】

【０１４８】（式中、ｍは、一般式（VI） と同じ内容
を表わす。また、Ｂａｓｅは、塩基を表わし、Ｐｈは、
フェニル基を表わす。）

【０１４９】即ち、式（XVI-4）で表わされる４−ブロ
モ−２−フルオロフェノールの水酸基を、テトラピラニ
ルエーテルを用いて保護した後、パラジウム触媒の存在
下に、２−メチル−３−ブチン−２−オールと反応さ
せ、さらに、ｔ−ブチルアルコール基を脱離させて、式
（XVI-33）で表わされるアセチレン誘導体を得る。式
（XVI-33）で表わされるアセチレン誘導体と式（XVI-
7）で表わされる４−ヨードフェノールとを、パラジウ
ム触媒の存在下に、カップリング反応させて、式（XVI-
34）で表わされる化合物を得る。式（V-34）で表わされ
る化合物と一般式（XVI-2）で表わされるブロム基を有
するアルコール誘導体とを反応させた後、脱保護させる
ことにより、目的とする一般式（XVI-36）で表わされる
アルコール誘導体を得ることができる。

【０１５０】一般式（VI） で表わされる化合物の合成
原料となる一般式（XVI）において、Ｙ³ が−ＣＨ₂ＣＨ
₂−であり、ｐが１であり、かつ、芳香環上の水素原子
がフルオロ基で置換されたアルコール誘導体（一般式
（XVI-37）で表わされる化合物）は、例えば、以下の方
法により合成することができる。

【０１５１】

【化６７】

【０１５２】（式中、ｍは、一般式（VI） と同じ内容
を表わす。）

【０１５３】一般式（XVI-36）で表わされるアルコール
誘導体の三重結合を還元することによって、一般式（XV
I-37）で表わされるアルコール誘導体を得ることができ
る。

【０１５４】一般式（VI） で表わされる化合物の合成
原料となる一般式（XVI）において、ｐが０であるアル
コール誘導体（一般式（XVI-39）で表わされる化合物）
は、例えば、以下の方法により合成することができる。

【０１５５】

【化６８】

【０１５６】（式中、ｍは、一般式（VI） と同じ内容
を表わす。）

【０１５７】即ち、式（XVI-38）で表わされるヒドロキ
ノンと一般式（XVI-2）で表わされるブロム基を有する
アルコール誘導体とを反応させることにより、目的とす
る一般式（XVI-39）で表わされるアルコール誘導体を得
ることができる。

【０１５８】一般式（VI） で表わされる化合物の合成
原料となる一般式（XVI）において、ｐが０であり、か
つ、芳香環上の水素原子がフルオロ基で置換されたアル
コール誘導体（一般式（XVI-41）で表わされる化合物）
は、例えば、以下の方法により合成することができる。

【０１５９】

【化６９】

【０１６０】（式中、ｍは、一般式（VI） と同じ内容
を表わす。また、ＤＭＦは、ジメチルホルムアミドを表
わし、ｍＣＰＢＡは、メタクロロ過安息香酸を表わ
す。）

【０１６１】即ち、一般式（XVI-14）で表わされるグリ
ニアール試薬とジメチルホルムアミドとを反応させた
後、加水分解することによって、一般式（XVI-40）で表
わされるアルデヒド誘導体を得る。このアルデヒド誘導
体を、過酸によって酸化した後、加水分解することによ
って、目的とする一般式（XVI-41）で表わされるアルコ
ール誘導体を得ることができる。

【０１６２】次に、一般式（VII）で表わされる化合物
について説明する。一般式（VII）で表わされる化合物
は、例えば、以下の方法により合成することができる。

【０１６３】

【化７０】

【０１６４】（式中、Ｘ、Ｙ³ 、ｑ、ｍ及びｐは、一般
式（VII）の場合と同じ内容を表わす。また、ＤＣＣ
は、ジシクロヘキシルカルボジイミドを表わし、Ｂａｓ
ｅは、塩基を表わす。）

【０１６５】即ち、一般式（XVI）で表わされるアルコ
ール誘導体と、これに対し２当量の一般式（XVII）で表
わされるカルボン酸誘導体をジシクロヘキシルカルボジ
イミド等の縮合剤の存在下に、エステル化反応させて、
目的とする一般式（VII）で表わされる化合物を合成す
ることができる。

【０１６６】一般式（VII）で表わされる化合物の合成
原料となる一般式（XVII）で表わされるカルボン酸誘導
体は、例えば、以下の方法により合成することができ
る。

【０１６７】

【化７１】

【０１６８】（式中、ｑ及びＸは、一般式（VII）の場
合と同じ内容を表わす。）

【０１６９】即ち、式（XVII-1）で表わされる４−ヒド
ロキシベンズアルデヒドと一般式（XVII-2）で表わされ
るブロム基を有するアルコール誘導体とを反応させた
後、核還元して、一般式（XVII-4）で表わされる化合物
を得る。さらに、一般式（XVII-4）で表わされる化合物
を酸触媒の存在下に、水を留去しながら、（メタ）アク
リル酸と反応させた後、アルデヒド基を酸化することに
よって、目的とする一般式（XVII-6）で表わされるカル
ボン酸誘導体を得ることができる。

【０１７０】また、一般式（VII）で表わされる化合物
の合成原料となる一般式（XVI）で表わされるアルコー
ル誘導体は、前述の合成例に従って得られるものを使用
することができる。

【０１７１】次に、一般式（XXXV）で表わされる化合物
について説明する。一般式（XXXV）で表わされる化合物
は、例えば、以下の方法によって合成することができ
る。

【０１７２】

【化７２】

【０１７３】（式中、Ｘ¹、Ｘ²、ｌ、ｍ及びｎは、一般
式（XXXV）の場合と同じ内容を表わす。また、ＤＣＣ
は、ジシクロヘキシルカルボジイミドを表わし、Ｂａｓ
ｅは、塩基を表わす。）

【０１７４】即ち、一般式（XVI-35）で表わされる化合
物と一般式（XXXVI）で表わされる化合物とを、ジシク
ロヘキシルカルボジイミドのような縮合剤を用いて反応
させて、一般式（XXXVII）で表わされる化合物を得る。
次に、一般式（XXXVII）で表わされる化合物のテトラピ
ラニルエーテル保護基を脱離させて、一般式（XXXVII
I）で表わされる化合物を得る。一般式（XXXVIII）で表
わされる化合物と一般式（XXXIX）で表わされる化合物
とを、ジシクロヘキシルカルボジイミドのような縮合剤
を用いて反応させることにより、目的とする一般式（XX
XV）で表わされる化合物を得ることができる。

【０１７５】一般式（XXXV）で表わされる化合物の合成
原料となる一般式（XXXVI）で表わされる化合物は、前
記した一般式（XVII）で表わされる化合物の合成方法と
同様の方法により、また、一般式（XXXIX）で表わされ
る化合物は、前記した一般式（XV）で表わされる化合物
の合成方法と同様の方法により、それぞれ合成すること
ができる。

【０１７６】次に、一般式（VIII）で表わされる化合物
について説明する。一般式（VIII）で表わされる化合物
は、例えば、以下の方法により合成することができる。

【０１７７】

【化７３】

【０１７８】（式中、Ｘ、Ｙ³、Ｙ⁴、Ｙ⁵、ｐ、ｑ、ｌ
及びｍは一般式（VIII）の場合と同じ内容を表わす。ま
た、ＤＣＣは、ジシクロヘキシルカルボジイミドを表わ
し、Ｂａｓｅは、塩基を表わす。）

【０１７９】即ち、一般式（XLVI）で表わされる化合物
と一般式（XLVII）で表わされる化合物とを、ジシクロ
ヘキシルカルボジイミドのような縮合剤を用いて反応さ
せることによって、目的とする一般式（VIII）で表わさ
れる化合物を得ることができる。

【０１８０】一般式（XLV）で表わされる化合物の合成
原料となる一般式（XLVI）で表わされる化合物は、例え
ば、以下の方法により合成することができる。

【０１８１】

【化７４】

【０１８２】（式中、Ｙ³、Ｙ⁴、Ｙ⁵、ｐ、ｑ、ｌ及び
ｍは、一般式（VIII）の場合と同じ内容を表わす。ま
た、Ｂａｓｅは、塩基を表わす。）

【０１８３】即ち、一般式（XLII）で表わされる化合物
と式（XLVI-1）で表わされる化合物を反応させて、目的
とする一般式（XLVI）で表わされる化合物を得ることが
できる。

【０１８４】一般式（VIII）で表わされる化合物の合成
原料となる一般式（XLVII）で表わされる化合物は、一
般式（XV）で表わされる化合物と同様の方法で合成でき
る。

【０１８５】次に、一般式（IX）で表わされる化合物に
ついて説明する。一般式（IX）で表わされる化合物は、
例えば、以下の方法により合成することができる。

【０１８６】

【化７５】

【０１８７】（式中、Ｘ、Ｙ³、Ｙ⁴、Ｙ⁵、ｐ、ｑ、ｌ
及びｍの意味は、一般式（IX）の場合と同じ内容を表わ
す。また、ＤＣＣは、ジシクロヘキシルカルボジイミド
を表わし、Ｂａｓｅは、塩基を表わす。）

【０１８８】即ち、一般式（XLVI）で表わされる化合物
と一般式（IL）で表わされる化合物とを、ジシクロヘキ
シルカルボジイミドのような縮合剤を用いて反応させる
ことによって、目的とする一般式（IX）で表わされる化
合物を得ることができる。

【０１８９】一般式（XLVIII）で表わされる化合物の合
成原料となる一般式（IL）で表わされる化合物は、前記
した一般式（ＸII’）で表わされる化合物と同様の方法
で合成することができる。

【０１９０】本発明の重合性液晶化合物は、それ自体で
組成物を調製することができるが、公知の重合性液晶化
合物を混合して組成物とすることもできる。公知の重合
性液晶化合物としては、分子内に通常この技術分野で液
晶性環骨格と認められる骨格と重合性官能基を同時に有
する重合性の液晶化合物が挙げられる。当該液晶性環骨
格は、少なくとも２つ又は３つの６員環を有するものが
特に好ましい。重合性官能基としては、アクリロイルオ
キシ基、メタクリロイルオキシ基、エポキシ基、ビニル
オキシ基、シンナモイル基、ビニル基、エチニル基、マ
レイミドなどを挙げることができる。

【０１９１】一分子中に複数の重合性官能基を有する化
合物の場合には、重合性官能基の種類が異なっていても
よい。例えば、重合性官能基を２つ有する化合物の場
合、一方がメタクリロイル基、他方がビニルエーテル基
であってもよい。そのような重合性液晶化合物として
は、例えば、下記一般式（LX）及び（LXI）で示される
化合物が挙げられるが、これらの化合物に限定されるも
のではない。

【０１９２】

【化７６】

【０１９３】（式中、ｎは、６〜１１の整数を表わ
す。）

【０１９４】本発明の液晶組成物は、光学素子の作製に
応用する場合には、室温で、典型的には２５℃において
液晶相を呈することが好ましい。

【０１９５】本発明の液晶組成物は、通常この技術分野
で液晶相と認識される相を示す組成物であればよい。そ
のような組成物の中でも、液晶相として、ネマチック
相、スメクチックＡ相、（キラル）スメクチックＣ相、
コレステリック相を発現するものが好ましい。それらの
中でも、ネマチック相は良好な配向性を有するため、特
に好ましい。また、（キラル）スメクチックＣ相を示す
場合には、該（キラル）スメクチックＣ相の温度領域よ
り高い温度領域でスメクチックＡ相を、該スメクチック
Ａ相の温度領域より高い温度領域でネマチック相を、そ
れぞれ発現する液晶組成物は、良好な配向性を得られる
傾向にあるので好ましい。

【０１９６】本発明の液晶組成物には、さらに一般式
（III）

【０１９７】

【化７７】

【０１９８】（式中、Ｘ¹は水素原子又はメチル基を表
わし、ｒは０又は１の整数を表わし、６員環Ｋ、Ｌ及び
Ｍは、それぞれ独立的に、

【化７８】

【０１９９】からなる群から選ばれる環構造を表わし、
ｐは１〜４の整数を表わし、Ｙ⁷及びＹ⁸は、それぞれ独
立的に、単結合、−ＣＨ₂ＣＨ₂−、−ＣＨ₂Ｃ（ＣＨ₃）
Ｈ−、−Ｃ（ＣＨ₃）ＨＣＨ₂−、−ＣＨ₂Ｏ−、−ＯＣ
Ｈ₂−、−ＣＦ₂Ｏ−、−ＯＣＦ₂−、−ＣＯＯ−、−Ｏ
ＣＯ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ
−、−（ＣＨ₂）₄−、−ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ−、−ＯＣ
Ｈ₂ＣＨ₂ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ₂ＣＨ₂−及び−
ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ＝ＣＨ−からなる群から選ばれる連結鎖
を表わし、Ｙ⁹は、単結合、−Ｏ−、−ＣＯＯ−又は−
ＯＣＯ−を表わし、Ｚ⁷は、水素原子、ハロゲン原子、
シアノ基、炭素原子１〜２０のアルキル基又は炭素原子
２〜２０のアルケニル基を表わす。）で表わされる液晶
性（メタ）アクリレートを含有させることもできる。

