JP2002190637A - 半導体発光装置およびその製造方法 - Google Patents

半導体発光装置およびその製造方法

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豊 岡田
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 ワイヤはねやワイヤ倒れが起きるおそれを防
止することのできる半導体発光装置およびその製造方法
を提供する。 【解決手段】 アイレット4の突起部4bの上に、受光
素子を一体化した集積回路(OPIC)3が接着剤等で
固定されている。OPIC3とリードピン10との隙間
12は、OPIC3を搭載する装置の搭載位置精度で制
限され、通常1mm以下になっている。この隙間12に
絶縁性樹脂6を滴下することで隙間12を埋めて、UV
光を照射することで、絶縁性樹脂6を硬化させる。その
後、表面電極3aとリードピン10との間を導電性ダイ
ボンドペーストとしての銀ペースト13で配線する。そ
うすると、絶縁性樹脂6の上を通って銀ペースト薄膜電
極14が形成される。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、光ピックアップ等
に使用する、半導体レーザ装置(以下、LDGUと記
す)を利用した半導体発光装置に関し、特に、樹脂でリ
ードピンを固定したステムを用いた半導体発光装置にお
ける半導体素子とリードピンとの電気的接続構造に特徴
のある半導体発光装置に関する。
【0002】
【従来の技術】図6〜図8に、従来のLDGUの内部構
造(キャップを取った状態)を示す。図6は平面図、図
7は正面図である。図8は図7のX方向から見た側面図
である。LDGUの構成要素と役割は、以下のとおりで
ある。
【0003】1は半導体レーザ素子(以下、LDと記
す)、2はSiサブマウント、3は受光素子を一体化し
た集積回路(以下、OPICと記す)、3aは基板表面
に形成された電極をそれぞれ示している。
【0004】Siサブマウント2には、LDの後面から
の出射光を検出するモニター受光素子(図示せず)が形
成されている。このモニター受光素子により、LDの前
面からの光出力をモニターすることが可能になる。その
理由は、LDの後面からの光出力が前面からの光出力に
比例するからである。
【0005】4は金属製のアイレットと呼ばれる部材、
4aはステムの向きや位置を調整するためのアイレット
4における凹部をそれぞれ示している。5a〜5cはリ
ードピンを埋設して固定するための樹脂(ハッチング部
分)、10はリードピン、11は金属ワイヤをそれぞれ
示している。
【0006】リードピン10を埋設し、これらを固定し
ている樹脂5a〜5cは、アイレット4を上下に貫通し
ている。リードピン10は、樹脂5a〜5cの内部で必
要に応じて屈曲されるが、互いに接触はしないようにし
てある。リードピン10は、樹脂5a〜5cに埋設され
ているので、半導体レーザ装置を光ピックアップ等の他
の装置に組み立てるときや、使用しているときに、リー
ドピン10が変形して互いに接触したり断線したりする
心配はない。
【0007】リードピン10とアイレット4とは、とも
に金属であるので、必要な部分を除いて接触しないよう
に、樹脂5a〜5cで絶縁されている。アイレット4
は、外部に露出しているので、通常アースにして用いら
れる。
【0008】図示しないキャップ(半導体レーザの出射
光を通す窓が設けられた金属製のもので、半導体素子を
外部の湿気等から保護するため、あるいは外力による機
械的な破壊を防止するため等に用いられる)をLD1お
よびOPIC3等を覆うように設け、抵抗溶接等により
アイレット4に固定することで、半導体レーザ装置が完
成する。
【0009】LD1およびOPIC3は、アイレット4
の突起部4bの上に搭載されている。リードピン10と
LD1、またリードピン10と電極3aは、それぞれ柔
軟性に富んだ金属ワイヤ11により電気的に接続されて
