JP2002178554A - 画像形成装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】画像形成装置のより一層小型化を図り、また部
品点数をより一層削減してより一層シンプルで安価な構
成にしかつ静電潜像の書込をより安定して行う。 【解決手段】書込電極３ｂの抵抗層１３の上部が上方に
突出するほぼ半球形の凸部に形成されている。したがっ
て、抵抗層１３の上面が球面となり、潜像担持体２の帯
電体層２ｄと点接触する。これにより、潜像担持体２の
表面に付着する異物が容易にすり抜けられるようにな
り、潜像担持体２の表面のフィルミングが防止される。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、書込装置の書込電
極により潜像担持体上に静電潜像を形成することで画像
を形成する画像形成装置の技術分野に属する。

【０００２】

【従来の技術】従来、静電複写機やプリンタ等の画像形
成装置においては、一般的に帯電装置により感光体の表
面を一様帯電し、この一様帯電された感光体の表面にレ
ーザ光あるいはＬＥＤランプ光等の露光装置の光を露光
することにより、感光体の表面に静電潜像を書き込むよ
うになっている。そして、感光体の表面の静電潜像を現
像装置で現像して感光体の表面に現像剤像を形成し、こ
の現像剤像を転写装置によって紙等の転写材に転写し
て、画像を形成している。このような従来の一般的な画
像形成装置では、静電潜像の書込装置である露光装置が
レーザ光発生装置あるいはＬＥＤランプ光発生装置等に
よって構成されているため、画像形成装置が大型でかつ
複雑な構成となっている。

【０００３】そこで、静電潜像の書込装置として、レー
ザ光やＬＥＤランプ光を用いずに電極により潜像担持体
の表面に静電潜像を書き込む画像形成装置が特公昭６３
−４５０１４号公報において提案されている。この公告
公報に開示されている画像形成装置は多数の針電極を有
するマルチスタイラスを備えており、潜像担持体の表面
の無機ガラス層にマルチスタイラスの針電極を単に接触
させている。そして、画像情報の入力信号によりマルチ
スタイラスの対応する針電極に電圧が加えられると、こ
の針電極によって潜像担持体に静電潜像が形成されるよ
うになっている。この公告公報の画像形成装置によれ
ば、書込装置として従来のような露光装置を用いていな
いので、その分、画像形成装置が小型でかつ比較的シン
プルな構成となっている。

【０００４】また、コロナ放電器により発生させたイオ
ンを、絶縁性基板の先端部に設け潜像担持体に非接触の
イオン制御電極により制御することにより、潜像担持体
に静電潜像を書き込む画像形成装置が特開平０６−１６
６２０６号公報において提案されている。この公開公報
の画像形成装置によっても、書込装置として露光装置を
用いないので、画像形成装置が小型でかつ比較的シンプ
ルな構成となる。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前述の
公告公報の画像形成装置においては、マルチスタイラス
の多数の針電極を潜像担持体の表面の無機ガラス層に単
に接触させているだけであるので、多数の針電極を潜像
担持体の表面の無機ガラス層に安定して接触させること
が難しい。このため、潜像担持体の表面を安定して帯電
させることは難しく、良好な画像を得ることが難しいと
いう問題がある。

【０００６】また、多数の針電極の接触による潜像担持
体の表面の損傷を防止するために無機ガラス層を潜像担
持体の表面に設けることが余儀なくされ、潜像担持体の
構成がその分複雑になる。しかも、無機ガラス層は物理
吸着水特性がきわめてよいことから、無機ガラスの表面
に水分がよく吸着し、この吸着した水分によりガラス表
面の電気伝導率が高められて潜像担持体の帯電電荷が漏
洩してしまうため、水分が吸着した潜像担持体の表面を
乾燥させて物理吸着水の影響を防止する手段を設ける必
要がある。このため、装置が更に大型になるばかりでな
く、部品点数が増えて構成が更に複雑になりかつコスト
が高いものとなってしまうという問題がある。

【０００７】更に、多数の針電極から放電されるため、
オゾン（Ｏ₃）が発生する可能性が大きいという問題も
ある。このオゾンにより、装置内の部品に錆を発生させ
るばかりでなく、ＮＯ_xと反応して発生する硝酸（ＨＮ
Ｏ₃）により樹脂部品を溶融させるおそれが考えられ
る。しかも、オゾンによって異臭が発生するおそれがあ
る。このため、オゾンを装置内から排出させなければな
らないが、そのためにダクトおよびオゾンフィルタを設
けて排気系を十分にする必要があり、装置が大型になる
ばかりでなく、部品点数が増えて構成がより複雑になり
かつコストが高いものとなってしまう。

【０００８】また、前述の公開公報の画像形成装置にお
いては、イオン制御電極がコロナ放電器で発生したイオ
ンを制御するものであって、潜像担持体に直接電荷を注
入させるものではないので、画像形成装置が大型になら
ざるを得ないばかりでなく、構成がきわめて複雑になる
という問題がある。しかも、イオンによる帯電のため、
潜像担持体により安定して静電潜像を書き込むことは難
しい。更に、イオンを発生させるため、基本的にオゾン
が発生するため、前述の公告公報の画像形成装置と同じ
ような問題が生じる。

【０００９】本発明は、このような問題に鑑みてなされ
たものであって、その目的は、より一層小型化を図ると
ともに、部品点数をより一層削減してより一層シンプル
で安価な構成にしながら、しかも静電潜像の書込をより
安定して行うことのできる画像形成装置を提供すること
である。本発明の他の目的は、オゾンの発生をより一層
抑制することのできる画像形成装置を提供することであ
る。

【００１０】

【課題を解決するための手段】この課題を解決するため
に、請求項１の発明は、静電潜像が形成される潜像担持
体と、前記潜像担持体に前記静電潜像を書き込む書込装
置と、前記潜像担持体上の前記静電潜像を現像する現像
装置と少なくとも備え、前記書込装置によって前記潜像
担持体に書き込まれた前記静電潜像を前記現像装置で現
像することにより画像を形成する画像形成装置におい
て、前記書込装置が前記潜像担持体に前記静電潜像を書
き込む書込電極とこの書込電極を支持する可撓性の基材
とを有し、前記書込電極は前記可撓性の基材の弾性によ
り小さい押圧力で前記潜像担持体に接触されており、前
記書込電極が前記基材から前記潜像担持体に向かって突
出する凸部からなることを特徴としている。

【００１１】また、請求項２の発明は、前記書込電極
が、球の一部、円柱、円錐、截頭円錐台、楕円柱（横断
面が楕円の柱体）、楕円錐（横断面が楕円の錐体）、截
頭楕円錐台（横断面が楕円の截頭錐体）、長円柱（横断
面が長円の柱体）、長円錐（横断面が長円の錐体）、截
頭長円錐台（横断面が長円の截頭錐体）、三角柱、三角
錐、截頭三角錐台、四角柱、四角錐、截頭四角錐台、５
角以上の多角柱、５角以上の多角錐、および５角以上の
截頭多角錐台のいずれか１つの形状で形成されているこ
とを特徴としている。

【００１２】更に、請求項３の発明は、少なくとも前記
書込電極は保護層によりオーバーコートされていること
を特徴としている。更に、請求項４の発明は、前記書込
電極の少なくとも前記潜像担持体に対向する部分は摩耗
性の部材から構成されていることを特徴としている。

【００１３】更に、請求項５の発明は、前記現像装置が
前記静電潜像を一成分現像剤で現像する現像装置である
とともに、前記現像装置で現像された前記潜像担持体上
の現像剤像を転写材に転写する転写装置を備えており、
転写後に前記潜像担持体に残留する残留現像剤が、少な
くとも前記現像装置による前記静電潜像の現像前に前記
一成分現像剤がもともと持つべき極性と同じ極性に帯電
されるようになっていることを特徴としている。

【００１４】更に、請求項６の発明は、少なくとも前記
書込電極と前記潜像担持体との間に多数の微小粒子が転
がり可能に介在しているとともに、これらの微小粒子
が、少なくとも前記現像装置による前記静電潜像の現像
前に前記現像剤がもともと持つべき極性と同じ極性に帯
電されるようになっていることを特徴としている。

【００１５】更に、請求項７の発明は、前記潜像担持体
を一様電荷状態にする潜像担持体一様電荷制御装置を備
え、この潜像担持体一様電荷制御装置による前記潜像担
持体の一様電荷制御時に、転写後に前記潜像担持体に残
留する残留現像剤が同時にもともと前記一成分現像剤が
持つべき極性と同じ極性に帯電されるようになっている
ことを特徴としている。更に、請求項８の発明は、前記
現像が反転現像であることを特徴としている。

【００１６】

【作用】このように構成された本発明の画像形成装置に
おいては、書込電極の凸部が潜像担持体に接触し、書込
装置の全面が潜像担持体に接触することはなくなる。こ
のように、書込電極の凸部が潜像担持体に接触すること
により、潜像担持体の表面に付着する異物が容易にすり
抜けられるようになり、潜像担持体の表面のフィルミン
グが防止される。

【００１７】また、書込電極が可撓性の基材に支持され
ているので、潜像担持体に対する書込電極の位置が安定
する。これにより、潜像担持体に対する書込電極による
帯電または除電がより安定して行われるので、静電潜像
が潜像担持体により安定して書き込まれるようになり、
良好な画像が確実にかつ高精度に得られるようになる。

【００１８】更に、可撓性の基材により、書込電極が小
さい押圧力で潜像担持体に接触可能となるので、書込電
極と潜像担持体との間の空間的なギャップがなくなる。
これにより、この空間的なギャップの空気が不要にイオ
ン化される機会が減少するので、オゾンの発生がより一
層抑制されるようになるとともに、低電位で静電潜像が
形成可能となる。しかも、書込電極による潜像担持体の
損傷が防止され、潜像担持体の耐久性が向上する。

【００１９】更に、書込装置として書込電極が用いられ
ているだけであり、従来のような大型のレーザ光発生装
置やＬＥＤランプ光発生装置等が不要となる。したがっ
て、装置がより一層小型化になるとともに、部品点数が
より一層削減されて一層シンプルで安価な画像形成装置
が得られる。

【００２０】特に、請求項２の発明においては、書込電
極の凸部が種々の形状に形成されるので、種々のタイプ
の画像形成装置に柔軟に対応することができる。特に、
書込電極の凸部が球の一部、円錐、楕円錐、長円錐、三
角錐、四角錐、および５角以上の多角錐で形成されるこ
とで、書込電極と潜像担持体とが点接触する。したがっ
て、潜像担持体の表面に付着する異物がより一層確実に
すり抜けられるようになる。また、書込電極の凸部が円
柱、截頭円錐台、楕円柱、截頭楕円錐台、長円柱、截頭
長円錐台、三角柱、截頭三角錐台、横断面が平行四辺形
あるいは台形の四角柱、横断面が平行四辺形あるいは台
形の截頭四角錐台、５角以上の多角柱、５角以上の多角
錐、および５角以上の截頭多角錐台で形成されること
で、書込電極の側面が副走査方向に傾斜するようにな
る。したがって、潜像担持体の表面に付着する異物がこ
の傾斜面沿って容易にすり抜けられるようになる。

【００２１】また、請求項３の発明においては、少なく
とも書込電極が保護層によりオーバーコートされるよう
になる。この保護層により、書込電極の摩耗が防止され
るとともに、異物が書込電極に付着し難くなる。

【００２２】更に、請求項４の発明においては、書込電
極の潜像担持体に対向する部分が摩耗性の部材から構成
されているので、書込電極の表面が潜像担持体に接触す
ることで削られてリフレッシュすることにより、書込電
極の表面は常時初期状態に保持され、書込電極のフィル
ミングが防止されるようになる。

【００２３】更に、請求項５の発明においては、転写後
に潜像担持体に残留する残留現像剤が、現像装置の一成
分現像剤がもともと持つべき極性と同じ極性に帯電され
るようになる。したがって、現像時に、潜像担持体上の
非画像部にありかつこのように帯電された残留現像剤は
現像装置の現像ローラの方へ移動し、また、潜像担持体
上の画像部にありかつこのように帯電された残留現像剤
はそのまま潜像担持体に残って現像剤像として用いられ
るようになる。そして、潜像担持体上の非画像部にある
残留現像剤の現像ローラへの移動により、潜像担持体の
クリーニングがクリーナを設けなくても行われるように
なる。すなわち、本発明の画像形成装置は、クリーナを
設けることなく、現像とクリーニングを同時に行うクリ
ーナレス現像同時クリーニング方式により画像形成を行
うようになる。

【００２４】このように本発明の画像形成装置は、請求
項５の発明の書込装置を用いることにより、より小型で
よりシンプルな構成となるが、これに加えて、クリーナ
装置を設けないクリーナレスになるので、更にシンプル
な構成となる。

【００２５】更に、請求項６の発明においては、少なく
とも書込電極と潜像担持体との間に多数の微小粒子が介
在されるので、これらの微小粒子により、潜像担持体の
表面に付着する異物が容易にすり抜けられるようにな
り、潜像担持体の表面および書込電極の表面のフィルミ
ングが防止されるようになる。また、これらの微小粒子
が回転することにより、書込電極と潜像担持体との間の
摩擦が低減するので、潜像担持体を回転させるトルクが
低減する。