【０２００】本発明の液晶組成物に含有させることがで
きる一般式（III）で表わされる液晶性（メタ）アクリ
レート化合物としては、一般式（IV）

【０２０１】

【化７９】

【０２０２】（式中、Ｘ¹は、水素原子又はメチル基を
表わし、Ｒ¹は、炭素原子数１〜１０のアルキル基を表
わす。）で表わされる化合物や、一般式（Ｖ）

【０２０３】

【化８０】

【０２０４】（式中、Ｘ¹は、水素原子又はメチル基を
表わし、Ｒ¹は、炭素原子数１〜１０のアルキル基を表
わす。）で表わされる化合物が好ましい。これらの一般
式（IV）で表わされる化合物や一般式（Ｖ）で表わされ
る化合物は、単独で用いても良いし、組み合わせて用い
ても良い。組み合わせて用いる場合、一般式（IV）と一
般式（Ｖ）で表わされる化合物の濃度を等しくすること
が好ましい。しかしながら、本発明の液晶組成物におい
て使用することができる化合物は、これらの化合物に限
定されるものではない。

【０２０５】一般式（III）で表わされる化合物の具体
的なものとして、式（ａ-1）〜式（ａ-25）で表わされ
る化合物が挙げられる。なお、例示した式（ａ-1）〜式
（ａ-25）で表わされる化合物の構造式の下に、相転移
温度を示した。（式中、シクロヘキサン環はトランスシ
クロヘキサン環を表わす。また、数字は相転移温度を表
わし、Ｃは結晶相、Ｎはネマチック相、Ｓはスメクチッ
ク相、Ｉは等方性液体相をそれぞれ表わす。）

【０２０６】

【化８１】

【０２０７】

【化８２】

【０２０８】

【化８３】

【０２０９】

【化８４】

【０２１０】また、本発明の液晶組成物には、一般式
（III）で表わされる（メタ）アクリレート化合物以外
にも、他の単官能（メタ）アクリレート化合物を含有さ
せることもできる。そのような化合物としては、例え
ば、以下の式（a-26）〜（a-35）で表わされる化合物が
挙げられる。しかしながら、本発明の液晶組成物におい
て使用することができる化合物はこれらに限定されるも
のではない。なお、例示した式（ａ-26）〜式（ａ-35）
で表わされる化合物の構造式の下に、相転移温度を示し
た。（式中、シクロヘキサン環は、トランスシクロヘキ
サン環を表わす。数字は相転移温度を表わし、Ｃは結晶
相、Ｎはネマチック相、Ｓはスメクチック相、Ｉは等方
性液体相をそれぞれ表わす。）

【０２１１】

【化８５】

【０２１２】

【化８６】

【０２１３】また、本発明の液晶組成物には、上記に掲
げた化合物以外に、側鎖に液晶性環骨格を有する（メ
タ）アクリレート化合物を含有させることもできる。そ
のような化合物としては、例えば、以下の式（ａ-36）
〜式（ａ-45）で表わされる化合物を挙げることができ
る。（式中、シクロヘキサン環は、トランスシクロヘキ
サン環を表わす。数字は相転移温度を表わし、Ｃは結晶
相、Ｎはネマチック相、Ｓはスメクチック相、Ｉは等方
性液体相をそれぞれ表わす。）

【０２１４】

【化８７】

【０２１５】

【化８８】

【０２１６】さらに、本発明の液晶組成物には、上記に
挙げた化合物以外にも、本発明の液晶組成物に、他の液
晶性（メタ）アクリレート化合物を含有させることもで
きる。そのような化合物としては、例えば、以下の式
（ａ-46）〜式（ａ-61）で表わされる化合物を挙げるこ
とができる。

【０２１７】

【化８９】

【０２１８】

【化９０】

【０２１９】（式中、Ｘ⁶及びＸ⁷は、おのおの独立的
に、水素原子又はメチル基を表わし、ｓ及びｔは、おの
おの独立的に、２〜１８の整数を表わす）。

【０２２０】また、本発明の液晶組成物には、重合性官
能基を有していない液晶化合物を用途に応じて添加する
こともできる。しかしながら、液晶組成物を用いて作製
する高分子の耐熱性を確保する観点から、その添加量は
８０重量％以下が好ましく、３０重量％以下がさらに好
ましく、１０重量％以下が特に好ましい。

【０２２１】また、本発明の液晶組成物には、重合性官
能基を有する化合物であって、液晶性を示さない化合物
を添加することもできる。このような化合物としては、
通常、この技術分野で高分子形成性モノマーあるいは高
分子形成性オリゴマーとして認識されるものであれば特
に制限なく使用することができる。

【０２２２】本発明の液晶組成物は、液晶相の温度領域
で活性エネルギー線を照射して、組成物中の重合性化合
物を重合させることを目的としている。従って、活性エ
ネルギー線照射工程における、望ましくない熱重合の誘
起を避け、均一性に優れた高分子を製造するために、本
発明の液晶組成物は、室温（典型的には２５℃）又は室
温付近で液晶性を示すものが好ましい。例えば、（キラ
ル）スメクチックＣ相において、本発明の液晶組成物に
活性エネルギー線を照射して、組成物中の重合性化合物
を重合させる場合、室温又は室温付近で（キラル）スメ
クチックＣ相を発現するものが好ましい。

【０２２３】また、本発明の液晶組成物には、液晶骨格
の螺旋構造を内部に有する高分子を得ることを目的とし
て、キラル（光学活性）化合物を添加することもでき
る。そのような目的で使用するキラル化合物は、それ自
体が液晶性を示す必要は無く、また、重合性官能基を有
していても、有していなくても良い。また、キラル化合
物の螺旋の向きは、重合体の使用用途によって適宜選択
することができる。

【０２２４】そのようなキラル化合物としては、例え
ば、キラル基としてコレステリル基を有するペラルゴン
酸コレステロール、ステアリン酸コレステロール、キラ
ル基として２−メチルブチル基を有するビーディーエイ
チ社（ＢＤＨ社；イギリス国）製の「ＣＢ−15」、「Ｃ
−15」、メルク社（ドイツ国）製の「Ｓ−１０８２」、
チッソ社製の「ＣＭ−19」、「ＣＭ−20」、「ＣＭ」；
キラル基として１−メチルヘプチル基を有するメルク社
製の「Ｓ−８１１」、チッソ社製の「ＣＭ−21」、「Ｃ
Ｍ−22」、などを挙げることができる。

【０２２５】キラル化合物を添加する場合の好ましい添
加量は、液晶組成物の用途によるが、重合して得られる
重合体の厚み（ｄ）を重合体中での螺旋ピッチ（Ｐ）で
除した値（ｄ／Ｐ）が０．１〜１００の範囲となる量が
好ましく、０．１〜２０の範囲となる量がさらに好まし
い。

【０２２６】更に本発明の液晶組成物には、その重合反
応性を向上させることを目的として、熱重合開始剤、光
重合開始剤等の重合開始剤を添加することもできる。

【０２２７】熱重合開始剤としては、例えば、過酸化ベ
ンゾイル、ビスアゾブチロニトリル等が挙げられる。ま
た、光重合開始剤としては、例えば、ベンゾインエーテ
ル類、ベンゾフェノン類、アセトフェノン類、ベンジル
ケタール類等が挙げられる。熱重合開始剤あるいは光重
合開始剤を添加する場合の添加量は、液晶組成物に対し
て、１０重量％以下が好ましく、５重量％以下が特に好
ましく、０．５〜１．５重量％の範囲が更に好ましい。

【０２２８】また、本発明の液晶組成物には、その保存
安定性を向上させるために、安定剤を添加することもで
きる。使用できる安定剤としては、例えば、ヒドロキノ
ン、ヒドロキノンモノアルキルエーテル類、第三ブチル
カテコール類、ピロガロール類、チオフェノール類、ニ
トロ化合物類、β−ナフチルアミン類、β−ナフトール
類等が挙げられる。安定剤を使用する場合の添加量は、
液晶組成物に対して、１重量％以下が好ましく、０．５
重量％以下が特に好ましい。

【０２２９】以上のように、本発明の液晶組成物には、
一般式（Ｉ）で表わされる液晶性（メタ）アクリレート
以外に、重合性官能基を有する液晶化合物、重合性官能
基を有さない液晶化合物、液晶性を示さない重合性化合
物、重合開始剤、安定剤を適宜組み合わせて添加しても
よいが、少なくとも得られる液晶組成物の液晶性が失わ
れないよう、各成分の添加量を調整する必要がある。

【０２３０】また、本発明の液晶組成物を偏光フィルム
や配向膜の原料、又は印刷インキ及び塗料、保護膜等の
用途に利用する場合には、その目的に応じて、金属、金
属錯体、染料、顔料、色素、蛍光材料、燐光材料、界面
活性剤、レベリング剤、チキソ剤、ゲル化剤、多糖、紫
外線吸収剤、赤外線吸収剤、抗酸化剤、イオン交換樹
脂、酸化チタンの如き金属酸化物、などを添加すること
もできる。

【０２３１】本発明の液晶化合物を含有する液晶組成物
は、重合させて重合体とすることによって、位相差板、
偏光板、偏光プリズム、導波路、圧電素子、非線形光学
素子、各種光フィルター、コレステリック液晶相等の選
択反射を利用した液晶顔料、液晶−樹脂複合ディスプレ
ー、ホログラフィック液晶ディスプレー、高分子安定化
液晶（強誘電性液晶、反強誘電性液晶）ディスプレー、
光ファイバー等の被覆剤などの各種の用途に応用するこ
とができる。中でも、本発明の液晶組成物を配向させた
状態において、重合させた重合体は、物理的性質に異方
性を有しており、有用である。このような重合体は、例
えば、本発明の重合性液晶組成物を、布等で表面をラビ
ング処理した基板、有機薄膜を形成した基板の表面を布
等でラビング処理した基板、あるいはＳｉＯ₂ を斜方蒸
着した配向膜を有する基板上に担持させるか、基板間に
挟持させた後、重合性化合物を重合させることによって
製造することができる。

【０２３２】重合性液晶組成物を基板上に担持させる際
の方法としては、例えば、スピンコーティング、ダイコ
ーティング、エクストルージョンコーティング、ロール
コーティング、ワイヤーバーコーティング、グラビアコ
ーティング、スプレーコーティング、ディッピング、プ
リント法、などが挙げられる。また、コーティングの
際、重合性液晶組成物に有機溶媒を添加することもでき
る。そのような目的で使用することができる有機溶媒と
しては、例えば、酢酸エチル、テトラヒドロフラン、ト
ルエン、ヘキサン、メタノール、エタノール、ジメチル
ホルムアミド、塩化メチレン、イソプロパノール、アセ
トン、メチルエチルケトン、アセトニトリル、セロソル
ブ類、などが挙げられる。これらの有機溶媒は、単独で
用いることも、２種類以上を組み合わせて用いることも
でき、その蒸気圧と重合性液晶組成物の溶解性を考慮
し、適宜選択すれば良い。また、有機溶剤の添加量は、
コーティング材料の９０重量％以下が好ましい。９０重
量％以上になると、得られる膜厚が薄くなってしまう傾
向にあるので好ましくない。

【０２３３】添加した有機溶媒を揮発させる方法として
は、自然乾燥、加熱乾燥、減圧乾燥、減圧加熱乾燥を用
いることができる。重合性液晶材料の塗布性をさらに向
上させるために、基板上にポリイミド薄膜等の中間層を
設ける方法、重合性液晶材料にレベリング剤を添加する
方法も有効である。特に、基板上にポリイミド薄膜等の
中間層を設ける方法は、重合性液晶材料を重合させて得
られる高分子と基板の密着性が良くない場合に、密着性
を向上させる手段としても有効である。

【０２３４】重合性液晶材料を基板間に挟持させる方法
としては、毛細管現象を利用した注入法が挙げられる。
基板間に形成された空間を減圧し、その後、重合性液晶
材料を注入する手段も有効である。

【０２３５】ラビング処理あるいはＳｉＯ₂ 斜方蒸着以
外の配向処理の方法として、液晶材料の流動配向を利用
する方法、電場又は磁場の利用する方法が挙げられる。
これらの配向手段は、単独で用いることも、２種類以上
の方法を組み合わせて用いることもできる。

【０２３６】さらに、ラビングに代わる配向処理方法と
して、光配向法を用いることもできる。この方法は、例
えば、ポリビニルシンナメート等の分子内に光二量化反
応する官能基を有する有機薄膜、光で異性化する官能基
を有する有機薄膜又はポリイミド等の有機薄膜に、偏光
した光、好ましくは偏光した紫外線を照射することによ
って、配向膜を形成するものである。この光配向法に光
マスクを適用することにより、配向のパターン化が容易
に達成できるので、高分子内部の分子配向も精密に制御
することができる。

【０２３７】基板の形状としては、平板の他、曲面を有
するものであっても良い。基板を構成する材料は、有機
材料、無機材料を問わずに用いることができる。基板の
材料となる有機材料としては、例えば、ポリエチレンテ
レフタレート、ポリカーボネート、ポリイミド、ポリア
ミド、ポリメタクリル酸メチル、ポリスチレン、ポリ塩
化ビニル、ポリテトラフルオロエチレン、ポリクロロト
リフルオロエチレン、ポリアリレート、ポリスルホン、
トリアセチルセルロース、セルロース、ポリエーテルエ
ーテルケトン等が挙げられ、また、無機材料としては、
例えば、シリコン、ガラス、方解石等が挙げられる。

【０２３８】これらの基板を布等でラビングすることに
よって適当な配向性を得られない場合、公知の方法に従
ってポリイミド薄膜又はポリビニルアルコール薄膜等の
有機薄膜を基板表面に形成し、これを布等でラビングし
ても良い。また、通常のツイステッド・ネマチック（Ｔ
Ｎ）素子又はスーパー・ツイステッド・ネマチック（Ｓ
ＴＮ）素子で使用されているプレチルト角を与えるポリ
イミド薄膜は、高分子内部の分子配向構造を更に精密に
制御することができることから、特に好ましい。

