JP2002192381A - 高融点ろう材ならびにそれを用いたろう接方法およびカソード - Google Patents

高融点ろう材ならびにそれを用いたろう接方法およびカソード

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JP2002192381A JP2000389977A JP2000389977A JP2002192381A JP 2002192381 A JP2002192381 A JP 2002192381A JP 2000389977 A JP2000389977 A JP 2000389977A JP 2000389977 A JP2000389977 A JP 2000389977A JP 2002192381 A JP2002192381 A JP 2002192381A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 高温動作用カソードでも、電子放出に劣化な
どを来さないでろう接することができる高融点ろう材お
よびろう接方法を提供すると共に、1400℃以上の高
温で動作させるカソードでも、カソードペレットをろう
接することにより製造し得るカソードを提供する。 【解決手段】 高融点金属の少なくとも一方のろう接部
表面に、高融点金属の炭化物層を形成し、該炭化物層と
前記高融点金属とを共晶化させることにより高融点金属
をろう接する。また、カソードは、タングステンフィラ
メント4の一部に、電子放出材を含有する高融点金属か
らなるカソードペレット1がろう接により接合され、そ
の接合部が、炭化タングステンと高融点金属材料との共
晶物によりろう接されている。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、たとえば電子管な
どに用いられる高温動作用カソード周辺の接合に用いら
れるような、高融点金属を高温でろう接する高融点ろう
材、それを用いたろう接方法およびカソードに関する。
ここに高温動作用カソードとは、含浸型カソードが動作
不可能な温度である1400℃以上で、安定に電子放出
特性が得られるカソードを意味する。
【0002】
【従来の技術】タングステンは高融点、低蒸気圧を有
し、一般に高温で用いることができる材料として知られ
ている。また、このタングステンの高融点、低蒸気圧、
低アーク性を利用して、各種の接点材、抵抗溶接用の電
極棒として利用されている他、酸化トリウム(Th)な
どの電子放出材を数%入れたもの(トリタン)は、アー
ク溶接棒や各種カソードの材料として利用されている。
また、最近では、宇宙工業に多く使用されるようになっ
ている。このような状況下、タングステン同士を接合す
るろう接は、重要な技術の一つであり、多くの研究がな
されている。
【0003】タングステンをろう接する主なろう材とし
ては、上述した電気接点で用いる比較的低温度のろう材
として、BAg、BCuP、BCuなどがある。また、
宇宙開発で用いられるような高温ろう材としては、ニッ
ケルおよびマンガン基合金およびモリブデン合金があ
る。このような高温ろう材は、最高で1900℃程度の
溶融温度を有している。そして、簡便で実用的なろう接
としては、この程度のろう接温度が一般的である。しか
し、2000℃を超える極めて高温度での使用を目的と
したろう材としては、タンタルやニオブを用いる場合が
知られている。これらのろう接温度は、それぞれ約30
00℃と2400℃である。
【0004】ここで、上述した何れのタングステンのろ
う接の場合においても、その雰囲気に酸素が混入してい
るとタングステン自体の酸化が激しくなるので、雰囲気
ろう接や真空ろう接が好ましい。さらに、炭素との接触
は、ろう接の機械的強度を脆くするので、避けられる傾
向にある。ただし、カソードにおいては、たとえば酸化
トリウム入りタングステンカソード(通称トリタンカソ
ード)の表面を炭化すると電子放出特性が著しく向上す
るといったことに代表されるように、タングステンと炭
素との接触は大きな利点がある。
【0005】つぎに、カソード、とくに電子管などに用
いられる高温動作用カソードについて記述する。この高
温動作用カソードは、図10(a),(b)に示される
ような構造が一般に用いられている。即ち、図10
(a)は、電子ビームを得るためのカソードで、タング