【００２６】しかも、微小粒子が、現像装置の一成分現
像剤がもともと持つべき極性と同じ極性に帯電されるの
で、潜像担持体上の非画像部にありかつこのように帯電
された微小粒子により、潜像担持体の非画像部の現像剤
の除去・回収が更に効果的に行われるようになる。これ
より、潜像担持体を一様電荷に制御する潜像担持体一様
電荷制御装置を省略してクリーニング装置を用いない装
置構成とするには、このように微小粒子が書込電極と潜
像担持体との間に介在させることが有効となる。

【００２７】更に、請求項７の発明においては、転写後
に潜像担持体に残留する残留現像剤が、潜像担持体一様
電荷制御装置による潜像担持体の一様電荷制御と同時に
もともと現像装置の現像剤が持つべき極性と同じ極性に
帯電されるので、この残留現像剤の帯電がより簡単に行
われるようになる。

【００２８】更に、請求項８の発明においては、現像が
反転現像法により行われるようになる。この反転現像法
においては、潜像担持体の一様電荷制御工程で残留現像
剤が現像装置の現像剤と同じ帯電極性に揃えられるた
め、現像同時クリーニングがより簡単にかつより有効に
行われるようになる。

【００２９】

【発明の実施の形態】以下、図面を用いて、本発明の実
施の形態について説明する。図１は、本発明に係る画像
形成装置の実施の形態の基本構成を模式的に示す図であ
る。図１に示すように、本発明に係る画像形成装置１
は、静電潜像が形成される潜像担持体２と、潜像担持体
２に接触してこの潜像担持体２に静電潜像を書き込む書
込装置（以下、書込ヘッドともいう）３と、潜像担持体
２上の静電潜像を現像剤担持体（現像ローラ）４ａに担
持・搬送された現像剤で現像する現像装置４と、この現
像装置４で現像された潜像担持体２上の現像剤像を紙等
の転写材５に転写する転写装置６と、転写後の潜像担持
体２上に残っている電荷を除電するかまたは転写後の潜
像担持体２を帯電するかして潜像担持体２上を一様電荷
状態にする潜像担持体一様電荷制御装置７とを少なくと
も備えている。以下の説明においては、潜像担持体２は
すべて接地されているものとして説明するが、これは説
明の便宜上であって、本発明は潜像担持体２が接地され
ることに限定されるものではない。

【００３０】書込ヘッド３は、ＦＰＣ（Flexible Print
Circuit の略、以下ＦＰＣと称す）あるいはＰＥＴ
（ポリエチレンテレフタレートの略、以下ＰＥＴと称
す）等の絶縁性が高くかつ比較的柔らかく弾性のある可
撓性の基材３ａと、基材３ａに支持されかつこの基材３
ａの撓みによる弱い弾性復元力で潜像担持体２上に軽く
押圧されて接触して静電潜像を書き込む書込電極３ｂと
を備えている。

【００３１】このように構成された画像形成装置１にお
いては、潜像担持体一様電荷制御装置７で潜像担持体２
上を一様電荷状態にした後、潜像担持体２に接触してい
る書込ヘッド３により、静電潜像が一様電荷状態の潜像
担持体２上に書き込まれる。そして、潜像担持体２上の
静電潜像が現像装置４の現像剤で現像され、その現像剤
像が転写装置６で転写材５に転写される。なお、本発明
においては、潜像担持体２上の電荷を除電して潜像担持
体２上に（＋）および（−）のいずれの電荷も一様にな
い状態も一様電荷状態であるとする。

【００３２】図２は、本発明の画像形成装置１における
画像形成の基本プロセスを示す図である。本発明の画像
形成装置１における画像形成の基本プロセスとして、
(1) 一様除電−接触帯電書込−正規現像、(2) 一様除電
−接触帯電書込−反転現像、(3) 一様帯電−接触除電書
込−正規現像、および(4) 一様除電−接触除電書込−反
転現像の４つの画像形成プロセスがある。以下、これら
の画像形成プロセスについて説明する。

【００３３】(1) 一様除電−接触帯電書込−正規現像 この画像形成プロセスの一例として、図２（ａ）に示す
プロセスがある。図２（ａ）に示すように、この画像形
成プロセスは潜像担持体２として感光体２ａが用いられ
ているとともに、潜像担持体一様電荷制御装置７として
除電ランプ７ａが用いられている。また、書込装置３の
書込電極３ｂは感光体２ａに接触し、主として、書込電
極３ｂから感光体２ａの画像部へ（＋）電荷を移動させ
て（つまり、電荷注入して）感光体２ａの画像部を
（＋）帯電することで、この感光体２ａに静電潜像を書
き込むようになっている。更に、現像装置４の現像ロー
ラ等の現像剤担持体４ａには、従来と同様に例えば
（−）の直流に交流が重畳されたバイアス電圧が印加さ
れていて、現像剤担持体４ａは（−）に帯電された現像
剤８を感光体２ａの方へ搬送するようになっている。な
お、現像剤担持体４ａには（−）の直流のみのバイアス
電圧を印加することもできる。

【００３４】この例の画像形成プロセスにおいては、除
電ランプ７ａにより感光体２ａの表面の電荷が除電され
て感光体２ａ上が、電荷が取り除かれた０Ｖに近い一様
電荷状態にされた後、書込装置３の書込電極３ｂにより
感光体２ａ上の画像部が（＋）帯電されてこの感光体２
ａ上に静電潜像が書き込まれる。そして、現像装置４の
現像剤担持体４ａによって搬送される（−）帯電された
現像剤８が感光体２ａの（＋）帯電された画像部に付着
して静電潜像が正規現像される。

【００３５】この画像形成プロセスの他の例として、図
２（ｂ）に示すプロセスがある。図２（ｂ）に示すよう
に、この画像形成プロセスは潜像担持体２として誘電体
２ｂが用いられているとともに、潜像担持体一様電荷制
御装置７として除電ローラ７ｂが用いられている。現像
装置４の現像剤担持体４ａには、従来と同様に例えば
（−）の直流のバイアス電圧が印加される。なお、現像
剤担持体４ａには（−）の直流に交流が重畳されたバイ
アス電圧を印加することもできる。また、除電ローラ７
ｂには、交流のバイアス電圧が印加される。この例の画
像形成プロセスの他の構成は、前述の図２（ａ）に示す
例と同じである。この例の画像形成プロセスにおいて
は、除電ローラ７ｂが誘電体２ｂに接触されており、こ
の除電ローラ７ｂにより誘電体２ｂの電荷が除電されて
誘電体２ｂ上が、電荷が取り除かれた０Ｖに近い一様電
荷状態にされる。その後の画像形成動作は、感光体２ａ
が誘電体２ｂに変わるだけで前述の図２（ａ）に示す例
と同じである。

【００３６】(2) 一様除電−接触帯電書込−反転現像 この画像形成プロセスの一例として、図２（ｃ）に示す
プロセスがある。図２（ｃ）に示すように、この画像形
成プロセスは、図２（ａ）に示す例と同様に、潜像担持
体２として感光体２ａが用いられているとともに、潜像
担持体一様電荷制御装置７として除電ランプ７ａが用い
られている。また、書込装置３の書込電極３ｂは感光体
２ａに接触して、主として、書込電極３ｂから感光体２
ａの画像部へ（−）電荷を移動させて（つまり、電荷注
入して）、感光体２ａの非画像部を（−）帯電するよう
になっている。この例の画像形成プロセスの他の構成
は、前述の図２（ａ）に示す例と同じである。

【００３７】この例の画像形成プロセスにおいては、除
電ランプ７ａにより感光体２ａの電荷が除電されて感光
体２ａ上が、電荷が取り除かれた０Ｖに近い一様電荷状
態にされた後、書込装置３の書込電極３ｂにより感光体
２ａ上の非画像部が（−）帯電されてこの感光体２ａ上
に静電潜像が書き込まれる。そして、現像装置４の現像
剤担持体４ａによって搬送される（−）帯電された現像
剤８が感光体２ａ上の（−）帯電されない０Ｖに近い画
像部に付着して静電潜像が反転現像される。

【００３８】この画像形成プロセスの他の例として、図
２（ｄ）に示すプロセスがある。図２（ｄ）に示すよう
に、この画像形成プロセスは、図２（ｂ）に示す例と同
様に潜像担持体２として誘電体２ｂが用いられていると
ともに、潜像担持体一様電荷制御装置７として除電ロー
ラ７ｂが用いられている。また、書込装置３の書込電極
３ｂは誘電体２ｂに接触してこの誘電体２ｂの非画像部
を（−）帯電するようになっている。この例の画像形成
プロセスの他の構成は、前述の図２（ｂ）に示す例と同
じである。

【００３９】この例の画像形成プロセスにおいては、除
電ローラ７ｂが誘電体２ｂに接触されており、この除電
ローラ７ｂにより誘電体２ｂの電荷が除電されて誘電体
２ｂ上が、電荷が取り除かれた０Ｖに近い一様電荷状態
にされる。その後の画像形成動作は、感光体２ａが誘電
体２ｂに変わるだけで前述の図２（ｃ）に示す例と同じ
である。

【００４０】(3) 一様帯電−接触除電書込−正規現像 この画像形成プロセスの一例として、図２（ｅ）に示す
プロセスがある。図２（ｅ）に示すように、この画像形
成プロセスは潜像担持体２として感光体２ａが用いられ
ているとともに、潜像担持体一様電荷制御装置７として
帯電ローラ７ｃが用いられている。この帯電ローラ７ｃ
には（＋）の直流に交流が重畳されたバイアス電圧が印
加されていて、帯電ローラ７ｃは感光体２ａ上を（＋）
に一様帯電するようになっている。なお、帯電ローラ７
ｃには（＋）の直流のみのバイアス電圧を印加すること
もできる。また、書込装置３の書込電極３ｂと感光体２
ａとが接触し、感光体２ａの非画像部から書込電極３ｂ
に（＋）電荷を移動させて（つまり、電荷抽出して）、
感光体２ａの非画像部の（＋）電荷を除電するようにな
っている。この例の画像形成プロセスの他の構成は図２
（ａ）に示す例と同じである。

【００４１】この例の画像形成プロセスにおいては、帯
電ローラ７ｃが感光体２ａに接触され、この帯電ローラ
７ｃにより感光体２ａ上が（＋）帯電されて所定電圧の
一様電荷状態にされた後、書込装置３の書込電極３ｂに
より感光体２ａ上の非画像部の（＋）電荷が除電されて
この感光体２ａ上に静電潜像が書き込まれる。そして、
現像装置４の現像剤担持体４ａによって搬送される
（−）帯電された現像剤８が感光体２ａの（＋）帯電さ
れた画像部に付着して静電潜像が正規現像される。

【００４２】この画像形成プロセスの他の例として、図
２（ｆ）に示すプロセスがある。図２（ｆ）に示すよう
に、この画像形成プロセスは潜像担持体２として誘電体
２ｂが用いられているとともに、潜像担持体一様電荷制
御装置７として帯電用コロナ放電器７ｄが用いられてい
る。図示しないが、この帯電用コロナ放電器７ｄには、
従来と同様に（−）の直流のバイアス電圧または（−）
の直流に交流を重畳されたバイアス電圧が印加される。
また、書込装置３の書込電極３ｂは誘電体２ｂに接触し
て誘電体２ｂの非画像部の（−）電荷を除電するように
なっている。更に、現像剤担持体４ａには（＋）の直流
のバイアス電圧が印加されていて、現像剤担持体４ａは
（＋）に帯電された現像剤８を誘電体２ｂの方へ搬送す
るようになっている。なお、現像剤担持体４ａには
（＋）の直流と交流とを重畳したバイアス電圧を印加す
ることもできる。この例の画像形成プロセスの他の構成
は、前述の図２（ｂ）に示す例と同じである。

【００４３】この例の画像形成プロセスにおいては、帯
電用コロナ放電器７ｄにより誘電体２ｂ上が（−）帯電
されて所定電圧の一様電荷状態にされた後、書込装置３
の書込電極３ｂにより感光体２ａ上の非画像部の（−）
電荷が除電されてこの誘電体２ｂ上に静電潜像が書き込
まれる。そして、現像装置４の現像剤担持体４ａによっ
て搬送される（＋）帯電された現像剤８が誘電体２ｂの
（−）帯電された画像部に付着して静電潜像が正規現像
される。

【００４４】(4) 一様帯電−接触除電書込−反転現像 この画像形成プロセスの一例として、図２（ｇ）に示す
プロセスがある。図２（ｇ）に示すように、この画像形
成プロセスは潜像担持体２として感光体２ａが用いられ
ているとともに、潜像担持体一様電荷制御装置７として
帯電ローラ７ｃが用いられている。この帯電ローラ７ｃ
には（−）の直流に交流が重畳されたバイアス電圧が印
加されていて、帯電ローラ７ｃは感光体２ａ上を（−）
に一様帯電するようになっている。なお、帯電ローラ７
ｃには（−）の直流のみのバイアス電圧を印加すること
もできる。また、書込装置３の書込電極３ｂと感光体２
ａとが接触し、感光体２ａの画像部から書込電極３ｂに
（−）電荷を移動させて（つまり、電荷抽出して）、感
光体２ａの画像部の（−）電荷を除電するようになって
いる。この例の画像形成プロセスの他の構成は図２
（ａ）に示す例と同じである。