【０２３９】また、電場によって配向状態を制御する場
合には、電極層を有する基板を使用する。この場合、電
極上に前述のポリイミド薄膜等の有機薄膜を形成するこ
とが好ましい。

【０２４０】液晶組成物の配向状態としては、液晶の技
術分野で一般的に知られている種々の配向状態でよく、
例えば、ホモジニアス（水平）配向、傾いたホモジニア
ス配向、ホメオトロピック（垂直）配向、傾いたホメオ
トロピック配向、ハイブリッド配向、ツイステッドネマ
チック配向、スーパーツイステッドネマチック配向状態
を挙げることができる。また、これらの配向の組み合わ
せや、場所ごとに配向状態を変えてパターン化しても良
い。

【０２４１】傾いたホモジニアス配向及び傾いたホメオ
トロピック配向の場合、双方の場合とも基板面と液晶分
子長軸のなす角度が０度又は９０度以外になっている状
態を意味する。基板面と液晶分子長軸のなす角度は、得
られる重合体の用途・機能によって選択すれば良い。基
板面と液晶分子長軸のなす角度を１０〜８０度、さらに
好ましくは、２０〜７０度の範囲に設定した場合、得ら
れる重合体は、液晶ディスプレイの視野角を広く改善す
るための光学部材として使用することができる。

【０２４２】また、液晶組成物の配向状態をハイブリッ
ド配向にした場合も、得られる重合体は、液晶ディスプ
レイの視野角を広く改善するための光学部材として使用
可能である。また、基板面と液晶分子長軸のなす角度を
３０〜６０度、さらに好ましくは、４０〜５０度、特に
好ましくは４５度に設定した場合、得られる重合体に、
偏光分離能を効率良く付与することができる。このよう
な重合体は、偏光分離素子や光学的ローパスフィルター
として有用である。

【０２４３】また、液晶組成物の配向状態をハイブリッ
ド配向にした場合も、得られる重合体は、偏光光学素子
や光学的ローパスフィルターとして有用である。

【０２４４】一方、ツイステッドネマチック配向、スー
パーツイステッドネマチック配向、コレステリック配向
に代表されるような螺旋構造を有する配向構造も有用で
ある。ねじり角度を６０〜２７０度に設定した場合、得
られる重合体は、液晶表示素子の光学補償用途に有用で
ある。また、螺旋ピッチを調節し、特定の波長領域を選
択的に反射するように設定した場合、得られる重合体
は、ノッチフィルターや反射型カラーフィルターとして
有用である。

【０２４５】また、選択的に反射する波長領域を赤外線
の領域に設定した場合、得られる重合体は、熱線カット
フィルターとして有用である。また、ホモジニアス配
向、ホメオトロピック配向状態にした場合、得られる重
合体は、プラスチックを延伸処理したものと比較して、
屈折率の異方性が大きいため、同じ屈折率の異方性を示
すものを薄く設計できるという利点がある。また、液晶
セル内部に、光学補償板を作り込める可能性もある。反
射型液晶表示素子の光学補償に用いる場合、この特性は
重要であり、特に１／４波長板として極めて有用であ
る。

【０２４６】本発明の液晶組成物を重合させる方法とし
ては、迅速に重合する点で、紫外線又は電子線等の活性
エネルギー線を照射することによって重合させる方法が
好ましい。紫外線を使用する場合、偏光光源を用いても
良いし、非偏光光源を用いても良い。また、液晶組成物
を２枚の基板間に挟持させて状態で重合を行なう場合に
は、少なくとも照射面側の基板は、活性エネルギー線に
対して適当な透明性が与えられていなければならない。
また、光照射時にマスクを用いて特定の部分のみを重合
させた後、電場や磁場又は温度等の条件を変化させるこ
とにより、未重合部分の配向状態を変化させて、さらに
活性エネルギー線を照射して重合させるという手段を用
いても良い。また、照射時の温度は、本発明の液晶組成
物の液晶状態が保持される温度範囲内であることが好ま
しい。特に、光重合によって高分子を製造しようとする
場合には、意図しない熱重合の誘起を避ける意味からも
可能な限り、室温に近い温度、即ち、典型的には２５℃
での温度で重合させることが好ましい。活性エネルギー
線の強度は、０．１ｍＷ／cm²〜２Ｗ／cm²の範囲が好ま
しい。強度が０．１ｍＷ／cm²未満の場合、光重合を完
了させるのに多大な時間が必要になり、生産性が悪化す
る傾向にあり、２Ｗ／cm²を超える強度では、重合性液
晶組成物が劣化する傾向にあるので、好ましくない。

【０２４７】本発明の重合性液晶組成物に活性光線を照
射した後、得られた重合体の初期特性変化を軽減し、安
定的な特性発現を図ることを目的として、熱処理を施す
こともできる。熱処理の温度は、５０〜２５０℃の範囲
で、熱処理時間は３０秒〜１２時間の範囲が好ましい。

【０２４８】このような方法によって製造される本発明
の重合性液晶組成物からなる重合体は、基板から剥離し
て単体で用いることも、基板から剥離せずにそのまま用
いることもできる。また、本発明の重合性液晶組成物か
らなる重合体は、２つ以上を積層して用いることも、他
の基板に貼り合わせて用いることもできる。

【０２４９】

【実施例】以下、実施例を用いて、本発明を更に詳細に
説明する。しかしながら、本発明はこれらの実施例の限
定されるものではない。なお、以下の実施例におけるヘ
イズの測定は、補償法（ＪＩＳ、Ｋ７３６１）で行っ
た。

【０２５０】＜実施例１＞〔液晶性アクリレート化合物
の合成（１）〕 ４，４’−ビフェノール１００．０ｇ、６−クロロ−１
−ヘキサノール７３．０ｇ、水酸化ナトリウム２２．０
ｇ、ヨウ化カリウム２１．０ｇ、エタノール４００ml及
び水４００mlから成る混合物を撹拌しながら、８０℃で
５時間加熱した。得られた反応液を室温まで冷却した
後、反応液の水層が弱酸性になるまで希塩酸を加えた。
析出した結晶を、ガラスフィルターを用いてろ取した
後、結晶を水１５００mlで洗うことにより、粗生成物７
００ｇを得た。この粗生成物をメタノール７００mlから
再結晶させ、さらに、メタノール３００mlから再結晶さ
せる操作を２回行なうことにより、精製物を得た。さら
に、得られた化合物を３００mlのテトラヒドロフランに
溶解させた後、不溶物を濾過して除き、テトラヒドロフ
ランを減圧留去して、式（ｓ−１）

【０２５１】

【化９１】

【０２５２】で表わされる化合物４０．６ｇを得た。

【０２５３】４−ヒドロキシ安息香酸１３８．１ｇ、６
−クロロ−１−ヘキサノール１３６．１ｇ、水酸化ナト
リウム８４．０ｇ、ヨウ化カリウム２５．０ｇ、エタノ
ール４４０ml及び水４４０mlから成る混合物を撹拌しな
がら、８０℃で３２時間加熱した。得られた反応液を室
温まで冷却した後、反応液に飽和食塩水１０００mlを加
え、反応液の水層が弱酸性になるまで希塩酸を加えた。
この反応溶液に酢酸エチル１０００mlを加えて反応生成
物の抽出を行った。有機層を水洗した後、抽出溶媒を減
圧留去し、さらに風乾させて、式（ｓ−２）

【０２５４】

【化９２】

【０２５５】で表わされる化合物２２３．９ｇを得た。

【０２５６】式（ｓ−２）で表わされる化合物１１０．
０ｇ、アクリル酸１３３．１ｇ、ｐ−トルエンスルホン
酸２７．０ｇ、ヒドロキノン６．０ｇ、トルエン４２０
ml、ｎ−ヘキサン１８０ml及びテトラヒドロフラン２６
０mlから成る混合物を加熱撹拌し、生成してくる水を留
去しながら６時間還流させた。反応液を室温まで冷却し
た後、反応液に飽和食塩水１０００ml及び酢酸エチル８
００mlを加えて反応生成物の抽出を行った。有機層を水
洗した後、有機溶媒を減圧留去して粗生成物２３１．４
ｇ得た。次に、この粗生成物を、ｎ−ヘキサン４００ml
とトルエン１００mlの混合物から再結晶させる操作を２
回行なうことにより、式（ｓ−３）

【０２５７】

【化９３】

【０２５８】で表わされる化合物を１１１．８ｇ得た。¹ Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ₃）；δ＝１．４
２〜１．８７（ｍ、８Ｈ）、４．１４（ｔ、２Ｈ）、
４．３８（ｔ、２Ｈ）、５．８４（ｄ、１Ｈ）、６．１
１（ｄ、１Ｈ）、６．４３（ｄ、１Ｈ）、６．９４
（ｄ、２Ｈ）、８．０６（ｄ、２Ｈ）

【０２５９】式（ｓ−１）で表わされる化合物２．０
ｇ、式（ｓ−３）で表わされる化合物４．５ｇ、４−ジ
メチルアミノピリジン１．９ｇ、１−エチル−３−（３
−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩３．
０ｇ及びテトラヒドロフラン５０mlからなる混合物を、
室温で１６時間撹拌した。撹拌終了後、沈殿物を濾過器
で取り除いた後、飽和食塩水１００mlを加えた。水層を
希塩酸水溶液で中和した後、酢酸エチル２００mlを加え
て反応生成物の抽出を行った。有機層を水洗した後、有
機溶媒を減圧留去して、粗生成物７．０ｇを得た。得ら
れた粗生成物を酢酸エチル及びトルエンからなる混合溶
媒（容量比で酢酸エチル：トルエン＝１：４、Ｒｆ＝
０．６８）を展開溶媒とするシリカゲルカラムクロマト
グラフィー、を用いて精製し、さらに、１５mlのメタノ
ールから再結晶させて精製して、式（ｓ−４）

【０２６０】

【化９４】

【０２６１】で表わされる液晶性アクリレート化合物を
４．５ｇ得た。

【０２６２】式（ｓ−４）で表わされる液晶性アクリレ
ート化合物の相転移温度は、結晶相−スメクチックＸ相
（詳細な相構造は特定できなかった）転移温度が４６
℃、スメクチックＸ相−スメクチックＡ相転移温度が５
５℃、スメクチックＡ相−ネマチック相転移温度が９３
℃、ネマチック相−等方性液体相転移温度が１００℃で
あり、式（ｓ−４）の化合物は、９３〜１００℃でネマ
チック相を示すものであった。

【０２６３】¹Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣ
ｌ₃）；δ＝１．４４〜１．８６（ｍ、２４Ｈ）、３．
９７〜４．０７（ｍ、６Ｈ）、４．１５〜４．２１
（ｍ、４Ｈ）、４．３０（ｔ、Ｊ＝６Ｈｚ、２Ｈ）、
５．７８〜５．８４（ｍ、２Ｈ）、６．０７〜６．１７
（ｍ、２Ｈ）、６．３６〜６．４４（ｍ、２Ｈ）、６．
８７〜８．１７（ｍ、１６Ｈ）

【０２６４】一方、式（ｓ−４）の化合物と類似構造を
有する特表平６−５０７９８７号の実施例４に記載の式
（４．１）

【０２６５】

【化９５】

【０２６６】で表わされる化合物の相転移温度は、結晶
相−スメクチックＡ相転移温度が８７℃、スメクチック
Ａ相−ネマチック相転移温度が１４５℃、ネマチック相
−等方性液体相転移温度が１７０℃であり、式（４．
１）の化合物は、１４５〜１７０℃でネマチック相を示
すものであった。

【０２６７】実施例１で得た式（ｓ−４）の化合物は、
公知の式（４．１）の化合物と比較して、一分子中の環
の数が１個増加しているにも係わらず、ネマチック相を
示す温度が５０℃以上低くなっているが、この効果は、
式（４．１）の化合物のビフェニル基と、このビフェニ
ル基に結合したアクリロイルオキシアルキレンオキシ基
との間に、フェニルカルボニルオキシアルキレンオキシ
基を導入したことによるものであることが明らかであ
る。

【０２６８】＜実施例２＞〔液晶性アクリレート化合物
の合成（２）〕 ４−ヒドロキシ安息香酸メチル８０．０ｇ、３−ブロモ
−１−プロパノール８０．４ｇ、炭酸カリウム８０．０
ｇ及びジメチルホルムアミド３２０mlからなる混合物を
を撹拌しながら、８０℃で６時間加熱還流した。得られ
た反応液を室温まで冷却した後、反応液に飽和食塩水８
００mlを加え、反応液の水層が弱酸性になるまで希塩酸
を加えた。この反応溶液にテトラヒドロフラン１０００
mlを加えて反応生成物の抽出を行った。有機溶媒を減圧
留去して、式（ｓ−８）

【０２６９】

【化９６】

【０２７０】で表わされる粗生成物１１２．６ｇを得
た。

【０２７１】式（ｓ−８）で表わされる粗生成物１１
２．６ｇ、水酸化ナトリウム２１．０ｇ、メタノール１
００ml及び水１００mlから成る混合物を、撹拌しながら
３時間加熱還流させた。反応液を室温まで冷却した後、
反応液に塩酸を加えて中和した。次に、反応液に飽和食
塩水１０００mlを加え、さらにテトラヒドロフラン１０
００mlを加えて反応生成物の抽出を行った。有機溶媒を
減圧留去して粗生成物２４２．１ｇ得た。次に、粗生成
物をトルエン２００mlから再結晶させ、次に、トルエン
４００mlから再結晶させ、さらに、トルエン２００mlと
テトラヒドロフラン１００mlの混合溶媒から再結晶させ
て、式（ｓ−９）

