JP2002108072A - 画像形成装置 - Google Patents

画像形成装置

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JP2002108072A
JP2002108072A JP2000300699A JP2000300699A JP2002108072A JP 2002108072 A JP2002108072 A JP 2002108072A JP 2000300699 A JP2000300699 A JP 2000300699A JP 2000300699 A JP2000300699 A JP 2000300699A JP 2002108072 A JP2002108072 A JP 2002108072A
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Yoshiro Koga
古賀欣郎
Shinichi Kamoshita
鴨志田伸一
Kaneo Yoda
依田兼雄
Nobumasa Abe
阿部信正
Yujiro Nomura
野村雄二郎
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Abstract

(57)【要約】 【課題】画像形成装置のより一層小型化を図り、また部
品点数をより一層削減してより一層シンプルで安価な構
成にしかつ静電潜像の書込をより安定して行う。 【解決手段】書込装置3の書込電極3bは柔らかい弾性
を有しかつヘアピンカーブ状に2つ折りに湾曲された可
撓性の基材3aに支持されているとともに、潜像担持体
2に接触されている。潜像担持体一様電荷制御装置7に
よって一様電荷状態にされた潜像担持体2上に書込電極
3bによる帯電または除電により潜像担持体2に静電潜
像が書き込まれる。この静電潜像は現像装置4で現像さ
れてその現像剤像が転写装置6によって紙等の転写材5
に転写される。書込電極3bを支持する基材3aが柔ら
かい弾性を有する可撓性の基材であるので、書込電極3
bが潜像担持体2に対して安定して接触または近接す
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、書込装置の書込電
極により潜像担持体上に静電潜像を形成することで画像
を形成する画像形成装置の技術分野に属する。
【0002】
【従来の技術】従来、静電複写機やプリンタ等の画像形
成装置においては、一般的に帯電装置により感光体の表
面を一様帯電し、この一様帯電された感光体の表面にレ
ーザ光あるいはLEDランプ光等の露光装置の光を露光
することにより、感光体の表面に静電潜像を書き込むよ
うになっている。そして、感光体の表面の静電潜像を現
像装置で現像して感光体の表面に現像剤像を形成し、こ
の現像剤像を転写装置によって紙等の転写材に転写し
て、画像を形成している。このような従来の一般的な画
像形成装置では、静電潜像の書込装置である露光装置が
レーザ光発生装置あるいはLEDランプ光発生装置等に
よって構成されているため、画像形成装置が大型でかつ
複雑な構成となっている。
【0003】そこで、静電潜像の書込装置として、レー
ザ光やLEDランプ光を用いずに電極により潜像担持体
の表面に静電潜像を書き込む画像形成装置が特公昭63
−45014号公報において提案されている。この公告
公報に開示されている画像形成装置は多数の針電極を有
するマルチスタイラスを備えており、潜像担持体の表面
の無機ガラス層にマルチスタイラスの針電極を単に接触
させている。そして、画像情報の入力信号によりマルチ
スタイラスの対応する針電極に電圧が加えられると、こ
の針電極によって潜像担持体に静電潜像が形成されるよ
うになっている。この公告公報の画像形成装置によれ
ば、書込装置として従来のような露光装置を用いていな
いので、その分、画像形成装置が小型でかつ比較的シン
プルな構成となっている。
【0004】また、コロナ放電器により発生させたイオ
ンを、絶縁性基板の先端部に設け潜像担持体に非接触の
イオン制御電極により制御することにより、潜像担持体
に静電潜像を書き込む画像形成装置が特開平06−16
6206号公報において提案されている。この公開公報
の画像形成装置によっても、書込装置として露光装置を
用いないので、画像形成装置が小型でかつ比較的シンプ
ルな構成となる。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前述の
公告公報の画像形成装置においては、マルチスタイラス
の多数の針電極を潜像担持体の表面の無機ガラス層に単
