JP2002202300A - 高精度窒素測定用分析システム - Google Patents
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Abstract
度の一分析物を高濃度の他の分析物の存在下で測定でき
るアナライザを提供する。 【解決手段】本アナライザは、検出器を流れる分析物、
活性ガスの圧力及び/又は流速を一定に維持するために
キャリアガスの補給フローを供給することによってガス
フローの乱れを補償する。例えば、分析中の圧力を一定
に保つために、スクラバとそれに続く検出器との間のガ
スフローストリームで検出された圧力に応答する弁を介
してキャリアガスが導入している。或いは、フロートラ
ンスデューサがスクラバと検出器との間のガス流路に設
けられており、フロートランスデューサは、検出器に流
入するガスの流速を一定に保つよう、検出したガスフロ
ーの関数としてキャリアガスを導入する目的で接続され
たフロー制御弁に接続している。
Description
より詳細には、溶融炉又は燃焼炉内で不活性キャリアガ
スを使用し、低濃度の一分析物を高濃度の他の分析物の
存在下で測定する機器に関する。
料等の分析用試料は典型的には炉内で燃焼され、次い
で、燃焼副生成物はヘリウム等の不活性気体によってオ
キシダイザ中に掃き出される。オキシダイザは、例えば
炉からの一酸化炭素を二酸化炭素に変換し、後段で赤外
検出できるようにする。二酸化炭素(試料の酸素含有量
を表す)以外の物質を分析する場合は、二酸化炭素をキ
ャリアストリームから洗浄して除去し、窒素等の残りの
分析物が後段の検出器(スクラバの下流に位置する熱伝
導度セル等)で測定できるようにすることが必要であ
る。しかしこの種のシステムを用いた場合、二酸化炭素
や他のガスをキャリアストリームから洗浄除去すると、
キャリアガス及び残りの分析物が、残りの分析物を測定
するための後段の検出器に近づくにつれて、その圧力及
び流速が低下する。このように圧力が乱れ、それに伴い
流速が乱れると、洗浄操作の後に続く分析物の測定が正
確に行われない。酸素/窒素アナライザの場合、例えば
スクラバの下流で熱伝導度セルにより測定される窒素に
悪影響が及び、それによって読み取りに大きな誤差がで
る可能性がある。例えばこの誤差は、酸素が50,00
0ppm(百万分率)と高濃度な試料中の濃度5ppm
の窒素試料の場合、35ppmと高くなる可能性もあ
る。
の問題を克服する試みがなされてきたが、このシステム
にはより複雑で高価なフローシステムが必要となり、ま
た、2つの流路に分割される分析物の比を一定に保つの
は困難である。さらに、キャリアガスの消費量と共に分
析時間が著しく増大する。しかも得られる精度は向上し
てはいるものの、高濃度の分析物と組み合わせて低濃度
の分析物を測定する場合はやはり誤差が解消できない。
分析物ストリームの圧力及びフローの乱れに影響される
ことなく、比較的低濃度の分析物をより高濃度の他の分
析物の存在下で正確に測定できる比較的安価な分析シス
テムが望まれている。
のアナライザの問題を解決するものであり、低濃度の分
析物の正確な測定を可能にするように、検出器への分析
物及び不活性ガスのストリームの圧力及び/又は流速を
一定に保つべくキャリアガスに補給フローを供給する補
償システムを提供するものである。本発明の一実施態様
においては、スクラバとそれに続く検出器との間のガス
フローストリームにおいて検出した圧力に応じて制御さ
れる弁を介してキャリアガスを導入し、これによって分
析中の圧力を一定に保つ。本発明の別の実施態様におい
ては、スクラバと検出器との間のガス流路に配置された
フロートランスデューサがフロー制御弁に接続されてお
り、検出したガスフローの関数としてキャリアガスを導
入することによって検出器へのガス流速を一定に保つ。
いずれの実施態様も、最小限の部品を用いたフローシス
テムによって比較的低濃度の分析物(窒素等)を比較的
高濃度の他の分析物(酸素等)の存在下で正確に測定す
ることができる。この種のシステムによって、比較的低
濃度の分析物がより高濃度の他の分析物の存在下で、著
しく向上した精度で経済的に測定される。
的、及び利点は、添付の図面を参照しながら以下に述べ