【０２７２】

【化９７】

【０２７３】で表わされる化合物９２．０ｇ得た。

【０２７４】式（ｓ−９）で表わされる化合物９２．０
ｇ、アクリル酸１３５．０ｇ、ｐ−トルエンスルホン酸
１５．０ｇ、ヒドロキノン３．０ｇ、トルエン４２０ml
及びｎ−ヘキサン４２０mlからなる混合物を加熱撹拌
し、生成してくる水をディーンスターク水分離器で留去
しながら、５時間還流させた。反応液を室温まで冷却し
た後、反応液に飽和食塩水１０００mlを加えて反応液を
洗浄した。有機層に酢酸エチル８００ml加えた後、有機
層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液３００mlで２回洗浄
した。さらに有機層を水１０００mlで３回洗浄した後、
有機溶媒を減圧留去し、粗生成物１２１．７ｇを得た。
粗生成物をトルエン７０mlとｎ−ヘキサン２００mlの混
合溶媒から再結晶させて、式（ｓ−10）

【０２７５】

【化９８】

【０２７６】で表わされる化合物３９．９ｇを得た。

【０２７７】式（ｓ−１）で表わされる化合物３．０
ｇ、式（ｓ−10）で表わされる化合物５．８ｇ、４−ジ
メチルアミノピリジン０．６ｇ、１−エチル−３−（３
−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩４．
５ｇ及びテトラヒドロフラン１００mlからなる混合物を
撹拌しながら、５０℃まで加熱昇温した。５０℃まで昇
温した後、直ちに加熱を中止し、撹拌をつづけながら室
温まで自然冷却させた。その後、室温で６時間撹拌し
た。反応液に、水層が弱酸性になるまで希塩酸水溶液を
加えた後、さらに飽和食塩水２００ml及び酢酸エチル３
００mlを加えて反応生成物の抽出を行った。有機層を水
洗した後、有機溶媒を減圧留去して粗精製物１２．２ｇ
得た。得られた粗生成物をトルエンと酢酸エチルの混合
溶媒（容量比で酢酸エチル：トルエン＝１：４、Ｒｆ＝
０．５２）を展開溶媒とするシリカゲルカラムクロマト
グラフィーを用いて精製し、さらにメタノール４０mlか
ら再結晶させて精製して、式（ｓ−11）

【０２７８】

【化９９】

【０２７９】で表わされる液晶性アクリレート化合物
３．０ｇを得た。

【０２８０】式（ｓ−11）で表わされる液晶性アクリレ
ート化合物の相転移温度は、結晶相−スメクチックＸ相
（詳細な相構造は特定できなかった）転移温度が８２
℃、スメクチックＸ相−スメクチックＡ相転移温度が８
４℃、スメクチックＡ相−ネマチック相転移温度が８６
℃、ネマチック相−等方性液体相転移温度が１０５℃で
あった。

【０２８１】¹Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣ
ｌ₃）；δ＝１．５５〜２．３５（ｍ、１２Ｈ）、４．
０１（ｔ、Ｊ＝６Ｈｚ、２Ｈ）、４．１０（ｔ、Ｊ＝６
Ｈｚ、２Ｈ）、４．１６（ｔ、Ｊ＝６Ｈｚ、２Ｈ）、
４．３１（ｔ、Ｊ＝７Ｈｚ、２Ｈ）、４．３８（ｔ、Ｊ
＝６Ｈｚ、４Ｈ）、５．８４（ｄｄ、Ｊ＝１０Ｈｚ、２
Ｈ）、６．０７〜６．１８（ｍ、２Ｈ）、６．４１（ｄ
ｄ、Ｊ＝１７Ｈｚ、２Ｈ）、６．８７〜８．１７（ｍ、
１６Ｈ）

【０２８２】＜実施例３＞液晶性アクリレート化合物の
合成（３） ４−ブロモフェノール１０７５．０ｇ、６−クロロ−１
−ヘキサノール１０１７．８ｇ、炭酸カリウム１０２
９．７ｇ、ヨウ化カリウム１３０ｇ、ジメチルホルムア
ミド４３００ｍｌからなる混合物を撹拌しながら、８０
℃で２０時間加熱した。得られた反応液を室温まで冷却
後、反応液の水槽が弱酸性になるまで希塩酸を加えた。
酢酸エチル１００００ｍｌを加えて抽出を行った。有機
層を水洗した後、有機溶媒を減圧留去し、さらに真空乾
燥して式（ｓ−１２）の粗生成物を１９６２．０ｇ得
た。

【０２８３】

【化１００】

【０２８４】（ｓ−１２）の化合物１９６２．０ｇ、ｐ
−トルエンスルホン酸ピリジニウム塩１８０．４ｇ、塩
化メチレン９８００ｍｌからなる混合物に３，４−ジヒ
ドロピラン１２０７．８ｇを混合物の温度が３０℃を越
えないように滴下した。滴下終了後、３時間撹拌した。
反応終了後、反応液を飽和食塩水３０００ｍｌで３回洗
浄した後、有機溶媒を減圧留去し、さらに真空乾燥する
ことにより（ｓ−１３）の粗生成物を２９７７．２ｇ得
た。

【０２８５】

【化１０１】

【０２８６】４−ブロモ−２−フルオロフェノール１６
３５．０ｇ、ｐ−トルエンスルホン酸ピリジニウム塩２
１５．１ｇ、塩化メチレン８２００ｍｌからなる混合物
に３，４−ジヒドロピラン１４４０．０ｇを混合物の温
度が３０℃を越えないように滴下した。滴下終了後、３
時間撹拌した。反応終了後、反応液を飽和食塩水３００
０ｍｌで３回洗浄した後、有機溶媒を減圧留去し、さら
に真空乾燥することにより（ｓ−１４）の粗生成物を２
３２０．０ｇ得た。

【０２８７】

【化１０２】

【０２８８】マグネシウム２２５．４ｇに８０００ｍｌ
のテトラヒドロフランに溶解させた（ｓ−１４）の粗生
成物２３２０．０ｇを内温が４０〜５０℃を保つように
滴下した。滴下終了後、１時間室温で撹拌した。反応液
中に残ったマグネシウム片を濾過して取り除き、（ｓ−
１５）の化合物のテトラヒドロフラン溶液を得た。

【０２８９】

【化１０３】

【０２９０】次に、（ｓ−１３）の粗生成物２９７７．
２ｇ、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウ
ム（０）を７５．２ｇ、８０００ｍｌのテトラヒドロフ
ランからなる混合物を４５℃に加熱撹拌した。この反応
液に、内温が４０〜５０℃に保たれるような速度で、
（ｓ−１５）の化合物のテトラヒドロフラン溶液を滴下
した。滴下終了後３時間、反応液の内温を４０〜５０℃
に保ちながら、加熱撹拌した。反応終了後、室温まで冷
却した後、希塩酸を加えて中和した。この反応液に酢酸
エチル１００００ｍｌを加えて抽出した。有機層を飽和
食塩水３０００ｍｌで３回洗浄後、有機溶媒を減圧留
去、さらに真空乾燥して、（ｓ−１６）の粗生成物３１
２０．０ｇを得た。

【０２９１】

【化１０４】

【０２９２】（ｓ−１６）の粗生成物３１２０．０ｇと
７０００ｍｌのテトラヒドロフラン、１５００ｍｌの塩
酸水溶液からなる混合物を３時間加熱還流させた。反応
終了後、室温まで冷却した後、酢酸エチル１００００ｍ
ｌを加えて抽出した。有機層を飽和食塩水３０００ｍｌ
で３回洗浄した後、有機溶媒を減圧して、さらに真空乾
燥して（ｓ−１７）の粗生成物１８７０．０ｇを得た。
これを６０００ｍｌの熱トルエンにより洗浄して、（ｓ
−１７）の化合物８００ｇを得た。

【０２９３】

【化１０５】

【０２９４】（ｓ−１７）の化合物２．０ｇ、実施例１
で合成した（ｓ−３）の化合物４．２ｇ、４−ジメチル
アミノピリジン０．２ｇ、１−エチル−３−（３−ジメ
チルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩２．８ｇ、
テトラヒドロフラン５０ｍｌからなる混合物を、室温で
１６時間撹拌した。撹拌終了後、沈殿物を濾過器で取り
除いた後、飽和食塩水１００ｍｌを加えた。水層を希塩
酸水溶液で中和した後、酢酸エチル２００ｍｌを加えて
抽出を行った。有機層を水洗した後、有機溶媒を減圧留
去して、粗生成物６．０ｇを得た。得られた粗生成物を
酢酸エチル及びトルエンからなる混合溶媒（容量比で酢
酸エチル：トルエン＝１：１０、Ｒｆ＝０．３３）を展
開溶媒とするシリカゲルカラムクロマトグラフィー、ヘ
キサン３０ｍｌと酢酸エチル１０ｍｌからなる混合溶媒
を用いた再結晶、エタノール３０ｍｌと酢酸エチル１０
ｍｌからなる混合溶媒を用いた再結晶により精製して、
（ｓ−１８）の液晶性アクリレート化合物を１．７ｇ得
た。

【０２９５】

【化１０６】

【０２９６】式（ｓ−１８）の液晶性アクリレート化合
物の相転移温度は、スメクチックＡ相−ネマチックが６
６℃、ネマチック−等方性液体相が８６℃であった。

【０２９７】＜実施例４＞液晶性アクリレート化合物の
合成（４） （ｓ−１７）の化合物２．０ｇ、実施例３で合成した
（ｓ−１０）の化合物３．６ｇ、４−ジメチルアミノピ
リジン０．２ｇ、１−エチル−３−（３−ジメチルアミ
ノプロピル）カルボジイミド塩酸塩２．８ｇ、テトラヒ
ドロフラン５０ｍｌからなる混合物を、室温で１６時間
撹拌した。撹拌終了後、沈殿物を濾過器で取り除いた
後、飽和食塩水１００ｍｌを加えた。水層を希塩酸水溶
液で中和した後、酢酸エチル２００ｍｌを加えて抽出を
行った。有機層を水洗した後、有機溶媒を減圧留去し
て、粗生成物５．５ｇを得た。得られた粗生成物を酢酸
エチル及びトルエンからなる混合溶媒（容量比で酢酸エ
チル：トルエン＝１：５、Ｒｆ＝０．５１）を展開溶媒
とするシリカゲルカラムクロマトグラフィー、エタノー
ル１０ｍｌと酢酸エチル５ｍｌからなる混合溶媒を用い
た再結晶を１０回行い、（ｓ−１９）の液晶性アクリレ
ート化合物を１．８ｇ得た。

【０２９８】

【化１０７】

【０２９９】式（ｓ−１９）の液晶性アクリレート化合
物の相転移温度は、スメクチックＡ相−ネマチックが３
７℃、ネマチック−等方性液体相が８６℃であった。

【０３００】＜実施例５＞液晶性アクリレート化合物の
合成（５） ４−ベンジルオキシフェノール５０．０ｇ、３−クロロ
−１−プロパノール２８．３ｇ、炭酸カリウム４１．３
ｇ、ヨウ化カリウム５．０ｇ、ジメチルホルムアミド１
００ｍｌからなる混合物を撹拌しながら、８０℃で５時
間加熱した。得られた反応液を室温まで冷却後、反応液
の水層が弱酸性になるまで希塩酸を加えた。８００ｍｌ
のテトラヒドロフランを加えて、抽出を行った。有機層
を水洗した後、有機溶媒を減圧留去し、さらに真空乾燥
して（ｓ−２０）の粗生成物６７．２ｇを得た。これを
１４０ｍｌのトルエンを用いて２回再結晶を行うことに
より精製し、（ｓ−２０）の化合物３１．９ｇ得た。

【０３０１】

【化１０８】

【０３０２】（ｓ−２０）の化合物３１．９ｇ、パラジ
ウムカーボン触媒６．０ｇ、エタノール５００ｍｌから
なる混合物をオートクレーブ中に加え、０．３ＭＰａの
水素雰囲気下で３時間撹拌した。反応終了後、パラジウ
ムカーボンを濾取した後、有機溶媒を減圧留去し、さら
に真空乾燥することにより、（ｓ−２１）の粗生成物を
２７．７ｇ得た。これを１００ｍｌの熱トルエン洗浄に
より精製し、（ｓ−２１）の化合物２０．１ｇを得た。

【０３０３】

【化１０９】

【０３０４】（ｓ−２１）の化合物３．２ｇ、実施例３
で合成した（ｓ−１０）の化合物１０．０ｇ、４−ジメ
チルアミノピリジン０．５ｇ、１−エチル−３−（３−
ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩７．７
ｇ、テトラヒドロフラン１２０ｍｌからなる混合物を、
室温で１６時間撹拌した。撹拌終了後、沈殿物を濾過器
で取り除いた後、飽和食塩水２００ｍｌを加えた。水層
を希塩酸水溶液で中和した後、酢酸エチル４００ｍｌを
加えて抽出を行った。有機層を水洗した後、有機溶媒を
減圧留去して、粗生成物１３．１ｇを得た。得られた粗
生成物を酢酸エチル及びトルエンからなる混合溶媒（容
量比で酢酸エチル：トルエン＝１：５、Ｒｆ＝０．３
６）を展開溶媒とするシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー、エタノール１０ｍｌを用いた再結晶行い、（ｓ−
２２）の液晶性アクリレート化合物を５．０ｇ得た。

