JP2002217435A - 太陽電池セルおよびその製造方法 - Google Patents
太陽電池セルおよびその製造方法Info
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Abstract
の低下を解消し、さらに低コスト化を図る。 【解決手段】 シリコン基板1と、そのシリコン基板の
裏面全体に形成されたアルミニウムからなる裏面電極5
5と、半導体基板の裏面電極接合面に形成されたBSF
層4を備え、裏面電極を2種以上の厚み55a,55b
で形成した構造とする。
Description
よびその製造方法に関し、特にアルミニウムからなる裏
面電極を備えた太陽電池セルおよびその製造方法に関す
る。
1に示す。図1(a)は正面断面図、図1(b)は表面
側(受光面側)から見た平面図、図1(c)は裏面側か
ら見た平面図である。
0では、図1(a)に示すように、例えば厚さ300〜
400μm程度のSi単結晶または多結晶のp型半導体
基板1の表面側に、n型活性不純物を熱拡散等により浅
く拡散させてn+ 層2を形成し、これにより基板1の表
面近くにpn接合部20を形成している。そして、n +
層2の上には、太陽光の表面反射を軽減するための反射
防止膜3と、太陽光により発電した電流を外部に取り出
すための表面電極7を形成している。
(b)に示すように、上述した表面電極7とその表面電
極7から櫛歯状に延びた集電電極8とを銀ペーストの焼
成により設けている。
(c)に示すように、スクリーン印刷法等によりアルミ
ニウムペーストを塗布し、それを700〜800℃で焼
成することにより、p型の半導体不純物を多量に含む層
(BSF:Back Surface Field)であるp+ 層4を形成
するとともに、アルミニウムからなる裏面電極5を形成
している。裏面電極5は、ほぼ裏面全面に形成してお
り、その裏面電極5に接するように、接続用裏面電極6
を銀ペーストの焼成により設けている。
電電極8の表面には、銀の酸化を防止して接続性を良く
するためにハンダ9を被覆している。
有する構造の太陽電池セルでは、裏面近傍にpp+ 層の
障壁が形成され、p型半導体基板1内で生成された少数
キャリアのうち、裏面電極5に向かうものが反射され、
裏面電極5部分で再結合しなくなって、pn接合部20
に到達するものが増加し、光電流を増加させる。さら
に、pp+ 層間のエネルギー差が開放電圧の増大をもた
らす。
ルは低コスト化が求められており、これに伴って半導体
基板の薄型化が要求されている。ところが、図1に示し
たような太陽電池セル100では、図2に示すように、
裏面にアルミニウムペーストを印刷し、焼成してアルミ
ニウム層からなる裏面電極51を形成するので、半導体
基板11と裏面電極51の熱膨張率の違いにより、半導
体基板11に反り12が発生し、この現象は特に基板が
薄い場合や大面積の場合に顕著にあらわれるという問題
があった。半導体基板11に反り12が発生すると、製
造工程で搬送ミスや、装置エラーの原因となる。
法として、特開平8−274356号公報で提案されて
いる構造の太陽電池が知られている。この太陽電池で
は、裏面電極を櫛歯状もしくは格子状にして、反りを軽
減するようにしている。しかし、この構造では、裏面に
BSF層が形成されない部分ができる。したがって、B
SF層が形成されない部分での少数キャリアの表面再結
合のため、特性の低下を招くという問題がある。このB
SF層が形成されない部分を、酸化膜等によりパッシベ
ーションし、表面再結合を減らすことも提案されている
が、製造プロセスが複雑になり、高コストになるという
問題がある。
01の裏面に塗布するアルミニウムペースト52の厚み
を薄くすることにより、反りを軽減させることは可能で
あるが、焼成の際、太陽電池セルの裏面周辺にアルミニ
ウム粒13が発生するという問題があった。
れたもので、半導体基板の反りを解消するとともに、特
性の低下を解消し、さらに低コスト化を図った太陽電池
セルおよびその製造方法を提供するものである。
と、その半導体基板の裏面全体に形成されたアルミニウ
ムからなる裏面電極と、半導体基板の裏面電極接合面に
形成されたBSF層を備え、裏面電極が2種以上の厚み
で形成されていることを特徴とする太陽電池セルであ
る。
みで形成されているので、半導体基板と裏面電極の熱膨
張率の違いによる半導体基板の反りが防止される。
ては、主としてシリコン系のIV族半導体が適用される
が、これに限定されるものではなく、アルミニウムから