【００４５】この例の画像形成プロセスにおいては、帯
電ローラ７ｃが感光体２ａに接触され、この帯電ローラ
７ｃにより感光体２ａ上が（−）帯電されて所定電圧の
一様電荷状態にされた後、書込装置３の書込電極３ｂに
より感光体２ａ上の画像部の（−）電荷が除電されてこ
の感光体２ａ上に静電潜像が書き込まれる。そして、現
像装置４の現像ローラ４ａによって搬送される（−）帯
電された現像剤８が感光体２ａの（−）帯電されない画
像部に付着して静電潜像が反転現像される。

【００４６】この画像形成プロセスの他の例として、図
２（ｈ）に示すプロセスがある。図２（ｈ）に示すよう
に、この画像形成プロセスは潜像担持体２として誘電体
２ｂが用いられているとともに、潜像担持体一様電荷制
御装置７として帯電用コロナ放電器７ｄが用いられてい
る。図示しないが、この帯電用コロナ放電器７ｄには、
従来と同様に（＋）の直流のバイアス電圧または（＋）
の直流に交流を重畳されたバイアス電圧が印加される。
この例の画像形成プロセスの他の構成は、前述の図２
（ｆ）に示す例と同じである。

【００４７】この例の画像形成プロセスにおいては、帯
電用コロナ放電器７ｄにより誘電体２ｂ上が（＋）帯電
されて所定電圧の一様電荷状態にされた後、書込装置３
の書込電極３ｂにより感光体２ａ上の画像部の（＋）電
荷が除電されてこの誘電体２ｂ上に静電潜像が書き込ま
れる。そして、現像装置４の現像ローラ４ａによって搬
送される（＋）帯電された現像剤８が誘電体２ｂの
（＋）帯電されない画像部に付着して静電潜像が反転現
像される。

【００４８】図３は、書込装置３の書込電極３ｂの帯電
または除電による静電潜像の書込の原理を説明し、
（ａ）は書込電極３ｂと潜像担持体２との接触部の拡大
図、（ｂ）はこの接触部の電気的等価回路図、（ｃ）な
いし（ｆ）は各パラメータと潜像担持体２の表面電位と
の関係を示す図である。

【００４９】図３（ａ）に示すように潜像担持体２は、
アルミニウム等の導電性材料からなり、接地されている
基材２ｃと、この基材２ｃの外周に形成された絶縁性を
有する帯電体層２ｄとからなっている。書込装置３のＦ
ＰＣ等からなる基材３ａに支持されている書込電極３ｂ
が前述のように帯電体層２ｄに所定の小さい押圧力で接
触しているとともに、潜像担持体２が所定の速度ｖで移
動（回転）している。

【００５０】この小さな押圧力は、幅３００ｍｍで押圧
力１０Ｎ以下、すなわち線圧０.０３Ｎ／ｍｍ以下が書
込電極３ｂと潜像担持体２との接触を安定化し、電荷移
動を安定化する上で好ましく、摩耗の観点から接触を安
定の保つ状態を維持しつつ極力線圧を下げることが望ま
しい。

【００５１】書込電極３ｂには、所定の高電圧Ｖ₀また
は所定の低電圧Ｖ₁が基材３ａを介して選択的に切り替
えられて印加されるようになっている（前述のように±
の電荷があるため、高電圧は絶対値が高い電圧をいい、
また、低電圧は高電圧と同じ極性として絶対値が低い電
圧または０Ｖをいう。本明細書における本発明の説明で
は、この低電圧はすべて接地電圧であるとしているの
で、以下の説明では、高電圧Ｖ₀を所定電圧Ｖ₀といい、
低電圧Ｖ₁を接地電圧Ｖ₁という。接地電圧Ｖ₁は０Ｖで
あることは言うまでもない。）。

【００５２】すなわち、書込電極３ｂと潜像担持体２と
の接触部（ニップ部）において、図３（ｂ）に示す電気
的な等価回路が構成されている。図３（ｂ）において、
Ｒは書込電極３ｂの抵抗を示し、Ｃは潜像担持体２の容
量を示している。書込電極３ｂの抵抗Ｒは、Ａ側の
（−）の所定電圧Ｖ₀またはＢ側の接地電圧Ｖ₁に選択的
に切換接続されるようになっている。

【００５３】等価回路において、書込電極３ｂをＡ側に
接続してこの書込電極３ｂに（−）の所定電圧Ｖ₀を印
加したときの書込電極３ｂの抵抗Ｒと潜像担持体２の表
面電位との関係は、図３（ｃ）に実線で示すように書込
電極３ｂの抵抗Ｒが小さい領域では潜像担持体２の表面
電位が一定の所定電圧Ｖ₀となり、書込電極３ｂの抵抗
Ｒが所定値より大きい領域であると、潜像担持体２の表
面電位の絶対値が低下する。一方、書込電極３ｂをＢ側
に接続してこの書込電極３ｂを接地したときの書込電極
３ｂの抵抗Ｒと潜像担持体２の表面電位との関係は、図
３（ｃ）に点線で示すように書込電極３ｂの抵抗Ｒが小
さい領域では潜像担持体２の表面電位が一定のほぼ接地
電圧Ｖ₁となり、書込電極３ｂの抵抗Ｒが所定値より大
きい領域であると、潜像担持体２の表面電位の絶対値が
上昇する。

【００５４】そして、書込電極３ｂの抵抗Ｒが小さく潜
像担持体２の表面電位が一定の所定電圧Ｖ₀または一定
の接地電圧Ｖ₁である領域では、図４（ａ）に示すよう
に潜像担持体２に接触する書込電極３ｂと潜像担持体２
の帯電体層２ｄとの間で、電圧の低い方から高い方へ直
接（−）の電荷の電荷移動が行われる。すなわち、電荷
移動により潜像担持体２が帯電または除電される。ま
た、書込電極３ｂの抵抗Ｒが大きく潜像担持体２の表面
電位が変化し始める領域では、電荷移動による潜像担持
体２の帯電または除電が次第に小さくなってくるととも
に、書込電極３ｂの抵抗Ｒが大きくなることで図４
（ｂ）に示すように基材３ａと潜像担持体２の基材２ｃ
との間で放電が生じてくるようになる。

【００５５】この基材３ａと潜像担持体２の基材２ｃと
の間で生じる放電は基材３ａと潜像担持体２の基材との
間の電圧（所定電圧Ｖ₀）の絶対値が放電開始電圧Ｖ_th
より大きくなったときに生じるが、基材３ａおよび潜像
担持体２間のギャップとこの放電開始電圧Ｖ_thとの関係
はパッシェンの法則により図４（ｃ）に示すようにな
る。すなわち、ギャップが約３０μｍ位であるとき放電
開始電圧Ｖ_thが最も小さく、ギャップが約３０μｍより
小さくても大きくても放電開始電圧Ｖ_thが大きくなり、
放電が発生し難くなる。この放電によっても潜像担持体
２の表面が帯電または除電されるようになる。しかし、
書込電極３の抵抗Ｒがこの領域であるときには、電荷移
動による潜像担持体２の帯電または除電が大きいととも
に放電による潜像担持体２の帯電または除電が小さく、
潜像担持体２の帯電または除電は電荷移動による帯電ま
たは除電が支配的となっている。この電荷移動による帯
電または除電では、潜像担持体２の表面電位は、書込電
極３ｂに印加される所定電圧Ｖ₀または接地電圧Ｖ₁とな
る。電荷移動による帯電の場合、書込電極３ｂに供給さ
れる所定電圧Ｖ₀は書込電極３ｂと潜像担持体２の基材
２ｃとの間で放電が発生する放電開始電圧Ｖ_th以下に設
定するのが望ましい。

【００５６】書込電極３ｂの抵抗Ｒが更に大きい領域で
あると、電荷移動による潜像担持体２の帯電または除電
が小さく、放電による潜像担持体２の帯電または除電が
電荷移動による帯電または除電より大きくなり、潜像担
持体２の帯電または除電は次第に放電による帯電または
除電が支配的となってくる。すなわち、書込電極３ｂの
抵抗Ｒが大きくなると、潜像担持体２の表面は主に放電
によって帯電または除電され、電荷移動による潜像担持
体２はほとんど帯電または除電されなくなる。この放電
による帯電または除電では、潜像担持体２の表面電位
は、書込電極３ｂに印加される所定電圧Ｖ₀または接地
電圧Ｖ₁から放電開始電圧Ｖ_thを差し引いた電圧とな
る。なお、所定電圧Ｖ₀が（＋）の電圧でも同じであ
る。

【００５７】したがって、電極の３ｂの抵抗Ｒを、潜像
担持体２の表面電位が一定の所定電圧｜Ｖ₀｜（±の電
圧があるため、絶対値で表す）あるいは一定の接地電圧
Ｖ₁となる小さい領域に設定するとともに、書込電極３
ｂに印加する電圧を所定電圧Ｖ ₀と接地電圧Ｖ₁との間で
スイッチング制御することにより、電荷移動による潜像
担持体２の帯電または除電を行うことができるようにな
る。

【００５８】また、書込電極３ｂをＡ側に接続してこの
書込電極３ｂに（−）の所定電圧Ｖ ₀を印加したときの
潜像担持体２の容量Ｃと潜像担持体２の表面電位との関
係は、図３（ｄ）に実線で示すように誘電体２ｂの容量
Ｃが小さい領域では潜像担持体２の表面電位が一定の所
定電圧Ｖ₀となり、誘電体２ｂの容量Ｃが所定値より大
きい領域では、潜像担持体２の表面電位の絶対値が低下
する。一方、書込電極３ｂをＢ側に接続してこの書込電
極３ｂを接地したときの潜像担持体２の容量Ｃと潜像担
持体２の表面電位との関係は、図３（ｄ）に点線で示す
ように潜像担持体２の容量Ｃが小さい領域では潜像担持
体２の表面電位が一定のほぼ接地電圧Ｖ ₁となり、潜像
担持体２の容量Ｃが所定値より大きい領域では、潜像担
持体２の表面電位の絶対値が上昇する。

【００５９】そして、潜像担持体２の容量Ｃが小さく潜
像担持体２の表面電位が一定の所定電圧Ｖ₀または一定
の接地電圧Ｖ₁である領域では、潜像担持体２に接触す
る書込電極３ｂと潜像担持体２の帯電体層２ｄとの間で
直接（−）の電荷の電荷移動が行われる。すなわち、電
荷移動により潜像担持体２が帯電または除電される。ま
た、潜像担持体２の容量Ｃが大きく潜像担持体２の表面
電位が変化し始める領域では、電荷移動による潜像担持
体２の帯電または除電が次第に小さくなってくるととも
に、潜像担持体２の容量Ｃが大きくなることで図４
（ｂ）に示すように基材３ａと潜像担持体２との間で放
電が生じてくるようになる。この放電によっても潜像担
持体２の表面が帯電または除電されるようになる。しか
し、潜像担持体容量Ｃがこの領域であるときには、電荷
移動による潜像担持体２の帯電または除電が大きいとと
もに放電による潜像担持体２の帯電または除電が小さ
く、潜像担持体２の帯電または除電は電荷移動による帯
電または除電が支配的となっている。この電荷移動によ
る帯電または除電では、潜像担持体２の表面電位は、書
込電極３ｂに印加される所定電圧Ｖ₀または接地電圧Ｖ₁
となる。

【００６０】潜像担持体２の容量Ｃが更に大きい領域で
あると、書込電極３ｂと潜像担持体２の帯電体層２ｄと
ので間でこの電荷移動はほとんど行われない。すなわ
ち、電荷移動によっては潜像担持体２は帯電または除電
されなくなる。なお、所定電圧Ｖ₀が（＋）の電圧の場
合でも同様である。

【００６１】したがって、潜像担持体２の容量Ｃを、潜
像担持体２の表面電位が一定の所定電圧｜Ｖ₀｜（±の
電圧があるため、絶対値で表す）あるいは一定の接地電
圧Ｖ₁となる小さい領域に設定するとともに、書込電極
３ｂに印加する電圧を所定電圧Ｖ₀と接地電圧Ｖ₁との間
でスイッチング制御することにより、電荷移動による潜
像担持体２の帯電または除電を行うことができるように
なる。