る本発明の説明によって明らかになるであろう。
は、ミシガン州セントジョセフ所在のレコ社(Leco Cor
poration)より市販されているEF400炉(但しこの
炉は誘導炉、抵抗加熱炉、又は気体、液体若しくは固体
試料を燃焼させる他の種類の炉であってもよい)等の炉
12を含む。不活性キャリアガス(ヘリウム等)及び分
析物(酸素及び窒素等)の混合物が排出路14に搬送さ
れて後段で検出されるよう、キャリアガスストリームが
炉に導入される。このガスストリームは触媒16を通過
し、触媒16で一酸化炭素(CO)から変換された二酸
化炭素(CO2)が後段のCO2赤外検出器20で検出さ
れることによって試料中の酸素含有量が測定される。流
速を約450cc/分に維持するように触媒変換器16
と赤外検出器20との間にフローコントローラ18が設
けられている。
窒素)をも含む導路21内の分析物のストリームがスク
ラバ22に流入し、二酸化炭素がスクラバ22で洗浄又
は除去されることによって、導路24内の残りの窒素が
熱伝導度セル26で検出される。ミシガン州セントジョ
セフ所在のレコ社で製造されている市販の機器TC43
6DRに用いられている計装等の適切な計装を赤外検出
器20及び熱伝導度セル26の出力27に接続すること
ができ、例えば試料中の酸素及び窒素濃度をオペレータ
に読み取らせる。
た、図1のアナライザを用いた場合の不正確さを例示す
るものである。図2のグラフ30及び32の窒素濃度は
5ppmであり、グラフ30の場合は酸素が存在しない
ため、スクラバ後にCO2が存在しない。従って、窒素
濃度が例えば5ppmであるグラフ30では、熱伝導度
セル26によって窒素が正確に読み取られている。例え
ば、熱伝導度セルによって検出したカウントの読みは、
図2に示す曲線のピークにおいて15である。しかし酸
素が存在するとCO2濃度が高くなり、グラフ32に示
すように、同じ5ppmの窒素でもセル26等の検出器
の応答は全く違ってくる。グラフ32は酸素含有量が
1.76%の1グラムの鋼試料のものである。この試料
の実際の窒素濃度は5ppmであったが、得られた窒素
濃度は12ppmであった。グラフ32からわかるよう
に、双方の例で窒素濃度が同一である場合も、フロース
トリームから二酸化炭素を除去するスクラバ22におけ
る圧力及びフローの乱れがあると窒素の読み取りレベル
が著しく増加(47カウント)する。従って、図2から
わかるように、試料中に存在する酸素の量によっては、
窒素検出に通常用いられる熱伝導度セルは、同一試料中
の比較的低濃度の窒素に対し全く違った不正確な応答を
する。
比アナライザ40が採用されており、ここでも従来の炉
12(各図において同一又は等価な要素には同一の参照
符号を用いる)が用いられ、また、キャリアガスストリ
ームと共に一酸化炭素、窒素等の分析物の燃焼物を供給
する排出導路14が設けられている。このストリームは
接続部15で流路17及び19に分割されている。経路
17は、フローコントローラ18から一酸化炭素赤外検
出器42(信号43を出力する)、次いで触媒44(後
段の赤外検出器46で検出されるよう一酸化炭素を二酸
化炭素に変換する)を通過する。赤外検出器46は出力
信号を導体48から分析機器(TC436DR等)に供
給し、その結果をオペレータに示す。分割されたストリ
ームの分岐19は、同一成分の気体状燃焼副生成物を含
み、これらは、一酸化炭素を二酸化炭素に変換する触媒
45を通過する。生成した二酸化炭素は後段のスクラバ
47で洗浄されて系外に除去され、残りの分析物はフロ
ーコントローラ49を通過し、熱伝導度セル50に流入
し、ここにおいてスクラバ47を通過したガスストリー
ムに残留している窒素等の分析物の濃度を読み取る。熱
伝導度セルは、スクラバ47を通過したガスストリーム
中の窒素等の分析物の濃度を表す出力信号をデジタル信
号の形態(その例を図2に示す)で出力導体52に供給
する。このシステムには高濃度の酸素が存在するが、検
出器42は一酸化炭素に変換された酸素の初期濃度を示
す。
ているにも拘らず、図3のアナライザに示すようなスク
ラバ47は二酸化炭素の濃度に応じて背圧を低下させ、
導路17及び19内の流速に影響を及ぼすであろう。し
