JP2002194248A - 透明導電性被膜形成用塗布液、透明導電性被膜付基材ならびに表示装置 - Google Patents

透明導電性被膜形成用塗布液、透明導電性被膜付基材ならびに表示装置

Info

Publication number
JP2002194248A
JP2002194248A JP2000391340A JP2000391340A JP2002194248A JP 2002194248 A JP2002194248 A JP 2002194248A JP 2000391340 A JP2000391340 A JP 2000391340A JP 2000391340 A JP2000391340 A JP 2000391340A JP 2002194248 A JP2002194248 A JP 2002194248A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
fine particles
conductive film
transparent conductive
transparent
forming
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2000391340A
Other languages
English (en)
Other versions
JP5187990B2 (ja
Inventor
Mitsuaki Kumazawa
沢 光 章 熊
Chihiro Sakurai
井 千 尋 桜
Toshiharu Hirai
井 俊 晴 平
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
JGC Catalysts and Chemicals Ltd
Original Assignee
Catalysts and Chemicals Industries Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Catalysts and Chemicals Industries Co Ltd filed Critical Catalysts and Chemicals Industries Co Ltd
Priority to JP2000391340A priority Critical patent/JP5187990B2/ja
Publication of JP2002194248A publication Critical patent/JP2002194248A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5187990B2 publication Critical patent/JP5187990B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Laminated Bodies (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)
  • Vessels, Lead-In Wires, Accessory Apparatuses For Cathode-Ray Tubes (AREA)
  • Shielding Devices Or Components To Electric Or Magnetic Fields (AREA)
  • Conductive Materials (AREA)
  • Non-Insulated Conductors (AREA)
  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 低い表面抵抗を有し、帯電防止性、透明性、反
射防止性、および電磁遮蔽性に優れるとともに、信頼性に
も優れた透明導電性被膜を形成しうる透明導電性被膜形
成用塗布液を提供する。 【解決手段】 平均粒子径(PA)が2〜200nmの範囲にある
導電性微粒子(A)と平均粒子径(PB)が1〜20nmの範囲にあ
る導電性微粒子(B)との導電性微粒子混合物と、極性溶媒
とからなり、導電性微粒子(A)と(B)との平均粒子径の比P
B/PAが、0.01〜0.5の範囲にある透明導電性被膜形成用塗
布液。前記導電性微粒子(A)および(B)は、(i)Au、Ag、Pd、C
u、Ni、Ru、Rh、Sn、In、Sb、Fe、Pt、Ti、Cr、Co、Al、Zn、Ta、Pb、Os、
Irからなる群から選ばれる1種以上の元素の金属、(ii)S
n、In、Sb、Ti、Ruからなる群から選ばれる1種以上の元素の
酸化物または水酸化物、(iii)Sn、In、Sbからなる群から選
ばれる1種以上の元素の酸化物に、酸化物を構成する元素
とは異なる元素がドープされた異種元素ドープ酸化物か
ら構成される。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の技術分野】本発明は、透明導電性被膜形成用塗
布液、該塗布液を塗布・乾燥して得られる透明導電性被
膜付基材および該基材を前面板として備えた表示装置に
関し、さらに詳しくは、導電性が高く、帯電防止性、電
磁遮蔽性、透明性、反射防止性等に優れた透明導電性被
膜付基材を得ることが可能な塗布液、該基材および透明
導電性被膜付基材で構成された前面板を備えた表示装置
に関する。
【0002】
【発明の技術的背景】従来より、陰極線管、蛍光表示
管、液晶表示板などの表示パネルのような透明基材の表
面の帯電防止および反射防止を目的として、これらの表
面に帯電防止機能および反射防止機能を有する透明被膜
を形成することが行われていた。陰極線管などから放出
される電磁波が人体に及ぼす影響が最近問題にされてお
り、従来の帯電防止、反射防止に加えてこれらの電磁波
および電磁波の放出に伴って形成される電磁場を遮蔽す
ることが望まれている。
【0003】これらの電磁波などを遮蔽する方法の一つ
として、陰極線管などの表示パネルの表面に電磁波遮断
用の導電性被膜を形成する方法がある。このような帯電
防止用導電性被膜であれば表面抵抗が少なくとも107
Ω/□程度の表面抵抗を、電磁遮蔽用の導電性被膜では
102〜104Ω/□のような低い表面抵抗を有すること
が必要であった。
【0004】このように表面抵抗の低い導電性被膜を、
従来のSbドープ酸化錫またはSnドープ酸化インジウム
のような導電性酸化物を含む塗布液を用いて形成しよう
とすると、従来の帯電防止性被膜の場合よりも膜厚を厚
くする必要があった。しかしながら、導電性被膜の膜厚
は、10〜200nm程度にしないと反射防止効果は発現
しないため、従来のSbドープ酸化錫またはSnドープ酸
化インジウムのような導電性酸化物では、表面抵抗が低
く、電磁波遮断性に優れるとともに、反射防止にも優れ
た導電性被膜を得ることが困難であるという問題があっ
た。
【0005】また、低表面抵抗の導電性被膜を形成する
方法の一つとして、Agなどの金属微粒子を含む導電性
被膜形成用塗布液を用いて基材の表面に金属微粒子含有
被膜を形成する方法がある。この方法では、金属微粒子
含有被膜形成用塗布液として、コロイド状の金属微粒子
が極性溶媒に分散したものが用いられている。このよう
な塗布液では、コロイド状金属微粒子の分散性を向上さ
せるために、金属微粒子表面がポリビニルアルコール、
ポリビニルピロリドンまたはゼラチンなどの有機系安定
剤で表面処理されている。しかしながら、このような金
属微粒子含有被膜形成用塗布液を用いて形成された導電
性被膜は、被膜中で金属微粒子同士が安定剤を介して接
触するため、粒界抵抗が大きく、被膜の表面抵抗が低く
ならないことがあった。このため、成膜後、400℃程
度の高温で焼成して安定剤を分解除去すると、特に粒子
径分布が均一の金属微粒子を用いた場合は金属微粒子同
士の融着や凝集が起こり、導電性被膜の透明性やへーズ
が低下するという問題があり、さらには、陰極線管など
の場合は、高温に晒すことによって劣化してしまうとい
う問題もあった。さらにまた、Ag等の金属微粒子を含