【０３０５】

【化１１０】 の（ｓ−２２）の液晶性アクリレート化合物は、ネマチ
ック液晶相を示した。

【０３０６】＜実施例６＞液晶性アクリレート化合物の
合成（６） ４−ブロモ−２−フルオロフェノール４８．０ｇとジク
ロロメタン２５０ｍの溶液にピリジニウムパラトルエン
スルホン酸を６．３ｇ加えた後、氷浴下でジヒドロピラ
ン４２．０ｇとジクロロメタン７５ｍｌの溶液を滴下漏
斗から約１時間掛けて徐々に滴下した。滴下終了後に反
応温度を室温にして約４時間攪拌した。ガスクロマトグ
ラフィーより反応を確認して反応を終了した後、飽和炭
酸水素ナトリウム水溶液２５０ｍｌで１回洗浄、飽和食
塩水２５０ｍｌで１回洗浄した。有機層を無水硫酸マグ
ネシウムより脱水した後、減圧下溶媒留去して式（ｓ−
１４）

【０３０７】

【化１１１】

【０３０８】で表わされる化合物６７．０ｇを得た。

【０３０９】¹Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣ
ｌ₃）；δ＝１．５０〜２．０８（ｍ、６Ｈ）、３．５
６〜３．６３（ｍ、１Ｈ）、３．８４〜３．９２（ｍ、
１Ｈ）、５．３８〜５．４０（ｍ、１Ｈ）、７．００〜
７．３２（ｍ、３Ｈ）

【０３１０】上記の合成で得られた（ｓ−１４）化合物
３４．４ｇ、トリメチルシリルアセチレン１４．７ｇ、
ジメチルホルムイミド１２０ｍｌ及びトリエチルアミン
４５ｍｌの溶液にテトラキストリフェニルホスフィンパ
ラジウム１．７３ｇ及びヨウ化銅０．５７ｇを加えて撹
拌しながら、８０℃で８時間加熱した。薄層クロマトグ
ラフィー（ヘキサン：ジクロロメタン＝２：１）より反
応を確認して反応を終了した後、酢酸エチル３００ｍｌ
を用いて反応液を希釈した。飽和塩化アンモニウム水溶
液２００ｍｌで１回洗浄、飽和食塩水２００ｍｌで２回
洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムより脱水し、
減圧下溶媒留去した後、粗生成物をカラムクロマトグラ
フィー（ヘキサン：ジクロロメタン＝２：１）より精製
して式（ｓ−２３）

【０３１１】

【化１１２】

【０３１２】で表わされる化合物３２．８ｇを得た。

【０３１３】７５％テトラノルマルブチルアンモニウム
フロリド３４．５ｇとジクロロメタン６０ｍｌの溶液を
氷浴下で冷やした後、上記合成した式（ｓ−２３）で表
わされる化合物３０．７ｇとジクロロメタン６０ｍｌの
溶液を滴下漏斗から約１時間掛けて徐々に滴下した。滴
下終了後に反応温度を室温にして約３時間攪拌した。薄
層クロマトグラフィー（トルエン）より反応を確認して
反応を終了した後、飽和食塩水１５０ｍｌで２回洗浄し
た。有機層を無水硫酸マグネシウムより脱水した後、減
圧下溶媒留去した後、粗生成物をカラムクロマトグラフ
ィー（トルエン）より精製して、式（ｓ−２４）

【０３１４】

【化１１３】

【０３１５】で表わされる化合物２２．１ｇを得た。

【０３１６】¹Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣ
ｌ₃）；δ＝１．５０〜２．０９（ｍ、６Ｈ）、３．０
１（ｓ、１Ｈ）、３．６０〜３．６５（ｍ、１Ｈ）、
３．８５〜３．９３（ｍ、１Ｈ）、５．４６〜５．４８
（ｍ、１Ｈ）、７．１０〜７．３５（ｍ、３Ｈ）

【０３１７】上記の合成で得られた（ｓ−２４）化合物
２２．５ｇ、４−ブロモフェノール１９．９ｇ、ジメチ
ルホルムイミド１２０ｍｌ及びトリエチルアミン３５ｍ
ｌの溶液にテトラキストリフェニルホスフィンパラジウ
ム１．２５ｇ及びヨウ化銅０．４１ｇを加えて撹拌しな
がら、９０℃で１２時間加熱した。薄層クロマトグラフ
ィー（トルエン：酢酸エチル＝１０：１）より反応を確
認して反応を終了した後、酢酸エチル２００ｍｌを用い
て反応液を希釈した。飽和塩化アンモニウム水溶液１５
０ｍｌで１回洗浄、飽和食塩水１５０ｍｌで２回洗浄し
た。有機層を無水硫酸マグネシウムより脱水し、減圧下
溶媒留去した後、粗生成物をカラムクロマトグラフィー
（トルエン：酢酸エチル＝１０：１）より精製して式
（ｓ−２５）

【０３１８】

【化１１４】

【０３１９】で表わされる化合物１７．５ｇを得た。

【０３２０】¹Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣ
ｌ₃）；δ＝１．６０〜２．０６（ｍ、６Ｈ）、３．６
２〜３．６６（ｍ、１Ｈ）、３．９０〜３．９８（ｍ、
１Ｈ）、５．１１（ｓ、１Ｈ）、５．４７〜５．４９
（ｍ、１Ｈ）、６．７０〜７．４１（ｍ、７Ｈ）

【０３２１】上記の合成で得られた（ｓ−２５）化合物
１４．４ｇ、６−ブロモヘキサノール１６．７ｇ及びジ
メチルホルムイミド１４０ｍｌの溶液に炭酸カリウム１
２．７ｇを加えて撹拌しながら、８５℃で約４時間加熱
した。薄層クロマトグラフィー（トルエン：酢酸エチル
＝４：１）より反応を確認して反応を終了した後、酢酸
エチル２００ｍｌを用いて反応液を希釈した。飽和食塩
水１００ｍｌで３回洗浄した。有機層を無水硫酸マグネ
シウムより脱水し、減圧下溶媒留去した後、粗生成物を
カラムクロマトグラフィー（トルエン：酢酸エチル＝
４：１）より分離した。減圧下溶媒留去した後、再結晶
（クロロホルム：ヘキサン＝１：３）より精製して式
（ｓ−２６）

【０３２２】

【化１１５】

【０３２３】で表わされる化合物１７．０ｇを得た。

【０３２４】白色結晶、融点：９６．５〜９７．０℃¹ Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ₃）；δ＝１．３
２〜２．１２（ｍ、１４Ｈ）、３．６１〜３．６９
（ｍ、３Ｈ）、３．８８〜３．９９（ｍ、３Ｈ）、５．
４６〜５．４８（ｍ、１Ｈ）、６．８４〜７．４５
（ｍ、７Ｈ）

【０３２５】上記の合成で得られた（ｓ−２６）化合物
７．６ｇ及びテトラヒドロフラン７０ｍｌの溶液に１０
％塩酸水溶液３５ｍｌを加えて撹拌しながら、室温で約
４時間反応を行った。薄層クロマトグラフィー（トルエ
ン：酢酸エチル＝４：１）より反応を確認して反応を終
了した後、酢酸エチル２００ｍｌを用いて反応液を希釈
した。飽和食塩水１００ｍｌで２回洗浄した。有機層を
無水硫酸マグネシウムより脱水し、減圧下溶媒留去した
後、粗生成物を再結晶（クロロホルム）より精製して式
（ｓ−２７）

【０３２６】

【化１１６】

【０３２７】で表わされる化合物５．５ｇを得た。

【０３２８】白色結晶、融点：１２７．０〜１２８．０
℃¹ Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ₃）；δ＝１．４
２〜１．８３（ｍ、８Ｈ）、３．００（ｂｒ．ｓ、１
Ｈ）３．５６（ｔ、２Ｈ）、４．０２（ｔ、２Ｈ）、
６．９２〜７．４５（ｍ、７Ｈ）

【０３２９】上記の合成で得られた（ｓ−２７）化合物
２．２ｇ、（ｓ−３）化合物の４−（６−アクリロイル
オキシヘキシルオキシ）安息香酸５．９ｇ及びテトラヒ
ドロフラン１００ｍｌの溶液に１−エチル−３−（３−
ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩３．８
５ｇ及び４−ジメチルアミニピリジン２．４５ｇを加え
て撹拌しながら、室温で約３日間反応を行った。薄層ク
ロマトグラフィー（トルエン：酢酸エチル＝４：１）よ
り反応を確認して反応を終了した後、酢酸エチル２００
ｍｌを用いて反応液を希釈した。飽和食塩水１００ｍｌ
で２回洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムより脱
水し、減圧下溶媒留去した後、粗生成物をカラムクロマ
トグラフィー（トルエン：酢酸エチル＝４：１）より分
離して式（ｓ−２８）

【０３３０】

【化１１７】

【０３３１】で表わされる液晶性化合物４．５ｇを得
た。式（ｓ−２８）の液晶性アクリレート化合物の昇温
時における相転移温度は、結晶相−ネマチック相が５０
℃、ネマチック相−等方性液体相が８７℃で、降温時の
相転移温度は、等方性液体相−ネマチック相が８７℃、
ネマチック相−結晶相が２５℃以下であった。

【０３３２】¹Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣ
ｌ₃）；δ＝１．４４〜１．８３（ｍ、２４Ｈ）、３．
９６〜４．３３（ｍ、１２Ｈ）、５．８０（ｍ、２
Ｈ）、６．１３（ｍ、２Ｈ）、６．４３（ｍ、２Ｈ）、
６．８５〜７．４６（ｍ、９Ｈ）、８．００（ｄ、２
Ｈ）、８．１４（ｄ、２Ｈ）

【０３３３】一方、式（ｓ−２８）の化合物と類似構造
を有する特開２０００−２８１６２８号の実施例４に記
載の式（cxvii）

【０３３４】

【化１１８】

【０３３５】で表わされる化合物の相転移温度は、結晶
相−スメクチックＣ相転移温度が５６℃、スメクチック
Ｃ−スメクチックＡ相転移温度が６６℃、スメクチック
Ａ相−ネマチック相転移温度が１２３℃、ネマチック相
−等方性液体相転移温度が１３９℃であり、式（cxvi
i）で表わされる化合物は、１２３〜１２９℃でネマチ
ック相を示すものであった。

【０３３６】実施例６で得た式（ｓ−４）の化合物は、
公知の式（cxvii）の化合物と比較して、一分子中の環
の数が１個増加しているにも係わらず、ネマチック相を
示す温度が５０℃以上低くなっているが、この効果は、
式（cxvii）の化合物のフェニル基と、このフェニル基
に結合したアクリロイルオキシアルキレンオキシ基との
間に、フェニルカルボニルオキシアルキレンオキシ基を
導入したことによるものであることが明らかである。

【０３３７】＜実施例７＞液晶性アクリレート化合物の
合成（７） 上記の合成で得られた（ｓ−２６）化合物５．０ｇ、
（ｓ−３）化合物の４−（６−アクリロイルオキシヘキ
シルオキシ）安息香酸４．６ｇ及びテトラヒドロフラン
１５０ｍｌの溶液に１−エチル−３−（３−ジメチルア
ミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩３．０ｇ及び４−
ジメチルアミニピリジン１．９２ｇを加えて撹拌しなが
ら、室温で約３日間反応を行った。薄層クロマトグラフ
ィー（トルエン：酢酸エチル＝４：１）より反応を確認
して反応を終了した後、酢酸エチル３００ｍｌを用いて
反応液を希釈した。飽和食塩水１５０ｍｌで２回洗浄し
た。有機層を無水硫酸マグネシウムより脱水し、減圧下
溶媒留去した後、粗生成物をカラムクロマトグラフィー
（トルエン：酢酸エチル＝４：１）より分離して式（ｓ
−２９）

【０３３８】

【化１１９】

【０３３９】で表わされる化合物７．５ｇを得た。

【０３４０】上記の合成で得られた（ｓ−２９）化合物
６．６ｇ及びテトラヒドロフラン６０ｍｌの溶液に１０
％塩酸水溶液３５ｍｌを加えて撹拌しながら、室温で約
４時間反応を行った。薄層クロマトグラフィー（トルエ
ン：酢酸エチル＝４：１）より反応を確認して反応を終
了した後、酢酸エチル２００ｍｌを用いて反応液を希釈
した。飽和食塩水１００ｍｌで２回洗浄した。有機層を
無水硫酸マグネシウムより脱水し、減圧下溶媒留去した
後、粗生成物を再結晶（エタノール）より精製して式
（ｓ−３０）

【０３４１】

【化１２０】

【０３４２】で表わされる化合物５．０ｇを得た。式
（ｓ−３０）の化合物は液晶性化合物であって、その相
転移温度は、モノトロピクとして等方性液体相−ネマチ
ック相が７８℃、ネマチック相−結晶相が７４℃であっ
た。

【０３４３】¹Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣ
ｌ₃）；δ＝１．４２〜１．８１（ｍ、１６Ｈ）、３．
９５〜４．３３（ｍ、８Ｈ）、５．８１（ｄ、１Ｈ）、
６．１２（ｄｄ、１Ｈ）、６．４１（ｄ、１Ｈ）、６．
８３〜７．３０（ｍ、７Ｈ）、７．４４（ｄ、２Ｈ）、
７．９８（ｄ、２Ｈ）

【０３４４】６−ブロモヘキサノール４５．０ｇとジク
ロロメタン２５０ｍの溶液にピリジニウムパラトルエン
スルホン酸を６．３ｇ加えた後、氷浴下でジヒドロピラ
ン４２．０ｇとジクロロメタン７５ｍｌの溶液を滴下漏
斗から約１時間掛けて徐々に滴下した。滴下終了後に反
応温度を室温にして約４時間攪拌した。ガスクロマトグ
ラフィーより反応を確認して反応を終了した後、飽和炭
酸水素ナトリウム水溶液２５０ｍｌで１回洗浄、飽和食
塩水２５０ｍｌで１回洗浄した。有機層を無水硫酸マグ
ネシウムより脱水した後、減圧下溶媒留去して式（ｓ−
３１）