たがって、導路17及び19内の流速比を一定に維持す
るのは困難である。さらに、分割フローシステムには多
くの「配管」が必要となるためこのシステムは非常に複
雑であり、したがって高価である。また、炉12からの
分割ストリームによるガスの流量が減少することから分
析時間は著しく増大する。このシステムの精度は図1の
アナライザよりも向上しているが、低濃度のある分析物
と高濃度の他の分析物とを含む試料を分析する場合は誤
差を解消することができない。
ならびに図3に示す分割システムの複雑さやコストを解
消することを目的とし、本発明のシステムは、洗浄後、
又はそれとは別にガスフローの乱れが発生した後に下流
の圧力及び流速を制御するためのキャリア補給ストリー
ムを採用し、それによって、ストリームから第1分析物
が洗浄除去された後の第2分析物に対するキャリアガス
及び分析物のフローを実質的に一定に維持する。このシ
ステムの動作原理は系内の分圧に関するドルトンの法
則、即ち 式1:洗浄前全圧 = P(CO2) + P(N2) + P(He) 式2:洗浄後全圧 = P(N2) + P(He) に従う。
素/窒素アナライザの場合、二酸化炭素由来の分圧はス
クラバにより除かれるため、スクラバ通過後の圧力は窒
素及びヘリウムキャリアガス由来の圧力となる。この圧
力は、酸素濃度が高い場合はストリーム中の二酸化炭素
が多くなるため著しく減少するであろう。この圧力を一
定に保ち、それによってフローを一定に保つために、図
4及び5のシステムに示し、また以下に説明するよう
に、スクラバ通過後に補給キャリアガスを導入する。こ
れによって次の式が導かれる。 式3:洗浄前圧力 = 補償後圧力 = P(He補給ストリーム) + P(N2) + P(He) ここで、ヘリウム補給ストリームとして表される圧力
は、キャリアガスストリームから二酸化炭素を洗浄除去
したことに起因する圧力降下を補償するものである。
アガスの熱伝導度セル26(図1及び3に示す)への流
速は、通常圧力5psiで450cc/分となる。ガラ
ス等の、酸化物(即ち酸素)濃度の高い試料を分析する
場合、気体の80%近くがCO2に変換されていると思
われる状態で分析が開始され、そのCO2が洗浄除去さ
れると、スクラバ出口の圧力が5psiから約3psi
に降下し、窒素等の残りの分析物が熱伝導度セル26を
通過する流速が例えば90cc/分に低下する。その結
果、従来の熱伝導度セルでは、低濃度の窒素等の第2分
析物を、誤差を含む高い値に読んでしまうこととなる。
前に導入する補給ヘリウムのストリームを10ccと
し、パージ用ヘリウム及び補給ヘリウムをフロー全体で
約460cc/分とする。分析中は洗浄除去操作によっ
て流速及び圧力の著しい低下(一例として、それぞれ9
0cc/分、3psi)が起こりやすくなるので、本発
明の第1及び第2の実施態様では、補給用不活性ガスを
供給することによりこの影響を補う。本発明のアナライ
ザでは、例えば熱伝導度セルを通過する全体の流速を4
60cc/分に維持するように補給ヘリウムを370c
c/分で導入するか、或いは圧力を5psiに維持し、
本発明アナライザに用いられるセンサーの種類に応じて
一定の流速を維持するものとする。これまで動作原理及
び補給キャリアストリームの例を説明してきたが、以
下、本発明に係るアナライザについて説明する。
用いられ、供給源60からヘリウム等のキャリアガスが
供給される。ガスは供給源60から導路62を介して炉
12に、また導路63を介して電子式比例制御弁64か
ら第1導路65に導入される。第1導路65は、導路1
4内の燃焼副生成物の流路の途中にあるスクラバ22の
出口側に設けられている。燃焼副生成物は、第1の実施
態様の場合、触媒16、フローコントローラ18、及
び、二酸化炭素濃度を検出することによって酸素濃度を
検出する赤外検出器20を流れる。検出器20と検出器
26との間に延在する導路65内の圧力は、回路68を
制御するための電気制御信号を供給する圧力トランスデ
ューサ66にて検出される。続いて回路68は、コント
ロールバルブ64を制御するための信号を供給し、二酸
化炭素濃度に無関係に、従って前記式2及び3に示した
ようなスクラバ22の著しい圧力降下の傾向に無関係