ステン(W)線や酸化トリウム(ThO2)入りタングス
テン(トリタン)線をフィラメント14形状に成形し、
つぎに両端部を電極5に接続したものである。特に、ト
リタンを用いた場合には、更にヘプタン等の炭化水素ガ
ス雰囲気中で該フィラメントを通電加熱して表面に炭化
タングステン層を形成し、電子放出特性と寿命を向上し
たものも一般に使用されている。また、図10(b)は
大電力放電管用カソードの例で、棒状のトリタンの先端
を鋭利にして放電しやすい形状に成形したものである。
【0006】更に、これらカソードの電子放出特性につ
いて記述すると、タングステンカソードは真空度10-5
Pa、2200℃で約0.1A/cm2の電子放出特性が
得られるカソードである。
【0007】つぎにトリタンカソードは、約1500〜
2000℃の動作温度で、電子放出材の酸化トリウムが
タングステンによって還元され、これにより遊離したト
リウムが、カソードの電子放出面にTh-W原子層を形
成する。そして、この単原子層の形成により、真空度1
-5Pa、2000℃で約1A/cm2の電子放出特性
が得られるカソードである。ここで、更にカソード電子
放出面を炭化した場合には、炭素による還元効果等が加
わり、真空度10-5Pa,1800℃で約10A/cm
2の電子放出特性を得ることができる。
【0008】このトリタンカソードの場合、タングステ
ン中に酸化トリウムが混入さた為に線引き等の加工性が
著しく低下する。この為、混入できる酸化トリウム量は
最高でも5Wt%程度(一般的には2wt%)に限定さ
れてしまう。この限定は、カソード寿命から言えば酸化
トリウムの含有量は多いほど長寿命化に優位であるの
で、改善が望まれる課題の一つである。
【0009】一方で、このトリウム元素は放射性物質で
あるので必要最小量であることが望ましい。即ち、フィ
ラメントにおいては、先端部を除く非電子放出部分にト
リウムを含有させる必要はない。
【0010】ここで、多孔質体なら焼結法により、この
約5wt%の電子放出材の制限量に拘わることなく、最
高約50wt%含有したペレットを得ることができる。
【0011】更に、このペレットをフィラメント先端部
分にろう接して直熱すればフィラメント自体はタングス
テン線で済み、非電子放出部分にトリウムを含有させな
くて済む。しかし、これまでカソードの電子放出特性を
活かせる適当なろう材がなかった。
【0012】
【発明が解決しようとする課題】前述のように、ペレッ
トをタングステンフィラメント先端部にろう付けするよ
うな2000℃を超える温度でろう接するには、タンタ
ルとニオブのみしか知られていない。しかし、これらの
溶融温度はそれぞれ3000℃と2400℃なので、こ
のような高温に長時間晒すと電子放出材を劣化させてし
まう。
【0013】また、カソードへのろう接としては、異種
金属で接合するとカソードの電子放出面を汚染し、電子
放出特性の劣化を招く恐れがある。更に、ろう材として
は、炭素の様になるべく電子放出特性の向上に有利な元
素を含んでいる方が望ましい。ところが、これまで適当
なろう材が無かったこともあり、タングステン線乃至は
トリタン線といった一材料でフィラメントを構成する事
が一般的であった。
【0014】その結果、このフィラメント構造では、ト
リタンカソードの場合、加工性の点から酸化トリウム等
の電子放出材を5wt%以上混入させることが困難とな
り、寿命の面で不利であった。また、電子放出に寄与し
ていない部分(非電子放出面)であるフィラメント先端
部を除く部分にもトリタンを使用しているので、コスト
アップになると共に、放射性物質であるトリウムを必要
以上に使用しているという環境上の観点からも問題があ
った。更に、電子ビーム形状の面でも、例えば、円形断
面収束形、シートビーム形、同心円形などの特殊な形の
電子ビームを得ることが不向きとなる問題があった。
【0015】本発明は、このような問題を解決するため
になされた高温動作用カソードの電子放出材を劣化させ
ないでろう接することができる高融点ろう材およびろう
接方法を提供することを目的とする。
【0016】本発明の他の目的は、1400℃以上の高
温で動作させるカソードで、電子放出材である希少金属
酸化物および放射性物質を電子放出面として必要な部分
のみに用いることができ、更にこの必要な部分には5w
t%を超える電子放出材を含有させて長寿命をはかるこ
