JP2002216956A

JP2002216956A - 発光素子およびその製造方法

Info

Publication number: JP2002216956A
Application number: JP2001011826A
Authority: JP
Inventors: Hisashi Okada; 久岡田
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Holdings Corp
Priority date: 2001-01-19
Filing date: 2001-01-19
Publication date: 2002-08-02

Abstract

(57)【要約】【課題】低電圧駆動で高輝度、高効率の発光が可能
で、耐久性に優れ、均質面状発光可能な発光素子及びそ
の製造方法を提供すること。【解決手段】基板上に一対の電極を有し、且つ該電極
間に少なくとも一層の有機化合物層を形成した発光素子
の製造方法において、少なくとも一層の該有機化合物層
を弗素含有化合物を含む溶剤で塗布することを特徴とす
る発光素子の製造方法、及びそれにより得られた発光素
子。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、電気エネルギーを
光に変換して発光できる発光素子の製造方法に関するも
のである。

【０００２】

【従来の技術】今日、種々の表示素子に関する研究開発
が活発であり、中でも有機発光素子は、低電圧で高輝度
の発光を得ることができるため、有望な表示素子として
注目されている。例えば、有機化合物の蒸着により有機
薄膜を形成する発光素子が知られている（アプライド
フィジックスレターズ.，５１巻，９１３頁，１９８
７年）。しかしながら、有機化合物の蒸着操作を伴う発
光素子作製は、生産性に問題があり、製造工程の簡略
化、加工性、大面積化の観点から、塗布方式の素子作製
が望ましい。

【０００３】生産性に有利な塗布方式の発光素子作製で
使用される発光素子材料としては、例えばパラフェニレ
ンビニレンに代表されるπ共役系ポリマーが知られてい
るが、発光部をポリマー主鎖に持つため、発光材料の濃
度制御が難しく、色調、発光強度の微妙な制御が難しい
などの問題があった。同じく、塗布方式を用いる発光素
子として、例えば、ポリ（Ｎ−ビニルカルバゾール）中
に低分子量蛍光性化合物を分散する素子（特開平４−２
１２２８６号公報等）がある。この方式では蛍光性化合
物種を任意に変更できるため、色調、発光強度の調整が
比較的容易であるが、駆動電圧が高く、また長時間経時
した後駆動した場合や連続駆動した場合に、輝度の低下
が起きやすいなど耐久性面でも問題があった。また、従
来の塗布方式はポリマー材料をトルエンなどの芳香族炭
化水素類、メタノールなどのアルコール類、ジクロロメ
タン、１，２−ジクロロエタンなどの塩素置換アルカン
などの溶媒に溶かして塗布する方法が用いられてきた
が、これら従来の方法では、塗布性が不十分であり均質
な面状が得られにくい、あるいはダークスポット（未発
光部）の発生などの問題があった。また、従来用いられ
てきた塗布溶剤に対してプラスチック基板は耐溶剤性が
悪く、ポリマー溶液を塗布した場合に基板表面が溶解し
て、基板から溶出したものが発光性能を低下させるなど
の問題もあった。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、低電
圧駆動で高輝度、高効率の発光が可能で、耐久性に優
れ、均質面状発光可能な発光素子の製造法に関するもの
であり、特に、ポリマー基板でも発光可能な発光素子の
製造法を提供することを目的とするものである。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明は下記手段によっ
て達成された。（１）基板上に一対の電極を有し、且つ該電極間に少
なくとも一層の有機化合物層を形成した発光素子の製造
方法において、少なくとも一層の該有機化合物層を弗素
含有化合物を含む溶剤で塗布することを特徴とする発光
素子の製造方法。（２）基板上に一対の電極を有し、且つ該電極間に少
なくとも二層の有機化合物層を形成した発光素子の製造
方法において、少なくとも一層の該有機化合物層を弗素
含有化合物を含む溶剤で塗布し、他の一層の該有機化合
物層を弗素含有化合物を含まない溶剤で塗布することを
特徴とする発光素子の製造方法。（３）該弗素含有化合物が、弗素化アルコール、弗素
置換ケトン、弗素置換エステル、弗素化カルボン酸、弗
素置換アミド、弗素置換アルカン、弗素置換芳香族化合
物または弗素化エーテルからなる群より選ばれる少なく
とも一種の化合物であることを特徴とする（１）又は
（２）記載の発光素子の製造方法。（４）該弗素化アルコールが、下記一般式（Ｉ）で表
される化合物であることを特徴とする（１）〜（３）の
いずれかに記載の発光素子の製造方法。

【０００６】

【化２】

【０００７】（式中、ＡはＣＦ₃ またはＣＨＦ₂ （ＣＦ
₂ ）_nを表し、ｎは１ないし５の整数を表す。）（５）該有機化合物層のうち少なくとも一層がポリマ
ーであることを特徴とする（１）〜（４）のいずれかに
記載の発光素子の製造方法。（６）該ポリマーが、π共役ポリマーであることを特
徴とする（５）記載の発光素子の製造方法。（７）該ポリマーが、π共役構造を部分構造に有する
非共役ポリマー化合物であることを特徴とする（５）記
載の発光素子の製造方法。（８）該弗素含有化合物を溶剤として用いることによ
って形成する有機化合物層のうち少なくとも一層が少な
くとも一種のイオン性化合物を含有することを特徴とす
る（１）〜（７）のいずれかに記載の発光素子の製造方
法。（９）該基板がプラスチック物質からなることを特徴
とする（１）〜（８）のいずれかに記載の発光素子の製
造方法。（１０）該記基板が、ポリカーボネート、ポリエチレ
ンテレフタレート、ポリメタクリレート、ポリイミド、
ポリエステル、ポリエーテル、ポリエーテルスルホン、
エポキシ樹脂、ポリオレフィン、ポリ塩化ビニル、から
なる群から選ばれる高分子量化合物からなることを特徴
とする（１）〜（９）のいずれかに記載の発光素子の製
造方法。（１１）上記（１）〜（１０）のいずれかの方法によ
り製造された発光素子。

【０００８】

【発明の実施の形態】以下、本発明について詳細に説明
する。本発明の特徴的な要件である塗布液調製用の溶剤
には、弗素を含有する化合物が用いられる。本発明に用
いられる弗素含有化合物の例としては、例えば弗素化ア
ルコール、弗素置換ケトン、弗素置換エステル、弗素化
カルボン酸、弗素置換アミド、弗素化アルカン、弗素置
換芳香族化合物および弗素化エーテルなどを挙げること
ができる。弗素化アルコールとしては、例えば下記一般
式（Ｉ）で表される化合物を挙げることができる。

【０００９】

【化３】

【００１０】式中、ＡはＣＦ₃ またはＣＨＦ₂ （ＣＦ
₂ ）_nを表し、ｎは１ないし５の整数を表す。ｎとして
好ましくは１〜４であり、より好ましくは１〜３であ
り、更に好ましくは１である。弗素化アルコールの具体
例としては例えば下記化合物が挙げられる。