に、導路65内の圧力を比較的一定(例えば5psi)
に維持する。
い場合は式2に示すように圧力降下が生じるが、導路6
3からのヘリウム補給ガスが増加することによって導路
内の圧力が維持される。これにより、10,000cc
/分のフロー制限器69を介して導路65に接続されて
いる熱伝導度セル26を流れるガスの流速は、スクラバ
22(触媒16)で二酸化炭素に変換した酸素濃度に無
関係に比較的一定となる。酸素含有量が高い試料の場合
は、例えば導路内の圧力が約5psiに維持されるよう
に圧力が補償される。この補償がなければ圧力は約3p
siまで降下するであろう。
70は、種々の濃度の酸素の存在下における5ppmの
窒素に対する熱伝導度検出器26の出力信号を表すもの
である。図6からわかるように、固定量の少量の窒素の
測定濃度は一定であり、比較的高濃度の酸素(即ち、5
0,000ppmまで)の存在下でも低濃度の窒素が正
確に測定可能である。グラフ72は図1の従来技術の結
果を表すものであるが、図1のシステムでは酸素濃度が
約500ppmを超えると二酸化炭素の洗浄に起因する
劇的な圧力降下が起こり、これを観測した熱伝導度検出
器が誤って窒素濃度を高レベルに検出する。図3のシス
テムは、曲線70と72と中間の結果をもたらす。
が、これによって得られる結果は図6の曲線70に示さ
れる結果と実質的に同じである。圧力検出器66に替え
て流量計76が電気的出力信号を供給し、この信号は導
体77によって制御回路78に導かれ、制御回路78は
電気駆動式フロー制御弁74に出力信号を供給する。こ
れによってスクラバ22(制御弁74)が炉12からの
ガスストリームから洗浄除去される二酸化炭素の量に応
答し、流量計76を通過するガスのストリームが一定
(例えば460cc/分)に維持される。このシステム
では、図4のシステムと同様、熱伝導度セル26はキャ
リアガス及び窒素等の分析物の混合物の一定の流速を観
測し、高濃度の他の分析物(酸素等)を含むオリジナル
試料中の分析物(窒素等)の存在を正確な出力の読みを
提供して応答する。このシステムでは、窒素濃度が約
0.05ppm程度と低くても正確に検出することがで
きる。約3,500ppmを超える高濃度の窒素では補
償が必要な誤差は生じない。
下では比較的少量で存在する窒素に対する不正確さが生
じる窒素/酸素アナライザに関して説明してきたが、本
発明の不活性ガス補給システムは他のタイプのアナライ
ザにも適用可能であって、そのようなアナライザとして
は、2種以上の分析物を分離して検出することが要求さ
れているにも拘らず、通常このような分離を行うと、ガ
スストリームから洗浄除去される比較的多量の分析物の
存在下での他の分析物の検出が不正確になるアナライザ
を挙げることができる。従って、本発明の補償システム
を、分析物ストリームからH2Oが除去され、CO2が洗
浄除去される有機試料用CHNアナライザに用いること
ができる。また、分析物ストリームからSO2が洗浄除
去されるCHNSアナライザに用いることもできる。
囲及び趣旨を逸脱しない限りにおいて、本明細書に記載
した本発明の好ましい実施態様の各種変形が可能である
ことは当業者にとって明らかであろう。
含む試料中に含まれる場合に図1のアナライザを使用し
た結果の不正確さを例示する図。
割流路を採用した従来のアナライザの概略図。
図。
図。
示したアナライザを用いた分析結果を示す図。
Claims (15)
- 【請求項1】 試料中の第1および第2分析物の濃度を
測定するアナライザであって;試料を燃焼させて気体状
燃焼副生成物にする炉と;第1分析物を検出する検出器
に向けて前記燃焼副生成物を前記炉から掃き出す不活性
キャリアガスの供給源と;前記検出器に接続され、前記
不活性ガスストリームから前記第1分析物を除去するス
クラバと;前記スクラバに接続され、前記第2分析物を
検出する第2検出器と;前記キャリアガスの供給源か
ら、前記スクラバと前記第2検出器との接続部までを接
続する導路と;前記供給源と前記第2検出器との間の前
記導路に設けられた制御弁と;前記導路に接続された圧
力トランスデューサと;前記トランスデューサ内の圧力
の圧力を検出する前記圧力トランスデューサに接続され
た制御回路であって、前記第2分析物と比較して第1分