いる。このように、柔軟性に富んだ金属ワイヤ11(通
常、φ25μmの金線)により接続することで、リード
ピン10と電極3aとの高さ、LD1とモニターPD表
面との高さが異なっていても、それらの接続には問題が
ない。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】通常、ステムとは、ア
イレット4、リードピン10、およびリードピン10を
埋設し固定するための樹脂5a〜5cからなる部分をい
う。このようなステムにまずOPIC3を搭載し、次に
金属ワイヤ11でOPIC3とリードピン10とを電気
的に接続し、その後にLD1を搭載する。
【0011】このとき、電極3aとリードピン10との
間の金属ワイヤ11が誤って切断されることがある。ま
た、金属ワイヤ11は柔軟であるため、ワイヤはねやワ
イヤ倒れ等が発生することがある。
【0012】ここで、ワイヤはねとは、金属ワイヤ11
と電極3aの、もしくは金属ワイヤ11とリードピン1
0のボンディング不良により、一度ボンディングした金
属ワイヤ11が電極3aもしくはリードピン10から剥
がれる現象をいう。また、ワイヤ倒れとは、電極3aや
リードピン10のボンディング面に対してほぼ垂直に延
びていた金属ワイヤ11が、外力によって傾く現象をい
う。ワイヤ倒れが起きると、金属ワイヤ11が所定の電
極3aや所定のリードピン10以外の電極、リードピン
またはアイレット等の導電体に接触したり、接触しない
までも間隔が狭くなって振動等により不意の接触が発生
したりしやすくなる。
【0013】半導体レーザ装置が完成した後にワイヤは
ねやワイヤ倒れが判明すると、不良品の発生という品質
問題の原因となる。また、半導体レーザ装置の製造中に
ワイヤはねやワイヤ倒れが判明すると、ワイヤボンダの
ボンディング条件調整のために装置の運転を停止させな
ければならず、生産効率が低下するという問題があっ
た。
【0014】本発明は、このような実情に鑑みてなされ
たものであり、ワイヤはねやワイヤ倒れが起きるおそれ
を防止することのできる半導体発光装置およびその製造
方法を提供することを課題とする。
【0015】
【課題を解決するための手段】本発明の1つの観点によ
れば、少なくとも受光用半導体素子が形成され、この半
導体素子の電極が表面に形成された基板が、樹脂にリー
ドピンを埋設したステムに搭載されてなる半導体発光装
置において、前記ステムの樹脂と前記基板との間の所定
部分が絶縁性樹脂で埋められ、かつ、前記リードピンと
前記基板表面の電極とが、該絶縁性樹脂の上を通って形
成された薄膜電極により接続されていることを特徴とす
る半導体発光装置が提供される。
【0016】基板には、少なくとも受光用半導体素子が
形成されている。また、この基板の表面には、該半導体
素子の電極が形成されている。このような基板がステム
に搭載されて半導体発光装置が作られている。ここで、
ステムとは一般に、アイレット、リードピン、およびリ
ードピンを埋設し固定するための樹脂からなる部分をい
う。
【0017】このステムの樹脂と基板との間の所定部分
−例えば、受光素子を一体化した集積回路とリードピン
との隙間−は絶縁性樹脂で埋められている。そして、リ
ードピンと基板表面の電極とは、該絶縁性樹脂の上を通
って形成された薄膜電極により接続されている。
【0018】すなわち、本発明に係る半導体発光装置
は、従来用いていた金属ワイヤに代えて、ステムの樹脂
と基板との間の所定部分を絶縁性樹脂で埋めるととも
に、リードピンと基板表面の電極とを、該絶縁性樹脂の
上を通って形成された薄膜電極により接続したことを特
徴とするものである。
【0019】本発明に係る半導体発光装置によれば、ス
テムの樹脂と基板との間の所定部分を埋めた絶縁性樹脂
の上を通って形成された薄膜電極は、薄いものであり、
また下地である該絶縁性樹脂に付いているので、従来の
ようなワイヤ倒れが起きる心配がなく、ストレスがかか
っていないので、従来のようなワイヤはねが起きる心配
もない。