ともできると共に、所望の形状の電子ビームが得られる
ように、カソードペレットをタングステンフィラメント
にろう接したカソードを提供することにある。
【0017】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、たとえば
高温動作用のカソードなどに用いられる高融点金属をろ
う接するため、鋭意検討を重ねた結果、高融点金属のタ
ングステンを炭化させた炭化タングステンW2Cは、タ
ングステン、炭化タンタル、タンタルなどの他の高融点
金属と2500℃程度で共晶化し、溶融してろう接する
ことができることを見出した。しかも、高温動作用カソ
ードには、タングステンなどの高融点金属が用いられて
おり、カソードと同じ材料系で溶融することができるた
め、放出特性を劣化させることもない。また、炭化タン
グステン中の炭素により電子放出特性の向上も得られ
る。
【0018】更に、多孔質高融点金属に電子放出材を混
入させたカソードは、イオンボンバードなどによる電子
放出材の蒸発が早く、電子放出材が多い割りに寿命を長
くできないが、前述の炭化タングステンW2C層を溶融
させてその表面に形成することにより、多孔質体の表層
をバルク状の表面に改質することができ、イオン等の衝
撃などに対して電子放出材の蒸発が保護され、しかもW
2C層の柱状結晶による隙間を介して、電子放出材は充
分に這い上がり、電子放出には問題なく長寿命に寄与す
ることを見出した。
【0019】本発明による高融点金属をろう接する高融
点ろう材は、該高融点金属と高融点金属の炭化物との共
晶物からなっている。
【0020】また、本発明による高融点金属と高融点金
属をろう接する方法は、前記高融点金属の少なくとも一
方のろう接部表面に、該高融点金属の炭化物層を形成
し、該炭化物層と前記高融点金属とを共晶化させること
により前記高融点金属をろう接することを特徴とする。
【0021】この方法を用いることにより、高融点金属
とその炭化物のみによりろう接をすることができるた
め、カソードなどに用いてもその電子放出特性に何ら害
を及ぼすことなく用いることができる。しかも、カソー
ドなどにはタングステンが用いられる場合が多く、その
タングステンを炭化することにより、簡単に炭化タング
ステンを得ることができる。炭化タングステンの中で
も、W2Cは柱状結晶が得られ、カソード表面に設けら
れることにより、電子衝撃などに強く、しかも電子放出
材の染み上がりをしやすくするため、カソード表面が炭
化されても、カソード保護の材料として優れており、カ
ソードのろう接には非常に優れている。
【0022】前記共晶化させた後に、共晶化物から炭素
を脱炭させることにより、ろう接部の溶融温度が、共晶
化物よりさらに500℃程度上昇し、非常に高温まで耐
え得るろう接を得ることができるため、特に好ましい。
【0023】本発明によるカソードは、タングステンフ
ィラメントと、該タングステンフィラメントの一部に接
合され、電子放出材を含有する高融点金属材料からなる
カソードペレットとを具備し、前記接合部が、炭化タン
グステンと前記高融点金属材料との共晶物によりろう接
されている。
【0024】この構造にすることにより、電子放出に必
要な部分のみに電子放出材を含有するカソードペレット
が形成されているため、貴重な元素であったり、トリウ
ムなどの放射性物質による放射能の飛散などの問題があ
る元素を最小限の使用量で済ませることができる。しか
も、カソードペレットを形成しておいて、フィラメント
などにろう接することによりカソードを形成することが
できるため、カソードペレットの形状を様々に加工する
ことにより、円形断面収束形、シートビーム形、同心円
形などの特殊な形の電子ビームを得ることもできる。
【0025】更に、フィラメントにろう接する場合、ろ
う接部をフィラメントにより直接温度を上昇させること
ができるため、ろう接部の温度を共晶化物の溶融温度ま
で上昇させながら、カソードペレットは接触が十分でな
く、電子放出材の劣化が生じる程の温度上昇を防ぐこと
ができ、ろう接が完了したらフィラメントの温度を直ち
に下げることにより、カソードペレットの温度を共晶化
物の溶融温度まで上昇させないで、ろう接することがで
きるため、電子放出材にダメージを与えることはない。
【0026】前記炭化タングステンが、前記タングステ
ンフィラメントの炭化処理により形成されるW2Cから