析物の濃度が高いことに起因して前記スクラバが前記ス
クラバと前記第2検出器との間の流路内の圧力を下げる
傾向にある場合に、前記供給源からの不活性ガスのフロ
ーを制御することによって前記圧力を実質的に一定に維
持するように前記制御弁に印加される出力制御信号を供
給する制御回路と、を備えるアナライザ。 - 【請求項2】 前記第1分析物が、濃度が約500〜約
50,000ppmの酸素である、請求項1に記載のア
ナライザ。 - 【請求項3】 前記第2分析物が、濃度が約0.05〜
約3,500ppmの窒素である、請求項2に記載のア
ナライザ。 - 【請求項4】 試料中の第1および第2分析物の濃度を
測定するアナライザであって;試料を燃焼させて気体状
燃焼副生成物にする炉と;第1分析物を検出する検出器
に向けて前記燃焼副生成物を前記炉から掃き出す不活性
キャリアガスの供給源と;前記検出器に接続され、前記
不活性ガスストリームから前記第1分析物を除去するス
クラバと;前記スクラバに接続され、前記第2分析物を
検出する第2検出器と;前記キャリアガスの供給源から
前記スクラバと前記第2検出器との接続部までを接続す
る導路と;前記供給源と前記第2検出器との間の前記導
路に設けられた制御弁と;前記スクラバと前記第2検出
器との間の前記導路に設けられた流量計と;前記導路内
の流速を検出する前記流量計に接続された制御回路であ
って、前記第2分析物と比較して第1分析物の濃度が高
いことに起因して前記スクラバが前記スクラバと前記第
2検出器との間の流路内の流速を下げる傾向にある場合
に、前記供給源からの不活性ガスのフローを制御するこ
とによって前記流速を実質的に一定に維持するべく前記
制御弁に印加される出力制御信号を供給する制御回路
と、を備えるアナライザ。 - 【請求項5】 前記第1分析物が、濃度が約500〜約
50,000ppmの酸素である、請求項4に記載のア
ナライザ。 - 【請求項6】 前記第2分析物が、濃度が約0.05〜
約3,500ppmの窒素である、請求項5に記載のア
ナライザ。 - 【請求項7】 試料中の第1および第2分析物を燃焼と
濃度測定のための分析用炉を有するアナライザに用いる
フロー補償システムであって;第1分析物の濃度を検出
する検出器および第2分析物の濃度を検出する検出器
と;気体状燃焼副生成物を第1および第2分析物を検出
する前記検出器に向けて前記炉から搬送するための、不
活性キャリアガスの供給源および前記検出器間に延在す
る第1導路と;前記キャリアガスの供給源から、前記検
出器間に延在する前記第1導路までを接続する第2導路
と;前記第2導路に設けられた制御弁と;前記第1導路
に接続された、前記検出器間に位置するセンサーと;前
記第1導路内の圧力および流速のうちの一方を検出する
前記センサーに接続された制御回路であって、前記第2
分析物よりも第1分析物の濃度が高い試料を分析する間
のフローを実質的に一定に維持するべく前記制御弁に印
加される出力制御信号を供給する制御回路と、を備える
システム。 - 【請求項8】 前記第1分析物が、濃度が約500〜約
50,000ppmの酸素である、請求項7に記載のシ
ステム。 - 【請求項9】 前記第2分析物が、濃度が約0.05〜
約3,500ppmの窒素である、請求項8に記載のシ
ステム。 - 【請求項10】 前記センサーが、前記導路に接続され
た圧力トランスデューサである、請求項7に記載のシス
テム。 - 【請求項11】 前記センサーが、前記第1導路に設け
られた流量計である、請求項7に記載のシステム。 - 【請求項12】 前記第1分析物が、濃度が約500〜
約50,000ppmの酸素である、請求項10に記載
のシステム。 - 【請求項13】 前記第2分析物が、濃度が約0.05
〜約3,500ppmの窒素である、請求項12に記載
のシステム。 - 【請求項14】 前記第1分析物が、濃度が約500〜
約50,000ppmの酸素である、請求項11に記載
のシステム。 - 【請求項15】 前記第2分析物が、濃度が約0.05
〜約3,500ppmの窒素である、請求項14に記載
のシステム。
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