なる裏面電極を形成する半導体基板であればどのような
半導体基板であってもよい。
いればよく、どのような方法で形成されていてもよい。
この裏面電極の形成方法としては、スクリーン印刷法、
蒸着法、スパッタ法等の各種の成膜法を適用することが
できる。ただし、コストの面からは、スクリーン印刷法
を適用することが望ましい。スクリーン印刷法を適用し
た場合には、裏面電極の形成の際、半導体基板の裏面に
アルミニウムペーストを塗布して焼成するときにBSF
層の形成も同時に行うことができ、工程の短縮化を図る
ことができる。
の厚みで形成してもよく、その場合には、薄い部分と厚
い部分を交互に形成することが望ましい。より好ましく
は、裏面電極を薄い部分と厚い部分の2段階の厚みで形
成した場合には、裏面電極の厚い部分を格子状に形成す
ることが望ましい。この場合、裏面電極の厚い部分をス
トライプ状に形成してもよい。また、裏面電極の厚い部
分を半導体基板の外周の部分として形成してもよい。
体基板の裏面全体に公知のアルミニウムペーストを塗布
し、その上から再度厚くしたい裏面電極の部分に同じア
ルミニウムペーストを塗布した後、焼成することによ
り、半導体基板の裏面に2種以上の厚みで裏面電極を形
成することができる。
部分にアルミニウムペーストを塗布するとともに、薄く
したい裏面電極の部分についてはその塗布したアルミニ
ウムペーストの広がりを利用して形成した後、焼成する
ことにより、半導体基板の裏面に2種以上の厚みで裏面
電極を形成することもできる。この製法を適用する場
合、アルミニウムペーストの粘度を適度に設定しておく
とともに、例えば、厚くしたい裏面電極の部分を格子状
に形成する場合であれば、格子のピッチを通常より狭く
する等、格子のピッチを適切に設定しておくことが必要
である。
格子状に形成する場合であれば、薄くしたい裏面電極の
部分を0.5mm以下の幅とし、面内は幅およびピッチ
が0.2〜0.5mmの格子状のスクリーンマスクを用
い、粘度約80pa・sのアルミニウムペーストを使用
して、厚くしたい裏面電極の部分を印刷し、薄くしたい
裏面電極の部分は、印刷した厚くしたい部分が自然に広
がることを利用して形成する。これにより、周囲と格子
状の部分が厚く、その他の部分が薄い裏面電極を容易に
形成することができる。
説明する。なお、これによって本発明が限定されるもの
ではない。
施形態を示す説明図である。この図は断面状態を示して
いる。この図において、1はp型半導体基板、2は半導
体基板1の表面側(受光面側)に形成されたn型不純物
を有するn層、3は反射防止膜、4は半導体基板1の裏
面側に形成されたp+ 層、53はアルミニウムからなる
裏面電極、6は銀からなる裏面電極接続部、7は銀から
なる表面電極、9は電極を被覆するハンダである。
生した電流を取り出すためのものである。ハンダ9は、
裏面電極接続部6と表面電極7の銀の酸化を防止して接
続性を良好にするために、裏面電極接続部6と表面電極
7を被覆しているが、なくてもよい。
リコンのどちらを用いてもよい。本実施形態では、厚さ
約300μmで、125mm角のp型多結晶シリコン基
板を用いた。
n型となるリン等のドーパントを含んだ溶液を塗布した
後、熱処理することにより形成している。反射防止膜3
は、太陽光の表面反射率を軽減するためのものであり、
SiO2、TiO2 、SiN等を用いて、常圧CVDま
たはプラズマCVDにより形成している。
トを、スクリーン印刷により、2種以上の厚みで塗布
し、700〜800℃で焼成することで、裏面全体にp
+ 層4を形成するとともに、Alからなる裏面電極53
を形成している。
を低減し、さらに裏面全体にBSF層を形成するため、
厚みの薄い部分のない太陽電池セルと比較して、特性の
低下がない。
たが、n型のものを用いることも可能である。その場合
には、半導体基板1の表面側にp型不純物を有するp層
を形成し、裏面側にn+ 層を形成する。
施形態を示す説明図である。この図も第1実施形態と同
様に断面状態を示している。本実施形態では、太陽電池
セル102aの裏面電極54を、厚みの薄い部分(薄い
電極部)と厚い部分(厚い電極部)との2段階の厚みで
形成し、さらに、薄い電極部と厚い電極部を交互に形成
した構成となっている。これにより第1実施形態よりも
さらに反りを低減する効果が増す。
る太陽電池セルの第3実施形態を示す説明図である。図
6(b)は太陽電池セルの裏面側を示す平面図であり、
図6(a)は図6(b)のVI-VI断面を示している。