なり、前記カソードペレットの電子放出面にもW2C層
が形成されれば、炭化処理工程だけで、カソードペレッ
トをろう接することができ、且つ、カソードペレットの
電子放出面にW2C層が形成されているので、タングス
テンの還元に加えて炭素の還元効果等により効率的にカ
ソード電子放出面に電子放出材の単原子層が形成され、
電子放出特性の優れたカソードを得ることができる。ま
た、イオン衝撃にも強くなり表面単原子の蒸発が少なく
長寿命が得られる。
【0027】前記カソードペレットが多孔質高融点金属
に電子放出材が含有された多孔質体からなり、該カソー
ドペレットの電子放出面に溶融固化されたW2C層が形
成されることにより、多孔質体でも、その表面がW2
層により完全に被覆され、電子放出材のイオン衝撃など
による蒸発を防止しながら、W2C層は柱状結晶である
ため、電子放出面への電子放出材の供給は充分になされ
る。そのため、電子放出材を多量に含有しながら、その
蒸発は最小限に抑えられ、非常に長寿命のカソードが得
られる。
【0028】尚、この構造は、カソードペレットをフィ
ラメントにろう接した直熱式カソードでなくても、多孔
質体に電子放出材を含有させたあらゆる傍熱式カソード
にも適用することができる。
【0029】
【発明の実施の形態】つぎに、図面を参照しながら本発
明による高温ろう材、ろう接方法およびそれを用いたカ
ソードについて説明をする。
【0030】本発明による高融点ろう材を用いた高温動
作用カソードは、その一実施形態の断面説明図が図1に
示されるように、タングステンフィラメント4の一部
に、電子放出材を含有する高融点金属からなるカソード
ペレット1がろう材3により接合され、そのろう材3
が、炭化タングステンと高融点金属材料との共晶物から
なり、そのろう材3によりろう接されていることに特徴
がある。
【0031】カソードペレット1は、従来のトリタンカ
ソードとして用いられている、酸化トリウム(Th
2)入りタングステン材料を、たとえばφ1.6mm×
t0.6mm(厚さ)程度の円柱状のペレットにしたも
ので、0.9mmφ程度の線状のタングステンフィラメ
ント4にろう接されている。また、カソードペレット1
表面の露出面(電子放出面)には、後述するように、ろ
う接後の炭化処理により炭化タングステンW2C層2b
が形成されている。フィラメント4の両端部はモリブデ
ンなどからなる電極5と接続されている。17はカソー
ドスリーブである。
【0032】カソード電子放出面を炭化処理したトリタ
ンカソードは、イオン衝撃に強く、過酷な条件でも動作
可能である。この炭化処理をする場合、炭化タングステ
ンにはW2CとWCとが存在し、努めてW2Cを形成する
ようにしなければならない。何故なら、W2C層は、粒
界が柱状を呈し、肥大化しない。これに対して、WC層
は、粒界の肥大化を生じやすい。このことは、トリウム
の拡散やカソード表面と密接に関係しており、ひいては
電子放出特性が大きく異なってしまうからである。この
ようなWCではなく、W2Cを形成するためには、炭化
処理の際に、雰囲気温度とヘプタン等の炭化水素ガスの
分圧を制御して行う。
【0033】例えば、本発明者らが用いた炭化炉では、
温度2200℃、ヘプタン分圧133×5×10-4Pa
でW2C単一相が形成された。同温度,ヘプタン分圧1
33×10-3Pa以上ではWCとW2Cの2つが混在し
た相が形成された。
【0034】このようにして形成されたW2C層は、炭
素の還元力により、酸化トリウムを効果的に還元する。
また、W2C粒界が柱状をなすことから、微細な亀裂が
生じ、カソード内部のトリウム移動を容易にする。ある
いは、この亀裂により、カソード表面積が増加する。こ
のような現象が相俟って電子放出特性が向上する。
【0035】前述のタングステンフィラメント4とカソ
ードペレット1とのろう接は、前述のように本発明者ら
の鋭意検討の結果、タングステンフィラメント4を炭化
させた炭化物層2aと、カソードペレット1のタングス
テンとを共晶化させた、高融点金属炭化物と高融点金属
との共晶化物からなるろう材3により接合されている。
タングステンフィラメント4表面に形成される炭化タン
グステン層(炭化物層)2aは、炭化処理により形成さ
れる場合は、タングステンフィラメント4の昇温度分布
にしたがってフィラメントの先端を中心に形成される
が、マスクを付けて局所的に形成してもよく、また炭化