む透明導電性被膜では、焼成時に、金属が酸化された
り、イオン化による粒子成長したり、また場合によって
は腐食が発生することがあり、これによって塗膜の導電
性や光透過率が低下し、表示装置が信頼性を欠くという
問題があった。
【0006】また、従来の透明導電性被膜のように、粒
子径分布が均一な微粒子が用いられたものでは、細密充
填したとしても粒子間隙が多く、かつ粒子の接点が点接
触であるとともに、接点の数が少ないために、導電性が
充分に発揮されない場合や再現性が得られないことがあ
った。さらに、粒子間隙が多いために導電性微粒子層上
に形成する絶縁性の透明被膜成分が粒子間隙に進入して
導電性を阻害することがあった。このため、たとえば膜
の抵抗を低くするために膜厚を厚くすると透明性が低下
するなどの問題点があった。
【0007】
【発明の目的】本発明は、上記のような従来技術の問題
点を解決し、低い表面抵抗を有し、帯電防止性、透明
性、反射防止性、および電磁遮蔽性に優れるとともに、
信頼性にも優れた透明導電性被膜を形成しうる透明導電
性被膜形成用塗布液、透明導電性被膜付基材、該基材を
前面板として備えた表示装置を提供することを目的とし
ている。
【0008】
【発明の概要】本発明に係る透明導電性被膜形成用塗布
液は、平均粒子径(PA)が2〜200nmの範囲にある
導電性微粒子(A)と平均粒子径(PB)が1〜20nm
の範囲にある導電性微粒子(B)との導電性微粒子混合
物と、極性溶媒とからなり、導電性微粒子(A)と
(B)との平均粒子径の比PB/PAが、0.01〜0.5
の範囲にあることを特徴としている。
【0009】前記導電性微粒子(A)および(B)は、
下記(i)〜(iii)から選ばれるものであることが好まし
い。 (i)Au、Ag、Pd、Cu、Ni、Ru、Rh、S
n、In、Sb、Fe、Pt、Ti、Cr、Co、A
l、Zn、Ta、Pb、Os、Irからなる群から選ば
れる1種以上の元素の金属、(ii)Sn、In、Sb、T
i、Ruからなる群から選ばれる1種以上の元素の酸化
物または水酸化物、または(iii)Sn、In、Sbから
なる群から選ばれる1種以上の元素の酸化物に、酸化物
を構成する元素とは異なる元素がドープされた異種元素
ドープ酸化物。
【0010】導電性微粒子(A)と導電性微粒子(B)
との混合物の重量を100重量%としたときに、導電性
微粒子(B)の割合が1〜30重量%の範囲にあること
が好ましい。本発明に係る透明導電性被膜付基材は、基
材と、前記透明導電性被膜形成用塗布液を塗布、乾燥し
てなる透明導電性被膜とからなることを特徴としてい
る。
【0011】前記透明導電性被膜上には、さらに該透明
導電性被膜よりも屈折率が低い透明被膜が設けられてい
ることが好ましい。前記透明導電性被膜は、透明導電性
被膜形成用塗布液を基材に塗布、乾燥した後、化学的処
理(酸処理)および/または100〜400℃の温度範
囲で加熱処理して得られたものが好ましい。
【0012】本発明に係る表示装置は、前記記載の透明
導電性被膜付基材で構成された前面板を備え、透明導電
性被膜が該前面板の外表面に形成されていることを特徴
としている。
【0013】
【発明の具体的な説明】以下、本発明に係る透明導電性
被膜形成用塗布液およびその用途について具体的に説明
する。 [透明導電性被膜形成用塗布液]まず、本発明に係る透
明導電性被膜形成用塗布液について説明する。
【0014】本発明に係る透明導電性被膜形成用塗布液
は、平均粒子径(PA)が2〜200nmの範囲にある導
電性微粒子(A)と平均粒子径(PB)が1〜20nmの
範囲にある導電性微粒子(B)との導電性微粒子混合物
と、極性溶媒とからる。導電性微粒子(A) 導電性微粒子(A)の平均粒子径(PA)が2〜200n
m、好ましくは2〜150nmの範囲にある導電性微粒子
である。導電性微粒子(A)の平均粒子径が2nm未満
の場合は、粒子層の表面抵抗が急激に大きくなるため、
本発明の目的を達成しうる程度の低抵抗値を有する被膜
を得ることができないことがある。
【0015】導電性微粒子(A)の平均粒子径(PA
が200nmを越えると、被膜の形成性が低下したり、金
属による光の吸収が大きくなり、粒子層の光透過率が低
下するとともにヘーズが大きくなることがある。導電性微粒子(B) 導電性微粒子(B)は、平均粒子径(PB)が1〜20
nm、好ましくは1〜15nmの範囲にあり、かつ前記導
電性微粒子(A)と(B)との平均粒子径の比PB/PA
が、0.01〜0.5、好ましくは0.05〜0.4の範囲
にあることを特徴としている。
【0016】このような導電性微粒子(B)は、導電性
微粒子(A)よりも大きさが非常に小さく、透明導電性
被膜を形成する際、乾燥によって、図1に示されるよう
に、前記導電性微粒子(A)同士が連結したネック部
に、導電性微粒子(B)が付着、充填する。その結果、
導電性微粒子(A)同士の接点が、付着・充填した導電
性微粒子(B)を介することによって増大し、粒界抵抗
が低下するため、導電層の表面抵抗を低下させることが
できる。
【0017】平均粒子径(PB)が1nm未満の場合は、
導電性微粒子(B)が付着・充填した粒子層の表面抵抗
が急激に大きくなるため、本発明の目的を達成しうる程
度の低抵抗値を有する被膜を形成できないことがある。
また、導電性微粒子(B)の平均粒子径(PB)が20
nmを越えると、透明導電性被膜を形成する際に、導電
性微粒子(B)の表面に付着したり、導電性微粒子
(A)同士のネック部分に付着しにくくなり、また付着
しても付着する数が少なくなるため、接点の数が少な
く、粒界抵抗を低下させる効果が得られないことがあ
る。また、粒子径分布が均一の金属微粒子を用いた場合
と、実質的に変わらなくなるので、導電性微粒子(A)
および(B)同士がランダムに凝集したり、融着して、
導電性被膜の透明性やへーズが低下することがある。
【0018】導電性微粒子(A)と導電性微粒子(B)
との平均粒子径の比PB/PAが0.01未満の場合は、
ネック部に選択的に付着せず、導電性微粒子(A)の表
面全体に付着しやすくなり、また、導電性微粒子(A)
と導電性微粒子(B)との平均粒子径の比PB/PA
0.5を越えると、導電性微粒子(B)の粒子径が大き
すぎてネック部に密に充填できなくなり、このため接点
も増加せず、また融着も起こりにくくなるので、いずれ
も粒界抵抗を低下させて導電層の表面抵抗を低下させる
という効果が得られないこともある。
【0019】本発明に係る透明導電性被膜形成用塗布液
中には、このような導電性微粒子(A)と(B)との混
合物が分散している。なお、塗布液中では導電性微粒子
(A)および(B)は、図1に示されるように凝集して
いるとは限らず、通常、個々に分散している。導電性微
粒子(A)と導電性微粒子(B)との混合物の重量を1
00重量%としたときに、導電性微粒子(B)の割合が
1〜30重量%、5〜20重量%の範囲にあることが好
ましい。このような範囲にあれば、透明導電性被膜を形
成する際に導電性微粒子(A)同士が連結したネック部
に導電性微粒子(B)が付着して接点が増大され、粒界
抵抗が低下され、導電層の表面抵抗を低下させることが
できる。混合物中の導電性微粒子(B)の割合が1重量
%未満の場合は、導電性微粒子(B)が少なすぎて、ネ
ック部に付着する導電性微粒子(B)の量も少なくなる
ため、前記したような粒界抵抗を低下させ、導電層の表
面抵抗を低下せせるという効果が得られないことがあ
る。また、混合物中の導電性微粒子(B)の割合が20
重量%を越えると、導電性微粒子(B)が多すぎて、ネ
ック部以外に導電性微粒子(A)表面全体に付着するの
で本願でいう効果が充分得られず、導電層は導電性微粒
子(B)のみを用いた場合と同程度の表面抵抗になる。
【0020】このような導電性微粒子(A)および
(B)は、下記(i)〜(iii)から選ばれるものであること
が好ましい。 (i)Au、Ag、Pd、Cu、Ni、Ru、Rh、S
n、In、Sb、Fe、Pt、Ti、Cr、Co、A
l、Zn、Ta、Pb、Os、Irからなる群から選ば