に接触させているだけであるので、多数の針電極を潜像
担持体の表面の無機ガラス層に安定して接触させること
が難しい。このため、潜像担持体の表面を安定して帯電
させることは難しく、良好な画像を得ることが難しいと
いう問題がある。
【0006】また、多数の針電極の接触による潜像担持
体の表面の損傷を防止するために無機ガラス層を潜像担
持体の表面に設けることが余儀なくされ、潜像担持体の
構成がその分複雑になる。しかも、無機ガラス層は物理
吸着水特性がきわめてよいことから、無機ガラスの表面
に水分がよく吸着し、この吸着した水分によりガラス表
面の電気伝導率が高められて潜像担持体の帯電電荷が漏
洩してしまうため、水分が吸着した潜像担持体の表面を
乾燥させて物理吸着水の影響を防止する手段を設ける必
要がある。このため、装置が更に大型になるばかりでな
く、部品点数が増えて構成が更に複雑になりかつコスト
が高いものとなってしまうという問題がある。
【0007】更に、多数の針電極から放電されるため、
オゾン(O3)が発生する可能性が大きいという問題も
ある。このオゾンにより、装置内の部品に錆を発生させ
るばかりでなく、NOxと反応して発生する硝酸(HN
3)により樹脂部品を溶融させるおそれが考えられ
る。しかも、オゾンによって異臭が発生するおそれがあ
る。このため、オゾンを装置内から排出させなければな
らないが、そのためにダクトおよびオゾンフィルタを設
けて排気系を十分にする必要があり、装置が大型になる
ばかりでなく、部品点数が増えて構成がより複雑になり
かつコストが高いものとなってしまう。
【0008】また、前述の公開公報の画像形成装置にお
いては、イオン制御電極がコロナ放電器で発生したイオ
ンを制御するものであって、潜像担持体に直接電荷を注
入させるものではないので、画像形成装置が大型になら
ざるを得ないばかりでなく、構成がきわめて複雑になる
という問題がある。しかも、イオンによる帯電のため、
潜像担持体により安定して静電潜像を書き込むことは難
しい。更に、イオンを発生させるため、基本的にオゾン
が発生するため、前述の公告公報の画像形成装置と同じ
ような問題が生じる。
【0009】本発明は、このような問題に鑑みてなされ
たものであって、その目的は、より一層小型化を図ると
ともに、部品点数をより一層削減してより一層シンプル
で安価な構成にしながら、しかも静電潜像の書込をより
安定して行うことのできる画像形成装置を提供すること
である。本発明の他の目的は、オゾンの発生をより一層
抑制することのできる画像形成装置を提供することであ
る。
【0010】
【課題を解決するための手段】この課題を解決するため
に、請求項1の発明は、静電潜像が形成される潜像担持
体と、前記潜像担持体に前記静電潜像を書き込む書込装
置と、前記潜像担持体上の前記静電潜像を現像する現像
装置と少なくとも備え、前記書込装置によって前記潜像
担持体に書き込まれた前記静電潜像を前記現像装置で現
像することにより画像を形成する画像形成装置におい
て、前記書込装置が、前記潜像担持体に前記静電潜像を
書き込む書込電極とこの書込電極を支持しかつヘアピン
カーブ状に2つ折りに湾曲された可撓性の基材とを有す
ることを特徴としている。
【0011】また、請求項2の発明は、前記基材に、複
数の前記書込電極の電極パターンが形成されていること
を特徴としている。更に、請求項3の発明は、ヘアピン
カーブ状に2つ折りに湾曲された可撓性の基材の両端部
の間にシールド部材が介在されていることを特徴として
いる。更に、請求項4の発明は、2枚の前記書込電極が
前記潜像担持体の回転方向にオフセットされかつ重ねら
れて設けられていることを特徴としてる。
【0012】
【作用】このように構成された本発明の画像形成装置に
おいては、書込電極がヘアピンカーブ状に2つ折りに湾
曲された可撓性の基材に支持されていることから、書込
電極の潜像担持体に対する位置が柔軟にかつ安定して設
定されるようになる。したがって、書込電極と潜像担持
体との間の電荷注入または放電が安定かつ確実に行われ
る。これにより、潜像担持体に対する書込電極による帯
電または除電がより安定して高精度に行われるので、静
電潜像の書込がより安定して行われるようになり、良好
な画像が確実にかつ高精度に得られるようになる。
【0013】また、可撓性の基材により、書込電極が小
さい押圧力で潜像担持体に接触可能となるかあるいは潜
像担持体により確実に近接可能となるので、書込電極と
潜像担持体との間の空間的なギャップがきわめて小さく
なる。これにより、この空間的なギャップの空気が不要
にイオン化される機会が減少するので、オゾンの発生が
より一層抑制されるようになるとともに、低電位で静電