【０３４５】

【化１２１】

【０３４６】で表わされる化合物６５．５ｇを得た。

【０３４７】上記の合成で得られた（ｓ−３１）化合物
１８．５ｇとエタノール１０ｍｌの溶液を滴下漏斗から
４−ヒドロキシ安息香酸１０．１４ｇ、ヨウ化カリウム
１．７５ｇ、エタノール３０ｍｌ及び１７％水酸化ナト
リウム水溶液３６．０ｇから成る混合物に撹拌しなが
ら、８０℃で約２０分間滴下した。滴下終了後、さらに
反応温度８０℃で７．５時間反応を行った。薄層クロマ
トグラフィー（トルエン：酢酸エチル＝１：１）より反
応を確認して反応を終了して、得られた反応液を室温ま
で冷却した後、１Ｎ塩酸水溶液を用いて反応液の水層が
弱酸性になるまで希塩酸を加えた。この反応溶液に酢酸
エチル５００ｍｌを加えて反応生成物の抽出を行った。
有機層を水洗した後、抽出溶媒を減圧留去し、さらに風
乾させて、式（ｓ−３２）

【０３４８】

【化１２２】

【０３４９】で表わされる化合物２０．０ｇを得た。

【０３５０】¹Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣ
ｌ₃）；δ＝１．４０〜１．８７（ｍ、１４Ｈ）、３．
３８〜３．９１（ｍ、４Ｈ）、４．０２（ｔ、２Ｈ）、
４．５９（ｍ、１Ｈ）、６．９２（ｄ、２Ｈ）、８．０
６（ｄ、２Ｈ）

【０３５１】上記の合成で得られた（ｓ−３２）化合物
６．８ｇ、（ｓ−２０）化合物７．１ｇ及びテトラヒド
ロフラン１５０ｍｌの溶液に１−エチル−３−（３−ジ
メチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩４．１ｇ
及び４−ジメチルアミニピリジン２．６ｇを加えて撹拌
しながら、室温で約２日間反応を行った。薄層クロマト
グラフィー（トルエン：酢酸エチル＝４：１）より反応
を確認して反応を終了した後、酢酸エチル３００ｍｌを
用いて反応液を希釈した。飽和食塩水１５０ｍｌで２回
洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムより脱水し、
減圧下溶媒留去した後、粗生成物をカラムクロマトグラ
フィー（トルエン：酢酸エチル＝４：１）より分離して
式（ｓ−３３）

【０３５２】

【化１２３】

【０３５３】で表わされる化合物９．６ｇを得た。

【０３５４】上記の合成で得られた（ｓ−３３）化合物
９．６ｇ及びテトラヒドロフラン８０ｍｌの溶液に１０
％塩酸水溶液３５ｍｌを加えて撹拌しながら、室温で約
４時間反応を行った。薄層クロマトグラフィー（トルエ
ン：酢酸エチル＝４：１）より反応を確認して反応を終
了した後、酢酸エチル２００ｍｌを用いて反応液を希釈
した。飽和食塩水１００ｍｌで２回洗浄した。有機層を
無水硫酸マグネシウムより脱水し、減圧下溶媒留去し
た。得られた粗生成物をカラムクロマトグラフィー（ト
ルエン：酢酸エチル＝４：１）より分離した後、再結晶
（エタノール）より精製して式（ｓ−３４）

【０３５５】

【化１２４】

【０３５６】で表わされる化合物７．８ｇを得た。式
（ｓ−３４）の化合物は液晶性アクリレート化合物であ
って、その相転移温度は、結晶相−ネマチック相が４５
℃、ネマチック相−等方性液体相が１１１℃であった。

【０３５７】¹Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣ
ｌ₃）；δ＝１．４３〜１．８４（ｍ、２４Ｈ）、３．
６４〜４．３３（ｍ、１２Ｈ）、５．８０（ｄ、１
Ｈ）、６．１２（ｄｄ、１Ｈ）、６．４０（ｄ、１
Ｈ）、６．８５〜７．４６（ｍ、１１Ｈ）、７．９８
（ｄ、２Ｈ）、８．１４（ｄ、２Ｈ）

【０３５８】上記の合成で得られた（ｓ−３４）化合物
４．０ｇ、（ｓ−３）化合物の４−（６−アクリロイル
オキシヘキシルオキシ）安息香酸２．１５ｇ及びテトラ
ヒドロフラン６０ｍｌの溶液に１−エチル−３−（３−
ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩１．４
１ｇ及び４−ジメチルアミニピリジン０．９０ｇを加え
て撹拌しながら、室温で約３日間反応を行った。薄層ク
ロマトグラフィー（トルエン：酢酸エチル＝４：１）よ
り反応を確認して反応を終了した後、酢酸エチル１５０
ｍｌを用いて反応液を希釈した。飽和食塩水１００ｍｌ
で２回洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムより脱
水し、減圧下溶媒留去した後、粗生成物をカラムクロマ
トグラフィー（トルエン：酢酸エチル＝７：１）より分
離して式（ｓ−３５）

【０３５９】

【化１２５】

【０３６０】で表わされる液晶性アクリレート化合物
４．４ｇを得た。式（ｓ−３５）の液晶性アクリレート
化合物の昇温時における相転移温度は、結晶相−ネマチ
ック相が２８℃、ネマチック相−等方性液体相が６０℃
で、降温時の相転移温度は、等方性液体相−ネマチック
相が６０℃、ネマチック相−結晶相が２５℃以下であっ
た。

【０３６１】¹Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣ
ｌ₃）；δ＝１．４３〜１．８４（ｍ、３２Ｈ）、３．
９６〜４．３３（ｍ、１６Ｈ）、５．８１（ｄ、２
Ｈ）、６．１２（ｄｄ、２Ｈ）、６．４１（ｄ、２
Ｈ）、６．８５〜６．９８（ｍ、７Ｈ）、７．１９〜
７．４６（ｍ、６Ｈ）、７．９６〜８．１６（ｍ、６
Ｈ）

【０３６２】実施例６で得た式（ｓ−２８）の液晶性ア
クリレート化合物は、昇温時に、５０〜８７℃でネマチ
ック相を示すのに対し、実施例７で得た式（ｓ−３５）
の液晶性アクリレート化合物は、昇温時に、式（ｓ−２
８）の化合物よりも約２５℃低い２８〜６０℃でネマチ
ック相を示す。また、実施例６で得た式（ｓ−２８）の
液晶性アクリレート化合物は、降温時に、２５〜６０℃
でネマチック相を示すのに対し、実施例７で得た式（ｓ
−３５）の液晶性アクリレート化合物は、降温時に、式
（ｓ−２８）の化合物よりも広い２５℃以下から８７℃
でネマチック相を示す。

【０３６３】実施例７で得た式（ｓ−３５）の化合物
は、実施例６で得た式（ｓ−２８）の化合物と比較し
て、一分子中の環の数が１個増加しているにも係わら
ず、ネマチック相を示す温度が昇温時に、２５℃以上低
くなっており、降温時には、ネマチック相の温度範囲が
更に広がっている。この効果は、式（ｓ−２８）の化合
物のフェニル基と、このフェニル基に結合したアクリロ
イルオキシアルキレンオキシ基との間に、フェニルカル
ボニルオキシアルキレンオキシ基を導入したことによる
ものであることが明らかである。

【０３６４】＜実施例８＞〔液晶組成物の調製（１）〕 実施例１で得た式（ｓ−４）で表わされる液晶性アクリ
レート化合物及び実施例２で得た式（ｓ−11）で表わさ
れる液晶性アクリレート化合物を混合したところ、任意
の割合で良く相溶した。図１に、式（ｓ−４）で表わさ
れる液晶性アクリレート化合物及び式（ｓ−11）で表わ
される液晶性アクリレート化合物からなる組成物の式
（ｓ−11）で表わされる液晶性アクリレート化合物の割
合と出現する相との関係を示した。

【０３６５】＜実施例９＞〔液晶組成物の調製（２）〕 式（ａ−１）

【０３６６】

【化１２６】

【０３６７】で表わされる液晶性アクリレート化合物５
０重量部及び式（ａ−４）

【０３６８】

【化１２７】

【０３６９】で表わされる液晶性アクリレート５０重量
部から成る組成物（Ａ）を調製した。

【０３７０】組成物（Ａ）は、室温（２５℃）でネマチ
ック液晶相を呈した。ネマチック相−等方性液体相転移
温度は４６℃であった。また、５８９ｎｍで測定したｎ
_e（異常光の屈折率）は１．６６２で、ｎ_o（常光の屈折
率）は１．５１０、複屈折率は０．１５２であった。

【０３７１】実施例１で得た式（ｓ−４）で表わされる
液晶性アクリレート化合物１０重量部及び組成物（Ａ）
９０重量部から成る組成物（Ｂ）を調製した。組成物
（Ｂ）は、室温（２５℃）でネマチック液晶相を呈し
た。ネマチック相−等方性液体相転移温度は５２℃であ
った。また、５８９ｎｍで測定したｎ_e（異常光の屈折
率）は１．６６４で、ｎ_o（常光の屈折率）は１．５１
１、複屈折率は０．１５３であった。

【０３７２】＜実施例１０＞〔液晶組成物の調製
（３）〕 実施例１で得た式（ｓ−４）で表わされる液晶性アクリ
レート化合物２０重量部及び組成物（Ａ）８０重量部か
ら成る組成物（Ｃ）を調製した。組成物（Ｃ）は、室温
（２５℃）でネマチック液晶相を呈した。ネマチック相
−等方性液体相転移温度は５７℃であった。また、５８
９ｎｍで測定したｎ_e（異常光の屈折率）は１．６６６
で、ｎ_o（常光の屈折率）は１．５１３、複屈折率は
０．１５３であった。

【０３７３】＜実施例１１＞〔液晶組成物の調製
（４）〕 実施例１で得た式（ｓ−４）で表わされる液晶性アクリ
レート化合物３０重量部及び組成物（Ａ）７０重量部か
ら成る組成物（Ｄ）を調製した。組成物（Ｄ）は、室温
（２５℃）でネマチック液晶相を呈した。ネマチック相
−等方性液体相転移温度は６２℃であった。また、５８
９ｎｍで測定したｎ_e（異常光の屈折率）は１．６６７
で、ｎ_o（常光の屈折率）は１．５１３、複屈折率は
０．１５４であった。

【０３７４】＜実施例１２＞〔液晶組成物の調製
（５）〕 実施例１で得た式（ｓ−４）で表わされる液晶性アクリ
レート化合物４０重量部及び組成物（Ａ）６０重量部か
ら成る組成物（Ｅ）を調製した。組成物（Ｅ）は、室温
（２５℃）でネマチック液晶相を呈した。ネマチック相
−等方性液体相転移温度は６７℃であった。また、５８
９ｎｍで測定したｎ_e（異常光の屈折率）は１．６６７
で、ｎ_o（常光の屈折率）は１．５１３、複屈折率は
０．１５４であった。

【０３７５】＜実施例１３＞〔液晶組成物の調製
（６）〕 実施例２で得た式（ｓ−11）で表わされる液晶性アクリ
レート化合物１０重量部及び組成物（Ａ）９０重量部か
ら成る組成物（Ｆ）を調製した。組成物（Ｆ）は、室温
（２５℃）でネマチック液晶相を呈した。ネマチック相
−等方性液体相転移温度は４９℃であった。また、５８
９ｎｍで測定したｎ_e（異常光の屈折率）は１．６６５
で、ｎ_o（常光の屈折率）は１．５１３、複屈折率は
０．１５２であった。

【０３７６】＜実施例１４＞〔液晶組成物の調製
（７）〕 実施例２で得た式（ｓ−11）で表わされる液晶性アクリ
レート化合物２０重量部及び組成物（Ａ）８０重量部か
ら成る組成物（Ｇ）を調製した。組成物（Ｇ）は、室温
（２５℃）でネマチック液晶相を呈した。ネマチック相
−等方性液体相転移温度は５６℃であった。また、５８
９ｎｍで測定したｎ_e（異常光の屈折率）は１．６６７
で、ｎ_o（常光の屈折率）は１．５１５、複屈折率は
０．１５２であった。

【０３７７】＜実施例１５＞〔液晶組成物の調製
（８）〕 実施例２で得た式（ｓ−11）で表わされる液晶性アクリ
レート化合物３０重量部及び組成物（Ａ）７０重量部か
ら成る組成物（Ｈ）を調製した。組成物（Ｈ）は、室温
（２５℃）でネマチック液晶相を呈した。ネマチック相
−等方性液体相転移温度は６１℃であった。また、５８
９ｎｍで測定したｎ_e（異常光の屈折率）は１．６６９
で、ｎ_o（常光の屈折率）は１．５１７、複屈折率は
０．１５２であった。

【０３７８】＜実施例１６＞〔液晶組成物の調製
（９）〕 実施例６で得た式（ｓ−２８）で表わされる液晶性アク
リレート化合物１０重量部及び組成物（Ａ）９０重量部
から成る組成物（Ｉ）を調製した。組成物（Ｉ）は、室
温（２５℃）でネマチック液晶相を呈した。また、５８
９ｎｍで測定したｎ_e（異常光の屈折率）は１．６６８
９で、ｎ_o（常光の屈折率）は１．５１０７、複屈折率
は０．１５８２であった。