【００６２】更に、書込電極３ｂをＡ側に接続してこの
書込電極３ｂに（−）の所定電圧Ｖ ₀を印加したときの
潜像担持体２の速度（周速度）ｖと潜像担持体２の表面
電位との関係は、図３（ｅ）に実線で示すように潜像担
持体２の速度ｖが比較的小さい領域では、潜像担持体２
の表面電位は速度ｖが大きくなるにしたがって上昇し、
潜像担持体２の速度ｖが所定値より大きくなると、潜像
担持体２の表面電位の絶対値は一定の電圧となる。潜像
担持体２の表面電位が潜像担持体２の速度ｖの増大に応
じて大きくなるのは、書込電極３ｂと潜像担持体２との
間の摩擦による潜像担持体２への電荷移動によるもので
あると考えられる。この摩擦による電荷移動は潜像担持
体２の速度ｖがある程度大きくなると変化しなく、ほぼ
一定となる。一方、書込電極３ｂをＢ側に接続してこの
書込電極３ｂを接地したときの誘電体２ｂの速度ｖと誘
電体２ｂの表面電位との関係は、図３（ｅ）に点線で示
すように誘電体２ｂの速度ｖに関係なく一定の接地電圧
Ｖ₁となる。なお、所定電圧Ｖ₀が（＋）の電圧の場合で
も同様である。

【００６３】更に、書込電極３ｂをＡ側に接続してこの
書込電極３ｂに（−）の所定電圧Ｖ ₀を印加したときの
書込電極３ｂの潜像担持体２への押圧力（以下、単に書
込電極３ｂの圧力という）と潜像担持体２の表面電位と
の関係は、図３（ｆ）に実線で示すように書込電極３ｂ
の圧力がきわめて小さい領域では、潜像担持体２の表面
電位は書込電極３ｂの圧力が大きくなるにしたがって比
較的急上昇し、書込電極３ｂの圧力が所定値より大きく
なると、潜像担持体２の表面電位の絶対値は一定の電圧
となる。潜像担持体２の表面電位が書込電極３ｂの圧力
の増大に応じて急上昇するのは、書込電極３ｂと潜像担
持体２との接触が書込電極３ｂの圧力の増大にしたがっ
てより確実になることによるものであると考えられる。
この書込電極３ｂと潜像担持体２との接触の確実性は、
書込電極３ｂの圧力がある程度大きくなると変化しな
く、ほぼ一定となる。一方、書込電極３ｂをＢ側に接続
してこの書込電極３ｂを接地したときの書込電極３ｂの
圧力と潜像担持体２の表面電位との関係は、図３（ｆ）
に点線で示すように書込電極３ｂの圧力に関係なく一定
の接地電圧Ｖ₁となる。なお、所定電圧Ｖ₀が（＋）の電
圧の場合でも同様である。

【００６４】このようにして、書込電極３ｂの抵抗Ｒお
よび潜像担持体２の容量Ｃを潜像担持体２の表面電位が
一定の所定電圧となるように設定するとともに、潜像担
持体２の速度ｖおよび書込電極３ｂの圧力を潜像担持体
２の表面電位が一定の所定電圧となるように制御し、書
込電極３ｂに印加する電圧を所定電圧Ｖ₀と接地電圧Ｖ₁
との間でスイッチング制御することにより、電荷移動に
よる潜像担持体２の帯電または除電を確実にかつ簡単に
行うことができるようになる。

【００６５】なお、前述の例では書込電極３ｂに印加す
る所定電圧Ｖ₀が直流電圧であるが、直流電圧に交流電
圧を重畳することもできる。交流電圧を重畳する場合
は、直流成分を潜像担持体２に印加する電圧とし、ま
た、交流成分の振幅を放電開始電圧Ｖｔｈの２倍以上に
設定するとともに、交流成分の周波数を潜像担持体２の
回転における周波数の５００〜１０００倍程度が好まし
い（例えば、潜像担持体２の径が３０φでかつ潜像担持
体２の周速度が１８０ｍｍ／ｓｅｃであるとすると、潜
像担持体２の回転における周波数が２Ｈｚであるから、
交流成分の周波数は１０００〜２０００Ｈｚとなる）。

【００６６】このように直流電圧に交流電圧を重畳させ
ることにより、書込電極３ｂの放電による帯電または除
電がより安定するとともに、交流電圧により書込電極３
ｂが振動することで、書込電極３ｂに付着する異物を除
去でき、この書込電極３ｂの汚れが防止されるようにな
る。

【００６７】次に、書込装置３の書込電極３ｂを支持す
る可撓性の基材３ａについて説明する。図５は、書込装
置３の一例の潜像担持体２の軸方向から見た模式図であ
る。前述のように、基材３ａはＦＰＣ等の比較的柔らか
い弾性を有する可撓性の材料から構成されており、図５
に示すようにこの基材３ａの先端部３ａ₁に書込電極３
ｂが固定されている。そして、後述するように書込電極
３ｂが潜像担持体２の軸方向（主走査方向）に複数列配
設されることから、基材３ａは潜像担持体２の軸方向に
潜像担持体２の帯電体層２ｄの軸方向長さとほぼ同じ長
さの矩形の板状に形成されている。この基材３ａの書込
電極３ｂと反対側の端部３ａ₂が適宜の固定部材で固定
されている。基材３ａは図５において右方から潜像担持
体２の回転方向（矢印で示す時計方向）に対向するよう
に延びて設けられている。なお、基材３ａは図５におい
て左方から潜像担持体２の回転方向と同方向に延びるよ
うにして設けることもできる。

【００６８】この状態では、基材３ａは弾性的に若干撓
んでいて弱い弾性復元力を発生しており、この弾性復元
力で書込電極３ｂが潜像担持体２上に小さい押圧力で軽
く押圧されて接触されている。このように書込電極３ｂ
の潜像担持体２への押圧力が小さいことから、書込電極
３ｂによる潜像担持体２の帯電体層２ｄの摩耗が抑制さ
れて耐久性が向上するようになるとともに、基材３ａの
弾性力で書込電極３ｂが帯電体層２ｄに接触されている
ことから、書込電極３ｂは帯電体層２ｄに安定して接触
するようになる。なお、基材３ａの端部３ａ₂には、後
述する書込電極３ｂを作動制御するドライバ１１が固定
されている。

【００６９】図５に示すように、基材３ａが潜像担持体
２の回転方向に対向するように設けられた場合は、潜像
担持体２に付着している異物を除去可能となり、書込ヘ
ッド３はクリーニング特性を有し、また、基材３ａが潜
像担持体２の回転方向と同方向に設けられた場合は、潜
像担持体２に付着している異物が基材３ａと潜像担持体
２との間をすり抜けることができるようになる。

【００７０】図６は、この例の画像形成装置における書
込ヘッドの一例を部分的に示す、部分斜視図である。図
３ないし図５に示す書込ヘッドは、図６に示すようにＦ
ＰＣやＰＥＴ等の可撓性の支持基材３ａと、この支持基
材３ａに潜像担持体２の主走査方向に複数列（図には２
列のみ図示されている）設けられた線条の導電材からな
る複数の配線部３ｃと、それらの一端部にそれぞれ設け
られ、潜像担持体２の方へ突出する直方体または立方体
の凸部からなる書込電極３ｂとから構成されている。し
たがって、これらの書込電極３ｂも主走査方向に複数列
設けられるようになる。なお、配線部３ｃの他端部は後
述するドライバ１１に接続される。

【００７１】図７は、図６に示す書込ヘッドの作成方法
の一例を説明する図である。図６に示す主走査方向に複
数列設けられた凸部からなる書込電極３ｂの作成方法
は、まず図７（ａ）に示すように弾性的に可撓性の支持
基材用絶縁材２１の上にＣｕ等の電極用導電材２２を接
合し、次いで図７（ｂ）に示すようにフォトレジスト２
３を電極用導電材２２にコーティングする。このフォト
レジスト２３のコーティングは、ドライフィルムを電極
用導電材２２にラミネートするか、あるいは液状フォト
レジストを電極用導電材２２にディップコートする。

【００７２】次に、図７（ｃ）に示すように後述する配
線パターン９に対応したマスクパターン２４をフォトレ
ジスト２３に被せた後、露光する。次いで、図７（ｄ）
に示すようにフォトレジスト２３の非感光部分をエッチ
ングして除去するとともに、マスクパターン２４を除去
する。その後で、図７（ｅ）に示すようにフォトレジス
ト２３が除去されて露出された、電極用導電材２２の部
分を酸（硫酸等）によりエッチングして除去するととも
に、残留するフォトレジスト（エッチングされない部分
のフォトレジスト）２３を除去する。

【００７３】次に、図７（ｆ）に示すようにフォトレジ
スト２５を支持基材用絶縁材２１および残留する電極用
導電材２２の部分に前述と同様にコーティングする。次
いで、残留する電極用導電材２２の部分の電極のための
凸部を形成したい位置に対応するフォトレジスト２５部
分を感光するマスクパターン２６をフォトレジスト２５
に被せた後、露光する。次に、図７（ｇ）に示すように
フォトレジスト２５の感光部分、つまり凸部を形成した
いフォトレジスト２５の部分をエッチングして除去し、
電極用導電材２２の対応する部分をむき出しにする。

【００７４】次に、図７（ｈ）に示すように電極用導電
材２２のむき出し部分に電解めっき２７を施して、直方
体または立方体の凸部を形成する。最後に、図７（ｉ）
に示すように残留する最表層のフォトレジスト２５をエ
ッチングし除去することで、図６に示すような配線部３
ｃとその一端部に形成された直方体または立方体の凸部
からなる書込電極３ｂとが支持基材３ａに複数列形成さ
れた書込ヘッドが作成される。

【００７５】なお、図６に示す凸部からなる書込電極３
ｂを有する書込ヘッドの作成方法は図７に示す方法に限
定されるものではなく、可撓性基材３ａに凸部からなる
電極および配線部を形成することができるものでありさ
えすれば、他の適宜の方法が採用できることは言うまで
もない。

【００７６】図８ないし図１０は、この例の画像形成装
置における書込ヘッドの他の例を部分的に示す、図６と
同様の部分斜視図である。図６に示す例の書込ヘッド３
では、書込電極３ｂを構成する凸部が直方体または立方
体に形成されているが、図８に示す例の書込ヘッド３で
は、書込電極３ｂを構成する凸部が截頭四角錐台に形成
されており、また、図９に示す例の書込ヘッド３では、
図８に示す例の截頭四角錐台の凸部の縁部（エッジ部）
を丸くＲ部に形成されており、更に、図１０に示す例の
書込ヘッド３では、書込電極３ｂを構成する凸部が四角
錐に形成されている。更に、凸部の形状としてこれら以
外に、円柱、円錐、截頭円錐台、楕円柱（横断面が楕円
の柱体）、楕円錐（横断面が楕円の錐体）、截頭楕円錐
台（横断面が楕円の截頭錐体）、長円柱（横断面が長円
の柱体）、長円錐（横断面が長円の錐体）、截頭長円錐
台（横断面が長円の截頭錐体）、三角柱、三角錐、截頭
三角錐台、四角柱、多角柱（５角柱以上）、多角錐（５
角柱以上）、截頭多角錐台（５角柱以上）等の種々の形
状が考えられる。また、四角柱、四角錐、截頭四角錐台
は、長方形、正方形、平行四辺形、台形等種々の横断面
形状が考えられる。

【００７７】図１１は、書込ヘッド３の他の例の潜像担
持体２の軸方向から見た模式図である。前述の例では矩
形の板状の基材３ａがその端部３ａ₂を固定されること
により単純に弾性的に若干撓んだ状態にセットされてい
るが、この例の書込ヘッド３では、図１１に示すように
前述の例の基材３ａと同じ材料からなる矩形の板状の基
材３ａがその潜像担持体２の軸方向と直交する方向の中
央部分で潜像担持体２の軸方向の線に沿ってヘアピンカ
ーブ状に折り曲げられており、その両端部３ａ ₁,３ａ₂
が適宜の固定部材で固定されている。その場合、基材３
ａの両端部３ａ₁,３ａ₂の間には、図において上下に折
り曲げられた基材３ａの２つの部分の間のクロストーク
を防止するための導電性の取付板（シールド）１０が介
在されている。

【００７８】この例の基材３ａの潜像担持体２の軸方向
長さも潜像担持体２の帯電体層２ｄの軸方向長さとほぼ
同じ長さに設定されているとともに、基材３ａのヘアピ
ンカーブ状部分（折れ曲がり部分）３ａ₃の所定位置
に、書込電極３ｂが潜像担持体２の軸方向に複数列固定
されている。そして、図示のように基材３ａの両端部３
ａ₁,３ａ₂が固定された状態では、基材３ａのヘアピン
カーブ状部分３ａ₃が弾性的に若干撓んでおり、この基
材３ａのヘアピンカーブ状部分３ａ₃の弱い弾性復元力
で書込電極３ｂが潜像担持体２上に軽く押圧されて接触
されている。この例の書込ヘッド３では、基材３ａが両
端部３ａ₁,３ａ₂で支持されているので、前述の例よ
り、書込電極３ｂはより確実にかつより安定して接触す
るようになる。なお、図１１では、基材３ａの両端部３
ａ₁,３ａ₂にそれぞれ電極３ｂのドライバ１１が固定さ
れていることが示されているが、これは後述する図１５
に示す電極の配列パターンを示している。