【００１１】

【化４】

【００１２】弗素置換ケトンおよびエステルとしては、
例えば下記一般式（ＩＩ）で表される化合物を挙げるこ
とができる。

【００１３】

【化５】

【００１４】式中、ＸおよびＹはそれぞれ脂肪族炭化水
素基、アリール基、ヘテロ環基、アルコキシ基、アリー
ルオキシ基またはヘテロ環オキシ基を表す。但し、Ｘお
よびＹの少なくとも一方は少なくとも一つの弗素原子で
置換されている。ＸおよびＹは置換基を有してもよく、
置換基としては、例えばアルキル基（好ましくは炭素数
１〜３０、より好ましくは炭素数１〜２０、特に好まし
くは炭素数１〜１０であり、例えばメチル、エチル、ｉ
ｓｏ−プロピル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−オクチル、ｎ
−デシル、ｎ−ヘキサデシル、シクロプロピル、シクロ
ペンチル、シクロヘキシルなどが挙げられる。）、アル
ケニル基（好ましくは炭素数２〜３０、より好ましくは
炭素数２〜２０、特に好ましくは炭素数２〜１０であ
り、例えばビニル、アリル、２−ブテニル、３−ペンテ
ニルなどが挙げられる。）、アルキニル基（好ましくは
炭素数２〜３０、より好ましくは炭素数２〜２０、特に
好ましくは炭素数２〜１０であり、例えばプロパルギ
ル、３−ペンチニルなどが挙げられる。）、アリール基
（好ましくは炭素数６〜３０、より好ましくは炭素数６
〜２０、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えば
フェニル、ｐ−メチルフェニル、ナフチルなどが挙げら
れる。）、アミノ基（好ましくは炭素数０〜３０、より
好ましくは炭素数０〜２０、特に好ましくは炭素数０〜
１０であり、例えばアミノ、メチルアミノ、ジメチルア
ミノ、ジエチルアミノ、ジベンジルアミノ、ジフェニル
アミノ、ジトリルアミノ、ジ（４−メトキシフェニル）
アミノ、Ｎ−フェニル−Ｎ−（１−ナフチル）アミノ、
Ｎ−フェニル−Ｎ−（１−チエニル）アミノなどが挙げ
られる。）、アルコキシ基（好ましくは炭素数１〜３
０、より好ましくは炭素数１〜２０、特に好ましくは炭
素数１〜１０であり、例えばメトキシ、エトキシ、ブト
キシ、２−エチルヘキシロキシなどが挙げられる。）、
アリールオキシ基（好ましくは炭素数６〜３０、より好
ましくは

【００１５】炭素数６〜２０、特に好ましくは炭素数６
〜１２であり、例えばフェニルオキシ、１−ナフチルオ
キシ、２−ナフチルオキシなどが挙げられる。）、アシ
ル基（好ましくは炭素数１〜３０、より好ましくは炭素
数１〜２０、特に好ましくは炭素数２〜１２であり、例
えばアセチル、ベンゾイル、ホルミル、ピバロイルなど
が挙げられる。）、アルコキシカルボニル基（好ましく
は炭素数２〜３０、より好ましくは炭素数２〜２０、特
に好ましくは炭素数２〜１２であり、例えばメトキシカ
ルボニル、エトキシカルボニルなどが挙げられる。）、
アリールオキシカルボニル基（好ましくは炭素数７〜３
０、より好ましくは炭素数７〜２０、特に好ましくは炭
素数７〜１２であり、例えばフェニルオキシカルボニル
などが挙げられる。）、アシルオキシ基（好ましくは炭
素数２〜３０、より好ましくは炭素数２〜２０、特に好
ましくは炭素数２〜１０であり、例えばアセトキシ、ベ
ンゾイルオキシなどが挙げられる。）、アシルアミノ基
（好ましくは炭素数２〜３０、より好ましくは炭素数２
〜２０、特に好ましくは炭素数２〜１０であり、例えば
アセチルアミノ、ベンゾイルアミノなどが挙げられ
る。）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭
素数２〜３０、より好ましくは炭素数２〜２０、特に好
ましくは炭素数２〜１２であり、例えばメトキシカルボ
ニルアミノなどが挙げられる。）、アリールオキシカル
ボニルアミノ基（好ましくは炭素数７〜３０、より好ま
しくは炭素数７〜２０、特に好ましくは炭素数７〜１２
であり、例えばフェニルオキシカルボニルアミノなどが
挙げられる。）、スルホニルアミノ基

【００１６】（好ましくは炭素数１〜３０、より好まし
くは炭素数１〜２０、特に好ましくは炭素数１〜１２で
あり、例えばメタンスルホニルアミノ、ベンゼンスルホ
ニルアミノなどが挙げられる。）、スルファモイル基
（好ましくは炭素数０〜３０、より好ましくは炭素数０
〜２０、特に好ましくは炭素数０〜１２であり、例えば
スルファモイル、メチルスルファモイル、ジメチルスル
ファモイル、フェニルスルファモイルなどが挙げられ
る。）、カルバモイル基（好ましくは炭素数１〜３０、
より好ましくは炭素数１〜２０、特に好ましくは炭素数
１〜１２であり、例えばカルバモイル、メチルカルバモ
イル、ジエチルカルバモイル、フェニルカルバモイルな
どが挙げられる。）、アルキルチオ基（好ましくは炭素
数１〜３０、より好ましくは炭素数１〜２０、特に好ま
しくは炭素数１〜１２であり、例えばメチルチオ、エチ
ルチオなどが挙げられる。）、アリールチオ基（好まし
くは炭素数６〜３０、より好ましくは炭素数６〜２０、
特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えばフェニル
チオなどが挙げられる。）、スルホニル基（好ましくは
炭素数１〜３０、より好ましくは炭素数１〜２０、特に
好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメシル、トシ
ルなどが挙げられる。）、スルフィニル基（好ましくは
炭素数１〜３０、より好ましくは炭素数１〜２０、特に
好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメタンスルフ
ィニル、ベンゼンスルフィニルなどが挙げられる。）、
ウレイド基（好ましくは炭素数１〜３０、より好ましく
は炭素数１〜２０、特に好ましくは炭素数１〜１２であ
り、例えばウレイド、メチルウレイド、フェニルウレイ
ドなどが挙げられる。）、リン酸アミド基（好ましくは
炭素数１〜３０、より好ましくは炭素数１〜２０、特に
好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばジエチルリン
酸アミド、フェニルリン酸アミドなどが挙げられ
る。）、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子
（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原
子）、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、ニトロ
基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、
イミノ基、ヘテロ環基（好ましくは炭素数１〜３０、よ
り好ましくは炭素数１〜１２であり、ヘテロ原子として
は、例えば窒素原子、酸素原子、硫黄原子、具体的には
例えばイミダゾリル、ピリジル、キノリル、フリル、ピ
ペリジル、モルホリノ、ベンズオキサゾリル、ベンズイ
ミダゾリル、ベンズチアゾリル、フリル、チエニルなど
が挙げられる。）、シリル基（好ましくは炭素数３〜４
０、より好ましくは炭素数３〜３０、特に好ましくは炭
素数３〜２４であり、例えばトリメチルシリル、トリフ
ェニルシリルなどが挙げられる。）などが挙げられる。
これらの置換基は更に置換されてもよい。また置換基が
二つ以上ある場合は、同じでも異なってもよい。また、
可能な場合には連結して環を連結してもよい。