【0020】本発明に係る半導体発光装置は、前記薄膜
電極が、導電性ダイボンドペーストであるのが好まし
い。この導電性ダイボンドペーストとしては例えば、熱
硬化性樹脂に針状またはフレーク状の銀を充填してなる
銀ペーストが好ましく用いられる。
【0021】このように、前記薄膜電極が、導電性ダイ
ボンドペーストである場合には、ステムの樹脂と基板と
の間の所定部分を埋めた絶縁性樹脂の上を通る印刷を施
すことで、リードピンと基板表面の電極とを導電性ダイ
ボンドペーストによって簡単に電気的接続することがで
きる。
【0022】本発明に係る半導体発光装置は、前記基板
表面の電極の表面高さと前記リードピンの表面高さと
が、ほぼ等しくされているのが好ましい。
【0023】このように、前記基板表面の電極の表面高
さと前記リードピンの表面高さとがほぼ等しくされてい
る場合には、ステムの樹脂と基板との間の所定部分を埋
めた絶縁性樹脂の上における該電極と該リードピンとの
距離がより短くなるので、両者を接続するための前記薄
膜電極の形成がいっそう容易になる。
【0024】本発明の別の観点によれば、少なくとも受
光用半導体素子が形成され、この半導体素子の電極が表
面に形成された基板を、樹脂にリードピンを埋設したス
テムに搭載する工程を備えてなる半導体発光装置の製造
方法において、前記ステムの樹脂と前記基板との間の所
定部分を絶縁性樹脂で埋める工程と、前記リードピンと
前記基板表面の電極とを該絶縁性樹脂の上を通って接続
するための薄膜電極を印刷法で形成する工程とをさらに
備えていることを特徴とする半導体発光装置の製造方法
が提供される。
【0025】すなわち、本発明に係る半導体発光装置の
製造方法は、従来、行っていた金属ワイヤの形成工程に
代えて、ステムの樹脂と基板との間の所定部分を絶縁性
樹脂で埋める工程と、リードピンと基板表面の電極とを
該絶縁性樹脂の上を通って接続するための薄膜電極を前
記のような印刷法で形成する工程とを施したことを特徴
とするものである。
【0026】本発明に係る半導体発光装置の製造方法に
よれば、従来のような金属ワイヤを形成する代わりに、
ステムの樹脂と基板との間の所定部分を埋めた絶縁性樹
脂の上を通って薄膜電極を形成するが、この薄膜電極は
薄いものであり、また下地である該絶縁性樹脂に付いて
いるので、従来のようなワイヤ倒れが起きる心配がな
く、ストレスがかかっていないので、従来のようなワイ
ヤはねが起きる心配もない。さらに、印刷法を用いて該
薄膜電極を形成するので、複数の電極を同時に配線する
ことが可能になり、半導体発光装置の製造時間が短くて
すむ。
【0027】本発明に係る半導体発光装置の製造方法
は、前記印刷法が、金属マスクを用いるものであるのが
好ましい。この金属マスクは、硬化させた絶縁性樹脂の
表面に配置する。
【0028】このように、前記印刷法が、金属マスクを
用いるものである場合には、印刷法を用いて薄膜電極を
いっそう確実にかつ効率的に形成することができる。
【0029】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を説明
する。なお、本発明は、これによって限定されるもので
はない。
【0030】図1〜図3を用いて本発明に係る半導体発
光装置としての半導体レーザ装置(LDGU)を説明す
る。図1は平面図、図2は正面図であり、図3は図2の
X方向から見た側面図である。なお、便宜上、従来のL
DGUと同じ部分については、同じ符号を付すことで、
詳細な説明を省略する。
【0031】アイレット4の突起部(金属ブロック)4
bの上に、受光素子を一体化した集積回路(OPIC)
3が接着剤等で固定されている。
【0032】OPIC3とリードピン10との隙間12
は、OPIC3を搭載する装置の搭載位置精度で制限さ
れ、通常1mm以下になっている。この隙間12に絶縁
性樹脂6を滴下することで隙間12を埋めて、その絶縁
性樹脂6を硬化させる。
【0033】この時、絶縁性樹脂6は、隙間12の底部
に達していてもよいが、図3に示すように、隙間12の