れる1種以上の元素の金属、(ii)Sn、In、Sb、T
i、Ruからなる群から選ばれる1種以上の元素の酸化
物または水酸化物、または(iii)Sn、In、Sbから
なる群から選ばれる1種以上の元素の酸化物に、酸化物
を構成する元素とは異なる元素がドープされた異種元素
ドープ酸化物。
【0021】導電性微粒子が金属微粒子の場合、1種の
金属からなるものであっても2種以上の元素からなる複
合金属からなるものであってもよい。複合金属微粒子で
ある場合の好ましい金属の組合せとしては、Au-Cu、
Ag-Pt、Ag-Pd、Au-Pd、Au-Rh、Pt-Pd、Pt-
Rh、Fe-Ni、Ni-Pd、Fe-Co、Cu-Co、Ag-Ru、
Au-Ru、Ru-Pd、Ru-Ni、Au-Cu-Ag、Ag-Cu-P
t、Ag-Cu-Pd、Ag-Au-Pd、Au-Rh-Pd、Au-Pd-
Ru、Ag-Pt-Pd、Ag-Pt-Rh、Fe-Ni-Pd、Fe-C
o-Pd、Cu-Co-Pd などが挙げられる。導電性微粒子
を構成する2種以上の金属は、固溶状態にある合金であ
っても、固溶状態にない共晶体であってもよく、合金と
共晶体が共存していてもよい。このような金属微粒子
は、金属の酸化やイオン化あるいはイオンマイグレーシ
ョンが抑制されるため、金属微粒子の粒子成長等が抑制
され、金属微粒子の耐腐食性が高く、導電性、光透過率
の低下が小さいなど信頼性に優れている。
【0022】導電性微粒子が金属酸化物、または金属水
酸化物(水和金属酸化物ということもある)、あるいは
異種金属ドープ金属酸化物の好ましい例としては、たと
えば酸化錫、Sb、FまたはPがドーピングされた酸化
錫、酸化インジウム、SnまたはFがドーピングされた
酸化インジウム、酸化アンチモン、低次酸化チタンなど
が挙げられる。
【0023】導電性微粒子(A)および(B)は同一材
料からなるものであっても、異なる材料からなるもので
あってもよい。また、導電性微粒子(A)が金属からな
るものであって、導電性微粒子(B)が金属酸化物から
なるものであってもよく、また導電性微粒子(A)が金
属酸化物からなるものであって、導電性微粒子(B)が
金属からなるものであってもよい。
【0024】導電性微粒子(A)と導電性微粒子(B)
とが異なる成分である場合、導電性微粒子(B)は導電
性微粒子(A)よりも融点が低い成分であることが好ま
しく、また導電性が高い成分であることが好ましい。導
電性微粒子(B)と導電性微粒子(A)とが異なる成分
である場合、(B)−(A)の好ましい組み合わせは、
Sb-Sn、Sn-In、In23-Sn、Pd-Ag、Au-Ag、
Ru-Ag、Au-Ruなどが例示される。また、導電性微粒
子(A)と導電性微粒子(B)とが異なる成分である場
合、いずれか一方が導電性カーボン微粒子であってもよ
い。
【0025】導電性微粒子(A)および(B)の混合物
は、平均粒子径が2〜200nm、好ましくは2〜15
0nmの範囲にある。混合物の平均粒子径が2nm未満の場
合は、粒子層の表面抵抗が急激に大きくなるため、本発
明の目的を達成しうる程度の低抵抗値を有する被膜を得
ることができないことがある。このため被膜付基材を、
たとえば陰極線管の前面板として用いると、表示画像の
解像度が低下することがある。
【0026】混合物の平均粒子径が200nmを越えると
被膜の形成性が低下したり、金属などの導電性微粒子に
よる光の吸収が大きくなり、粒子層の光透過率が低下す
るとともにヘーズが大きくなることがある。なお、導電
性微粒子(A)および(B)としていずれも金属微粒子
を使用した場合、混合物の平均粒子径は2〜70nmの範
囲にあることが望ましく、導電性微粒子(A)および
(B)としていずれも金属酸化物微粒子を使用した場
合、平均粒子径は2〜150nmの範囲にあることが望ま
しい。
【0027】本発明で使用される導電性微粒子(A)お
よび(B)は、たとえば以下のような公知の方法によっ
て得ることができる(特開平10−188681号公報
参照)。 (i)具体的には、アルコール・水混合溶媒中で、1種の
金属塩を、あるいは2種以上の金属塩を同時にあるいは
別々に還元することによって導電性微粒子を製造するこ
とができる。この方法では、必要に応じて還元剤を添加
してもよく、還元剤としては、硫酸第1鉄、クエン酸3
ナトリウム、酒石酸、水素化ホウ素ナトリウム、次亜リ
ン酸ナトリウムなどが挙げられる。また、還元後の反応
液(導電性微粒子生成液)を、圧力容器中で約100℃
以上の温度で加熱処理してもよい。
【0028】(ii)また、単一成分金属微粒子または合金
微粒子の分散液に、金属微粒子または合金微粒子よりも
標準水素電極電位が高い金属の微粒子またはイオンを存
在させて、金属微粒子または/および合金微粒子上に標
準水素電極電位が高い金属を析出させる方法によっても
導電性微粒子を製造することができる。この方法では、
得られた複合金属微粒子上に、さらに標準水素電極電位
が高い金属を析出させてもよい。また、このような標準
水素電極電位の最も高い金属は、複合金属微粒子表面層
に多く存在していることが好ましい。このように、標準
水素電極電位の最も高い金属が複合金属微粒子の表面層
に多く存在すると、複合金属微粒子の酸化およびイオン
化が抑えられ、イオンマイグレーション等による粒子成
長の抑制が可能となる。さらに、このような複合金属微
粒子は、耐腐食性が高いので、導電性、光透過率の低下
を抑制することができる。
【0029】上記(i)および(ii)の製造方法で得られる
金属微粒子のうち、平均粒子径が2〜200nmの範囲の
ものは導電性微粒子(A)として使用し、平均粒子径が
1〜20nmの範囲のものは導電性微粒子(B)として使
用される。また、酸化物系の導電性微粒子は公知の製造
方法により得られたものを特に制限なく使用することが
可能であり、また、必要に応じて、粉砕、分級などによ
る粒子径の調整を行ってもよい。
【0030】本発明に用いる導電性微粒子の粒子径は、
走査型電子顕微鏡(日本電子(株)製:JSM−530
0型)により写真を撮影し、この画像の200個の粒子
について画像解析装置(旭化成工業(株)製:IP-100
0)を用いて測定する。極性溶媒 本発明で用いられる極性溶媒としては、水;メタノー
ル、エタノール、プロパノール、ブタノール、ジアセト
ンアルコール、フルフリルアルコール、テトラヒドロフ
ルフリルアルコール、エチレングリコール、ヘキシレン
グリコールなどのアルコール類;酢酸メチルエステル、
酢酸エチルエステルなどのエステル類;ジエチルエーテ
ル、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレン
グリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモ
ノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエ
ーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルなど
のエーテル類;アセトン、メチルエチルケトン、アセチ
ルアセトン、アセト酢酸エステルなどのケトン類などが
挙げられる。これらは単独で使用してもよく、また2種
以上混合して使用してもよい。
【0031】本発明に係る透明導電性被膜形成用塗布液
中に、前記導電性微粒子(A)および(B)が0.05
〜10重量%、好ましくは0.1〜5重量%の範囲にあ
ることが望ましい。マトリックス形成成分 本発明に係る透明導電性被膜形成用塗布液には、形成後
の透明導電性被膜のバインダーとして作用するマトリッ
クス形成成分が含まれていてもよい。このようなマトリ
ックス形成成分としては、酸化珪素前駆体、酸化チタン
前駆体、酸化ジルコニウム前駆体、有機樹脂などが挙げ
られ、特に酸化珪素前駆体、有機樹脂が好ましい。有機
珪素前駆体としては、アルコキシシランなどの有機ケイ
素化合物を加水分解して得られるオリゴマー、重縮合物
あるいはアルカリ金属ケイ酸塩水溶液を脱アルカリして
得られるケイ酸重縮合物などが挙げられる。また有機樹