潜像が形成可能となる。しかも、書込電極による潜像担
持体の損傷が防止され、潜像担持体の耐久性が向上す
る。更に、書込装置として書込電極が用いられているの
で、従来のような大型のレーザ光発生装置やLEDラン
プ光発生装置等が不要となる。これにより、装置がより
一層小型化されるとともに、部品点数がより一層削減さ
れて一層シンプルで安価な画像形成装置が得られる。
【0014】特に、請求項3の発明においては、可撓性
の基材の両端部にシールド部材が介在されているので、
これらの両端部間のクロストークを防止される。また。
請求項4の発明においては、2枚の書込電極が副走査方
向にオフセットして重ねられて設けられているので、書
込電極による帯電または除電が更に安定してかつより確
実に行われるようになる。
【0015】
【発明の実施の形態】以下、図面を用いて、本発明の実
施の形態について説明する。図1は、本発明に係る画像
形成装置の実施の形態の基本構成を模式的に示す図であ
る。図1に示すように、本発明に係る画像形成装置1
は、静電潜像が形成される潜像担持体2と、潜像担持体
2に接触してこの潜像担持体2に静電潜像を書き込む書
込装置3と、潜像担持体2上の静電潜像を現像剤担持体
(現像ローラ)4aに担持・搬送された現像剤で現像す
る現像装置4と、この現像装置4で現像された潜像担持
体2上の現像剤像を紙等の転写材5に転写する転写装置
6と、転写後の潜像担持体2上に残っている電荷を除電
するかまたは転写後の潜像担持体2を帯電するかして潜
像担持体2上を一様電荷状態にする潜像担持体一様電荷
制御装置7とを少なくとも備えている。以下の説明にお
いては、潜像担持体2はすべて接地されているものとし
て説明するが、これは説明の便宜上であって、本発明は
潜像担持体2が接地されることに限定されるものではな
い。
【0016】書込装置3は、FPC、PETフィルム、
フレキシブルPCB等の絶縁性が高くかつ比較的柔らか
く弾性のある可撓性の基材3aと、基材3aに支持され
かつこの基材3aの撓みによる弱い弾性復元力で潜像担
持体2上に軽く押圧されて接触して静電潜像を書き込む
書込電極3bとを備えている。このように構成された画
像形成装置1においては、潜像担持体一様電荷制御装置
7で潜像担持体2上を一様電荷状態にした後、潜像担持
体2に接触している書込装置3により、静電潜像が一様
電荷状態の潜像担持体2上に書き込まれる。そして、潜
像担持体2上の静電潜像が現像装置4の現像剤で現像さ
れ、その現像剤像が転写装置6で転写材5に転写され
る。なお、本発明においては、潜像担持体2上の電荷を
除電して潜像担持体2上に(+)および(−)のいずれ
の電荷も一様にない状態も一様電荷状態であるとする。
【0017】図2は、本発明の画像形成装置1における
画像形成の基本プロセスを示す図である。本発明の画像
形成装置1における画像形成の基本プロセスとして、
(1) 一様除電−接触帯電書込−正規現像、(2) 一様除電
−接触帯電書込−反転現像、(3) 一様帯電−接触除電書
込−正規現像、および(4) 一様除電−接触除電書込−反
転現像の4つの画像形成プロセスがある。以下、これら
の画像形成プロセスについて説明する。
【0018】(1) 一様除電−接触帯電書込−正規現像 この画像形成プロセスの一例として、図2(a)に示す
プロセスがある。図2(a)に示すように、この画像形
成プロセスは潜像担持体2として感光体2aが用いられ
ているとともに、潜像担持体一様電荷制御装置7として
除電ランプ7aが用いられている。また、書込装置3の
書込電極3bは感光体2aに接触して感光体2aの画像
部を(+)帯電することでこの感光体2aに静電潜像を
書き込むようになっている。更に、現像装置4の現像ロ
ーラ4aには、従来と同様に例えば(−)の直流に交流
が重畳されたバイアス電圧が印加されていて、現像ロー
ラ4aは(−)に帯電された現像剤8を感光体2aの方
へ搬送するようになっている。なお、現像ローラ4aに
は(−)の直流のみのバイアス電圧を印加することもで
きる。
【0019】この例の画像形成プロセスにおいては、除
電ランプ7aにより感光体2aの表面の電荷が除電され
て感光体2a上が、電荷が取り除かれた0Vに近い一様
電荷状態にされた後、書込装置3の書込電極3bにより
感光体2a上の画像部が(+)帯電されてこの感光体2
a上に静電潜像が書き込まれる。そして、現像装置4の
現像ローラ4aによって搬送される(−)帯電された現
像剤8が感光体2aの(+)帯電された画像部に付着し
て静電潜像が正規現像される。
【0020】この画像形成プロセスの他の例として、図