【００７９】図１２は、複数の書込電極３ｂを潜像担持
体２の軸方向に配列した場合の配列パターンを示し、
（ａ）は最もシンプルな書込電極の配列パターンの場合
を示す図、（ｂ）および（ｃ）はそれぞれ（ａ）の問題
点を解消した書込電極の配列パターンの場合を示す図で
ある。複数の書込電極３ｂの最もシンプルな配列パター
ン（電極パターン）は、図１２（ａ）に示すように複数
の長方形の書込電極３ｂが潜像担持体２の軸方向（主走
査方向）に一列に配列されることにより画像形成領域を
確保したものである。その場合、複数の書込電極３ｂの
うち、所定数（図示例では８個）の書込電極３ｂがそれ
ぞれそれらの書込電極３ｂを所定電圧Ｖ₀または接地電
圧Ｖ₁に切り替えることで駆動制御する１つのドライバ
１１に接続されて１組にまとめられており、この組の複
数組が潜像担持体２の軸方向に一列に配列されている。

【００８０】しかし、このように単純な長方形の書込電
極３ｂを単に潜像担持体２の軸方向に一列に配列した場
合、隣接する書込電極３ｂの間に隙間が生じる。このた
め、この隙間に対向する潜像担持体２の表面は帯電され
ない非帯電部あるいは除電されない非除電部が形成され
て、画像のすじが発生してしまう。そこで、図１２
（ｂ）に示す例の書込電極３ｂの配列パターン（以下、
電極パターンともいう）では、書込電極３ｂが三角形に
形成されるとともに、隣接する三角形の書込電極３ｂの
向きが互いに反対（三角形の正立状態と倒立状態）とな
るように交互に配列されている。

【００８１】その場合、複数の書込電極３ｂの電極パタ
ーンは、図１３に示すように例えば１つの書込電極３ｂ
の三角形の底辺の一端部３ｂ₁,が左側で隣接する書込電
極３ｂの三角形の底辺の一端部３ｂ₂と潜像担持体２の
軸方向と直交する方向（潜像担持体２の回転方向；副走
査方向）にオーバーラップし（重なり）、また、この１
つの書込電極３ｂの三角形の底辺の他端部３ｂ₃が右側
で隣接する書込電極３ｂの三角形の底辺の一端部３ｂ₄
と潜像担持体２の回転方向にオーバーラップするように
配列されている。このように、隣接する書込電極３ｂの
一部が互いに潜像担持体２の回転方向にオーバーラップ
させることにより、潜像担持体２の表面に前述のような
非帯電部あるいは非除電部は形成されなく、潜像担持体
２の表面の全面が帯電あるいは除電可能となる。これに
より、隣接する書込電極３ｂの間の隙間による画像のす
じの発生が防止されるようになる。また、潜像担持体２
に付着する異物が隣接する書込電極３ｂの間の隙間を通
ってすり抜けるようになるので、各書込電極３ｂにこの
異物が付着してフィルミングが発生するのが抑制される
ようになる。

【００８２】この例においても、図１２（ａ）に示す例
と同様に、隣接する所定数の電極３ｂを１つのドライバ
１１に接続した組が複数組配列されているとともに、各
ドライバ１１はそれぞれ電極３ｂに関して同じ側に配置
されている。なお、書込電極３ｂの形状は三角形以外
に、例えば台形、平行四辺形、隣接する書込電極３ｂの
対向辺の少なくとも一部に傾斜辺を有する形状、あるい
は隣接する書込電極３ｂの対向辺に凹凸を設けた形状等
の隣接する書込電極３ｂの一部が互いに潜像担持体２の
軸方向と直交する方向にオーバーラップするものであれ
ばどのような形状にすることもできる。

【００８３】また、図１２（ｃ）に示す例の書込電極３
ｂの配列パターンでは、書込電極３ｂが円形に形成され
るとともに、複数の円形の書込電極３ｂが潜像担持体２
の軸方向と直交する方向に２列にかつ千鳥状に配列され
ている。その場合、１列目および２列目の互いに隣接す
る各書込電極３ｂの一部どうしが潜像担持体２の潜像担
持体２の軸方向と直交する方向にオーバーラップするよ
うに配列されている。この例の書込電極３の配列パター
ンでも、潜像担持体２の表面に前述のような非帯電部あ
るいは非除電部は形成されなく、潜像担持体２の表面の
全面が帯電可能となる。

【００８４】この例では、隣接する１列目の電極３ｂと
２列目の電極３ｂの所定数の電極３ｂを１つのドライバ
１１に接続した組が複数組潜像担持体２の軸方向に配列
されているとともに、各ドライバ１１はそれぞれ電極３
ｂに関して同じ側に配置されている。そして、図１４に
示すように各ドライバ１１が、基材３ａ上に形成されか
つ断面矩形状の薄い平板状の例えば銅（Ｃｕ）箔（断面
形状は後述する図１７に図示）からなる導電パターン
（Ｃｕパターン）９により電気的に接続されているとと
もに、同様に各ドライバ１１と各電極３ｂとが基材３ａ
上に形成された導電パターン９により電気的に接続され
ている。そして、各電極３ｂと各ドライバ１１は図示し
ない電源に接続されている。このような導電パターン９
は例えばエッチング等の従来の薄膜パターン形成方法で
形成することができる。

【００８５】そして、図１４において上方からラインデ
ータ信号、書込タイミング信号および高圧電力が各ドラ
イバ１１に供給され、各ドライバ１１はラインデータ信
号および書込タイミング信号に基づいて各電極３ｂを前
述のように所定電圧｜Ｖ₀｜または接地電圧Ｖ₁に切替制
御するようになっている。

【００８６】図１５は、複数の書込電極３ｂの配列パタ
ーンの更に他の例を示す図である。図１５に示すよう
に、この例の書込電極３ｂの配列パターンでは、書込電
極３ｂが長方形に形成されるとともに、複数の長方形の
書込電極３ｂが、図１２（ｃ）に示す例と同様に潜像担
持体２の軸方向と直交する方向に２列にかつ千鳥状に配
列されているとともに、１列目および２列目の互いに隣
接する各書込電極３ｂの一部どうしが潜像担持体２の軸
方向と直交する方向にオーバーラップするように配列さ
れている。この例の書込電極３の配列パターンでも、潜
像担持体２の表面に前述のような非帯電部あるいは非除
電部は形成されなく、潜像担持体２の表面の全面が帯電
可能となる。また、図示しないが各書込電極３ｂの長方
形の４角を丸くＲ部とすることにより、針状部（エッジ
状部）をなくして隣接する書込電極３ｂへの放電を防止
している。

【００８７】この例では、１列目の所定数の電極３ｂを
１つのドライバ１１に接続した組が複数組配列されてい
るとともに、２列目の所定数の電極３ｂを１つのドライ
バ１１に接続した組が複数組列されている。その場合、
１列目の電極３ｂのドライバ１１と２列目の電極３ｂの
ドライバ１１はそれぞれ電極３ｂを挟んで互いに反対側
に配置され、前述の図１１に示すように各ドライバ１１
は、それぞれへアピンカーブ状に折り曲げられた基材３
ａの両端部３ａ₁,３ａ₂に固定されている。なお、書込
電極３ｂの形状において角をＲ部とすることは、長方形
限定されることなく、三角形を始め他の多角形の書込電
極３ｂにも適用することができる。

【００８８】図１６は、複数の書込電極３ｂの配列パタ
ーンの更に他の例を示す図である。前述の図１２（ｃ）
および図１５に示す各例における書込電極３ｂの配列パ
ターンは、いずれも、複数の書込電極３ｂを潜像担持体
２の軸方向に２列かつ千鳥状に配列しているが、この例
の書込電極３ｂの配列パターンは、図１６（ａ）および
（ｂ）に示すように潜像担持体２の軸方向に同じ配列パ
ターンを２列にかつ一列目の例えば台形状の書込電極３
ｂとこの書込電極３ｂに対応しかつこの書込電極３ｂと
まったく同じ二列目の書込電極３′ｂとが潜像担持体２
の軸方向と直交する方向に所定のギャップをおいて一列
に整列されて設けられている。つまり、２枚の同じ書込
電極３ｂ,３′ｂが潜像担持体２の軸方向と直交する方
向に重ねて設けられており、これにより潜像担持体２の
帯電体層２ｄがより確実にかつより安定して帯電される
ようになる。なお、前述の図１２（ｂ）に示す例と同様
に同じ列の隣接する書込電極３ｂまたは書込電極３′ｂ
の台形の対向する斜辺の一部は潜像担持体２の軸方向と
直交する方向にオーバーラップされている。

【００８９】図１６（ｃ）に示す例は、図１６（ｂ）に
示す例において一列目の書込電極３ｂと二列目の書込電
極３′ｂのそれぞれの台形の向きが逆に配列されて配列
パターンであり、また、図１６（ｄ）に示す例は図１５
に示す千鳥状に配列された二列の矩形状の書込電極３ｂ
において、それぞれの列の配列パターンを潜像担持体２
の軸方向と直交する方向に設けたもので、それぞれの列
の２枚の同じ書込電極３ｂ,３′ｂが潜像担持体２の軸
方向と直交する方向に重ねられている。こえっらの例の
作用効果も図１６（ｃ）に示す例と同じである。

【００９０】図１７（ａ）ないし（ｄ）はそれぞれ書込
ヘッド３の書込電極３ｂの各例を示す断面図である。な
お、前述の各例の書込ヘッド３の書込電極３ｂは、いず
れも、潜像担持体２との接触部が下向きに図示されてい
るが、これらの図１７（ａ）ないし（ｄ）では、各例の
書込電極３ｂは、いずれも、潜像担持体２との接触部が
上向きに図示されている。

【００９１】図１７（ａ）に示す例の書込ヘッド３で
は、基材３ａ上に形成された導電パターン（Ｃｕパター
ン）９の表面の電極形成部に断面矩形状の抵抗層１３が
コーティングされて、２層構造の書込電極３ｂが形成さ
れている。この抵抗層１３は、例えばインクジェットの
プリンタによってコーティングすることができるととも
に、インクジェットプリンタ以外の他の従来公知のコー
ティング手段によってもコーティングすることができ
る。インクジェットのプリンタを用いた場合は、抵抗層
１３の膜厚が高精度に制御可能となり、潜像担持体２の
帯電制御をより正確に行うことができるようになる。こ
の抵抗層１３の抵抗値が比較的小さいと、書込電極３ｂ
と潜像担持体２との間で電荷移動による帯電または除電
が支配的になり、抵抗層１３の抵抗値がが比較的大きい
と、書込電極３ｂと潜像担持体２との間で放電による帯
電または除電が支配的になる。

【００９２】また、この書込電極３ｂの抵抗を１０⁸Ω
ｃｍ以下に設定すると、所定の時定数が確保されて均一
な帯電が得られるようになる。また、書込電極３ｂの抵
抗を１０⁶Ωｃｍ以上に設定すると、潜像担持体２の帯
電体層２ｄのピンホールによる静電破壊が防止されるよ
うになる。したがって、書込電極３ｂの抵抗層１３の抵
抗値は１０⁶Ωｃｍ〜１０⁸Ωｃｍが望ましい。

【００９３】そして、この例の書込電極３ｂでは抵抗層
１３の表面が潜像担持体２の帯電体層２ｄに面接触され
るようになっている。このように、書込電極３ｂの導電
パターン９の上に抵抗層１３が設けられることにより、
電荷移動の横方向への広がりが防止されるようになる。
これにより、書込電極３ｂと潜像担持体２との間の電荷
移動がより効果的に行われる。なお、抵抗層１３の断面
形状は図示の矩形状に限定されることなく、図１７
（ａ）において上方に突出しかつ潜像担持体２の軸方向
と直交する方向が軸方向となる断面円弧柱状に形成する
こともできる。この断面円弧柱状に形成された場合は、
抵抗層１３は潜像担持体２の帯電体層２ｄに潜像担持体
２の軸方向と直交する方向に線接触するようになる。な
お、この線接触は潜像担持体２の軸方向と直交する方向
に傾斜するようにすることもできる。

【００９４】図１７（ｂ）に示す例の書込ヘッド３で
は、前述の図１７（ａ）に示す例の断面矩形状の抵抗層
１３に代えて書込電極３ｂの抵抗層１３の上部が上方に
突出するほぼ半球形の凸部に形成されている。つまり、
書込電極３ｂは潜像担持体２に向かって突出する凸部を
有している。これにより、抵抗層１３の上面が球面とな
り、潜像担持体２の帯電体層２ｄと点接触し、書込電極
３ｂの全面は潜像担持体２に接触しないものとなる。こ
の抵抗層１３と帯電体層２ｄとの点接触部で電荷移動が
行われかつその周りで電荷がリークして電荷移動が行わ
れるので、帯電体層２ｄが電荷移動により帯電または除
電される。しかも、抵抗層１３の表面が球面となってい
ることから、抵抗層１３と帯電体層２ｄとの点接触部の
周囲近傍で放電が行われるようになる。したがって、こ
の放電によっても帯電体層２ｄが帯電または除電され
る。しかも、この放電による帯電体層２ｄの帯電または
除電により、帯電体層２ｄに前述のような非帯電部や非
除電部が形成されることはない。また、このように点接
触することにより、潜像担持体２の表面に付着する異物
が容易にすり抜けられるようになり、潜像担持体２の表
面のフィルミングが防止される。更に、この例において
は、抵抗層１３は削れ易い部材つまり摩耗性の部材から
構成されており、書込電極３の抵抗層１３の表面が潜像
担持体２に接触することで削られてリフレッシュするよ
うになる。このように、書込電極３の潜像担持体２に対
向する部分が摩耗性の部材から構成されることにより、
この部分は常時初期表面が保持されてフィルミングが防
止されるようになる。