脂としてはポリエチレン、ポリフェノール、エポキシ、
ポリアミノ酸、ポリスチレンなどの塗料用樹脂が挙げら
れる。
【0032】このマトリックス形成成分は、前記導電性
微粒子(A)および(B)の混合物1重量部当たり、
0.01〜0.5重量部、好ましくは0.1〜0.5重量部
の量で含まれていることが望ましい。有機系安定剤 また、透明導電性被膜形成用塗布液中には、導電性微粒
子(A)および(B)の分散性を向上させるため、有機
系安定剤が含まれていてもよい。
【0033】有機系安定剤として具体的には、ゼラチ
ン、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ポ
リアクリル酸、エチレンジアミン四酢酸、シュウ酸、マ
ロン酸、コハク酸、グルタール酸、アジピン酸、セバシ
ン酸、マレイン酸、フマル酸、フタル酸、クエン酸など
の多価カルボン酸およびその塩、セルロース誘導体、複
素環化合物、界面活性剤あるいはこれらの混合物などが
挙げられる。
【0034】このような有機系安定剤は、導電性微粒子
(A)および(B)の混合物1重量部に対し、0.00
5〜0.5重量部、好ましくは0.01〜0.5重量部含
まれていればよい。有機系安定剤の量が0.005重量
部未満の場合は充分な分散性が得られず、0.5重量部
を越えて高い場合は、形成した透明導電性被膜の導電性
が阻害されることがある。
【0035】さらに、本発明に係る透明導電性被膜形成
用塗布液には、必要に応じて、染料、着色顔料、微粒子
カーボンなどの着色粒子が添加されていてもよい。着色
粒子を添加すると、得られる透明導電性被膜付基材は可
視光の広い波長領域において可視光の透過率が一定にな
るようにすることができる。本発明に係る透明導電性被
膜形成用塗布液中の固形分濃度(金属微粒子、金属微粒
子以外の導電性微粒子、マトリックス形成成分、必要に
応じて添加される染料、顔料などの添加量の総量)は、
塗布液の流動性、塗布液中の粒状成分の分散性の点か
ら、15重量%以下、好ましくは0.15〜5重量%の
範囲にあることが好ましい。
【0036】[透明導電性被膜付基材]次に、本発明に
係る透明導電性被膜付基材について具体的に説明する。
本発明に係る透明導電性被膜付基材は、基材と、基材上
の透明導電性被膜と、必要に応じて該透明導電性被膜上
の透明被膜とからなることを特徴としている。基材 基材としては、ガラス、プラスチック、セラミックなど
からなるフィルム、シートあるいはその他の成形体など
が特に制限なく使用することができる。
【0037】透明導電性被膜 透明導電性被膜は、前記透明導電性被膜形成用塗布液を
塗布し、乾燥して得られたものである。透明導電性被膜
の膜厚は、5〜400nm、好ましくは10〜250nmの
範囲にあることが好ましく、この範囲の膜厚であれば電
磁遮蔽効果に優れた透明導電性被膜付基材を得ることが
できる。
【0038】このような透明導電性被膜には、必要に応
じて、可視光の広い波長領域において可視光の透過率が
一定になるように、染料、着色顔料、微粒子カーボンな
どの着色粒子が添加されていてもよい。このような透明
導電性被膜は、前記透明導電性被膜形成用塗布液を基材
上に塗布し・乾燥したのち、必要に応じて化学的処理
(酸処理)および/または加熱処理することによって形
成することができる。
【0039】前記透明導電性被膜形成用塗布液を塗布す
る方法としては、ディッピング法、スピナー法、スプレ
ー法、ロールコーター法、フレキソ印刷法などの方法が
挙げられる。また、乾燥温度は、溶媒が揮散する温度で
行えばよく、通常、常温〜約90℃の範囲の温度で乾燥
することが望ましい。乾燥して溶媒を揮散させたのち、
必要に応じて化学的処理を行ってもよい。化学的処理
は、濃度が50〜20,000ppm、好ましくは10
0〜10,000ppmの範囲にある化学薬剤の水溶液
に透明導電性被膜を形成した基材を浸漬したり、あるい
は化学薬剤の水溶液を透明導電性被膜の表面に塗布する
などの方法によって行われる。
【0040】化学薬剤としては、硝酸、塩酸、硫酸、酢
酸、蟻酸などの酸、水酸化アンモニウム、4級アミン、
水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどのアルカリが挙
げられる。化学薬剤の濃度が50ppm未満の場合は、
濃度が低すぎて反応性が低く化学的融着が不充分であ
り、化学薬剤の濃度が20,000ppmを越えると、
導電性微粒子の腐食が進行し、粒子層の表面抵抗が大き
くなったりヘーズが大きくなることがある。
【0041】本発明では、透明導電性被膜を乾燥したの
ち、加熱処理することが望ましい。加熱処理は、導電性
微粒子(B)の粒子径によっても異なるが、通常100
〜400℃、好ましくは150〜300℃の温度で、
0.5〜10時間、好ましくは1〜5時間行うことが望
ましい。加熱は、真空下、窒素ガスなどの不活性ガス雰
囲気下、空気や酸素ガスなどの酸化ガス雰囲気下、水素
ガスなどの還元ガス雰囲気下で処理を行うことが望まし
い。
【0042】このような加熱処理によって、図2に示さ
れるように、導電性微粒子(A)と(B)との融着が進
行して、透明導電性被膜の表面抵抗が低くなり、透明導
電性被膜自体の導電性を向上させることができる。なお
加熱処理温度が100℃未満の場合は熱的融着が不充分
な場合があり、融着による表面抵抗を低下させる効果が
充分得られないことがある。また、加熱処理温度が40
0℃を越えると、膜にクラックができたり、基材によっ
ては基材の軟化点を越える場合があり、またガラスから
なる基材を使用した場合には基材ガラスからナトリウム
が溶出して透明導電性被膜内に拡散し透明導電性被膜の
表面抵抗が高くなることがある。
【0043】透明導電性被膜形成用塗布液中に上記のよ
うなマトリックス形成成分が含まれている場合には、マ
トリックス形成成分の硬化のために上記加熱処理による
硬化処理が必用である。透明被膜 本発明に係る透明導電性被膜付基材では、前記透明導電
性被膜の上に、前記透明導電性被膜よりも屈折率の低い
透明被膜が形成されていることが望ましい。透明被膜が
形成された透明導電性被膜付基材は、反射防止性能に優
れている。
【0044】形成される透明被膜の膜厚は、50〜30
0nm、好ましくは80〜200nmの範囲にあることが望
ましいこのような範囲の膜厚である透明被膜は、優れた
反射防止性を発揮する。このような透明被膜は、通常、
シリカ、チタニア、ジルコニアなどの無機酸化物、およ
びこれらの複合酸化物などから形成される。透明被膜と
しては、加水分解性有機ケイ素化合物の加水分解重縮合
物、またはアルカリ金属ケイ酸塩水溶液を脱アルカリし
て得られるケイ酸重縮合物からなるシリカ系被膜が好ま
しく、特に加水分解性有機ケイ素化合物の加水分解重縮
合物からなるシリカ系被膜が望ましい。
【0045】加水分解性有機珪素化合物としては、特に
下記一般式[1]で表されるアルコキシシランが挙げら
れる。 RaSi(OR')4-a …[1] (式中、Rはビニル基、アリール基、アクリル基、炭素
数1〜8のアルキル基、水素原子またはハロゲン原子で
あり、R'はビニル基、アリール基、アクリル基、炭系
数1〜8のアルキル基、−C24OCn2n+1(n=1
〜4)または水素原子であり、aは0〜3の整数であ
る。) このようなアルコキシランとしては、テトラメトキシシ
ラン、テトラエトキシシラン、テトライソプロポキシシ
ラン、テトラブトキシシラン、テトラオクチルシラン、
メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラ
ン、エチルトリエトキシシラン、メチルトリイソプロポ
キシシラン、ビニルトリメトキシシラン、フェニルトリ
メトキシシラン、ジメチルジメトキシシランなどが挙げ
られる。
【0046】また、加水分解性有機珪素化合物は、フッ
素置換アルキル基含有アルコキシシランであってもよ
く、該フッ素置換アルキル基含有アルコキシシランとし
ては、ヘプタデカフルオロデシルメチルジメトキシシラ