処理によらなくても、炭化タングステン粉末をバインダ
ーと混ぜてカソードペレット1の裏面またはフィラメン
ト4表面のカソードペレット1との接触面に薄く塗布し
てもよい。図では炭化処理により形成する例であるが、
接合部近傍のみに形成されたように図示されている。
【0036】炭化処理により形成する場合、炭化タング
ステン層2aも、後工程のカソードペレットの炭化条件
の安定性の点から、また共晶温度の点からW2C層であ
ることが好ましいが、このW2C層の形成は、フィラメ
ント径の約20%程度まで(実際のろう接はφ0.9m
mのW線表面に10〜20μm(1〜2%相当)程度の厚
さでW2Cを形成している)とする必要がある。これは、
それ以上の炭化を行うと、機械的強度を著しく低下させ
るからである。
【0037】このようにW2C層2aとカソードペレッ
ト1のタングステンWとを共晶化させて接合したとき
の、フィラメント4の温度に対するカソードペレット1
表面の温度の関係Aを、フィラメント4とカソードペレ
ット1とを接触させただけの状態における同様の関係B
と対比して図2に示す。図2から、明らかなように、本
発明のろう接方法によれば、カソードペレット1の温度
を活性化に必要な2400℃程度まで十分に上げること
ができ、またトリタン線による直熱式とほぼ同等の温度
特性を示し、接触のみの場合に比べて、非常に熱伝導も
良好であることが分る。また、このろう接した状態の写
真を図3に示す。図3から明らかにろう接部3は、フィ
ラメント4とカソードペレット1の両方に食い込んでお
り、完全に溶融状態になって固着されていることが分
る。なお、図3において、カソードペレット1およびフ
ィラメント4に白黒のまだらな部分があるが、撮影時の
陰影が現れているものである。また、フィラメント4の
表面に灰色に見える部分がW2C層2aであり、カソー
ドペレット1の表面に灰色に見える部分がろう接後の炭
化処理により形成されたW2C層2bをそれぞれ示して
いる。
【0038】前述の例では、カソードペレットとして、
トリウム入りタングステンを用いた例であるが、この例
に限られず、多孔質体に電子放出材を充填する多孔質体
カソードペレットでもよい。また、高融点金属として
は、モリブデンなどでもよく、さらに、電子放出材とし
ても、酸化トリウムに代えて、酸化ハフニウム、酸化ジ
ルコニウム、酸化ランタン、酸化セリウム、酸化イット
リウムなどを用いることもできる。
【0039】本発明によれば、タングステンなどの高融
点金属の炭化物と、高融点金属との共晶化物をろう材と
しているため溶融温度が非常に高く、ろう接後は少なく
とも2500℃以下で再溶融することは無い。しかも、
高温動作用のカソードペレットなどは最大でも2400
℃を超える温度で動作させることはないので、確実にろ
う接することができる。また、本発明によるカソードに
よれば、カソードペレットをフィラメントなどに直接ろ
う接する構造で形成されているため、カソードペレット
は電子放出に必要な部分のみに形成することができる。
そのため、酸化トリウム、酸化ハフニウムなどの貴重な
金属元素を不必要に多く使用する必要がなく、製造コス
トを大幅にダウンさせることができると共に、電子放出
材を含有させた後に折曲げなどの加工をする必要がない
ため、所望の形状のカソードペレットを作製することが
でき、所望の電子ビームを得ることができる。
【0040】図1に示されるカソードの製造方法を図4
のフローチャートを参照しながら説明する。まず、カソ
ードペレット1をタングステンフィラメント4の先端に
仮固定する(S1)。この仮固定は、たとえばタングス
テン線あるいはタンタルリボン15で結わえることによ
り行う。
【0041】つぎに、カソードペレット1が仮固定され
たタングステンフィラメント4を図5に示されるよう
に、炭化炉10に装着する。そして、ロータリポンプ9
およびターボ分子ポンプ8を作動させ、炭化炉10の真
空度を一旦133×10-7Pa以下まで引き、酸素の背
景分圧を下げる(S2)。図5で、7が真空計である。
その後、炭化水素ガス、たとえばヘプタン(C716
6の蒸気を133×5×10-4Paになるように導入
し、フィラメント4の温度を2200℃程度に昇温す
る。すると、フィラメント4の表面に炭化タングステン
層2aが形成され、約3分程度保持すると、カソードペ
レット1との溶接に必要な10〜20μm程度の膜厚の