【００９５】図１７（ｃ）に示す例の書込ヘッド３で
は、前述の図１７（ｂ）に示す例の上部が球形の抵抗層
１３の表面および基材３ａの表面に保護層１４がオーバ
ーコートされている。この保護層１４により、抵抗層１
３の表面を削り難くしているとともに、異物が付着し難
くしている。

【００９６】図１７（ｄ）に示す例の書込ヘッド３で
は、前述の図１７（ｂ）に示す例の上部が球形の抵抗層
１３を有する書込電極３ｂを支持する基材３ａの表面
に、異物をすり抜けさせる多数の球状の微小粒子１２が
転がり可能に設けられている。これらの微小粒子１２に
より書込電極３ｂと潜像担持体２との間を異物が容易に
すり抜けられるようになるため、書込電極３ｂと異物と
の間に良好な潤滑が得られて書込電極３ｂに異物の付着
が防止される。これらの微小粒子１２はトナー粒子の径
の約１桁小さい粒径に設定されており、この微小粒子１
２の粒径は通常トナー粒径が約１０μｍ程度であるので
１μｍ以下の非常に小さな径に設定され、例えばアクリ
ル等の透明な樹脂により形成されている。このように、
微小粒子１２を透明樹脂で形成することにより、これら
の微小粒子１２が画像部へ移動しても、画像部はこれら
の微小粒子１２で影響されることはない。

【００９７】そして、これらの微小粒子１２は基材３ａ
および書込電極３ｂの全面、書込電極３ｂのみ、あるい
は書込電極３ｂ以外の箇所のいずれかにそれぞれ設けら
れる。そして、微小粒子１２が全面に設けられた場合は
基材３ａおよび電極３ｂの全面と潜像担持体２との間の
潤滑性が良好になり、また、微小粒子１２が書込電極３
ｂのみに設けられた場合は、後述するように書込電極３
ｂが潜像との間のギャップが一定に保持されて放電が良
好になり、更に、微小粒子１２が書込電極３ｂ以外の箇
所に設けられた場合は、書込電極３ｂにおいて電荷移動
が行われるとともに微小粒子１２が設けられた箇所にお
いて潤滑が良好になる。

【００９８】図１８は、書込電極３ｂに所定電圧Ｖ₀お
よび接地電圧Ｖ₁を切替接続するためのスイッチング回
路を示す図である。図１８に示すように、例えば４列に
配置された書込電極３ｂは、それぞれ、対応する高電圧
スイッチ（High Voltage Switch；H.V.S.W.）１５に接
続されており、これらの高電圧スイッチ１５は、それぞ
れ、対応する電極３ｂを所定電圧Ｖ ₀と接地電圧Ｖ１と
に切替接続するようになっている。各高電圧スイッチ１
５には、それぞれシフトレジスタ（Ｓ.Ｒ.）１６からの
画像書込制御信号が入力され、またこのシフトレジスタ
１６には、バッファ１７に蓄えられている画像信号およ
びクロック１８からのクロック信号がそれぞれ入力され
る。そして、シフトレジスタ１６からの画像書込制御信
号はアンド回路１９によりエンコーダ２０からの書込タ
イミング信号に基づいて各高電圧スイッチ１５に入力さ
れるようになる。各高電圧スイッチ１５およびアンド回
路１９により各書込電極３ｂへの供給電圧を切替制御す
る前述のドライバ１１が構成されている。

【００９９】図１９は、各電極３ｂの各高電圧スイッチ
１５をそれぞれ所定電圧Ｖ０または接地電圧Ｖ１に選択
的に切替制御したときの状態を示し、（ａ）は各電極の
電圧状態を示す図、（ｂ）は（ａ）の電圧状態で正規現
像したときの現像剤像を示す図、（ｃ）は（ａ）の電圧
状態で反転現像したときの現像剤像を示す図である。

【０１００】図１９に示すように、例えばｎ−２番目、
ｎ−１番目、ｎ番目、ｎ＋１番目、ｎ＋２番目の各電極
３ｂが、それぞれの高電圧スイッチ１５が切替制御され
て図１９（ａ）に示す電圧状態になっているとする。そ
こで、このような電圧状態の各電極で潜像担持体２に静
電潜像の書込を行うとともに、正規現像によりこの静電
潜像を現像すると、現像剤８が潜像担持体２の所定電圧
Ｖ₀部上に付着し、図１９（ｂ）にハッチング（斜線）
で示すような現像剤像が得られる。また、同様にして静
電潜像の書込を行い、反転現像によりこの静電潜像を現
像すると、現像剤８が潜像担持体２の接地電圧Ｖ₁部上
に付着し、図１９（ｃ）にハッチングで示すような現像
剤像が得られる。

【０１０１】このように構成された書込ヘッド３を用い
た画像形成装置１によれば、書込電極３ｂがの凸部を潜
像担持体２に接触させて、書込電極３ｂの全面を潜像担
持体２に接触しないようにしているので、潜像担持体２
の表面に付着する異物を容易にすり抜けさせることがで
き、潜像担持体２の表面のフィルミングを防止できる。

【０１０２】また、書込電極３ｂを可撓性の基材３ａに
支持しているので、潜像担持体２に対する書込電極３ｂ
の位置を安定でき、潜像担持体２に対する書込電極３ｂ
による帯電または除電をより安定して行うことができ
る。これにより、静電潜像を潜像担持体２により安定し
て書き込むことができ、良好な画像を確実にかつ高精度
に得ることができる。

【０１０３】更に、可撓性の基材３ａにより、書込電極
３ｂが小さい押圧力で潜像担持体２に接触可能となるの
で、書込電極３ｂと潜像担持体２との間の空間的なギャ
ップがなくなる。これにより、この空間的なギャップの
空気が不要にイオン化される機会が減少するので、オゾ
ンの発生がより一層抑制されるようになるとともに、低
電位で静電潜像が形成可能となる。

【０１０４】更に、書込電極３ｂの凸部が種々の形状に
形成されるので、種々のタイプの画像形成装置１に柔軟
に対応することができる。特に、書込電極３ｂの凸部を
球の一部、円錐、楕円錐、長円錐、三角錐、四角錐、お
よび５角以上の多角錐で形成することで、書込電極３ｂ
と潜像担持体２とが点接触するので、潜像担持体２の表
面に付着する異物をより一層確実にすり抜けさせること
ができる。また、書込電極３ｂの凸部を円柱、截頭円錐
台、楕円柱、截頭楕円錐台、長円柱、截頭長円錐台、三
角柱、截頭三角錐台、横断面が平行四辺形あるいは台形
の四角柱、横断面が平行四辺形あるいは台形の截頭四角
錐台、５角以上の多角柱、５角以上の多角錐、および５
角以上の截頭多角錐台で形成することで、書込電極３ｂ
の側面が副走査方向に傾斜するようになるので、潜像担
持体２の表面に付着する異物をこの傾斜面沿って容易に
すり抜けさせることができる。

【０１０５】更に、書込電極３ｂを小さい押圧力で潜像
担持体２に接触させているだけであるので、書込電極３
ｂによる潜像担持体２の損傷を防止でき、潜像担持体２
の耐久性を向上させることができる。更に、書込ヘッド
３として書込電極３ｂを用いているだけであり、従来の
ような大型のレーザ光発生装置やＬＥＤランプ光発生装
置等を設けないので、装置をより一層小型化することが
できるとともに、部品点数をより一層削減できて一層シ
ンプルで安価な画像形成装置を得ることができる。

【０１０６】更に、書込電極３ｂの抵抗層１３を削れ易
い部材つまり摩耗性の部材から構成しているので、書込
電極３の抵抗層１３の表面が削られてリフレッシュする
ことにより、書込電極３は常時初期状態の表面を保持で
き、書込電極３のフィルミングを防止できるようにな
る。

【０１０７】更に、互いに隣接される書込電極３ｂの一
部どうしを潜像担持体２の副走査方向にオーバーラップ
させているので、潜像担持体２の表面に非帯電部あるい
は非除電部を形成させなく、潜像担持体２の表面の全面
が帯電または除電可能となる。これにより、隣接する書
込電極３ｂの間の隙間による画像のすじの発生を防止で
きるようになる。更に、書込電極３ｂの多角形の角を丸
くＲ部にし、これにより、針状部（エッジ状部）をなく
して、隣接する書込電極への放電を防止できるようにな
る。

【０１０８】更に、基材３ａおよび書込電極３ｂが保護
層１４,２９によりオーバーコートされるようになる。
この保護層１４,２９により、書込電極３ｂの摩耗を防
止できるとともに、異物が書込電極３ｂに付着するのを
防止できる。なお、本発明では、基材３ａおよび書込電
極３ｂがともに保護層１４,２９によりオーバーコート
される必要はなく、少なくとも書込電極３ｂが保護層１
４,２９によりオーバーコートされていさえすればよ
い。

【０１０９】更に、抵抗層１３を削れ易い部材つまり摩
耗性の部材から構成しているので、書込電極３の抵抗層
１３の表面を潜像担持体２に接触させて削ることにより
リフレッシュすることができる。このように、書込電極
３の潜像担持体２に対向する部分を摩耗性の部材から構
成することにより、この部分を常時初期表面を保持する
ことができ、フィルミングを防止できるようになる。

【０１１０】図２０は、本発明に係る画像形成装置の実
施の形態の更に他の例を模式的にかつ部分的に示す、図
５と同様の図である。前述の各例では、いずれも、潜像
担持体２を一様帯電させるための潜像担持体一様電荷制
御装置７が書込ヘッド３とは別に独立して設けられてい
るが、この例の画像形成装置１では、図２０に示すよう
に潜像担持体一様電荷制御装置７が書込ヘッド３の基材
３ａに書込電極３ｂと一体的に設けられている。すなわ
ち、書込ヘッド３の基材３ａの先端部３ａ₁に、潜像担
持体一様電荷制御装置７の一様電荷制御電極７ｅが設け
られているとともに、この一様電荷制御電極７ｅと所定
のギャップを置いて書込電極３ｂが設けられている。そ
の場合、一様電荷制御電極７ｅは断面矩形状の薄い平板
状に形成され、潜像担持体２の帯電体層２ｄの軸方向長
さと同じ長さだけ潜像担持体２の軸方向に連続して延設
されている。そして、これらの書込電極３ｂおよび一様
電荷制御電極７は、いずれも、基材３ａの撓みによる弱
い弾性復元力で潜像担持体２の表面に小さい押圧力で接
触されている。

【０１１１】このように構成されたこの例の画像形成装
置１においては、基材３ａの先端部３ａ₁の一様電荷制
御電極７ｅで潜像担持体２の表面が一様帯電された後、
書込電極３ｂが電荷移動により潜像担持体を帯電または
除電することで、静電潜像が潜像担持体２の表面に書き
込まれるようになる。この例の画像形成装置１において
は、一様電荷制御電極７ｅと書込電極３ｂとが一体的に
設けられているので、画像形成装置１をより一層小型に
かつシンプルに形成することができる。この例の画像形
成装置１の他の構成および他の作用効果は図５に示す例
と同じである。

【０１１２】なお、一様電荷制御電極７ｅと書込電極３
ｂとを一体的に設けることは、図２０に示す例に限るこ
となく、前述の他の例の画像形成装置に適用することが
でき、しかも同様の作用効果を得ることができることは
言うまでもない。また、書込電極３ｂと一様電荷制御電
極７ｅとの間のギャップに適宜の絶縁体を設けることも
できる。

【０１１３】図２１は、本発明の書込装置を用いた画像
形成装置の一例を用いた具体的な画像形成装置の一例を
模式的に示す図である。図２１に示すように、この具体
的な画像形成装置１は、書込ヘッド３の基材３ａが潜像
担持体２の回転方向上流側から下流側に向かって延びて
おり、この基材３ａの先端に固定された書込電極３ｂが
潜像担持体２に接触されている。更に、この例の画像形
成装置１は、現像装置４の現像ローラ４ａが潜像担持体
２に接触されていて、接触現像を行うようになってい
る。転写装置６より潜像担持体２の回転方向下流側に
は、ブラシ２９が設けられている。このブラシ２９によ
り、転写後の潜像担持体２上の残留現像剤８′を散らし
て均すようにされている。