【００１７】Ｘ、Ｙの置換基として好ましくはアルキル
基、アルケニル基、アリール基、アミノ基、アルコキシ
基、アリールオキシ基、アシル基、アルコキシカルボニ
ル基、アリールオキシカルボニル基、アシルオキシ基、
アシルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリ
ールオキシカルボニルアミノ基、スルホニルアミノ基、
スルファモイル基、カルバモイル基、アルキルチオ基、
アリールチオ基、スルホニル基、ヒドロキシ基、ハロゲ
ン原子、シアノ基、ヘテロ環基であり、より好ましくは
アルキル基、アルケニル基、アリール基、アミノ基、ア
ルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲ
ン原子、芳香族ヘテロ環基であり、更に好ましくはアル
キル基、アルケニル基、アリール基、アミノ基、アルコ
キシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基である。ま
た、一般式（II）で表される化合物として好ましくは分
子量４００以下のものである。

【００１８】一般式（ＩＩ）で表される弗素置換ケトン
およびエステルの具体例としては、例えば下記化合物が
挙げられる。

【００１９】

【化６】

【００２０】

【化７】

【００２１】弗素置換芳香族化合物としては、例えば下
記一般式（ＩＩＩ）で表される化合物を挙げることがで
きる。

【００２２】

【化８】

【００２３】式中、Ｒ¹ 、Ｒ² 、Ｒ³ 、Ｒ⁴ およびＲ⁵
は、それぞれ水素原子または置換基を表す。Ｒ¹ 〜Ｒ⁵
で表される置換基としては、例えば一般式（ＩＩ）にお
けるＸ、Ｙの置換基として挙げたものが適用できる。Ｒ
¹ 〜Ｒ⁵ で表される置換基として好ましくはアルキル
基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ア
シル基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基、ア
リールオキシカルボニル基、スルファモイル基、カルバ
モイル基、スルホニル基、スルフィニル基、ハロゲン原
子、ヒドロキシ基、ニトロ基、シアノ基であり、より好
ましくはアルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリ
ールオキシ基、アシル基、アシルオキシ基、アルコキシ
カルボニル基、アリールオキシカルボニル基、ハロゲン
原子、ヒドロキシ基、ニトロ基、シアノ基であり、更に
好ましくはアルキル基、アリール基、アルコキシ基、ア
リールオキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、
アリールオキシカルボニル基、弗素原子、塩素原子、臭
素原子、ヒドロキシ基、ニトロ基、シアノ基であり、特
に好ましくはアルキル基、アルコキシ基、アシル基、ア
ルコキシカルボニル基、弗素原子、塩素原子、臭素原
子、ヒドロキシ基、シアノ基である。

【００２４】一般式（ＩＩＩ）においてＲ¹ 〜Ｒ⁵ は、
好ましくは水素原子、弗素原子、塩素原子またはシアノ
基である。また、一般式（ＩＩＩ）で表される化合物と
して好ましくは分子量４００以下のものである。一般式
（ＩＩＩ）で表される化合物の具体例としては、例えば
下記化合物が挙げられる。

【００２５】

【化９】

【００２６】弗素化アルカン及びエーテルは、少なくと
も一つの弗素原子で置換された化合物であり、好ましく
は炭素数１〜８のアルカン及びエーテルである。弗素ア
ルカン及びエーテルは直鎖状、分岐状または環状のいず
れでも良い。また、該化合物は弗素原子の他に置換基を
有してもよく、置換基としては例えば一般式（ＩＩ）に
おけるＸ、Ｙの置換基として挙げたものが適用できる。
弗素化アルカンおよびエーテルの置換基として好ましく
はハロゲン原子、ヒドロキシ基、シアノ基、ニトロ基、
アルコキシ基、アルキルスルホニル基、アルキルスルフ
ィニル基であり、より好ましくは塩素原子、臭素原子、
ヒドロキシ基、炭素数１〜４のアルコキシ基であり、更
に好ましくは塩素原子、臭素原子、炭素数１〜４のアル
コキシ基である。また、該化合物の分子量は４００以下
であるのが好ましい。弗素化アルカンおよびエーテルの
具体例としては、例えば下記化合物が挙げられる。

【００２７】

【化１０】

【００２８】弗素化カルボン酸としては例えば下記一般
式（ＩＶ）で表される化合物が挙げられる。

【００２９】

【化１１】

【００３０】式中、ｐは１〜６の整数を表し、好ましく
は１〜４、より好ましくは１〜３、更に好ましくは１ま
たは２である。弗素化カルボンアミドとしては例えば下
記一般式（Ｖ−ａ）、弗素化スルホンアミドとしては例
えば下記一般式（Ｖ−ｂ）で表される化合物が挙げられ
る。

【００３１】

【化１２】

【００３２】式中、ｑ、rは１〜６の整数を表し、好ま
しくは１〜４、より好ましくは１〜３、更に好ましくは
１または２である。但し、本発明に用いられる弗素含有
化合物は上記の化合物に限定されるものではなく、一分
子中に少なくとも一つの弗素原子を含む有機化合物であ
って、本発明の発光素子に用いる有機化合物に対して溶
剤として機能しうる限り任意の化合物を用いることがで
きる。本発明において、上記弗素含有化合物は単独で溶
剤として用いてもよいが、他の溶剤を併用することによ
り混合溶剤として用いてもよい。そのような溶剤の例と
しては、例えばトルエン、キシレンなどの芳香族炭化水
素、酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル化合物、ア
セトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノンなどの
ケトン化合物、ジクロロメタン、クロロホルム、１，２
−ジクロロエタンなどのハロゲン置換アルカン、テトラ
ヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジオキサンなどのエ
ーテル化合物、メタノール、エタノール、１−プロパノ
ール、２−プロパノール、１−ブタノールなどのアルコ
ール化合物、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトア
ミドなどのアミド化合物、アセトニトリルなどのニトリ
ル化合物が挙げられる。混合溶剤として用いるときの弗
素含有化合物に対するその他の溶剤の比率（質量比）は
５〜９５％が好ましく、２０〜８０％がより好ましく、
３０〜７０％が最も好ましい。

【００３３】塗布方法としては、スプレー法、スピンコ
ート法、キャスト法、ディップ法、ロールコート法、ブ
レードコート法、ドクターロール法、スクリーン印刷法
などを挙げることができる。本発明の発光素子として好
ましくはポリマー化合物を含有するものである。ポリマ
ー化合物としては、電荷輸送機能を有するポリマー、発
光機能を有するポリマー、それ自体は電荷輸送・発光機
能を有しないバンダーポリマーのいずれでもよい。電荷
輸送機能、発光機能を有するポリマーとして好ましく
は、π共役ポリマー化合物またはπ共役構造を部分構造
に有する非共役ポリマー化合物を挙げられる。

【００３４】π共役ポリマー化合物は、芳香族炭化水
素、芳香族ヘテロ環、アルケニレン、アルキニレンの単
独またはこれらの組合せからなる基であり、またイミン
構造を介してこれらの基が連結してもよい。また、ホモ
ポリマーであってもコポリマーであってもよく、ランダ
ム共重合体、交互共重合体、ブロック共重合体であって
もよい。π共役ポリマー化合物を構成する部分構造の具
体例としては、例えば下記のものが挙げられる。