2C層2aが得られる(S3)。この際、カソードペ
レット1は、フィラメント4とはまだ接合されていない
ため、フィラメント4からの熱伝導は充分ではなく、1
700℃程度までしか温度が上昇しないため、殆ど炭化
されない。
【0042】この後、ヘプタンの圧力はそのまま維持し
て、フィラメント4の温度を2500〜2700℃程度
に昇温すると、フィラメント4表面の炭化タングステン
層2aとカソードペレット1のタングステンとが共晶化
し溶融する(S4)。この溶融により、カソードペレッ
ト1の温度もフィラメントの温度(2500〜2700
℃)に近づくので、カソードペレット1が劣化しない温
度、たとえば2400℃程度以下にカソードペレットの
温度が保持される様に、フィラメント温度を直ちに下げ
ることが重要である。
【0043】以上で、カソードペレット1をフィラメン
ト4にろう接する作業は終了するが、前述のように、電
子放出特性および耐イオン衝撃性を改善させるため、カ
ソード1表面にW2C層2bを形成する場合、引き続
き、前述のフィラメントの炭化条件と同様の条件によ
り、カソードペレット1の温度を2200℃にし、3分
程度保持することにより、カソードペレット1の表面を
炭化する(S5)。この際、WCではなく、W2Cが形
成されるように、特に温度とヘプタン分圧に注意する。
このように、カソード表面にW2C層2bを形成する場
合でも、同一工程で、カソードペレット1の温度を22
00℃程度に保持するだけで、W2C層2bを形成する
ことができ、非常に簡単に形成することができる。
【0044】この状態でも、ろう接部の再溶融温度は2
500℃超であるため、カソード使用上全然問題ない
が、さらにろう接部を高温まで溶融しないようにするに
は、ろう接部の炭素を脱炭することにより、ろう接部の
炭化物を完全な高融点金属のみとすればよく、この際、
ろう接部の溶融温度をさらに500℃程度高くすること
ができる。この脱炭処理を行うには、水素雰囲気中、1
300℃以上で処理することにより行うことができる。
【0045】この製造方法によれば、タングステンフィ
ラメントを炭化処理することにより炭化物層を形成し、
その炭化物層と、カソードペレットなどの高融点金属と
を共晶化させているため、炭化物層の厚さは、雰囲気温
度、ヘプタン分圧、炭化時間により一義的に定まり、非
常に安定な状態で溶融することができると共に、前述の
ように、カソード電子放出面にW2Cが形成されること
により、非常に電子放出特性が向上することから、W2
C層をカソード電子放出面に形成する場合、そのろう接
工程に続けて連続的に形成することができるため、工数
的にも非常に容易に形成することができる。
【0046】さらに、フィラメントとろう接する場合、
前述のように、フィラメントの温度を上昇させることに
よりろう接することにより、ろう接されるまではカソー
ドペレットの温度は余り上昇せず、ろう接された瞬間
に、フィラメントの印加電圧を切り、温度を下げればよ
いため、カソードペレット内に含有される電子放出材を
過度な高温に晒す必要がなく、この電子放出材を損傷す
ることなくろう接することができる。
【0047】前述の例では、炭化炉で炭化しながらろう
接する方法であったが、雰囲気が真空の場合に限定され
ているときは、真空中でろう接することもできる。この
場合、予めタングステンフィラメント4だけに炭化処理
をしたり、または炭化タングステン粉末をバインダーと
混ぜ合わせてカソードペレット1の裏面またはタングス
テンフィラメントのろう接部に塗布しておき、真空中で
フィラメント4の温度を前述と同様に2500〜270
0℃にまで一機に昇温することでろう接することもでき
る。この場合も、前述と同様に、カソードペレット1の
温度が2400℃を超えないように注意する必要があ
る。この真空中の2400℃は、たとえばトリタンカソ
ードでは活性化として数秒間経験させることが一般的な
工程であり、特性劣化の問題にはならない。
【0048】図6は、本発明によるカソードの他の実施
形態を示す図1と同様の説明図である。この例は、カソ
ードペレット11が、酸化トリウムが空隙部に充填され
た多孔質タングステンからなっており、その電子放出面
側に、一旦溶融してから固化したバルク状W2C層12
が形成されていることに特徴がある。他の構造は前述の
図1に示される例と同じで、同じ部分には同じ符号を付