底部に達していなくてもよい。要は、絶縁性樹脂6が硬
化するまで、絶縁性樹脂6の表面が電極3aの表面およ
びリードピン10の表面と滑らかにつながっており、ほ
ぼ同じ高さに保たれていればよい。
【0034】なお、図3には、OPIC4と樹脂5bと
の隙間12についてのみ絶縁性樹脂6を滴下した状態を
示しているが、OPIC4と樹脂5cとの隙間12につ
いても絶縁性樹脂6を滴下することは言うまでもない。
【0035】隙間12を埋めるために使用する絶縁性樹
脂6としては、粘度の高いもの、例えば粘度が1000
0Cp(センチポアズ)以上のものが望ましく、さらに
好ましくは、チクソ性の高いUV樹脂を使用するものが
望ましい。ここで、チクソ性とは、樹脂を滴下したとき
にその樹脂が自身の形状を保とうとする性質であり、チ
クソ性が高いとは、樹脂が滴下されてから、周囲に広が
って行くまでの時間の長いことを意味する。
【0036】絶縁性樹脂6にUV光を照射して絶縁性樹
脂6を硬化させた後、表面電極3aとリードピン10と
の間を導電性ダイボンドペースト、例えば銀ペースト
(例えば、熱硬化性樹脂に針状またはフレーク状の銀を
充填したもの)で配線する。
【0037】すなわち、図4のように、銀ペースト13
を塗布したスタンパ(またはローラ)9を、硬化させた
絶縁性樹脂6の表面に配置した金属マスク8の上から押
し付ける。そうすると、図5のように、通常の印刷と同
様に電極3aとリードピン10を接続するように、絶縁
性樹脂6の上を通って銀ペースト薄膜電極14が形成さ
れる。
【0038】銀ペースト薄膜電極14は、電極3aが複
数あっても同時に印刷することができるので、従来のよ
うに金属ワイヤで接続する場合に比べて、製造時間が短
くてすむ、という利点もある。薄膜電極14の印刷後
に、温度を上昇させて銀ペースト13を硬化させること
により配線が完了する。
【0039】なお、突起部4bの高さをより低くして、
電極3aの表面高さがリードピン10の表面高さとほぼ
等しくなるようにすれば、印刷の途切れが少なくなるの
でより好ましいことは言うまでもない。
【0040】
【発明の効果】本発明の請求項1に記載の半導体発光装
置にあっては、少なくとも受光用半導体素子が形成さ
れ、この半導体素子の電極が表面に形成された基板が、
樹脂にリードピンを埋設したステムに搭載されてなる半
導体発光装置において、前記ステムの樹脂と前記基板と
の間の所定部分が絶縁性樹脂で埋められ、かつ、前記リ
ードピンと前記基板表面の電極とが、該絶縁性樹脂の上
を通って形成された薄膜電極により接続されていること
を特徴とする。したがって、ステムの樹脂と基板との間
の所定部分を埋めた絶縁性樹脂の上を通って形成された
薄膜電極は、薄いものであり、また下地である該絶縁性
樹脂に付いているので、従来のようなワイヤ倒れが起き
る心配がなく、ストレスがかかっていないので、従来の
ようなワイヤはねが起きる心配もない。
【0041】本発明の請求項2に記載の半導体発光装置
にあっては、前記薄膜電極が、導電性ダイボンドペース
トであるので、ステムの樹脂と基板との間の所定部分を
埋めた絶縁性樹脂の上を通る印刷を施すことで、リード
ピンと基板表面の電極とを導電性ダイボンドペーストに
よって簡単に電気的接続することができる。
【0042】本発明の請求項3に記載の半導体発光装置
にあっては、前記基板表面の電極の表面高さと前記リー
ドピンの表面高さとが、ほぼ等しくされている。したが
って、ステムの樹脂と基板との間の所定部分を埋めた絶
縁性樹脂の上における該電極と該リードピンとの距離が
より短くなるので、両者を接続するための前記薄膜電極
の形成がいっそう容易になる。
【0043】本発明の請求項4に記載の半導体発光装置
の製造方法にあっては、少なくとも受光用半導体素子が
形成され、この半導体素子の電極が表面に形成された基
板を、樹脂にリードピンを埋設したステムに搭載する工
程を備えてなる半導体発光装置の製造方法において、前
記ステムの樹脂と前記基板との間の所定部分を絶縁性樹