【００３５】

【化１３】

【００３６】部分構造として、カルバゾール骨格、チオ
フェン骨格、オキサジアゾール骨格、トリアゾール骨
格、フェニレン骨格、フェニレンビニレン骨格、又はフ
ルオレン骨格を有するものが好ましい。π共役ポリマー
化合物を構成する部分構造は置換基を有してもよく、例
えば一般式（ＩＩ）におけるＸ、Ｙの置換基として挙げ
たものが適用できる。置換基として好ましくは、脂肪族
炭化水素基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキ
シ基、シアノ基、ヘテロ環基であり、より好ましくはア
ルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ
基、シアノ基、芳香族ヘテロ環基であり、更に好ましく
はアルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオ
キシ基、シアノ基、５または６員の芳香族ヘテロ環基で
あり、特に好ましくはアルキル基、アルコキシ基、シア
ノ基である。π共役ポリマーとして好ましくは、ポリ
（ｐ−フェニレン）類、ポリ（ｐ−フェニレンビニレ
ン）類、ポリフルオレン類、ポリチオフェン類、ポリア
ニリン類、ポリピロール類、ポリピリジン類であり、よ
り好ましくはポリ（ｐ−フェニレン）類、ポリ（ｐ−フ
ェニレンビニレン）類、ポリフルオレン類、ポリチオフ
ェン類である。以下に、本発明のπ共役ポリマーの例を
挙げるが、本発明はこれらに限定されるものではない。

【００３７】

【化１４】

【００３８】

【化１５】

【００３９】

【化１６】

【００４０】

【化１７】

【００４１】なお、上記のポリマーはその互変異性体で
あってもよく、またp型またはｎ型のドーピングがなさ
れていてもよい。π共役構造を部分構造に有する非共役
ポリマー化合物は、少なくとも一つのπ共役構造から成
る電荷輸送部または／および発光部を持つ非共役ポリマ
ーであり、電荷輸送部または／および発光部はポリマー
主鎖または側鎖のいずれにあってもよい。電荷輸送部、
発光部は、特に限定はなく、例えば公知の低分子および
高分子の正孔輸送材、電子輸送材、発光材を用いること
ができる。正孔輸送部の例としては、例えばカルバゾー
ル、トリアゾール、オキサゾール、オキサジアゾール、
イミダゾール、ポリアリールアルカン、ピラゾリン、ピ
ラゾロン、フェニレンジアミン、アリールアミン、アミ
ノ置換カルコン体、スチリルアントラセン、フルオレノ
ン、ヒドラゾン、スチルベン、シラザン、ヘテロ芳香族
第三級アミン、スチリルアミン、芳香族ジメチリディン
系化合物、ポルフィリン系化合物、ポリシラン系化合
物、ポリ（Ｎ−ビニルカルバゾール）、アニリン系共重
合体、チオフェンオリゴマー、ポリチオフェン等の導電
性高分子オリゴマー、有機シラン化合物およびそれらの
誘導体、等が挙げられる。正孔輸送部として好ましく
は、カルバゾール、ピラゾロン、フェニレンジアミン、
アリールアミン、スチリルアントラセン、フルオレノ
ン、ヒドラゾン、スチルベン、ヘテロ芳香族第三級アミ
ン化合物、スチリルアミン化合物、芳香族ジメチリディ
ン系化合物、ポルフィリン系化合物、ポリシラン系化合
物、ポリ（Ｎ−ビニルカルバゾール）、アニリン系共重
合体、チオフェンオリゴマー、ポリチオフェン、より好
ましくはカルバゾール、アリールアミン、ヒドラゾン、
スチルベン、ヘテロ芳香族第三級アミン化合物、スチリ
ルアミン化合物、ポリ（Ｎ−ビニルカルバゾール）、チ
オフェンオリゴマー、ポリチオフェンおよびそれらの誘
導体であり、更に好ましくはカルバゾール、アリールア
ミン、ヘテロ芳香族第三級アミン化合物、ポリ（Ｎ−ビ
ニルカルバゾール）、チオフェンオリゴマーおよびそれ
らの誘導体である。正孔輸送部を構成する部分構造の具
体例としては、例えば下記のものが挙げられる。

【００４２】

【化１８】

【００４３】電子輸送部の例としては、例えば芳香族ア
ゾール（例えばトリアゾール、オキサゾール、オキサジ
アゾール、イミダゾール、ベンズイミダゾール、ピリジ
ン、ピリミジン、キノリン、キノキサリン、フタラジ
ン、イミダゾピリジン、トリアジン、チアゾール、チア
ジアゾール、ベンズオキサジアゾール、ベンズチアジア
ゾール、ベンゾトリアゾールやそれらの誘導体など）、
フルオレノン、アントラキノジメタン、アントロン、ジ
フェニルキノン、チオピランジオキシド、カルボジイミ
ド、フルオレニリデンメタン、ジスチリルピラジン体、
ナフタレン、ペリレン等の芳香環テトラカルボン酸無水
物、フタロシアニン体、８−キノリノールの金属錯体や
メタルフタロシアニン、ベンゾオキサゾールやベンゾチ
アゾールを配位子とする金属錯体に代表される各種金属
錯体、有機シラン誘導体（例えばシロールおよびその誘
導体など）やそれらの誘導体等が挙げられる。電子輸送
部として好ましくは、芳香族アゾール類であり、より好
ましくはトリアゾール、オキサジアゾール、ベンズイミ
ダゾール、ピリジン、ピリミジン、キノリン、キノキサ
リン、フタラジン、イミダゾピリジン、トリアジン、チ
アジアゾール、ベンズオキサジアゾール、ベンズチアジ
アゾール、ベンゾトリアゾールおよびそれらの誘導体で
あり、更に好ましくはトリアゾール、オキサジアゾー
ル、ベンズイミダゾール、イミダゾピリジン、トリアジ
ン、チアジアゾールおよびそれらの誘導体である。電子
輸送部を構成する部分構造の具体例としては、例えば下
記のものが挙げられる。

【００４４】

【化１９】

【００４５】発光部を構成する部分構造の具体例として
は、例えばベンゾオキサゾール、ベンゾイミダゾール、
ベンゾチアゾール、スチリルベンゼン、ポリフェニル、
ジフェニルブタジエン、テトラフェニルブタジエン、ナ
フタルイミド、クマリン、ペリレン、ペリノン、オキサ
ジアゾール、アルダジン、ピラリジン、シクロペンタジ
エン、ビススチリルアントラセン、キナクリドン、ピロ
ロピリジン、チアジアゾロピリジン、シクロペンタジエ
ン、スチリルアミン、芳香族ジメチリディン化合物、芳
香族多環縮環化合物、有機シラン誘導体、８−キノリノ
ールの金属錯体や希土類錯体、遷移金属錯体に代表され
る各種金属錯体およびそれらの誘導体、等が挙げられ
る。π共役構造を部分構造に有する非共役ポリマー化合
物の構成要素は、可能な場合には置換基を有してもよ
い。置換基としては、例えばπ共役ポリマーの置換基と
して挙げたものが適用でき、また好ましい置換基も同様
である。以下に、本発明のπ共役構造を部分構造に有す
る非共役ポリマー化合物の例を挙げるが、本発明はこれ
らに限定されるものではない。