ン、ヘプタデカフルオロデシルトリクロロシラン、ヘプ
タデカフルオロデシルトリメトキシシランなどが例示さ
れる。
【0047】これらのなかでも、前記加水分解性有機ケ
イ素化合物としてフッ素置換アルキル基含有加水分解性
有機ケイ素化合物を用いると、下層の透明導電性被膜と
透明被膜との密着性が高い上に、透明被膜自体が疎水性
を有しているため、被膜付基材の耐薬品性を向上させる
ことができるので、好適である。また、このような透明
被膜中には、本願出願人による特開平7−133105
号に開示された屈折率が1.44以下の複合酸化物粒子
が含まれていることが望ましい。このような複合酸化物
粒子は、屈折率が低いため、形成される透明被膜の屈折
率が低くなり、このため反射防止性能に優れた透明導電
性被膜付基材を得ることができる。
【0048】また、上記透明被膜中には、必要に応じ
て、フッ化マグネシウムなどの低屈折率材料で構成され
た微粒子などの添加剤が含まれていてもよい。さらにま
た、透明被膜中には、透明被膜の透明度および反射防止
性能を阻害しない程度に少量の導電性微粒子、染料、着
色顔料、微粒子カーボンなどの添加剤が含まれていても
よい。
【0049】透明被膜の形成方法としては、特に制限さ
れるものではなく、形成される透明被膜の材質に応じて
適宜選択される。具体的には、真空蒸発法、スパッタリ
ング法、イオンプレーティング法などの乾式薄膜形成方
法、あるいは上述したようなディッピング法、スピナー
法、スプレー法、ロールコーター法、フレキソ印刷法な
どの湿式薄膜形成方法を採用することができる。
【0050】上記透明被膜を湿式薄膜形成方法で形成す
る場合、公知の透明被膜形成用塗布液が使用される。こ
のような透明被膜形成用塗布液としては、具体的に、シ
リカ、チタニア、ジルコニアなどの無機酸化物前駆体、
またはこれらの複合酸化物前駆体を透明被膜形成成分と
して含む塗布液が用いられ、特に、透明被膜形成用塗布
液として前記したような加水分解性有機ケイ素化合物の
加水分解重縮合物、またはアルカリ金属ケイ酸塩水溶液
を脱アルカリして得られるケイ酸液を含むシリカ系透明
被膜形成用塗布液が好ましい。
【0051】たとえば、加水分解性有機ケイ素化合物が
アルコキシシランの場合、アルコキシシランの1種また
は2種以上を、たとえば水−アルコール混合溶媒中で酸
触媒の存在下、加水分解すると、アルコキシシランの加
水分解重縮合物を含む透明被膜形成用塗布液が得られ
る。このような塗布液中に含まれる被膜形成成分の濃度
は、酸化物換算で0.5〜20重量%であることが好ま
しい。
【0052】また、このような透明被膜形成用塗布液に
は、前記したような屈折率が1.44以下の複合酸化物
粒子が含まれていてもよく、フッ化マグネシウムなどの
低屈折率材料で構成された微粒子、少量の導電性微粒
子、染料、着色顔料、微粒子カーボンなどの添加剤が含
まれていてもよい。本発明では、このような透明被膜形
成用塗布液を塗布して形成した被膜を、乾燥時、または
乾燥後に、150℃以上で加熱するか、未硬化の被膜に
可視光線よりも波長の短い紫外線、電子線、X線、γ線
などの電磁波を照射するか、あるいはアンモニアなどの
活性ガス雰囲気中に晒してもよい。このような処理をす
ると、被膜形成成分の硬化が促進され、得られる透明被
膜の硬度が高くなる。
【0053】さらに、透明被膜形成用塗布液を塗布して
被膜を形成する際に、透明導電性被膜を約40〜90℃
に保持しながら透明被膜形成用塗布液を塗布して、前記
のような処理を行うと、透明被膜の表面にリング状の凹
凸が形成し、ギラツキの少ないアンチグレアの透明被膜
付基材が得られる。 [表示装置]本発明に係る透明導電性被膜付基材は、帯
電防止や電磁遮蔽に必要な102〜1010Ω/□の範囲
の表面抵抗を有し、かつ可視光領域および近赤外領域で
充分な反射防止性能と防眩性を有している。このため、
本発明に係る透明導電性被膜付基材は、表示装置の前面
板として好適に用いられる。
【0054】本発明に係る表示装置は、ブラウン管(C
RT)、蛍光表示管(FIP)、プラズマディスプレイ
(PDP)、液晶用ディスプレイ(LCD)などの電気
的に画像を表示する装置であり、上記のような透明導電
性被膜付基材で構成された前面板を備えている。従来の
前面板を備えた表示装置では、作動時に、基材が帯電し
て画像表示部分に埃が付着したり、前面板に画像が表示
されると同時に電磁波が前面板から放出されることがあ
るが、本発明に係る表示装置では、たとえば、前面板が
107〜1010Ω/□程度の表面抵抗を有する透明導電
性被膜付基材で構成されている場合は効果的に帯電を防
止することができ、前面板が102〜104Ω/□程度の
表面抵抗を有する透明導電性被膜付基材で構成されてい
る場合は、このような電磁波、および電磁波の放出に伴
って生じる電磁場を効果的に遮蔽することができる。
【0055】また、表示装置の前面板で反射光が生じる
と、この反射光によって表示画像が見にくくなるが、本
発明に係る表示装置では、前面板が可視光領域および近
赤外領域で充分な反射防止性能および防眩性を有する透
明導電性被膜付基材で構成されているので、このような
反射光を効果的に防止することができる。さらに、ブラ
ウン管の前面板が、本発明に係る透明導電性被膜付基材
で構成され、この透明導電性被膜のうち、透明導電性被
膜、その上に形成された透明被膜の少なくとも一方に少
量の染料または顔料が含まれている場合には、これらの
染料または顔料がそれぞれ固有な波長の光を吸収し、こ
れによりブラウン管から放映される表示画像のコントラ
ストを向上させることができる。
【0056】
【発明の効果】本発明に係る透明導電性被膜形成用塗布
液は、導電性微粒子として粒子径が異なり、粒子径の比
が特定の範囲にある2種類の導電性微粒子が配合されて
いる。このような透明導電性被膜形成用塗布液を用いて
得られる透明導電性被膜は、粒界抵抗が小さくいため
に、導電性に優れている。
【0057】本発明に係る透明導電性被膜付基材は、基
材上に上記優れた透明導電性被膜形成用塗布液を塗布し
て得られる透明導電性被膜の上に、該透明導電性被膜よ
りも屈折率が低い透明被膜が設けられているので反射防
止性能に優れている。本発明に係る表示装置は、上記透
明導電性被膜付基材で構成された前面板を備え、透明導
電性被膜が該前面板の外表面に形成されているので、反
射(映り込み)および着色が弱く表示性に優れるととも
に、帯電防止性能、電磁波遮蔽性能にも優れている。
【0058】
【実施例】以下、実施例により説明するが、本発明はこ
れらの実施例により限定されるものではない。
【0059】
【製造実施例】a)導電性微粒子分散液の調製 本実施例および比較例で用いた導電性微粒子の分散液の
組成を表1に示す。 導電性微粒子(P-1,P-2,P-4,P-5,P-9,P-10,P-11,P-12)
の分散液は、以下の方法で調製した。
【0060】エタノール・水混合溶媒(エタノール90
重量部/10重量部)に、あらかじめポリビニルアルコ
ール(ただし導電性微粒子(P-1,P-2)の場合は、ポリビ
ニルピロリドン)を金属1重量部当たり0.01重量部
となるように加え、分散液中の金属微粒子の濃度が金属
換算で2重量%であり、金属種が表1の重量比となるよ
うに、硝酸銀、硝酸パラジウム、硝酸インジウムおよび
酢酸スズから選択して添加し、次いで還流器付フラスコ
で90℃、窒素雰囲気下、P-1では12時間、P-2では5
時間、P-4では15時間、P-5では12時間、P-9では2
4時間、P-10では15時間、P-11では10時間、P-12で
は50時間それぞれ加熱して、金属微粒子の分散液を得
た。
【0061】各々加熱した後、還流を止め、加熱しなが
らエタノールを除去し、水を加えて表1に示す濃度に調
製した。 導電性微粒子(P-3)の分散液は、以下の方法で調製し
た。純水100gに、あらかじめクエン酸3ナトリウム
を金属1重量部当たり0.01重量部となるように加
え、これに金属換算で濃度が10重量%となり、金属種
が表1の重量比となるように硝酸銀および硝酸パラジウ