図に示すように、裏面電極55を、薄い電極部55a
と、その薄い電極部55aから格子状に盛り上がった厚
い電極部55bとで構成している。これにより、面内の
かたよりがなくなり、反りを均一に抑制することができ
る。
る太陽電池セルの第4実施形態を示す説明図である。図
7(b)は太陽電池セルの裏面側を示す平面図であり、
図7(a)は図7(b)のVII-VII断面を示している。
図に示すように、裏面電極56を、薄い電極部56a
と、その薄い電極部56aからストライプ状に盛り上が
った厚い電極部56bとで構成している。この場合、反
りの方向が予測できるため、セルプロセスでの対応策が
容易に考えられる。
厚みに片寄りがある場合、反りにくい厚い辺15とスト
ライプ状の厚い電極部56bとが平行になるように、ア
ルミニウムペーストを印刷することで、反りを効果的に
抑制することができる。
る太陽電池セルの第5実施形態を示す説明図である。図
8(b)は太陽電池セルの裏面側を示す平面図であり、
図8(a)は図8(b)のVIII-VIII断面を示してい
る。
図に示すように、裏面電極57を、薄い電極部57a
と、その薄い電極部57aから特定部分だけ盛り上げた
厚い電極部57bとで構成している。厚い電極部57b
は、裏面電極接続部6の周辺部と半導体基板1の周辺部
である。この盛り上がりは、少なくとも半導体基板1の
周辺部で盛り上がっていればよい。これにより、Al粒
の発生を抑えることができる。
て、裏面電極接続部6が形成される部分の裏面電極の形
状は、平面状で、かつ厚い電極部と同じ高さで形成して
いる。裏面電極接続部6へ流れる電流は横方向になるた
め、その周囲の抵抗が小さくなるように、裏面電極接続
部6と重なる部分の裏面電極の厚みは厚いほうがよい。
形態〜第5実施形態の裏面電極を形成するための製造方
法を示す説明図である。まず、図9(a)に示すよう
に、p型多結晶シリコン基板である半導体基板1の表面
側に、n型となるリン等のドーパントを含んだ溶液を塗
布した後、約900℃で熱処理することにより拡散し、
n+ 層2を形成する。n+ 層2はPOC13等による気
相拡散法を用いてもよい。これにより、半導体基板1の
表面近くにpn接合を形成する。
を低減するために、常圧CVDまたはプラズマCVDに
より、SiO2 、TiO2 、SiN等からなる反射防止
膜3を形成する。
ン印刷により、公知のアルミニウムペーストを用いて、
薄い電極部59となる部分を印刷し、次に、図9(c)
に示すように、もう一度その上から、同じアルミニウム
ペーストを用いて、厚い電極部60となる部分を格子状
に印刷する。そして、700〜800℃で焼成すること
で、半導体基板1の裏面全体にp+ 層4およびAlから
なる裏面電極を形成する。
電流を外部へ取り出すために、表面と裏面に、銀ペース
トをスクリーン印刷法等により塗布し、600〜700
℃で焼成することで、表面電極7と裏面電極接続部6を
形成する。そして、電極の酸化を防ぎ、接続性を良くす
るために、これらの表面電極7と裏面電極接続部6をハ
ンダ9で被覆する。
面電極の形成に際し、裏面電極を容易に形成するための
製造方法を示す説明図である。まず、図9(a)と同様
の半導体基板1に、同じ材料を用いて、n+ 層2と反射
防止膜3を形成する(図10(a)参照)。
ーン印刷により、公知のアルミニウムペーストを用い
て、厚い電極部61となる部分のみを格子状に印刷す
る。そして、図10(c)に示すように、薄い電極部6
2となる部分は、厚い電極部61の部分が自然に広がる
ことを利用して形成する。この場合、アルミニウムペー
ストの粘度を適切に調整しておく。このようにすれば、
製造工程を増やすことなく、より安価に本発明の太陽電
池セル102bを製造することができる。
と裏面電極接続部6を形成し、ハンダ9で被覆する(図
10(d)参照)。
ターンのアルミニウムペーストが抜ける領域(薄い電極
部62となる部分)を0.5mm以下の幅とし、面内は
幅およびピッチが0.2〜0.5mmの格子状のスクリ
ーンマスクを用い、粘度約80pa・sのアルミニウム
ペーストを使用して、厚い電極部61となる部分を印刷
する。これにより、周囲と格子状の部分が厚く、その他
の部分が薄い裏面電極を容易に形成することができる。
〜3の太陽電池セルとの比較を示す説明図である。これ
らの太陽電池セルには、全て厚さ約300μmで、12
5μm角のp型多結晶シリコン基板を用いた。また、受
光面側の構造は、全て図6に示した構造とした。