【００４６】

【化２０】

【００４７】

【化２１】

【００４８】

【化２２】

【００４９】

【化２３】

【００５０】

【化２４】

【００５１】

【化２５】

【００５２】なお、上記のポリマーはその互変異性体で
あってもよく、またp型またはｎ型のドーピングがなさ
れていてもよい。部分構造として、カルバゾール骨格、
アリールアミン骨格、オキサジアゾール骨格、トリアゾ
ール骨格を有するものが好ましく、カルバゾール骨格又
はアリールアミン骨格を有するものがより好ましい。ま
た、本発明の発光素子における有機化合物層には、上記
の電荷輸送性や発光機能を持たないポリマーをバインダ
ーとして用いることもできる。バインダーとして用いる
ポリマーとしては電荷注入により安定なものであれば特
に限定はなく、例えば、ポリカーボネート、ポリメチル
メタクリレート、ポリエステル、ポリエーテルスルホ
ン、ポリエーテルなどが挙げられる。

【００５３】本発明の弗素含有化合物を含む溶剤で塗布
することによる効率、耐久性、発光面状などに及ぼす効
果は、有機材料がイオン性の化合物の場合に顕著に現
れ、特に発光材料がイオン性の場合に顕著である。イオ
ン性の発光材料としては、例えばシアニン系色素、ピリ
リウム系色素、チオピリリウム系色素、スクワリリウム
系色素、アズレニウム系色素、アミニウム系色素、ジイ
ンモニウム系色素、金属錯体系、などが挙げられる。イ
オン性の発光材料として好ましくはシアニン系色素、ピ
リリウム系色素、金属錯体系色素であり、更に好ましく
はシアニン系色素、ピリリウム系色素、有機金属錯体系
色素であり、特に好ましくはシアニン系色素、ピリリウ
ム系色素、Ｒｕ、Ｉｒ、Ｐｔ錯体系色素である。

【００５４】本発明の発光素子は上記の有機材料の他、
正孔注入層、正孔輸送層、発光層、電子注入層、電子輸
送層、保護層などを有してもよく、またこれらの各層は
それぞれ他の機能を備えたものであってもよい。各層の
形成にはそれぞれ種々の材料を用いることができる。化
合物を含有する発光素子について説明する。本発明の発
光素子の有機層の形成方法は、前述の弗素含有化合物を
含む溶剤で塗布する工程を有していれば、他の有機層を
形成する方法を併用して用いてもよい。他の有機層を形
成する方法としては、特に限定はないが、抵抗加熱蒸
着、電子ビーム、スパッタリング、分子積層法、コーテ
ィング法、インクジェット法、印刷法、転写法などの方
法が用いられ、特性面、製造面でコーティング法が好ま
しい。

【００５５】陽極は正孔注入層、正孔輸送層、発光層な
どに正孔を供給するものであり、金属、合金、金属酸化
物、電気伝導性化合物、またはこれらの混合物などを用
いることができ、好ましくは仕事関数が４ｅＶ以上の材
料である。具体例としては酸化スズ、酸化亜鉛、酸化イ
ンジウム、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）等の導電性金
属酸化物、あるいは金、銀、クロム、ニッケル等の金
属、さらにこれらの金属と導電性金属酸化物との混合物
または積層物、ヨウ化銅、硫化銅などの無機導電性物
質、ポリアニリン、ポリチオフェン、ポリピロールなど
の有機導電性材料、およびこれらとＩＴＯとの積層物な
どが挙げられ、好ましくは、導電性金属酸化物であり、
特に、生産性、高導電性、透明性等の点からＩＴＯが好
ましい。陽極の膜厚は材料により適宜選択可能である
が、通常１０ｎｍ〜５μｍの範囲のものが好ましく、よ
り好ましくは５０ｎｍ〜１μｍであり、更に好ましくは
１００ｎｍ〜５００ｎｍである。

【００５６】陽極は通常、ソーダライムガラス、無アル
カリガラス、透明樹脂基板（プラスチック物質）などの
基板上に層形成したものが用いられる。基板としてガラ
スを用いる場合、その材質については、ガラスからの溶
出イオンを少なくするため、無アルカリガラスを用いる
ことが好ましい。また、ソーダライムガラスを用いる場
合、シリカなどのバリアコートを施したものを使用する
ことが好ましい。透明樹脂基板としては、例えばポリカ
ーボネート、ポリエチレンテレフタレート、ポリメタク
リレート、ポリイミド、ポリエステル、ポリエーテル、
ポリエーテルスルホン、エポキシ樹脂、ポリオレフィ
ン、ポリ塩化ビニル、ポリアセチルセルロースなどが挙
げられ、これらは単独で基板を形成しても良いし、２種
以上が混合または積層されて基板を形成してもよい。透
明樹脂基板として好ましくはポリカーボネート、ポリエ
チレンテレフタレート、ポリメタクリレート、ポリイミ
ド、ポリエステル、ポリエーテルスルホン、ポリオレフ
ィンであり、更に好ましくはポリカーボネート、ポリエ
チレンテレフタレート、ポリメタクリレート、ポリエー
テルスルホン、ポリオレフィンである。また樹脂基板の
場合にもバリアコートを施したものが好ましく、バリア
コート層としてはＳｉＯ₂，ＳｉＯ_xＮ_yなどの無機酸化
物や後述の保護層の材料として挙げたものが適用でき
る。発光素子のフレキシブル化などのニーズに対して、
プラスチック物質を基板に用いることが望ましい。基板
の厚みは、機械的強度を保つのに十分であれば特に制限
はないが、通常０．２ｍｍ以上、好ましくは０．５ｍｍ
以上２ｍｍ以下のものを用いる。なお、上記の樹脂基板
を用いる場合、通常の塗布型素子の作製に用いられる溶
媒（例えばクロロホルム、１，２−ジクロロエタン、ト
ルエン、キシレン、テトラメチルベンゼン、アセトン、
アセトニトリル、酢酸エチルなど）を用いると樹脂基板
から可塑剤が溶出したり、また乾燥速度が速すぎるため
に均質な有機膜ができず、発光時の面状が悪化するなど
の問題が発生する。これに対し、本発明の含フッ素化合
物またはそれを混合した溶媒を用いると上記の問題が解
決され、各種発光特性、面状に優れる素子が得られる。

【００５７】陽極の作製には材料によって種々の方法が
用いられるが、例えばＩＴＯの場合、電子ビーム法、ス
パッタリング法、抵抗加熱蒸着法、化学反応法（ゾルー
ゲル法など）、酸化インジウムスズの分散物の塗布など
の方法で膜形成される。陽極は洗浄その他の処理によ
り、素子の駆動電圧を下げたり、発光効率を高めること
も可能である。例えばＩＴＯの場合、ＵＶ−オゾン処
理、プラズマ処理などが効果的である。