【０１１４】このように構成されたこの具体的な例の画
像形成装置１においては、図示しない潜像担持体一様電
荷制御装置７により潜像担持体２の表面が一様電荷状態
にされた後、書込ヘッド３の各書込電極３ｂにより潜像
担持体２が帯電または除電されることで、潜像担持体２
の表面に潜像が書き込まれる。潜像担持体２上の潜像
は、潜像担持体２に現像装置４の現像ローラ４ａによっ
て現像剤８が付着されて現像された後、その潜像担持体
２上の現像剤像が転写装置６によって転写材５に転写さ
れる。転写後に潜像担持体２上に残留する残留現像剤
８′はブラシ２９により散らされて潜像担持体２上に均
される。そして、次の一様電荷制御工程で潜像担持体一
様電荷制御装置７によって潜像担持体２の表面および残
留現像剤８′が一様電荷状態にされ、これらの一様電荷
状態にされた潜像担持体２上および残留現像剤８′上に
静電潜像が書き込まれる。

【０１１５】この静電潜像が現像装置４によって現像さ
れるが、このとき、書込電極３ｂの帯電列を、この現像
の前に残留現像剤８′がもともと持つべき極性に帯電さ
せるように選択することにより、潜像担持体２上の非画
像部にある残留現像剤８′は書込電極３ｂによってその
極性に帯電されるので現像装置４の現像ローラ４ａの方
へ移動し、また、潜像担持体２上の画像部にある残留現
像剤８′はそのまま潜像担持体２に残って現像剤像とし
て用いられるようになる。潜像担持体２上の非画像部に
ある残留現像剤８′の現像ローラ４ａへの移動により、
潜像担持体２のクリーニングがクリーナを設けなくても
行われるようになる。すなわち、この例の画像形成装置
１は、クリーナを設けることなく、現像とクリーニング
を同時に行うクリーナレス現像同時クリーニング方式に
より画像形成が行われるようになっている。

【０１１６】このようなクリーナレス現像同時クリーニ
ング方式について具体的に説明する。図２２および図２
３は反転現像法を用いたクリーナレス現像同時クリーニ
ング方式を説明する図である。このクリーニング方式を
図２（ｇ）に示す画像形成プロセスの場合について説明
する。これは一例であって、反転現像法の他の画像形成
プロセスの場合についてもクリーナレス現像同時クリー
ニング方式が採用できることは言うまでもない。

【０１１７】まず、図２２（ａ）に示すように前回の画
像形成時での転写後に感光体２ａ上には、転写残りトナ
ー（前述の残留現像剤８′）が付着しており、これらの
転写残りトナーの残留電位Ｖｅｒの帯電極性は一般には
一定しておらず、正帯電と負帯電の粒子が存在している
（負帯電のみ図示）。この状態で、図２２（ｂ）に示す
ように一様電荷制御ローラ７ｃにより感光体２ａが一様
に負の帯電電位Ｖ₀に帯電されて、感光体２ａの電荷が
負極性に一様化される。この感光体２ａの負帯電と同時
に、転写残りトナーもすべての粒子も負の帯電電位Ｖ₀
に帯電される。この転写残りトナーの負帯電は現像ロー
ラ４ａに担持される現像トナーの負の極性と同じであ
り、換言すれば転写残りトナーはもともと持つべき負の
極性に帯電される。

【０１１８】次に、図２２（ｃ）に示すように書込電極
３ｂにより潜像担持体２の画像部の電荷を除電する（残
留電位Ｖｅｒが０Ｖに近い電位となる）ことで潜像担持
体２に静電潜像が書き込まれる。このとき、転写残りト
ナーは、潜像担持体２の静電潜像書込部、静電潜像未書
込部の両方に存在している。

【０１１９】次に、図２３(a)に示すように、書込電極
３ｂによる書込により潜像担持体２の表面電位が減衰し
た部分に現像装置４によって現像トナーが付着されて潜
像担持体２上の静電潜像が反転現像法で現像される。こ
のとき、負帯電トナーは現像バイアスよりも高電位側の
書込部へ移動して現像が行われ、同時に現像バイアスよ
りも低電位側の未書込部に付着している転写残りトナー
は現像バイアスにある現像ローラ４ａの表面へ移動して
クリーニングが行われる。

【０１２０】次いで、図２３（ｂ）に示すように感光体
２ａ上のトナーが転写材である用紙へ転写される。そし
て、図２３（ｃ）に示すようにこの転写後に感光体２ａ
の画像部上に残留しているトナーの分布がブラシ２９に
より均一化され、書込工程における除電作用が容易にか
つより効果的に行われると同時に、転写残りトナーの現
像ローラ４ａへの移動が確実にされてクリーニングがよ
り簡単に行われるようになる。このようにして、潜像担
持体２の表面がクリーニングされることで、潜像担持体
２のフィルミングが防止されて、画像欠陥が低減される
ようになる。

【０１２１】この例の画像形成装置１によれば、転写後
に潜像担持体２に残留する残留現像剤８′を潜像担持体
一様電荷制御装置７による潜像担持体の一様電荷制御と
同時にもともとこの現像剤が持つべき極性に帯電させる
ようにしているので、潜像担持体２上の非画像部にある
残留現像剤８′を現像装置による現像時に現像ローラ４
ａに移動させることができるようになる。すなわち、ク
リーナを設けることなく、現像と潜像担持体２のクリー
ニングを同時に行うクリーナレス現像同時クリーニング
方式により画像形成を行うことができる。

【０１２２】このようにこの例の画像形成装置１は、書
込ヘッド３を用いることにより、より小型でよりシンプ
ルな構成にできるとともに、クリーナ装置を設けないク
リーナレスになるので、更にシンプルな構成にできる。
更に、現像を反転現像法により行っているので、潜像担
持体２の一様電荷制御工程で残留現像剤８′が現像装置
４の現像剤８と同じ帯電極性に揃えられるため、現像同
時クリーニングをより簡単にかつより有効に行うことが
できるようになる。

【０１２３】図２４は、それぞれ本発明の実施の形態の
更に他の例を示す図である。なお、前述の各例の書込ヘ
ッド３の書込電極３ｂは、いずれも、潜像担持体２との
接触部が下向きに図示されているが、この図２４では、
各例の書込電極３ｂは、いずれも、潜像担持体２との接
触部が上向きに図示されている。

【０１２４】図２４に示す例の画像形成装置１は、図２
１に示す例の画像形成装置１において書込ヘッド３と潜
像担持体２との間に微小粒子を介在させている。図２４
に示す例の書込ヘッド３では、基材３ａ上に形成された
導電パターン（Ｃｕパターン）９の表面の電極形成部に
断面矩形状の抵抗層１３がコーティングされて、２層構
造の凸部からなる書込電極３ｂが形成されている。この
抵抗層１３は、例えばインクジェットのプリンタによっ
てコーティングすることができるとともに、インクジェ
ットプリンタ以外の他の従来公知のコーティング手段に
よってもコーティングすることができる。インクジェッ
トのプリンタを用いた場合は、抵抗層１３の膜厚が高精
度に制御可能となり、潜像担持体２の帯電制御をより正
確に行うことができるようになる。この抵抗層１３の抵
抗値が比較的小さいと、書込電極３ｂと潜像担持体２と
の間で電荷移動による帯電または除電が支配的になり、
抵抗層１３の抵抗値がが比較的大きいと、書込電極３ｂ
と潜像担持体２との間で放電による帯電または除電が支
配的になる。

【０１２５】この例の書込電極３ｂでは、電極３ｂの抵
抗層１３の上部が上方に突出する半球形の凸部に形成さ
れていて、抵抗層１３の上面が球面となっている。更
に、基材３ａおよび書込電極３ｂの全面に、異物をすり
抜けさせる多数の球形の微小粒子１２が転がり可能に設
けられ、あるいは付着されている。これにより、書込電
極３ｂの抵抗層１３の頂部が微小粒子１２を介して潜像
担持体２の帯電体層２ｄに当たるようになる。すなわ
ち、書込電極３ｂと潜像担持体２は、それら自体直接接
触しない非接触状態となる、換言すれば、書込電極３ｂ
は潜像担持体２に近接された状態となる。

【０１２６】この書込電極３ｂの抵抗層１３の頂部が微
小粒子１２を介して潜像担持体２に当たることで、潜像
担持体２の表面に付着する異物が容易にすり抜けられる
ばかりでなく、微小粒子１２が書込電極３ｂと潜像担持
体２との間に介在することによっても、この潜像担持体
２の異物が容易にすり抜けられるようになり、潜像担持
体２の表面および書込電極３ｂの表面のフィルミングが
効果的に防止されるようになっている。

【０１２７】また、これらの微小粒子１２が回転するこ
とにより、書込電極３ｂと潜像担持体２との間の摩擦が
低減するので、潜像担持体２を回転させるトルクが低減
するようになっている。これらの微小粒子１２は現像剤
粒子の径の約１桁小さい粒径に設定されており、この微
小粒子１２の粒径は通常トナー粒径が約１０μｍ程度で
あるので１μｍ以下の非常に小さな径に設定され、例え
ばアクリル等の透明な樹脂により形成されている。この
ように、微小粒子１２を透明樹脂で形成しているので、
これらの微小粒子１２が画像部へ移動しても、潜像担持
体２の画像部がこれらの微小粒子１２で影響されること
はないようにしている。

【０１２８】そして、書込電極３ｂと潜像担持体２とが
微小粒子１２を介して非接触とされることにより、微小
粒子１２の潜像担持体２への接触部およびその周りで放
電が微小粒子１２を介して行われるようになる。このと
き、書込電極３ｂと潜像担持体２との間のギャップが微
小粒子１２を介して一定に保持されるので放電が良好に
なる。この放電で帯電体層２ｄが帯電または除電されて
潜像担持体２に静電潜像が書き込まれ、その場合、帯電
体層２ｄに前述のような非帯電部または非除電部が形成
されることはない。また、このように微小粒子１２が基
材３ａおよび書込電極３ｂの全面に設けられた場合は基
材３ａおよび書込電極３ｂの全面と潜像担持体２との間
の潤滑性が良好になる。

【０１２９】なお、微小粒子１２は、書込電極３ｂの
み、あるいは書込電極３ｂ以外の箇所のいずれかにそれ
ぞれ設けることもできる。そして、微小粒子１２が書込
電極３ｂのみに設けられた場合は、前述の微小粒子１２
が全面に設けられた場合と同様に書込電極３ｂと潜像担
持体２との間のギャップが微小粒子１２を介して一定に
保持されて放電が良好になり、また、微小粒子１２が書
込電極３ｂ以外の箇所に設けられた場合は、前述の微小
粒子１２が全面に設けられた場合と同様に書込ヘッド３
の基材３ａと潜像担持体２との間の潤滑性が良好にな
る。

【０１３０】そして、微小粒子１２を基材３ａおよび書
込電極３ｂの少なくとも１つに設ける（付着させる）方
法としては、例えば、書込ヘッド３に微小粒子１２の貯
留槽を設け、この貯留槽の微小粒子１２を孔や刷毛等の
隙間から徐々に排出させて基材３ａおよび書込電極３ｂ
に設ける方法がある。また、他の方法として、書込ヘッ
ド３の潜像担持体２に対向する面にブラシ等の塗布手段
を配設し、この塗布手段により微小粒子１２を基材３ａ
および書込電極３ｂの少なくとも１つに設ける方法があ
る。更に、他の方法として、刷毛等で予め微小粒子１２
を基材３ａおよび書込電極３ｂの少なくとも１つの表面
にまぶした書込装置を用いる方法もある。

【０１３１】また、微小粒子１２は、書込ヘッド３の基
材３ａおよび書込電極３ｂ以外に、潜像担持体２に設け
る（あるいは付着させる）こともできる。この場合の微
小粒子１２の潜像担持体２への配設方法としては、例え
ば、微小粒子１２をまぶしたブラシ等の塗布手段を潜像
担持体２の周囲に配設し、この塗布手段により微小粒子
１２を潜像担持体２に設ける方法がある。また、他の方
法として、刷毛等で予め微小粒子１２を全周にまぶした
潜像担持体２を用いる方法もある。

【０１３２】そして、これらの微小粒子１２の帯電列
が、現像装置４の現像剤８がもともと持つべき極性に帯
電させるように選択されている。これにより、潜像担持
体２の非画像部の現像剤８の除去・回収を更に効果的に
行うことができるようになる。したがって、このように
微小粒子１２を書込電極３ｂと潜像担持体２との間に介
在させることは、画像形成装置１を、潜像担持体一様電
荷制御装置７を省略してクリーニング装置を用いない装
置構成とするためにきわめて有効となる。

【０１３３】

【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
の画像形成装置によれば、書込電極がの凸部を潜像担持
体に接触させて、書込電極の全面が潜像担持体に接触す
るのをなくしているので、潜像担持体の表面に付着する
異物を容易にすり抜けさせることができ、潜像担持体の
表面のフィルミングを防止できる

【０１３４】また、書込電極を可撓性の基材に支持して
いるので、潜像担持体に対する書込電極の位置を安定で
き、潜像担持体に対する書込電極による帯電または除電
をより安定して行うことができる。これにより、静電潜
像を潜像担持体により安定して書き込むことができ、良
好な画像を確実にかつ高精度に得ることができる。