【０３７９】＜実施例１７＞〔液晶組成物の調製（１
０）〕 実施例６で得た式（ｓ−２８）で表わされる液晶性アク
リレート化合物３０重量部及び組成物（Ａ）７０重量部
から成る組成物（Ｊ）を調製した。組成物（Ｊ）は、室
温（２５℃）でネマチック液晶相を呈した。また、５８
９ｎｍで測定したｎ_e（異常光の屈折率）は１．６７８
５で、ｎ_o（常光の屈折率）は１．５１１０、複屈折率
は０．１６７５であった。

【０３８０】＜実施例１８＞〔液晶組成物の調製（１
１）〕 実施例７で得た式（ｓ−３５）で表わされる液晶性アク
リレート化合物１０重量部及び組成物（Ａ）９０重量部
から成る組成物（Ｋ）を調製した。組成物（Ｋ）は、室
温（２５℃）でネマチック液晶相を呈した。また、５８
９ｎｍで測定したｎ_e（異常光の屈折率）は１．６７０
２で、ｎ_o（常光の屈折率）は１．５１１０、複屈折率
は０．１５９２であった。

【０３８１】＜実施例１９＞〔液晶組成物の調製（１
２）〕 実施例７で得た式（ｓ−３５）で表わされる液晶性アク
リレート化合物３０重量部及び組成物（Ａ）７０重量部
から成る組成物（Ｌ）を調製した。組成物（Ｌ）は、室
温（２５℃）でネマチック液晶相を呈した。また、５８
９ｎｍで測定したｎ_e（異常光の屈折率）は１．６８１
３で、ｎ_o（常光の屈折率）は１．５１２０、複屈折率
は０．１６９３であった。

【０３８２】＜実施例２０＞〔液晶組成物の調製（１
３）〕 実施例６で得た式（ｓ−２８）で表わされる液晶性アク
リレート化合物５０重量部及び実施例８で得た式（ｓ−
３５）で表わされる液晶性アクリレート化合物５０重量
部から成る組成物（Ｍ）を調製した。組成物（Ｍ）の昇
温時の相転移温度は、結晶相−ネマチック相が３８℃、
ネマチック相−等方性液体相が１０１℃で、降温時の相
転移温度は、等方性液体相−ネマチック相が１０１℃、
ネマチック相−結晶相が２５℃以下であった。

【０３８３】＜比較例１＞〔液晶組成物の調製（１
４）〕 式（ａ−62）

【０３８４】

【化１２８】

【０３８５】で表わされる化合物（この化合物は、室温
でスメクチックＣ相を示した。相転移温度は、スメクチ
ックＣ相−スメクチックＡ相転移温度が８９℃、スメク
チックＡ相−ネマチック相転移温度が９２℃、ネマチッ
ク相−等方性液体相転移温度が１３２℃である）２０重
量部及び組成物（Ａ）８０重量部から成る組成物（Ｎ）
を調製した。この組成物中において、式（ａ−62）で表
わされる化合物は、組成物（Ａ）と相溶性が悪く、室温
で結晶相と液晶相に分離した。

【０３８６】＜比較例２＞〔液晶組成物の調製（１
５）〕 比較例１で用いた式（ａ−62）で表わされる化合物３０
重量部及び組成物（Ａ）７０重量部から成る組成物
（Ｏ）を調製した。この組成物中において、式（ａ−6
2）で表わされる化合物は、組成物（Ａ）と相溶性が悪
く、室温で結晶相と液晶相に分離した。

【０３８７】＜比較例３＞〔液晶組成物の調製（１
７）〕 式（ａ−63）

【０３８８】

【化１２９】

【０３８９】で表わされる化合物（この化合物は、室温
で結晶相を示した。相転移温度は、結晶−スメクチック
相が８７℃、スメクチック相−ネマチック相が９１℃、
ネマチック相−等方性液体相が１１０℃である）２０重
量部及び組成物（Ａ）８０重量部から成る組成物（Ｋ）
を調製した。組成物（Ｐ）は、室温（２５℃）でネマチ
ック液晶相を呈した。ネマチック相−等方性液体相転移
温度は６４℃であった。また、５８９ｎｍで測定したｎ
_e（異常光の屈折率）は１．６７３で、ｎ_o(常光の屈折
率）は１．５０７、複屈折率は０．１６６であった。

【０３９０】＜比較例４＞〔液晶組成物の調製（１
７）〕 比較例３で用いた式（ａ−63）で表わされる化合物３０
重量部及び組成物（Ａ）７０重量部から成る組成物
（Ｑ）を調製した。この組成物中において式（ａ−63）
で表わされる化合物は、組成物（Ａ）と混和性が悪く、
室温で結晶相と液晶相に分離した。

【０３９１】実施例８〜２０は、本発明で使用する液晶
性化合物が、１分子中にメソゲンを一つだけ有する化合
物から成る組成物（Ａ）と良好に混和する例である。比
較例１及び２は、１分子中に２つのメソゲンを有するツ
イン型の重合性液晶が、１分子中にメソゲンを一つだけ
有するような化合物から成る組成物（Ａ）との混和性が
悪いことを示している。比較例３及び４より、本発明で
使用する化合物（ｓ−11）、（ｓ−２８）及び（ｓ−３
４）の相溶性が良好であることがわかる。

【０３９２】＜実施例２１＞〔光学異方体の作製
（１）〕 実施例５で調製した組成物（Ｃ）９９重量部、光重合開
始剤「イルガキュアー６５１」（チバガイギー社製）１
重量部からなる組成物（Ｒ）を調製した。セルギャップ
５０ミクロンのアンチパラレル配向液晶ガラスセル（液
晶を一軸配向するよう配向処理を施したガラスセル）
に、組成物（Ｒ）を室温にて注入した。注入後、均一な
一軸配向が得られていることを確認することができた。
次に、室温（２５℃）にてＵＶＰ社のＵＶＧＬ−25を用
いて１ｍＷ／cm²の紫外線を１０分間照射して、組成物
（Ｒ）を重合させて、重合物を得た。得られた重合物
は、方向によって屈折率が異なっており、光学異方体と
して機能することを確認することができた。ガラスセル
に入れたままの重合物のヘイズは７．８％であった。

【０３９３】＜実施例２２＞〔光学異方体の作製
（２）〕 実施例６で調製した組成物（Ｄ）９９重量部、光重合開
始剤「イルガキュアー６５１」（チバガイギー社製）１
重量部からなる組成物（Ｓ）を調製した。セルギャップ
５０ミクロンのアンチパラレル配向液晶ガラスセル（液
晶を一軸配向するよう配向処理を施したガラスセル）
に、組成物（Ｓ）を室温にて注入した。注入後、迅速に
均一な一軸配向が得られていることを確認することがで
きた。次に、室温（２５℃）にてＵＶＰ社のＵＶＧＬ−
25を用いて１ｍＷ／cm²の紫外線を１０分間照射して、
組成物（Ｓ）を重合させて、重合物を得た。得られた重
合物は、方向によって屈折率が異なっており、光学異方
体として機能することを確認することができた。ガラス
セルに入れたままの重合物のヘイズは３．３％であっ
た。

【０３９４】＜実施例２３＞〔光学異方体の作製
（３）〕 実施例７で調製した組成物（Ｅ）９９重量部、光重合開
始剤「イルガキュアー６５１」（チバガイギー社製）１
重量部からなる組成物（Ｔ）を調製した。セルギャップ
５０ミクロンのアンチパラレル配向液晶ガラスセル（液
晶を一軸配向するよう配向処理を施したガラスセル）
に、組成物（Ｔ）を室温にて注入した。注入後、均一な
一軸配向が得られていることを確認することができた。
次に、室温（２５℃）にてＵＶＰ社のＵＶＧＬ−25を用
いて１ｍＷ／cm²の紫外線を１０分間照射して、組成物
（Ｔ）を重合させて、重合物を得た。得られた重合物
は、方向によって屈折率が異なっており、光学異方体と
して機能することを確認することができた。ガラスセル
に入れたままの重合物のヘイズは１．８％であった。

【０３９５】＜実施例２４＞〔光学異方体の作製
（４）〕 実施例１０で調製した組成物（Ｈ）９９重量部、光重合
開始剤「イルガキュアー６５１」（チバガイギー社製）
１重量部からなる組成物（Ｕ）を調製した。セルギャッ
プ５０ミクロンのアンチパラレル配向液晶ガラスセル
（液晶を一軸配向するよう配向処理を施したガラスセ
ル）に、組成物（Ｕ）を室温にて注入した。注入後、均
一な一軸配向が得られていることを確認することができ
た。次に、室温（２５℃）にてＵＶＰ社のＵＶＧＬ−25
を用いて１ｍＷ／cm²の紫外線を１０分間照射して、組
成物（Ｕ）を重合させて、重合物を得た。得られた重合
物は、方向によって屈折率が異なっており、光学異方体
として機能することが確かめられた。ガラスセルに入れ
たままの重合物のヘイズは５．８％であった。

【０３９６】＜実施例２５＞〔光学異方体の作製
（５）〕 実施例１６で調製した組成物（Ｉ）９９重量部、光重合
開始剤「イルガキュアー６５１」（チバガイギー社製）
１重量部からなる組成物（Ｖ）を調製した。セルギャッ
プ５０ミクロンのアンチパラレル配向液晶ガラスセル
（液晶を一軸配向するよう配向処理を施したガラスセ
ル）に、組成物（Ｖ）を室温にて注入した。注入後、均
一な一軸配向が得られていることを確認することができ
た。次に、室温（２５℃）にてＵＶＰ社のＵＶＧＬ−２
５を用いて１ｍＷ／cm²の紫外線を１０分間照射して、
組成物（Ｖ）を重合させて、重合物を得た。得られた重
合物は、方向によって屈折率が異なっており、光学異方
体として機能することが確かめられた。ガラスセルに入
れたままの重合物のヘイズは４．６％であった。また、
重合物のリタデーションは３．２６μｍであった。

【０３９７】＜実施例２６＞〔光学異方体の作製
（６）〕 実施例１７で調製した組成物（Ｊ）９９重量部、光重合
開始剤「イルガキュアー６５１」（チバガイギー社製）
１重量部からなる組成物（Ｗ）を調製した。セルギャッ
プ５０ミクロンのアンチパラレル配向液晶ガラスセル
（液晶を一軸配向するよう配向処理を施したガラスセ
ル）に、組成物（Ｗ）を室温にて注入した。注入後、均
一な一軸配向が得られていることを確認することができ
た。次に、室温（２５℃）にてＵＶＰ社のＵＶＧＬ−２
５を用いて１ｍＷ／cm²の紫外線を１０分間照射して、
組成物（Ｗ）を重合させて、重合物を得た。得られた重
合物は、方向によって屈折率が異なっており、光学異方
体として機能することが確かめられた。ガラスセルに入
れたままの重合物のヘイズは１．５４％であった。ま
た、重合物のリタデーションは３．７２μｍであった。

【０３９８】＜実施例２７＞〔光学異方体の作製
（７）〕 実施例１８で調製した組成物（Ｋ）９９重量部、光重合
開始剤「イルガキュアー６５１」（チバガイギー社製）
１重量部からなる組成物（Ｘ）を調製した。セルギャッ
プ５０ミクロンのアンチパラレル配向液晶ガラスセル
（液晶を一軸配向するよう配向処理を施したガラスセ
ル）に、組成物（Ｘ）を室温にて注入した。注入後、均
一な一軸配向が得られていることを確認することができ
た。次に、室温（２５℃）にてＵＶＰ社のＵＶＧＬ−２
５を用いて１ｍＷ／cm²の紫外線を１０分間照射して、
組成物（Ｘ）を重合させて、重合物を得た。得られた重
合物は、方向によって屈折率が異なっており、光学異方
体として機能することが確かめられた。ガラスセルに入
れたままの重合物のリタデーションは４．７２μｍであ
った。

【０３９９】＜実施例２８＞〔光学異方体の作製
（８）〕 実施例１９で調製した組成物（Ｌ）９９重量部、光重合
開始剤「イルガキュアー６５１」（チバガイギー社製）
１重量部からなる組成物（Ｙ）を調製した。セルギャッ
プ５０ミクロンのアンチパラレル配向液晶ガラスセル
（液晶を一軸配向するよう配向処理を施したガラスセ
ル）に、組成物（Ｙ）を室温にて注入した。注入後、均
一な一軸配向が得られていることを確認することができ
た。次に、室温（２５℃）にてＵＶＰ社のＵＶＧＬ−２
５を用いて１ｍＷ／cm²の紫外線を１０分間照射して、
組成物（Ｙ）を重合させて、重合物を得た。得られた重
合物は、方向によって屈折率が異なっており、光学異方
体として機能することが確かめられた。ガラスセルに入
れたままの重合物のリタデーションは５．２７μｍであ
った。

【０４００】＜実施例２９＞〔光学異方体の作製
（９）〕 実施例２０で調製した組成物（Ｍ）９９重量部、光重合
開始剤「イルガキュアー６５１」（チバガイギー社製）
１重量部からなる組成物（Ｚ）を調製した。セルギャッ
プ５ミクロンのアンチパラレル配向液晶ガラスセル（液
晶を一軸配向するよう配向処理を施したガラスセル）
に、組成物（Ｚ）を室温にて注入した。注入後、均一な
一軸配向が得られていることを確認することができた。
次に、室温（２５℃）にてＵＶＰ社のＵＶＧＬ−２５を
用いて１ｍＷ／cm²の紫外線を２分間照射して、組成物
（Ｚ）を重合させて、重合物を得た。得られた重合物
は、方向によって屈折率が異なっており、光学異方体と
して機能することが確かめられた。ガラスセルに入れた
ままの重合物のリタデーションは０．７６μｍであっ
た。