【００５８】陰極は電子注入層、電子輸送層、発光層な
どに電子を供給するものであり、電子注入層、電子輸送
層、発光層などの負極と隣接する層との密着性やイオン
化ポテンシャル、安定性等を考慮して選ばれる。陰極の
材料としては金属、合金、金属ハロゲン化物、金属酸化
物、電気伝導性化合物、またはこれらの混合物を用いる
ことができ、具体例としてはアルカリ金属（例えばＬ
ｉ、Ｎａ、Ｋ等）及びそのフッ化物または酸化物、アル
カリ土類金属（例えばＭｇ、Ｃａ等）及びそのフッ化物
または酸化物、金、銀、鉛、アルミニウム、ナトリウム
−カリウム合金またはそれらの混合金属、リチウム−ア
ルミニウム合金またはそれらの混合金属、マグネシウム
−銀合金またはそれらの混合金属、インジウム、イッテ
リビウム等の希土類金属等が挙げられ、好ましくは仕事
関数が４ｅＶ以下の材料であり、より好ましくはアルミ
ニウム、リチウム−アルミニウム合金またはそれらの混
合金属、マグネシウム−銀合金またはそれらの混合金属
等である。陰極は、上記化合物及び混合物の単層構造だ
けでなく、上記化合物及び混合物を含む積層構造を取る
こともできる。例えば、アルミニウム／フッ化リチウ
ム、アルミニウム／酸化リチウムの積層構造が好まし
い。陰極の膜厚は材料により適宜選択可能であるが、通
常１０ｎｍ〜５μｍの範囲のものが好ましく、より好ま
しくは５０ｎｍ〜１μｍであり、更に好ましくは１００
ｎｍ〜１μｍである。陰極の作製には電子ビーム法、ス
パッタリング法、抵抗加熱蒸着法、コーティング法など
の方法が用いられ、金属を単体で蒸着することも、二成
分以上を同時に蒸着することもできる。さらに、複数の
金属を同時に蒸着して合金電極を形成することも可能で
あり、またあらかじめ調整した合金を蒸着させてもよ
い。陽極及び陰極のシート抵抗は低い方が好ましく、数
百Ω／□以下が好ましい。

【００５９】発光層の材料は、電界印加時に陽極または
正孔注入層、正孔輸送層から正孔を注入することができ
ると共に陰極または電子注入層、電子輸送層から電子を
注入することができる機能や、注入された電荷を移動さ
せる機能、正孔と電子の再結合の場を提供して発光させ
る機能を有する層を形成することができるものであれば
何でもよい。また、一重項励起子から発光するもので
も、三重項励起子から発光するもののいずれでも良い。
発光材料としては例えばベンゾオキサゾール、ベンゾイ
ミダゾール、ベンゾチアゾール、スチリルベンゼン、ポ
リフェニル、ジフェニルブタジエン、テトラフェニルブ
タジエン、ナフタルイミド、クマリン、ペリレン、ペリ
ノン、オキサジアゾール、アルダジン、ピラリジン、シ
クロペンタジエン、ビススチリルアントラセン、キナク
リドン、ピロロピリジン、チアジアゾロピリジン、シク
ロペンタジエン、スチリルアミン、芳香族ジメチリディ
ン化合物、８−キノリノールの金属錯体や希土類錯体、
遷移金属錯体に代表される各種金属錯体等、ポリチオフ
ェン、ポリフェニレン、ポリフェニレンビニレン等のポ
リマー化合物、有機シランやそれらの誘導体、等が挙げ
られる。発光層の膜厚は特に限定されるものではない
が、通常１ｎｍ〜５μｍの範囲のものが好ましく、より
好ましくは５ｎｍ〜１μｍであり、更に好ましくは１０
ｎｍ〜５００ｎｍである。発光層の形成方法は、特に限
定されるものではないが、抵抗加熱蒸着、電子ビーム、
スパッタリング、分子積層法、コーティング法（スピン
コート法、キャスト法、ディップコート法など）、イン
クジェット法、印刷法、ＬＢ法、転写法などの方法が用
いられ、好ましくはコーティング法である。

【００６０】正孔注入層、正孔輸送層の材料は、陽極か
ら正孔を注入する機能、正孔を輸送する機能、陰極から
注入された電子を障壁する機能のいずれか有しているも
のであればよい。その具体例としては、カルバゾール、
トリアゾール、オキサゾール、オキサジアゾール、イミ
ダゾール、ポリアリールアルカン、ピラゾリン、ピラゾ
ロン、フェニレンジアミン、アリールアミン、アミノ置
換カルコン、スチリルアントラセン、フルオレノン、ヒ
ドラゾン、スチルベン、シラザン、芳香族第三級アミ
ン、スチリルアミン、芳香族ジメチリディン系、ポルフ
ィリン系、ポリシラン系、ポリ（Ｎ−ビニルカルバゾー
ル）、アニリン系共重合体、チオフェンオリゴマー、ポ
リチオフェン等の導電性高分子オリゴマー、有機シラン
やそれらの誘導体、等が挙げられる。正孔注入層、正孔
輸送層の膜厚は特に限定されるものではないが、通常１
ｎｍ〜５μｍの範囲のものが好ましく、より好ましくは
５ｎｍ〜１μｍであり、更に好ましくは１０ｎｍ〜５０
０ｎｍである。正孔注入層、正孔輸送層は上述した材料
の１種または２種以上からなる単層構造であってもよい
し、同一組成または異種組成の複数層からなる多層構造
であってもよい。正孔注入層、正孔輸送層の形成方法と
しては、真空蒸着法やＬＢ法、前記正孔注入輸送剤を溶
媒に溶解または分散させてコーティングする方法（スピ
ンコート法、キャスト法、ディップコート法など）、イ
ンクジェット法、印刷法、転写法が用いられる。コーテ
ィング法の場合、樹脂成分と共に溶解または分散するこ
とができ、樹脂成分としては例えば、ポリ塩化ビニル、
ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリメチルメタクリ
レート、ポリブチルメタクリレート、ポリエステル、ポ
リスルホン、ポリフェニレンオキシド、ポリブタジエ
ン、ポリ（Ｎ−ビニルカルバゾール）、炭化水素樹脂、
ケトン樹脂、フェノキシ樹脂、ポリアミド、エチルセル
ロース、酢酸ビニル、ＡＢＳ樹脂、ポリウレタン、メラ
ミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、アルキド樹脂、エ
ポキシ樹脂、シリコン樹脂などが挙げられる。

【００６１】電子注入層、電子輸送層の材料は、陰極か
ら電子を注入する機能、電子を輸送する機能、陽極から
注入された正孔を障壁する機能のいずれか有しているも
のであればよい。その具体例としては、例えばトリアゾ
ール、オキサゾール、オキサジアゾール、イミダゾー
ル、フルオレノン、アントラキノジメタン、アントロ
ン、ジフェニルキノン、チオピランジオキシド、カルボ
ジイミド、フルオレニリデンメタン、ジスチリルピラジ
ン、縮合アゾール、ナフタレン、ペリレン等の芳香環テ
トラカルボン酸無水物、フタロシアニン、８−キノリノ
ールの金属錯体やメタルフタロシアニン、ベンゾオキサ
ゾールやベンゾチアゾールを配位子とする金属錯体に代
表される各種金属錯体、有機シランやそれらの誘導体、
等が挙げられる。電子注入層、電子輸送層の膜厚は特に
限定されるものではないが、通常１ｎｍ〜５μｍの範囲
のものが好ましく、より好ましくは５ｎｍ〜１μｍであ
り、更に好ましくは１０ｎｍ〜５００ｎｍである。電子
注入層、電子輸送層は上述した材料の１種または２種以
上からなる単層構造であってもよいし、同一組成または
異種組成の複数層からなる多層構造であってもよい。電
子注入層、電子輸送層の形成方法としては、真空蒸着法
やＬＢ法、前記電子注入輸送剤を溶媒に溶解または分散
させてコーティングする方法（スピンコート法、キャス
ト法、ディップコート法など）、インクジェット法、印
刷法、転写法などが用いられる。コーティング法の場
合、樹脂成分と共に溶解または分散することができ、樹
脂成分としては例えば、正孔注入輸送層の場合に例示し
たものが適用できる。