してその説明を省略する。
【0049】バルク状W2C層12を形成するには、た
とえば酸化トリウムなどの電子放出材が充填された多孔
質体のカソードペレット11の電子放出面側にタングス
テン片を接触させ、前述の方法と同様に、タングステン
片に通電して炭化させ、その表面に炭化層を形成し、さ
らに温度を上昇させてカソードペレット11のタングス
テンとを共晶化させることにより、溶融状態とした後
に、タングステン片の通電をオフにし、温度を下げて固
化させることにより形成することができる。なお、固化
した後に、その表面を研磨することにより、表面が平坦
なバルク状W2C層12が得られる。この断面図を図7
に示す。カソードペレット11はタングステン粉末が焼
結された多孔質体で、白く見える部分はタングステン粉
末であり、黒く見えるところがタングステン粉末の隙間
に充填された酸化トリウムである。
【0050】バルク状W2C層12は、カソードペレッ
ト11のタングステン粉末以外の酸化トリウム上にも形
成されているため、見た目では隙間なく覆われている。
しかし、このW2C層12は、前述のように、柱状結晶
であるため、縦方向には隙間が形成されており、電子放
出材の酸化トリウムはその隙間を通って電子放出面に染
み出し、電子放出に寄与する。
【0051】この構造にすることにより、多孔質体の隙
間に電子放出材が充填されているため、最大で50重量
%程度含有させることができ、しかもその電子放出面は
バルク状W2C層により被覆されているため、電子放出
特性の向上にも寄与すると共に、電子衝撃などによる電
子放出材の消耗もなく、非常に長寿命化を図ることがで
きる。また、第1の実施形態の発明により、フィラメン
トなどに容易にろう接することができるため、小さなカ
ソードペレットにより非常に高特性のカソードが得られ
る。
【0052】つぎに、このカソードの製造方法を図8の
フローチャートを参照しながら説明する。まず、電子放
出材が充填された多孔質体からなるカソードペレット1
1の電子放出面に、たとえば厚さが0.3mm程度のタ
ングステン片13を接触させる(S11)。
【0053】つぎに、図9に示されるように、炭化炉1
0に入れ、ロータリポンプ9およびターボ分子ポンプ8
を作動させ、一旦真空度を133×10-7Pa以下まで
引き、酸素の背景分圧を下げておく。図8および9で、
7が真空計、16はカソードペレット11を保持する支
持棒である。その後、炭化水素ガス、たとえばヘプタン
(C716)6の蒸気を133×5×10-4Paになる
ように導入し、タングステン片13に通電することによ
り2200℃程度に昇温する。すると、タングステン片
13の表面に炭化タングステン層2aが形成され、約5
分程度保持すると、20μm程度以上の膜厚のW2C層
2aが得られる(S13)。この際、カソードペレット
1は、タングステン片13とはまだ接合されていないた
め、タングステン片13からの熱伝導は充分ではなく、
1700℃程度までしか温度が上昇しないため、殆ど炭
化されない。
【0054】この後、タングステン片13の温度を25
00〜2700℃に昇温すると、カソードペレット11
の表面とタングステン片13との接触部分が溶融し、溶
融後直ちに通電を止め冷却すると固化し、バルク状W2
C層12がカソードペレット11の表面に形成される
(S14)。この後、表面を研磨して整形することによ
りタングステン片13の部分は除去され、表面にバルク
状W2C層12が形成されたカソードペレット11が得
られる(S15)。ついで、前述と同様にタングステン
フィラメント4にカソードペレット11をろう接する
(S16)ことにより、電子放出材が充填された多孔質
体からなるカソードペレット11の表面にW 2C層12
が形成されたカソードが得られる。さらに、アニールを
すると、W2Cの粒界が顕著に現れるため、好ましい
(S17)。
【0055】なお、上記の各例では、炭化タングステン
とタングステンとを共晶化させて溶融したが、炭化タン
グステンと炭化タンタルまたはタンタルとを接触させて
温度を上昇しても溶融させることができる。また、カソ
ードペレットの形状も、円柱形状に限らず、錐状など種
々の形状にできることはいうまでもない。
【0056】
【発明の効果】以上のように、本発明によれば、高融点
金属の炭化物と高融点金属とを共晶化させることにより
ろう接しているため、2500℃程度で溶融するろう材