【０１３５】更に、可撓性の基材により、書込電極が小
さい押圧力で潜像担持体に接触可能となるので、書込電
極と潜像担持体との間の空間的なギャップがなくなる。
これにより、この空間的なギャップの空気が不要にイオ
ン化される機会が減少するので、オゾンの発生がより一
層抑制されるようになるとともに、低電位で静電潜像が
形成可能となる。しかも、書込電極による潜像担持体の
損傷が防止され、潜像担持体の耐久性が向上する。

【０１３６】更に、書込装置として書込電極が用いられ
ているだけであり、従来のような大型のレーザ光発生装
置やＬＥＤランプ光発生装置等が不要となる。したがっ
て、装置がより一層小型化になるとともに、部品点数が
より一層削減されて一層シンプルで安価な画像形成装置
が得られる。

【０１３７】特に、請求項２の発明によれば、書込電極
の凸部が種々の形状に形成されるので、種々のタイプの
画像形成装置に柔軟に対応することができる。特に、書
込電極の凸部を球の一部、円錐、楕円錐、長円錐、三角
錐、四角錐、および５角以上の多角錐で形成すること
で、書込電極と潜像担持体とが点接触するので、潜像担
持体の表面に付着する異物をより一層確実にすり抜けさ
せることができる。また、書込電極の凸部を円柱、截頭
円錐台、楕円柱、截頭楕円錐台、長円柱、截頭長円錐
台、三角柱、截頭三角錐台、横断面が平行四辺形あるい
は台形の四角柱、横断面が平行四辺形あるいは台形の截
頭四角錐台、５角以上の多角柱、５角以上の多角錐、お
よび５角以上の截頭多角錐台で形成することで、書込電
極の側面が副走査方向に傾斜するようになるので、潜像
担持体の表面に付着する異物をこの傾斜面沿って容易に
すり抜けさせることができる。

【０１３８】また、請求項３の発明によれば、少なくと
も書込電極を保護層によりオーバーコートしているの
で、この保護層により、書込電極の摩耗を防止できると
ともに、異物が書込電極に付着するのを防止できる。

【０１３９】更に、請求項４の発明によれば、書込電極
の潜像担持体に対向する部分を摩耗性の部材から構成し
ているので、書込電極の表面が潜像担持体に接触するこ
とで削られてリフレッシュすることにより、書込電極を
常時初期状態の表面に保持でき、書込電極のフィルミン
グを防止できるようになる。

【０１４０】更に、請求項５の発明によれば、転写後に
潜像担持体に残留する残留現像剤を、静電潜像の現像前
に現像装置の現像剤がもともと持つべき極性と同じ極性
に帯電させるようにしているので、潜像担持体上の非画
像部にある残留現像剤を現像装置による現像時に現像装
置に移動させることができるようになる。すなわち、ク
リーナを設けることなく、現像と潜像担持体のクリーニ
ングを同時に行うクリーナレス現像同時クリーニング方
式により画像形成を行うことができる。

【０１４１】また、書込装置を用いることにより、画像
形成装置をより小型でよりシンプルな構成にできるとと
もに、クリーナ装置を設けないクリーナレスにできるの
で、更にシンプルな構成にできる。

【０１４２】更に、請求項６の発明によれば、少なくと
も書込電極と潜像担持体との間に多数の微小粒子を介在
させているので、これらの微小粒子により、潜像担持体
の表面に付着する異物を容易にすり抜けさせることがで
き、潜像担持体の表面および書込電極の表面のフィルミ
ングを防止できるようになる。また、これらの微小粒子
を回転させることにより書込電極と潜像担持体との間の
摩擦を低減できるので、潜像担持体を回転させるトルク
を低減できる。

【０１４３】しかも、微小粒子を、現像装置の一成分現
像剤がもともと持つべき極性と同じ極性に帯電させるよ
うにしているので、潜像担持体上の非画像部にありかつ
このように帯電された微小粒子により、潜像担持体の非
画像部の現像剤の除去・回収を更に効果的に行うことが
できるようになる。このように、微小粒子を書込電極と
潜像担持体との間に介在させることで、潜像担持体一様
電荷制御装置を省略してクリーニング装置を用いないよ
り一層シンプルな装置構成とすることができる。

【０１４４】また、請求項７の発明によれば、転写後に
潜像担持体に残留する残留現像剤を、潜像担持体の一様
電荷制御と同時に現像装置の現像剤がもともと持つべき
極性と同じ極性に帯電させているので、この残留現像剤
の帯電をより簡単に行うことができる。

【０１４５】更に、請求項８の発明によれば、現像を反
転現像法により行っているので、潜像担持体の一様電荷
制御工程で残留現像剤が現像剤と同じ帯電極性に揃えら
れるため、現像同時クリーニングをより簡単にかつより
有効に行うことができるようになる。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明に係る画像形成装置の実施の形態の基
本構成を模式的に示す図である。

【図２】 本発明の画像形成装置における画像形成の基
本プロセスを示す図である。

【図３】 書込装置の書込電極の帯電または除電による
静電潜像の書込の原理を説明し、（ａ）は書込電極と潜
像担持体との接触部の拡大図、（ｂ）はこの接触部の電
気的等価回路図、（ｃ）ないし（ｆ）は各パラメータと
潜像担持体の表面電位との関係を示す図である。

【図４】 潜像担持体に対する帯電または除電を説明
し、（ａ）は電荷移動による潜像担持体に対する帯電ま
たは除電の説明図、（ｂ）は放電による潜像担持体に対
する帯電または除電の説明図、（ｃ）はパッシェンの法
則を説明する図である。

【図５】 書込装置の一例の潜像担持体の軸方向から見
た模式図である。

【図６】 図３ないし図５に示す例の画像形成装置にお
ける書込ヘッドの一例を部分的に示す、部分斜視図であ
る。

【図７】 図６に示す書込ヘッドの作成方法の一例を説
明する図である。

【図８】 図３ないし図５に示す例の画像形成装置にお
ける書込ヘッドの一例を部分的に示す、図６と同様の部
分斜視図である。

【図９】 図３ないし図５に示す例の画像形成装置にお
ける書込ヘッドの一例を部分的に示す、図６と同様の部
分斜視図である。

【図１０】図３ないし図５に示す例の画像形成装置にお
ける書込ヘッドの一例を部分的に示す、図６と同様の部
分斜視図である。

【図１１】書込装置の他の例の潜像担持体の軸方向から
見た模式図である。

【図１２】複数の書込電極を潜像担持体の軸方向に配列
した場合の配列パターンを示し、（ａ）は最もシンプル
な書込電極の配列パターンの場合を示す図、（ｂ）およ
び（ｃ）はそれぞれ（ａ）の問題点を解消した書込電極
の配列パターンの場合を示す図である。

【図１３】隣接する書込電極の一部が潜像担持体の回転
方向にオーバーラップされていることを説明する図であ
る。

【図１４】書込電極およびドライバの配列パターンと配
線パターンとを示す図である。

【図１５】複数の書込電極の配列パターンの更に他の例
を示す図である。

【図１６】複数の書込電極の配列パターンの更に他の例
を示す図である。

【図１７】（ａ）ないし（ｄ）はそれぞれ書込装置の書
込電極の各例を示す断面図である。

【図１８】書込電極に所定電圧Ｖ₀および接地電圧Ｖ₁を
切替接続するためのスイッチング回路を示す図である。

【図１９】各電極の各高電圧スイッチをそれぞれ所定電
圧Ｖ０または接地電圧Ｖ１に選択的に切替制御したとき
の状態を示し、（ａ）は各電極の電圧状態を示す図、
（ｂ）は（ａ）の電圧状態で正規現像したときの現像剤
像を示す図、（ｃ）は（ａ）の電圧状態で反転現像した
ときの現像剤像を示す図である。

【図２０】本発明に係る画像形成装置の実施の形態の更
に他の例を模式的にかつ部分的に示す、図５と同様の図
である。

【図２１】本発明の書込装置を用いた画像形成装置の他
の例を用いた具体的な画像形成装置の一例を模式的に示
す図である。

【図２２】反転現像法を用いたクリーナレス現像同時ク
リーニング方式の一部を説明する図である。

【図２３】反転現像法を用いたクリーナレス現像同時ク
リーニング方式の他部を説明する図である。

【図２４】（ａ）および（ｂ）は、それぞれ本発明の実
施の形態の更に他の例を示す図である。

【符号の説明】

１…画像形成装置、２…潜像担持体、３…書込装置（書
込ヘッド）、３ａ…基材、３ｂ…書込電極、４…現像装
置、５…転写材、６…転写装置、７…潜像担持体一様電
荷制御装置、８…現像剤、９…導電パターン、１２…微
小粒子、１３…抵抗層、１４,２９…保護層、２８…絶
縁層、２９…ブラシ

フロントページの続き (31)優先権主張番号 特願2000−307682(P2000−307682) (32)優先日 平成12年10月６日(2000．10．6) (33)優先権主張国 日本（ＪＰ） (72)発明者 依田兼雄 長野県諏訪市大和３丁目３番５号 セイコ −エプソン株式会社内 (72)発明者 阿部信正 長野県諏訪市大和３丁目３番５号 セイコ −エプソン株式会社内 (72)発明者 野村雄二郎 長野県諏訪市大和３丁目３番５号 セイコ −エプソン株式会社内 Ｆターム(参考） 2C162 AE21 AE36 AE37 AE43 AE44 AE73 AE84 AH02 EA08 EA10 EA11 EA12 EA13 EA17 EA19 2H029 AA06 AB02 AB03 AB04 AB10 AB13 AB23 AD01 AD03 AD06 5C051 AA02 CA03 DB06 DC07 EA00

Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 静電潜像が形成される潜像担持体と、前
   記潜像担持体に前記静電潜像を書き込む書込装置と、前
   記潜像担持体上の前記静電潜像を現像する現像装置と少
   なくとも備え、前記書込装置によって前記潜像担持体に
   書き込まれた前記静電潜像を前記現像装置で現像するこ
   とにより画像を形成する画像形成装置において、 前記書込装置は前記潜像担持体に前記静電潜像を書き込
   む書込電極とこの書込電極を支持する可撓性の基材とを
   有し、前記書込電極は前記可撓性の基材の弾性により小
   さい押圧力で前記潜像担持体に接触されており、 前記書込電極は前記基材から前記潜像担持体に向かって
   突出する凸部からなることを特徴とする画像形成装置。
2. 【請求項２】 前記書込電極は、球の一部、円柱、円
   錐、截頭円錐台、楕円柱（横断面が楕円の柱体）、楕円
   錐（横断面が楕円の錐体）、截頭楕円錐台（横断面が楕
   円の截頭錐体）、長円柱（横断面が長円の柱体）、長円
   錐（横断面が長円の錐体）、截頭長円錐台（横断面が長
   円の截頭錐体）、三角柱、三角錐、截頭三角錐台、四角
   柱、四角錐、截頭四角錐台、５角以上の多角柱、５角以
   上の多角錐、および５角以上の截頭多角錐台のいずれか
   １つの形状で形成されていることを特徴とする請求項１
   記載の画像形成装置。
3. 【請求項３】 少なくとも前記書込電極は保護層により
   オーバーコートされていることを特徴とする請求項１ま
   たは２記載の画像形成装置。
4. 【請求項４】 前記書込電極の少なくとも前記潜像担持
   体に対向する部分は摩耗性の部材から構成されているこ
   とを特徴とする請求項１または２記載の画像形成装置。
5. 【請求項５】 前記現像装置は前記静電潜像を一成分現
   像剤で現像する現像装置であるとともに、前記現像装置
   で現像された前記潜像担持体上の現像剤像を転写材に転
   写する転写装置を備えており、 転写後に前記潜像担持体に残留する残留現像剤が、少な
   くとも前記現像装置による前記静電潜像の現像前に前記
   一成分現像剤がもともと持つべき極性と同じ極性に帯電
   されるようになっていることを特徴とする請求項１ない
   し３のいずれか１記載の画像形成装置。
6. 【請求項６】 少なくとも前記書込電極と前記潜像担持
   体との間に多数の微小粒子が転がり可能に介在している
   とともに、これらの微小粒子が、少なくとも前記現像装
   置による前記静電潜像の現像前に前記現像剤がもともと
   持つべき極性と同じ極性に帯電されるようになっている
   ことを特徴とする請求項５記載の画像形成装置。
7. 【請求項７】 前記潜像担持体を一様電荷状態にする潜
   像担持体一様電荷制御装置を備え、この潜像担持体一様
   電荷制御装置による前記潜像担持体の一様電荷制御時
   に、転写後に前記潜像担持体に残留する残留現像剤が同
   時にもともと前記一成分現像剤が持つべき極性と同じ極
   性に帯電されるようになっていることを特徴とする請求
   項５または６記載の画像形成装置。
8. 【請求項８】 前記現像は反転現像であることを特徴と
   する請求項５ないし７のいずれか１記載の画像形成装
   置。