ム水溶液を加え、さらに硝酸銀および硝酸パラジウムの
合計モル数と等モル数の硫酸第一鉄の水溶液を添加し、
ついで、窒素雰囲気下で1時間攪拌して金属微粒子の分
散液を得た。得られた分散液は遠心分離器により水洗し
て不純物を除去した後、水に再分散させて表1に示す濃
度の分散液を調製した。
【0062】Snドープ酸化インジウム微粒子(IT
O;P-6,P-7)については、以下にして調製した。硝酸イ
ンジウム79.9gを水686gに溶解して得られた溶
液と、錫酸カリウム12.7gを濃度10重量%の水酸
化カリウム溶液に溶解して得られた溶液とを調製し、こ
れらの溶液を、50℃に保持された1000gの純水に
2時間かけて添加した。この間、系内のpHを11に保
持した。得られたSnドープ酸化イン ジウム水和物分散
液からSnドープ酸化インジウム水和物を濾別・洗浄し
た後、 乾燥し、次いで空気中で350℃の温度で3時
間焼成し、さらに空気中で600℃の温度で2時間焼成
することによりSnドープ酸化インジウム微粒子を得
た。これを濃度が30重量%となるように純水に分散さ
せ、さらに硝酸水溶液でpHを3.5に調製した後、こ
の混合液を30℃に保持しながらサンドミルで、3時間
粉砕してゾルを調製した。次に、このゾルをイオン交換
樹脂で処理して硝酸イオンを除去し、純水を加えて表1
に示す濃度のSnドープ酸化インジウム微粒子(P-6)分散
液を調製した。
【0063】また、上記において、サンドミルで、5時
間粉砕した以外はP-6と同様にして表1に示す濃度のSn
ドープ酸化インジウム微粒子(P-7)分散液を調製した。 Sbドープ酸化錫微粒子(ATO;P-8)は、以下のよう
にして調製した。塩化錫57.7gと塩化アンチモン7.
0gとをメタノール100gに溶解して溶液を調製し
た。調製した溶液を4時間かけて、90℃、撹拌下の温
水1000gに添加して加水分解を行い、精製した沈殿
を濾別・洗浄し、乾燥空気中、500℃で2時間焼成し
てアンチモンをドープした導電性酸化錫の粉末を得た。
この粉末30g水酸化カリウム水溶液(KOHとして
3.0g含有)70gに加え、混合液を30℃に保持し
ながらサンドミルで、3時間粉砕してゾルを調製した。
ついで、このゾルをイオン交換樹脂処理して脱アルカリ
し、純水を加えて表1に示す濃度のSbドープ酸化錫微
粒子(P-8)分散液を調製した。
【0064】
【表1】
【0065】b)透明導電性被膜形成用塗布液の調製 上記で調製した導電性微粒子(P-1)〜(P-12)の分散液を
導電性微粒子の配合割合が表2の割合となるように配合
し、これに固形分が表2に示す濃度となるように水、t-
ブタノール、ブチルセルソルブおよびN-メチル-2-ピロ
リドンから表2に示す透明導電性被膜形成用塗布液(C-
1)〜(C-10)を調製した。
【0066】
【表2】
【0067】c)透明被膜形成用塗布液(B-1、B-2)の調
正珪酸エチル(SiO2:28重量%)50g、エタノー
ル194.6g、濃硝酸1.4gおよび純水34gの混合
溶液を室温で5時間攪拌してSiO2濃度5重量%のマト
リックス形成成分を含む液(M)を調製した。これに、エ
タノール/ブタノール/ジアセトンアルコール/イソプ
ロパノール(2:1:1:5重量混合比)の混合溶媒を
加え、SiO2濃度0.8重量%の透明被膜形成用塗布液
(B-1)およびSiO2濃度1.1重量%の透明被膜形成用塗
布液(B-2)を調製した。
【0068】なお、本発明で使用される導電性被膜形成
用塗布液および透明被膜形成用塗布液は両性イオン交換
樹脂(三菱化学(株)製 ダイヤイオンSMNUPB)で脱イオ
ン処理することにより、それぞれの塗布液中のイオン濃
度が1000ppm以下になるように調整した。
【0069】
【実施例1〜9、比較例1〜4】透明導電性被膜の形成 ブラウン管用パネルガラス(17インチ)の表面を40℃
で保持しながら、スピナー法で100rpm、90秒の条
件で上記透明導電性被膜形成用塗布液(C-1)〜(C-10)を
それぞれ塗布し、30℃で2分間乾燥した。ついで表3
に示す化学的処理および/または加熱処理を行って透明
導電性被膜を形成した。
【0070】なお、化学的処理は、透明導電性被膜形成
用塗布液をそれぞれ塗布し、乾燥したのち、再び表面の
温度を40℃で保持しながら、スピナー法で100rp
m、90秒の条件で、濃度10,000ppmの硝酸を塗
布して化学的処理をした。加熱処理は、窒素ガス雰囲気
下または空気中、200℃で60分間行った。このとき
の導電層の厚みを触針式表面粗さ計((株)東京精密
製:サーフコム)で測定した。結果を表3に示す。
【0071】また、パネルガラスに透明導電性被膜(導
電性微粒子層と透明被膜)を形成する前と形成した後に
おいて、波長560nmにおける透過率を分光光度計
(日本分光(株)製:U-BEST)で測定した。透明
導電性被膜形成前後の透過率差を表3に示す。透明被膜の形成 次いで、このようにして形成された透明導電性被膜上
に、同じように、スピナー法で100rpm、90秒の条
件で透明被膜形成用塗布液(B-1)または(B-2)を膜厚が表
3に示す膜厚となるように塗布し、乾燥し、160℃で
30分間焼成して透明導電性被膜付基材を得た。
【0072】透明導電性被膜付基材の評価 得られた透明導電性被膜付基材の表面抵抗を表面抵抗計
(三菱油化(株)製:LORESTA)で測定した。また透明導電
性被膜付基材のヘーズをへーズコンピューター(日本電
色(株)製:3000A)で測定した。透明導電性被膜付基材の
反射率は反射率計(大塚電子(株)製:MCPD-2000)を用い
て測定し、波長400〜700nmの範囲で反射率が最も
低い波長のでの反射率(ボトム反射率)とし、これによ
り評価した。
【0073】結果を表3に示す。
【0074】
【表3】
【図面の簡単な説明】
【図1】 図1は、導電性微粒子(A)同士が連結した
ネック部における導電性微粒子(B)の付着を模式的に
示す概略図である。
【図2】 図2は、導電性微粒子(A)同士が連結した
ネック部に付着した導電性微粒子(B)の融着を模式的
に示す概略図である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) G09F 9/00 313 G09F 9/00 313 5G307 H01B 1/00 H01B 1/00 K 5G435 1/20 1/20 Z 5/14 5/14 A H01J 29/88 H01J 29/88 H05K 9/00 H05K 9/00 V (72)発明者 平 井 俊 晴 福岡県北九州市若松区北湊町13番2号 触 媒化成工業株式会社若松工場内 Fターム(参考) 4F100 AA20 AA28 AA33 AB01A AB02A AB10A AB12A AB13A AB15A AB16A AB17A AB18A AB21A AB23A AB24A AB25A AR00C AT00B BA02 BA03 BA07 BA10B BA10C BA26 CC00A DE01A EH46 EH46A EJ01 EJ01A EJ86 GB41 JD08 JG01 JG01A JG03 JG04 JN01 JN01A JN01C JN06 JN18C YY00A 4J038 AA011 CB022 CC022 DA032 DB002 DH012 DL022 DL032 DL072 HA061 HA161 HA162 HA211 HA442 JA17 JA25 JA33 KA06 MA14 NA19 NA20 PA19 PB09 PB11 PC03 5C032 AA02 DD02 DE01 DF03 DG02 DG06 5E321 BB32 BB60 GG05 GH01 5G301 DA02 DA03 DA04 DA05 DA06 DA07 DA10 DA11 DA12 DA13 DA15 DA22 DA23 DA31 DD02 5G307 FA01 FA02 FB01 FB02 FC08 FC09 FC10 5G435 AA00 AA16 GG32 GG33 HH03 HH05 HH12 KK07