示した裏面電極構造の太陽電池セルを図10で示した製
造方法で製造したものである。すなわち、図6の薄い電
極部55aの幅と厚い電極部55bの幅を0.2mmと
し、スクリーン印刷により、約1.2gのアルミニウム
ペーストを、厚い電極部55bの部分にのみ印刷し、薄
い電極部55aの部分は、厚い電極部55bの部分の広
がりを利用して、裏面電極を形成したものである。
は、図1で示した従来の裏面電極構造のものである。す
なわち、比較例1の太陽電池セルは裏面電極を厚く形成
したものであり、スクリーン印刷により、約2.0gの
アルミニウムペーストを、裏面全体に均一に印刷して、
裏面電極を形成したものである。また、比較例2の太陽
電池セルは裏面電極を薄く形成したものであり、スクリ
ーン印刷により、約1.2gのアルミニウムペースト
を、裏面全体に均一に印刷して、裏面電極を形成したも
のである。
格子状の裏面電極パターンで、薄い電極部55aの部分
がない構造の太陽電池セルである。すなわち、厚い電極
部55bの幅を1.0mm、ピッチを5.0mmとし、
スクリーン印刷により、約1.2gのアルミニウムペー
ストを、厚い電極部55bの部分にのみ印刷して、裏面
電極を形成したものである。
2 〕、開放電圧Voc〔mV〕、曲線因子FF、変換効
率η〔%〕、反り〔mm〕、印刷重量〔g〕とした。反
りは図2で示した反り12の高さである。
池セルと比較例1とを比較した場合、本発明の太陽電池
セルのほうが反りが少ない。また、本発明の太陽電池セ
ルと比較例2とを比較した場合、反りは同程度である
が、比較例2では、アルミニウム粒が発生している。
した場合、比較例3のほうが反りが少ないが、比較例3
では、従来の項で述べたように、裏面にBSF層が形成
されない部分があるので、BSF層が形成されない部分
での少数キャリアの表面再結合のため、特性の低下があ
る。したがって、これらの点を考慮した場合、本発明の
太陽電池セルであれば、特性を低下させずに、反りを低
減させることができる。
なく、特性を低下させずに、反りを低減させることがで
きる。さらに、印刷重量を従来比約60%に低減しても
アルミニウム粒の発生がないため、アルミニウムペース
トの材料費の低減が可能となり、より低コストの太陽電
池セルとすることができる。
図である。
す説明図である。
る構造を示す説明図である。
す説明図である。
す説明図である。
す説明図である。
す説明図である。
す説明図である。
するための製造方法を示す説明図である。
易に形成するための製造方法を示す説明図である。
電池セルとの比較を示す説明図である。
陽電池セル
Claims (7)
- 【請求項1】 半導体基板と、その半導体基板の裏面全
体に形成されたアルミニウムからなる裏面電極と、半導
体基板の裏面電極接合面に形成されたBSF層を備え、
裏面電極が2種以上の厚みで形成されていることを特徴
とする太陽電池セル。 - 【請求項2】 裏面電極が薄い部分と厚い部分の2段階
の厚みで形成されるとともに、薄い部分と厚い部分が交
互に形成されてなる請求項1記載の太陽電池セル。 - 【請求項3】 裏面電極が薄い部分と厚い部分の2段階
の厚みで形成されるとともに、裏面電極の厚い部分が格
子状に形成されてなる請求項1記載の太陽電池セル。 - 【請求項4】 裏面電極が薄い部分と厚い部分の2段階
の厚みで形成されるとともに、裏面電極の厚い部分がス
トライプ状に形成されてなる請求項1記載の太陽電池セ
ル。 - 【請求項5】 裏面電極が薄い部分と厚い部分の2段階
の厚みで形成されるとともに、裏面電極の厚い部分が半
導体基板の外周の部分である請求項1記載の太陽電池セ
ル。 - 【請求項6】 請求項1記載の太陽電池セルを製造する
に際し、半導体基板の裏面全体にアルミニウムペースト
を塗布し、その上から再度厚くしたい裏面電極の部分に
アルミニウムペーストを塗布した後、焼成することによ
り、半導体基板の裏面に2種以上の厚みで裏面電極を形
成する工程を含んでなる太陽電池セルの製造方法。 - 【請求項7】 請求項1記載の太陽電池セルを製造する
に際し、半導体基板の厚くしたい裏面電極の部分にアル
ミニウムペーストを塗布するとともに、薄くしたい裏面
電極の部分についてはその塗布したアルミニウムペース
トの広がりを利用して形成した後、焼成することによ
り、半導体基板の裏面に2種以上の厚みで裏面電極を形
成する工程を含んでなる太陽電池セルの製造方法。
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