【００６２】保護層の材料としては水分や酸素等の素子
劣化を促進するものが素子内に入ることを抑止する機能
を有しているものであればよい。その具体例としては、
Ｉｎ、Ｓｎ、Ｐｂ、Ａｕ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｎ
ｉ等の金属、ＭｇＯ、ＳｉＯ、ＳｉＯ₂、Ａｌ₂Ｏ₃、Ｇ
ｅＯ、ＮｉＯ、ＣａＯ、ＢａＯ、Ｆｅ₂Ｏ₃、Ｙ₂ Ｏ₃、
ＴｉＯ₂等の金属酸化物、ＭｇＦ₂、ＬｉＦ、ＡｌＦ₃、
ＣａＦ₂等の金属フッ化物、ポリエチレン、ポリプロピ
レン、ポリメチルメタクリレート、ポリイミド、ポリウ
レア、ポリテトラフルオロエチレン、ポリクロロトリフ
ルオロエチレン、ポリジクロロジフルオロエチレン、ク
ロロトリフルオロエチレンとジクロロジフルオロエチレ
ンとの共重合体、テトラフルオロエチレンと少なくとも
１種のコモノマーとを含むモノマー混合物を共重合させ
て得られる共重合体、共重合主鎖に環状構造を有する含
フッ素共重合体、吸水率１％以上の吸水性物質、吸水率
０．１％以下の防湿性物質等が挙げられる。保護層の形
成方法についても特に限定はなく、例えば真空蒸着法、
スパッタリング法、反応性スパッタリング法、ＭＢＥ
（分子線エピタキシ）法、クラスターイオンビーム法、
イオンプレーティング法、プラズマ重合法（高周波励起
イオンプレーティング法）、プラズマＣＶＤ法、レーザ
ーＣＶＤ法、熱ＣＶＤ法、ガスソースＣＶＤ法、コーテ
ィング法、印刷法、転写法などが適用できる。

【００６３】

【実施例】以下に本発明の具体的実施例を述べるが、本
発明の実施の態様はこれらに限定されない。

【００６４】比較例１ガラス基板上にＩＴＯを２００ｎｍの厚さに製膜したも
のを透明支持基板とした。この透明支持基板をエッチン
グ、洗浄後、ＩＴＯ基板上に、ポリ（Ｎ−ビニルカルバ
ゾール）４０ｍｇ、２，５−ビス（１−ナフチル）−
１，３，４−オキサジアゾール１２ｍｇおよび１ｍｇの
化合物Ａを１，２−ジクロロエタン３ｍｌに溶解した溶
液をスピンコート（膜厚約１００ｎｍ）した。次いで有
機薄膜上にパターニングしたマスク（発光面積が５ｍｍ
×４ｍｍとなるマスク）を設置し、蒸着装置内でマグネ
シウム：銀＝１０：１を２５０ｎｍ共蒸着した後、銀３
００ｎｍを蒸着（１０^-3〜１０^-4Ｐａ）し、素子を作製
した。発光特性は次の通り測定した。東陽テクニカ製ソ
ースメジャーユニット２４００型を用いて、ＩＴＯを陽
極、Ｍｇ：Ａｇを陰極として直流定電圧をＥＬ素子に印
加し発光させ、その輝度をトプコン社の輝度計ＢＭ−
８、発光波長を浜松フォトニクス社製スペクトルアナラ
イザーＰＭＡ−１１を用いて測定した。また、作製した
素子を６０℃、２０％ＲＨの条件下に３時間放置後発光
させた相対輝度（素子作製直後の輝度を１００とした場
合の経時後の輝度を相対値で表した値（駆動電圧１５
Ｖ））を評価した。また、発光時の面状を目視で観測し
た。結果を実施例１とともに表１に示す。

【００６５】

【化２６】

【００６６】実施例１比較例１と同様に前処理したＩＴＯ基板上に、ポリ（Ｎ
−ビニルカルバゾール）４０ｍｇ、２，５−ビス（１−
ナフチル）−１，３，４−オキサジアゾール１２ｍｇお
よび１ｍｇの化合物Ａを２，２，３，３−テトラフルオ
ロプロピルアルコール（例示化合物１−２）０．５ｍｌ
と１，２−ジクロロエタン２．５ｍｌの混合溶媒に溶解
した溶液をスピンコート（膜厚約１００ｎｍ）した後、
有機薄膜上にパターニングしたマスク（発光面積が５ｍ
ｍ×４ｍｍとなるマスク）を設置し、蒸着装置内でマグ
ネシウム：銀＝１０：１を２５０ｎｍ共蒸着した後、銀
３００ｎｍを蒸着（１０^-3〜１０^-4Ｐａ）し、素子を作
製した。評価は比較例１と同様に行った。結果を表１に
示す。

【００６７】

【表１】

【００６８】表１の結果より、本発明の方法により作製
した素子では発光輝度、効率、耐久性に優れ、また発光
面状も良好なことがわかる。

【００６９】実施例２ポリエチレンテレフタレート上にＳｉＯ₂を２００ｎｍ
の厚さにスパッタにより付設した後、パターニングした
マスクを設置し、ＩＴＯを２００ｎｍ（膜厚２００ｎ
ｍ）スパッタ付設し、透明支持基板を作製した。この基
板をアセトン、次いで２−プロパノールで迅速に洗浄し
た後、実施例１で調整した溶液を膜厚約６０ｎｍとなる
ようにスピンコートした。次いでこの有機層の上に化合
物Ｂ２０ｍｇ、ポリビニルブチラール１０ｍｇを２−プ
ロパノール１．３ｍｌ、１−ブタノール１．３ｍｌの混
合溶媒に溶解した溶液を厚さ約４０ｎｍとなるようにス
ピンコートした。次いで有機薄膜上にパターニングした
マスク（発光面積が５ｍｍ×４ｍｍとなるマスク）を設
置し、蒸着装置内でマグネシウム：銀＝１０：１を２５
０ｎｍ共蒸着した後、銀３００ｎｍを蒸着（１０^-3〜１
０^-4Ｐａ）し、素子を作製した。

【００７０】

【化２７】

【００７１】この素子について比較例１と同様に評価し
た結果、発光λｍａｘ＝６０５ｎｍ、最高輝度３９００
ｃｄ／ｍ²、外部量子効率１．４％が得られ、ポリマー
支持基板上でも高輝度、高効率発光が得られた。