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】平均粒子径(PA)が2〜200nmの範囲
    にある導電性微粒子(A)と平均粒子径(PB)が1〜
    20nmの範囲にある導電性微粒子(B)との導電性微粒
    子混合物と、極性溶媒とからなり、 導電性微粒子(A)と(B)との平均粒子径の比PB
    Aが、0.01〜0.5の範囲にあることを特徴とする
    透明導電性被膜形成用塗布液。
  2. 【請求項2】導電性微粒子(A)および(B)が、下記
    (i)〜(iii)から選ばれるものであることを特徴とする請
    求項1に記載の透明導電性被膜形成用塗布液; (i)Au、Ag、Pd、Cu、Ni、Ru、Rh、S
    n、In、Sb、Fe、Pt、Ti、Cr、Co、A
    l、Zn、Ta、Pb、Os、Irからなる群から選ば
    れる1種以上の元素の金属、 (ii)Sn、In、Sb、Ti、Ruからなる群から選ば
    れる1種以上の元素の酸化物または水酸化物、 (iii)Sn、In、Sbからなる群から選ばれる1種以
    上の元素の酸化物に、酸化物を構成する元素とは異なる
    元素がドープされた異種元素ドープ酸化物。
  3. 【請求項3】導電性微粒子(A)と導電性微粒子(B)
    との混合物の重量を100重量%としたときに、導電性
    微粒子(B)の割合が1〜30重量%の範囲にあること
    を特徴とする請求項1または2に記載の透明導電性被膜
    形成用塗布液。
  4. 【請求項4】基材と、 基材上に、請求項1〜3のいずれかに記載の透明導電性
    被膜形成用塗布液を塗布、乾燥してなる透明導電性被膜
    とからなることを特徴とする透明導電性被膜付基材。
  5. 【請求項5】さらに前記透明導電性被膜上に、該透明導
    電性被膜よりも屈折率が低い透明被膜が設けられている
    ことを特徴とする請求項4に記載の透明導電性被膜付基
    材。
  6. 【請求項6】前記透明導電性被膜が、透明導電性被膜形
    成用塗布液を基材に塗布、乾燥した後、化学的処理およ
    び/または100〜400℃の温度範囲で加熱処理して
    得られたものであることを特徴とする請求項4または5
    に記載の透明導電性被膜付基材。
  7. 【請求項7】請求項4〜6のいずれかに記載の透明導電
    性被膜付基材で構成された前面板を備え、透明導電性被
    膜が該前面板の外表面に形成されていることを特徴とす
    る表示装置。
JP2000391340A 2000-12-22 2000-12-22 透明導電性被膜形成用塗布液、透明導電性被膜付基材ならびに表示装置 Expired - Lifetime JP5187990B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000391340A JP5187990B2 (ja) 2000-12-22 2000-12-22 透明導電性被膜形成用塗布液、透明導電性被膜付基材ならびに表示装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000391340A JP5187990B2 (ja) 2000-12-22 2000-12-22 透明導電性被膜形成用塗布液、透明導電性被膜付基材ならびに表示装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2002194248A true JP2002194248A (ja) 2002-07-10
JP5187990B2 JP5187990B2 (ja) 2013-04-24