【０４０１】＜比較例５＞〔光学異方体の作製（１
０）〕 実施例９で調製した（本発明の液晶性アクリレート化合
物を含有しない）組成物（Ａ）９９重量部及び光重合開
始剤「イルガキュアー６５１」（チバガイギー社製）１
重量部からなる組成物（ＡＡ）を調製した。セルギャッ
プ５及び５０ミクロンのアンチパラレル配向液晶ガラス
セル（液晶を一軸配向するよう配向処理を施したガラス
セル）に、組成物（ＡＡ）を室温にて注入した。注入
後、均一な一軸配向が得られていることを確認すること
ができた。次に、室温（２５℃）にてＵＶＰ社のＵＶＧ
Ｌ−２５を用いて１ｍＷ／cm²の紫外線を２及び１０分
間照射して、組成物（ＡＡ）を重合させて、重合物を得
た。得られた重合物は、方向によって屈折率が異なって
おり、光学異方体として機能することを確認することが
できた。ガラスセルに入れたままの５０ミクロンセルの
重合物のヘイズは１３．５％、リタデーションは２．７
５μｍであった。また、５ミクロンセルの重合物のリタ
デーションは０．３８μｍであった。

【０４０２】＜比較例６＞〔光学異方体の作製（１
１）〕 比較例３で調製した（本発明の液晶性アクリレート化合
物を含有しない）組成物（Ｐ）９９重量部及び光重合開
始剤「イルガキュアー６５１」（チバガイギー社製）１
重量部からなる組成物（ＢＢ）を調製した。セルギャッ
プ５０ミクロンのアンチパラレル配向液晶ガラスセル
（液晶を一軸配向するよう配向処理を施したガラスセ
ル）に、組成物（ＢＢ）を室温にて注入した。注入後、
均一な一軸配向が得られていることを確認することがで
きた。次に、室温（２５℃）にてＵＶＰ社のＵＶＧＬ−
25を用いて１ｍＷ／cm²の紫外線を１０分間照射して、
組成物（ＢＢ）を重合させて、重合物を得た。得られた
重合物は、方向によって屈折率が異なっており、光学異
方体として機能することが確かめられた。ガラスセルに
入れたままの重合物のヘイズは１８．８％であった。

【０４０３】実施例２１〜２９と比較例５、６との結果
から、本発明の一般式（Ｉ）の化合物を含有する液晶組
成物を用いることにより、重合により作製される重合物
のヘイズが低減され、また、リタデーションが改善され
ることがわかる。

【０４０４】＜実施例３０＞実施例２４で調製した組成
物（Ｔ）５０重量部及び酢酸エチル５０重量部からなる
組成物（ＣＣ）を調製した。次に、５cm角のガラス基板
の表面にポリイミド配向剤「ＡＬ１０５１」（ＪＳＲ
製）を用いて、膜厚約１００ナノメートルのポリイミド
薄膜を形成し、さらにポリイミド薄膜表面をラビング処
理した。ラビング処理した表面上に、組成物（Ｓ）を乾
燥膜厚１０ミクロンになるようにコーティングした。酢
酸エチルが自然乾燥する間に、組成物は大きく流動せ
ず、良好な膜厚均一性を保った。酢酸エチルを自然乾燥
させた後、窒素気流下でＵＶＰ社のＵＶＧＬ−25を用い
て２ｍＷ／cm²の紫外線を５分間照射して、組成物を重
合させた。得られた重合物は方向によって屈折率が異な
っており、光学異方体として機能することを確認するこ
とができた。膜厚ムラは少なかった。

【０４０５】＜比較例７＞実施例３０において、組成物
（Ｔ）に代えて、比較例５で調製した組成物（ＡＡ）を
用いた以外は、実施例３１と同様にして、コーティング
したところ、自然乾燥中に組成物が流動しやすく、膜厚
均一性が損なわれた。酢酸エチルを自然乾燥させた後、
窒素気流下でＵＶＰ社のＵＶＧＬ−25を用いて２ｍＷ／
cm²の紫外線を５分間照射して、組成物を重合させた。
得られた重合物は方向によって屈折率が異なっており、
光学異方体として機能することを確認することができた
が、膜厚ムラも観察された。

【０４０６】実施例３０と比較例７から、本発明の液晶
組成物の粘度は、コーティングに適した粘度に調整され
ていることがわかる。本発明で使用する一般式（Ｉ）の
化合物は、粘度の調整剤としても有用である。

【０４０７】

【発明の効果】本発明で使用する化合物は、液晶相を示
す温度が低く、また、他の液晶化合物との相溶性にも優
れており、さらに、重合して得られる重合物のヘイズも
低い。また、当該化合物を含有する本発明の重合性液晶
組成物は、コーティングに適した粘度に調整することが
できる。従って、本発明の重合性液晶組成物は、例え
ば、位相差板、偏光板、偏光プリズム、光導波路、圧電
素子、非線形光学素子、各種光フィルター、コレステリ
ック液晶相等の選択反射を利用した顔料、光ファイバー
等の被覆剤への応用に極めて有用である。

【図面の簡単な説明】

【図１】式（ｓ−４）で表わされる液晶性アクリレート
化合物及び式（ｓ−11）で表わされる液晶性アクリレー
ト化合物からなる組成物の式（ｓ−11）で表わされる液
晶性アクリレート化合物の割合と出現する相との関係を
示した図表である。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2H049 BA02 BA06 BA42 BC04 BC22 4H027 BA01 BA13 BD03 BD24 4J100 AL08Q AL66P AT08P AT08Q BA02P BA02Q BA03P BA15P BA15Q BA40Q BB07P BB07Q BC04P BC04Q BC07P BC12P BC43P BC43Q BC48P BC49P BC53P BC58Q BC69P BC69Q BC73P BC73Q CA04 DA61 JA32

Claims (11)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 ２以上の環構造を有する液晶性骨格と、
   一般式 【化１】 ［式中、Ｐ¹は、重合性官能基を表わす。Ｓ¹は、−（Ｃ
   Ｈ₂）_w−、−Ｏ（ＣＨ₂）_w−、−（ＣＨ₂）_wＯ−、−
   （ＣＨ₂）_wＣ（＝Ｏ）Ｏ− 、−（ＣＨ₂）_wＯＣ（＝
   Ｏ）− 、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ（ＣＨ₂）_w−及び−ＯＣ（＝
   Ｏ）（ＣＨ₂）_w−（ｗは、１〜２０の整数を表わす。）
   からなる群から選ばれる連結鎖を表わす。Ａ¹及びＥ
   ¹は、おのおの独立的に、炭化水素環又はヘテロ環を表
   わす。ただし、Ｅ¹は、液晶性骨格に含まれる環であ
   る。Ｄ¹は、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−（ＣＨ₂）_m−Ｏ−、−
   Ｏ（ＣＨ₂）_m−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−
   （ＣＨ₂）_m−Ｏ−又は−Ｏ（ＣＨ₂）_m−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ
   −（ｍは、１〜１５の整数を表わす。）を表わされる連
   結鎖を表わす。］で表わされる部分構造を有する化合物
   （Ｉ）を含有し、液晶相を示すことを特徴とする重合性
   組成物。
2. 【請求項２】 化合物（Ｉ）が、一般式（II） 【化２】 ［式中、Ｐ²及びＰ³は、おのおの独立的に、（メタ）ア
   クリロイルオキシ基、（メタ）アクリルアミド基、ビニ
   ル基、エポキシ基、メルカプト基、ビニルオキシ基及び
   マレイミド基からなる群から選ばれる重合性官能基を表
   わす。Ｓ²及びＳ³は、おのおの独立的に、−（ＣＨ₂）_w
   −、−Ｏ（ＣＨ₂）_w−、−（ＣＨ₂）_wＯ−、−（Ｃ
   Ｈ₂）_wＣ（＝Ｏ）Ｏ− 、−（ＣＨ₂）_wＯＣ（＝Ｏ）−
   、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ（ＣＨ₂）_w−及び−ＯＣ（＝Ｏ）
   （ＣＨ₂）_w−（ｗは、１〜２０の整数を表わす。）から
   なる群から選ばれる連結鎖を表わす。Ａ²、Ａ³、Ｅ²、
   Ｆ¹及びＧ¹は、おのおの独立的に、 【化３】 （式中、ｐは１〜４の整数を表わす。）からなる群から
   選ばれる環構造を表わす。Ｄ²及びＤ³は、おのおの独立
   的に、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−（ＣＨ₂）_m−Ｏ−、−Ｏ（Ｃ
   Ｈ₂）_m−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−（ＣＨ
   ₂）_m−Ｏ−又は−Ｏ（ＣＨ₂）_m−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−（ｍ
   は、１〜１５の整数を表わす。）からなる群から選ばれ
   る連結鎖を表わす。Ｙ¹及びＹ²は、おのおの独立的に、
   単結合、−ＣＨ₂ＣＨ₂−、−ＣＨ₂Ｏ−、−ＯＣＨ₂−
   、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−Ｃ≡Ｃ
   −、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−（ＣＨ₂）
   ₄−、−ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ− 、−ＯＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ
   ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ₂ＣＨ₂−、−ＣＨ₂ＣＨ₂−Ｃ
   Ｈ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−及び−ＯＣ
   （＝Ｏ）−ＣＨ＝ＣＨ−からなる群から選ばれる連結基
   を表わす。ｎは、０〜３の整数を表わし、ｑは０又は１
   を表わす。］で表わされる化合物である請求項１記載の
   重合性液晶組成物。
3. 【請求項３】 一般式（II）で表わされる化合物とし
   て、Ａ²、Ａ³、Ｅ²、Ｆ¹及びＧ¹が 【化４】 であり、かつ、連結鎖（Ｄ²）及び連結鎖（Ｄ³）が−Ｃ
   （＝Ｏ）−Ｏ−（ＣＨ₂）_m−Ｏ−又は−Ｏ（ＣＨ₂）_m−
   Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−（ｍは、２〜１５の整数を表わす。）
   である化合物を用いる請求項２記載の重合性液晶組成
   物。
4. 【請求項４】 一般式（II）で表わされる化合物とし
   て、Ｓ²及びＳ³が−Ｏ（ＣＨ₂）_w−又は−（ＣＨ₂）_w−
   Ｏ−（ｗは、２〜１８の整数を表わす。）である化合物
   を用いる請求項３記載の重合性液晶組成物。
5. 【請求項５】 Ｐ²及びＰ³がともに（メタ）アクリロイ
   ル基である化合物を用いる請求項４記載の重合性液晶組
   成物。
6. 【請求項６】 さらに、化合物（Ｉ）以外の重合性化合
   物を含有する請求項１〜５のいずれか１項記載の重合性
   液晶組成物。
7. 【請求項７】 化合物（Ｉ）以外の重合性化合物が、一
   般式（III） 【化５】 （式中、Ｘ¹は水素原子又はメチル基を表わし、ｒは０
   又は１の整数を表わし、Ｋ、Ｌ及びＭは、それぞれ独立
   的に、 【化６】 からなる群から選ばれる環構造を表わし、ｐは１〜４の
   整数を表わし、Ｙ²及びＹ³は、それぞれ独立的に、単結
   合、−ＣＨ₂ＣＨ₂−、−ＣＨ₂Ｃ（ＣＨ₃）Ｈ−、−Ｃ
   （ＣＨ₃）ＨＣＨ₂−、−ＣＨ₂Ｏ−、−ＯＣＨ₂−、−Ｃ
   Ｆ₂Ｏ−、−ＯＣＦ₂−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−Ｃ
   ≡Ｃ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−（Ｃ
   Ｈ₂）₄−、−ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ−、−ＯＣＨ₂ＣＨ₂Ｃ
   Ｈ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ₂ＣＨ₂−及び−ＣＨ₂ＣＨ₂
   ＣＨ＝ＣＨ−からなる群から選ばれる連結鎖を表わし、
   Ｙ⁴は、単結合、−Ｏ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−を
   表わし、Ｚ¹は、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、
   炭素原子１〜２０のアルキル基又は炭素原子２〜２０の
   アルケニル基を表わす。）で表わされる化合物である請
   求項５記載の重合性液晶組成物。
8. 【請求項８】 一般式（III）で表わされる化合物とし
   て、一般式（IV） 【化７】 （式中、Ｘ¹は、水素原子又はメチル基を表わし、Ｒ¹は
   炭素原子数１〜１０のアルキル基を表わす。）で表わさ
   れる化合物及び一般式（Ｖ） 【化８】 （式中、Ｘ¹は、水素原子又はメチル基を表わし、Ｒ¹は
   炭素原子数１〜１０のアルキル基を表わす。）で表わさ
   れる化合物を用いる請求項６記載の重合性液晶組成物。
9. 【請求項９】 一般式（IV）で表わされる化合物とし
   て、Ｘ¹が水素原子であり、かつ、Ｒ¹が炭素原子数２〜
   ７のアルキル基である化合物を用い、一般式（Ｖ）で表
   わされる化合物として、Ｘ¹が水素原子であり、かつ、
   Ｒ²が炭素原子数２〜７のアルキル基である化合物を用
   いる請求項８記載の重合性液晶組成物。
10. 【請求項１０】 請求項１〜９のいずれか１項に記載の
    重合性液晶組成物の重合体から構成されることを特徴と
    する光学異方体。
11. 【請求項１１】 請求項１０記載の光学異方体を構成要
    素とすることを特徴とする光学的ローパスフィルター。