脂で埋める工程と、前記リードピンと前記基板表面の電
極とを該絶縁性樹脂の上を通って接続するための薄膜電
極を印刷法で形成する工程とをさらに備えていることを
特徴とする。したがって、従来のような金属ワイヤを形
成する代わりに、ステムの樹脂と基板との間の所定部分
を埋めた絶縁性樹脂の上を通って薄膜電極を形成する
が、この薄膜電極は薄いものであり、また下地である該
絶縁性樹脂に付いているので、従来のようなワイヤ倒れ
が起きる心配がなく、ストレスがかかっていないので、
従来のようなワイヤはねが起きる心配もない。さらに、
印刷法を用いて該薄膜電極を形成するので、複数の電極
を同時に配線することが可能になり、半導体発光装置の
製造時間が短くてすむ。
【0044】本発明の請求項5に記載の半導体発光装置
の製造方法にあっては、前記印刷法が、金属マスクを用
いるものであるので、印刷法を用いて薄膜電極をいっそ
う確実にかつ効率的に形成することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】図1は、本発明の実施の形態に係る半導体発光
装置としての半導体レーザ装置の平面図である。
【図2】図2は、図1の半導体レーザ装置の正面図であ
る。
【図3】図3は、図2の半導体レーザ装置をX方向から
見た側面図である。
【図4】図4は、図1の半導体レーザ装置に施される、
銀ペーストを用いて印刷法により配線を行う方法の第1
段階を示す側面図である。
【図5】図5は、図1の半導体レーザ装置に施される、
銀ペーストを用いて印刷法により配線を行う方法の第2
段階を示す側面図である。
【図6】図6は、従来の半導体レーザ装置の平面図であ
る。
【図7】図7は、図6の半導体レーザ装置の正面図であ
る。
【図8】図8は、図7の半導体レーザ装置をX方向から
見た側面図である。
【符号の説明】
1 半導体レーザ素子 2 Siサブマウント 3 受光素子を一体化した集積回路 3a 電極 4 アイレット 4a 凹部 4b 突起部 5a 樹脂 5b 樹脂 5c 樹脂 6 絶縁性樹脂 8 金属マスク 10 リードピン 11 金属ワイヤ 12 隙間 13 銀ペースト 14 薄膜電極

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 少なくとも受光用半導体素子が形成さ
    れ、この半導体素子の電極が表面に形成された基板が、
    樹脂にリードピンを埋設したステムに搭載されてなる半
    導体発光装置において、 前記ステムの樹脂と前記基板との間の所定部分が絶縁性
    樹脂で埋められ、かつ、前記リードピンと前記基板表面
    の電極とが、該絶縁性樹脂の上を通って形成された薄膜
    電極により接続されていることを特徴とする半導体発光
    装置。
  2. 【請求項2】 前記薄膜電極が、導電性ダイボンドペー
    ストであることを特徴とする請求項1に記載の半導体発
    光装置。
  3. 【請求項3】 前記基板表面の電極の表面高さと前記リ
    ードピンの表面高さとが、ほぼ等しくされていることを
    特徴とする請求項1または2に記載の半導体発光装置。
  4. 【請求項4】 少なくとも受光用半導体素子が形成さ
    れ、この半導体素子の電極が表面に形成された基板を、
    樹脂にリードピンを埋設したステムに搭載する工程を備
    えてなる半導体発光装置の製造方法において、 前記ステムの樹脂と前記基板との間の所定部分を絶縁性
    樹脂で埋める工程と、 前記リードピンと前記基板表面の電極とを該絶縁性樹脂
    の上を通って接続するための薄膜電極を印刷法で形成す
    る工程とをさらに備えていることを特徴とする半導体発
    光装置の製造方法。
  5. 【請求項5】 前記印刷法が、金属マスクを用いるもの
    であることを特徴とする請求項4に記載の半導体発光装
    置の製造方法。
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