【００７２】比較例２Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．２０００年，１２２卷，
７４２６頁．を参考に以下のごとく素子を作製した。下
記化合物Ｃ４０ｍｇをアセトニトリル１ｍｌに溶解し
た溶液を、洗浄したＩＴＯ基板上にスピンコートし、約
１００ｎｍの有機薄膜を得た。有機薄膜上にパターニン
グしたマスク（発光面積が４ｍｍ×５ｍｍとなるマス
ク）を設置し、蒸着装置内でアルミニウムを２００ｎｍ
蒸着しし、素子を作製した。東陽テクニカ製ソースメジ
ャーユニット２４００型を用いて、直流定電圧を素子に
印加し発光させ、その輝度をトプコン社の輝度計ＢＭ−
８、発光波長を浜松フォトニクス社製スペクトルアナラ
イザーＰＭＡ−１１を用いて測定した。その結果、橙色
発光が得られ、最高輝度は２０００ｃｄ／ｍ²（駆動電
圧４Ｖ）であった。また、初期輝度１０００ｃｄ／ｍ²
で駆動させた場合の輝度半減寿命は約１分であった。ま
た発光面状を目視で観測したところ、筋状のむらが観測
された。

【００７３】

【化２８】

【００７４】実施例３比較例２における素子作製において溶媒として用いたア
セトニトリルを例示化合物１−３０．５ｍｌと１，２
−ジクロロエタン０．５ｍｌの混合溶媒に溶解した溶液
を調液し、洗浄したITO基板上にスピンコートし（１０
００ｒｐｍ，2０ｓｅｃ）、乾燥した。有機層の膜厚は
約１００ｎｍであった。有機薄膜上にパターニングした
マスク（発光面積が４ｍｍ×５ｍｍとなるマスク）を設
置し、蒸着装置内でアルミニウムを２００ｎｍ蒸着し、
素子を作成した。比較例１と同様に評価し、その結果、
橙色発光が得られ、最高輝度は5700ｃｄ／ｍ²（駆動電
圧４Ｖ）であった。また、初期輝度１０００ｃｄ／ｍ²
で駆動させた場合の輝度半減寿命は約１５分であった。
また発光面状を目視で観測したところ、筋状のむらはな
く、均質面状が観測された。比較例２と実施例３との比
較により、ポリマーを用いない系においても、フッ素含
有化合物を塗布溶剤に用いることにより、発光輝度、耐
久性、発光面状の点で優れた素子が得られることがわか
る。

【００７５】比較例３．比較例１と同様に前処理したＩ
ＴＯ基板上に、ポリメチルメタクリレート２０ｍｇ、Ｔ
ＰＤ（N,N' -ビス（3-メチルフェニル）-N,N'-ジフェニ
ルベンジジン）１２ｍｇ、２，５−ビス（１−ナフチ
ル）−１，３，４−オキサジアゾール１２ｍｇおよび１
ｍｇの化合物Ａを１，２−ジクロロエタン３ｍｌに溶解
した溶液を、膜厚が約１００ｎｍとなるようにスピンコ
ートした後、有機薄膜上にパターニングしたマスク（発
光面積が５ｍｍ×４ｍｍとなるマスク）を設置し、蒸着
装置内でマグネシウム：銀＝１０：１を２５０ｎｍ共蒸
着した後、銀３００ｎｍを蒸着（１０^-3〜１０^-4Ｐａ）
し、素子を作製した。比較例１と同様に評価した結果、
発光極大波長は６０３ｎｍで最大輝度は３２５ｃｄ／ｍ
²、外部量子効率は０．５％で、発光面状も筋状のむら
が観測された。

【００７６】実施例４．比較例３における素子作製にお
いて溶媒として用いた１，２−ジクロロエタンの代わり
に例示化合物１−２１ｍｌと１，２−ジクロロエタン
２ｍｌの混合溶媒を用い、同様に素子を作製し、評価し
た。発光極大波長は６０３ｎｍで最大輝度は１２６０ｃ
ｄ／ｍ²、外部量子効率は１．１％で、発光面状も均質
であった。比較例３と実施例４との比較により、電荷輸
送能を持たない非共役ポリマーをバインダーに用いた素
子においても含フッ素化合物を溶媒に用いる効果が確認
された。

【００７７】

【発明の効果】本発明により、通常輝度の低い塗布方式
でも良好な発光特性が得られ、製造コスト面等で有利な
素子作製が可能となる。また、高輝度、高効率の発光が
可能で、耐久性に優れ、均質面状発光可能な発光素子の
製造が可能となる。特に、ポリマー基板でも高輝度・高
効率発光が可能であり、フレキシブル発光素子の提供が
可能となる。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】基板上に一対の電極を有し、且つ該電極
間に少なくとも一層の有機化合物層を形成した発光素子
の製造方法において、少なくとも一層の該有機化合物層
を弗素含有化合物を含む溶剤で塗布することを特徴とす
る発光素子の製造方法。
【請求項２】基板上に一対の電極を有し、且つ該電極
間に少なくとも二層の有機化合物層を形成した発光素子
の製造方法において、少なくとも一層の該有機化合物層
を弗素含有化合物を含む溶剤で塗布し、他の一層の該有
機化合物層を弗素含有化合物を含まない溶剤で塗布する
ことを特徴とする発光素子の製造方法。
【請求項３】該弗素含有化合物が、弗素化アルコー
ル、弗素置換ケトン、弗素置換エステル、弗素化カルボ
ン酸、弗素置換アミド、弗素置換アルカン、弗素置換芳
香族化合物または弗素化エーテルからなる群より選ばれ
る少なくとも一種の化合物であることを特徴とする請求
項１又は２記載の発光素子の製造方法。
【請求項４】該弗素化アルコールが、下記一般式
（Ｉ）で表される化合物であることを特徴とする請求項
１〜３のいずれかに記載の発光素子の製造方法。【化１】（式中、ＡはＣＦ₃ またはＣＨＦ₂ （ＣＦ₂ ）_nを表
し、ｎは１ないし５の整数を表す。）
【請求項５】有機化合物層のうち少なくとも一層がポ
リマーであることを特徴とする請求項１〜４のいずれか
に記載の発光素子の製造方法。
【請求項６】該ポリマーが、π共役ポリマーであるこ
とを特徴とする請求項５記載の発光素子の製造方法。
【請求項７】該ポリマーが、π共役構造を部分構造に
有する非共役ポリマー化合物であることを特徴とする請
求項５記載の発光素子の製造方法。
【請求項８】該弗素含有化合物を溶剤として用いるこ
とによって形成する有機化合物層のうち少なくとも一層
が少なくとも一種のイオン性化合物を含有することを特
徴とする請求項１〜７のいずれかに記載の発光素子の製
造方法。
【請求項９】該基板がプラスチック物質からなること
を特徴とする請求項１〜８のいずれかに記載の発光素子
の製造方法。
【請求項１０】該基板が、ポリカーボネート、ポリエ
チレンテレフタレート、ポリメタクリレート、ポリイミ
ド、ポリエステル、ポリエーテル、ポリエーテルスルホ
ン、エポキシ樹脂、ポリオレフィン、ポリ塩化ビニル、
からなる群から選ばれる高分子化合物からなることを特
徴とする請求項１〜９のいずれかに記載の発光素子の製
造方法。
【請求項１１】請求項１〜１０のいずれかの製造方法
により製造されたことを特徴とする発光素子。