Family

ID=18857500

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2000391340A Expired - Lifetime JP5187990B2 (ja) 2000-12-22 2000-12-22 透明導電性被膜形成用塗布液、透明導電性被膜付基材ならびに表示装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP5187990B2 (ja)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6902815B2 (en) * 2001-06-04 2005-06-07 Asahi Glass Company, Limited Coating liquid for forming colored transparent conductive film, substrate with colored transparent conductive film and method for its production, and display device
WO2007142272A1 (ja) * 2006-06-09 2007-12-13 Jemco Inc. 透明導電膜形成用組成物、透明導電膜及びディスプレイ
JP2008130290A (ja) * 2006-11-17 2008-06-05 Tdk Corp 透明導電フィルム及びその製造方法
JP2013028115A (ja) * 2011-07-29 2013-02-07 Toda Kogyo Corp 成型物の製造方法及び成型物
CN101501149B (zh) * 2006-06-09 2013-11-06 日本电材化成股份有限公司 用于形成透明导电膜的组合物、透明导电膜和显示器

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1992009665A1 (en) * 1990-11-21 1992-06-11 Catalysts & Chemicals Industries Co., Ltd. Coating solution for forming transparent electrically conductive film, method of preparation thereof, electrically conductive substrate, method of preparation thereof, and display device having transparent electrically conductive substrate
JPH0877832A (ja) * 1994-09-01 1996-03-22 Catalysts & Chem Ind Co Ltd 透明導電性被膜付基材、その製造方法および該基材を備えた表示装置
JPH09286936A (ja) * 1996-04-22 1997-11-04 Sumitomo Metal Mining Co Ltd 透明導電膜形成用塗布液、これを用いた透明導電膜及びその形成方法
JPH10188681A (ja) * 1996-09-26 1998-07-21 Catalysts & Chem Ind Co Ltd 透明導電性被膜形成用塗布液、透明導電性被膜付基材およびその製造方法、表示装置
JPH1135855A (ja) * 1997-07-14 1999-02-09 Sumitomo Osaka Cement Co Ltd 透明導電膜および表示装置
JPH11329071A (ja) * 1998-05-11 1999-11-30 Sumitomo Osaka Cement Co Ltd 透明導電膜形成用塗料、透明導電膜及び表示装置

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1992009665A1 (en) * 1990-11-21 1992-06-11 Catalysts & Chemicals Industries Co., Ltd. Coating solution for forming transparent electrically conductive film, method of preparation thereof, electrically conductive substrate, method of preparation thereof, and display device having transparent electrically conductive substrate
JPH0877832A (ja) * 1994-09-01 1996-03-22 Catalysts & Chem Ind Co Ltd 透明導電性被膜付基材、その製造方法および該基材を備えた表示装置
JPH09286936A (ja) * 1996-04-22 1997-11-04 Sumitomo Metal Mining Co Ltd 透明導電膜形成用塗布液、これを用いた透明導電膜及びその形成方法
JPH10188681A (ja) * 1996-09-26 1998-07-21 Catalysts & Chem Ind Co Ltd 透明導電性被膜形成用塗布液、透明導電性被膜付基材およびその製造方法、表示装置
JPH1135855A (ja) * 1997-07-14 1999-02-09 Sumitomo Osaka Cement Co Ltd 透明導電膜および表示装置
JPH11329071A (ja) * 1998-05-11 1999-11-30 Sumitomo Osaka Cement Co Ltd 透明導電膜形成用塗料、透明導電膜及び表示装置

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6902815B2 (en) * 2001-06-04 2005-06-07 Asahi Glass Company, Limited Coating liquid for forming colored transparent conductive film, substrate with colored transparent conductive film and method for its production, and display device
WO2007142272A1 (ja) * 2006-06-09 2007-12-13 Jemco Inc. 透明導電膜形成用組成物、透明導電膜及びディスプレイ
KR101000436B1 (ko) 2006-06-09 2010-12-13 미쓰비시마테리알덴시카세이가부시키가이샤 투명 도전막 형성용 조성물, 투명 도전막 및 디스플레이
CN101501149B (zh) * 2006-06-09 2013-11-06 日本电材化成股份有限公司 用于形成透明导电膜的组合物、透明导电膜和显示器
TWI421316B (zh) * 2006-06-09 2014-01-01 Jemco Inc 透明導電膜形成用組成物、透明導電膜及顯示器
JP2008130290A (ja) * 2006-11-17 2008-06-05 Tdk Corp 透明導電フィルム及びその製造方法
JP2013028115A (ja) * 2011-07-29 2013-02-07 Toda Kogyo Corp 成型物の製造方法及び成型物

Also Published As

Publication number Publication date
JP5187990B2 (ja) 2013-04-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3563236B2 (ja) 透明導電性被膜形成用塗布液、透明導電性被膜付基材およびその製造方法、表示装置
JP4183924B2 (ja) 金属微粒子および該微粒子の製造方法、該微粒子を含む透明導電性被膜形成用塗布液、透明導電性被膜付基材、表示装置
JP4031624B2 (ja) 透明被膜付基材、透明被膜形成用塗布液、および表示装置
US20040016914A1 (en) Coating liquid for forming transparent conductive film, substrate with transparent conductive film, and display device
JP3302186B2 (ja) 透明導電性被膜付基材、その製造方法および該基材を備えた表示装置
JP3973330B2 (ja) 透明被膜付基材、透明被膜形成用塗布液、および表示装置
WO2001098222A1 (en) Transparent film-coated substrate, coating liquid for transparent film formation, and display device
JP5638935B2 (ja) 金属微粒子分散液、透明導電性被膜形成用塗布液及び透明導電性被膜付基材
JP5580153B2 (ja) 金属微粒子分散液、金属微粒子、金属微粒子分散液の製造法等
JP4522505B2 (ja) 透明導電性被膜形成用塗布液、透明導電性被膜付基材および表示装置
JP4343520B2 (ja) 透明被膜形成用塗布液および透明被膜付基材、表示装置
JP4002469B2 (ja) インジウム系金属微粒子の製造方法、インジウム系金属微粒子を含む透明導電性被膜形成用塗布液、分散ゾル、透明導電性被膜付基材、表示装置
JP3779088B2 (ja) 透明導電性被膜形成用塗布液、透明導電性被膜付基材および表示装置
JP3982967B2 (ja) 透明被膜形成用塗布液、透明被膜付基材および表示装置
JP2001064540A (ja) 透明導電性被膜形成用塗布液、透明導電性被膜付基材および表示装置
JP5187990B2 (ja) 透明導電性被膜形成用塗布液、透明導電性被膜付基材ならびに表示装置
JP4959067B2 (ja) 透明低反射導電性被膜形成用塗布液、透明低反射導電性被膜付基材および表示装置
JP2004083812A (ja) 透明被膜形成用塗布液および透明被膜付基材、表示装置
JP2003105268A (ja) 透明被膜形成用塗布液および透明導電性被膜付基材、表示装置
JP4372301B2 (ja) 透明導電性被膜形成用塗布液、透明導電性被膜付基材および表示装置
JP4425530B2 (ja) インジウム系酸化物微粒子の製造方法、該微粒子を含む透明導電性被膜形成用塗布液および透明導電性被膜付基材、表示装置
JP4902048B2 (ja) 透明導電性被膜付基材および表示装置
JP4033646B2 (ja) 導電性金属酸化物粒子、導電性金属酸化物粒子の製造方法、透明導電性被膜付基材および表示装置
JP2003261326A (ja) インジウム系酸化物微粒子、該微粒子の製造方法ならびに該微粒子を含んでなる透明導電性被膜形成用塗布液および透明導電性被膜付基材、表示装置
JP2004204174A (ja) 透明導電性被膜形成用塗布液および透明導電性被膜付基材、表示装置

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20070918

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20101209

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20101221

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20110221

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20110524

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20110824

A911 Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911

Effective date: 20110927

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20121214

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20130122

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20160201

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Ref document number: 5187990

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

EXPY Cancellation because of completion of term