を得ることができる。その結果、電子放出材を劣化させ
ることなく、高温動作用カソードのカソードペレットで
も、ろう接することができる。しかも、炭素は、酸化ト
リウムや酸化ハフニウムなどの電子放出材の還元を促進
し、電子放出特性の向上に寄与するため、カソードのろ
う接にはとくに優れている。また、カソードペレットと
して用いられることにより、高温動作用カソードの電子
放出材として用いられる酸化トリウムや酸化ハフニウム
などのトリウムやハフニウムなどの貴重な元素を電子放
出に必要な部分のみに用いることができ、その使用量を
大幅に削減することができると共に、特殊な電子ビーム
形状も容易に得ることができる。
【0057】さらに、多孔質体からなるカソード表面に
バルク状W2C層が設けられることにより、電子放出材
を透過させながら表面を被覆して保護することができる
ため、電子放出材を大量に含有しながらその蒸発を抑制
することができ、非常に長寿命のカソードを得ることが
できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明によるカソードの一実施形態の構成説明
図である。
【図2】図1に示される構造のカソードのフィラメント
温度とカソードペレット温度との関係を示す図である。
【図3】図1に示される構造のカソードのろう接部の断
面を示す写真である。
【図4】図1に示される構造のカソードを製造する工程
図である。
【図5】図4の炭化処理工程を行う装置の概略説明図で
ある。
【図6】本発明によるカソードの他の実施形態を示す構
成説明図である。
【図7】図6に示されるカソードのカソードペレット表
面とバルク状W2C層部分の断面図である。
【図8】図6に示されるカソードの製造工程を示す図で
ある。
【図9】図6に示される炭化処理工程を行う装置の概略
説明図である。
【図10】従来の電子管および放電管に用いるトリタン
カソードの一例を示す図である。
【符号の説明】
1 カソードペレット 2a 炭化物層 2b W2C層 4 タングステンフィラメント 11 多孔質体ペレット 12 バルク状W2C層
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H01J 1/15 H01J 1/15 F 9/04 9/04 J // B23K 103:08 B23K 103:08

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 高融点金属をろう接する高融点ろう材で
    あって、該高融点金属と高融点金属の炭化物との共晶物
    をろう材とする高融点ろう材。
  2. 【請求項2】 高融点金属と高融点金属をろう接する方
    法であって、前記高融点金属の少なくとも一方のろう接
    部表面に、該高融点金属の炭化物層を形成し、該炭化物
    層と前記高融点金属とを共晶化させることにより前記高
    融点金属をろう接するろう接方法。
  3. 【請求項3】 前記共晶化させた後に、共晶化物から炭
    素を脱炭させることを特徴とする請求項2記載のろう接
    方法。
  4. 【請求項4】 タングステンフィラメントと、該タング
    ステンフィラメントの一部に接合され、電子放出材を含
    有する高融点金属材料からなるカソードペレットとを具
    備し、前記接合部が、炭化タングステンと前記高融点金
    属材料との共晶物によりろう接されてなるカソード。
  5. 【請求項5】 前記炭化タングステンが、前記タングス
    テンフィラメントの炭化処理により形成されるW2Cか
    らなり、前記カソードペレットの電子放出面にもW2
    層が形成されてなる請求項4記載のカソード。
  6. 【請求項6】 前記カソードペレットが多孔質高融点金
    属に電子放出材が含有された多孔質体からなり、該カソ
    ードペレットの電子放出面に溶融固化されたW2C層が
    形成されてなる請求項4記載のカソード。
  7. 【請求項7】 多孔質高融点金属からなる多孔質体と、
    該多孔質体内に含有される電子放出材と、該電子放出材
    が含有された多孔質体の電子放出面に設けられる溶融固
    化されたW2C層とからなるカソード。
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