2(b)に示すプロセスがある。図2(b)に示すよう
に、この画像形成プロセスは潜像担持体2として誘電体
2bが用いられているとともに、潜像担持体一様電荷制
御装置7として除電ローラ7bが用いられている。現像
装置4の現像ローラ4aには、従来と同様に例えば
(−)の直流のバイアス電圧が印加される。なお、現像
ローラ4aには(−)の直流に交流が重畳されたバイア
ス電圧を印加することもできる。また、除電ローラ7b
には、交流のバイアス電圧が印加される。この例の画像
形成プロセスの他の構成は、前述の図2(a)に示す例
と同じである。この例の画像形成プロセスにおいては、
除電ローラ7bが誘電体2bに接触されており、この除
電ローラ7bにより誘電体2bの電荷が除電されて誘電
体2b上が、電荷が取り除かれた0Vに近い一様電荷状
態にされる。その後の画像形成動作は、感光体2aが誘
電体2bに変わるだけで前述の図2(a)に示す例と同
じである。
【0021】(2) 一様除電−接触帯電書込−反転現像 この画像形成プロセスの一例として、図2(c)に示す
プロセスがある。図2(c)に示すように、この画像形
成プロセスは、図2(a)に示す例と同様に、潜像担持
体2として感光体2aが用いられているとともに、潜像
担持体一様電荷制御装置7として除電ランプ7aが用い
られている。また、書込装置3の書込電極3bは感光体
2aに接触して感光体2aの非画像部を(−)帯電する
ようになっている。この例の画像形成プロセスの他の構
成は、前述の図2(a)に示す例と同じである。
【0022】この例の画像形成プロセスにおいては、除
電ランプ7aにより感光体2aの電荷が除電されて感光
体2a上が、電荷が取り除かれた0Vに近い一様電荷状
態にされた後、書込装置3の書込電極3bにより感光体
2a上の非画像部が(−)帯電されてこの感光体2a上
に静電潜像が書き込まれる。そして、現像装置4の現像
ローラ4aによって搬送される(−)帯電された現像剤
8が感光体2a上の(−)帯電されない0Vに近い画像
部に付着して静電潜像が反転現像される。
【0023】この画像形成プロセスの他の例として、図
2(d)に示すプロセスがある。図2(d)に示すよう
に、この画像形成プロセスは、図2(b)に示す例と同
様に潜像担持体2として誘電体2bが用いられていると
ともに、潜像担持体一様電荷制御装置7として除電ロー
ラ7bが用いられている。また、書込装置3の書込電極
3bは誘電体2bに接触してこの誘電体2bの非画像部
を(−)帯電するようになっている。この例の画像形成
プロセスの他の構成は、前述の図2(b)に示す例と同
じである。この例の画像形成プロセスにおいては、除電
ローラ7bが誘電体2bに接触されており、この除電ロ
ーラ7bにより誘電体2bの電荷が除電されて誘電体2
b上が、電荷が取り除かれた0Vに近い一様電荷状態に
される。その後の画像形成動作は、感光体2aが誘電体
2bに変わるだけで前述の図2(c)に示す例と同じで
ある。
【0024】(3) 一様帯電−接触除電書込−正規現像 この画像形成プロセスの一例として、図2(e)に示す
プロセスがある。図2(e)に示すように、この画像形
成プロセスは潜像担持体2として感光体2aが用いられ
ているとともに、潜像担持体一様電荷制御装置7として
帯電ローラ7cが用いられている。この帯電ローラ7c
には(+)の直流に交流が重畳されたバイアス電圧が印
加されていて、帯電ローラ7cは感光体2a上を(+)
に一様帯電するようになっている。なお、帯電ローラ7
cには(+)の直流のみのバイアス電圧を印加すること
もできる。また、書込装置3の書込電極3bは感光体2
aに接触して感光体2aの非画像部の(+)電荷を除電
するようになっている。この例の画像形成プロセスの他
の構成は図2(a)に示す例と同じである。
【0025】この例の画像形成プロセスにおいては、帯
電ローラ7cが感光体2aに接触され、この帯電ローラ
7cにより感光体2a上が(+)帯電されて所定電圧の
一様電荷状態にされた後、書込装置3の書込電極3bに
より感光体2a上の非画像部の(+)電荷が除電されて
この感光体2a上に静電潜像が書き込まれる。そして、
現像装置4の現像ローラ4aによって搬送される(−)
帯電された現像剤8が感光体2aの(+)帯電された画
像部に付着して静電潜像が正規現像される。
【0026】この画像形成プロセスの他の例として、図
2(f)に示すプロセスがある。図2(f)に示すよう
に、この画像形成プロセスは潜像担持体2として誘電体
2bが用いられているとともに、潜像担持体一様電荷制
御装置7として帯電用コロナ放電器7dが用いられてい
る。図示しないが、この帯電用コロナ放電器7dには、
従来と同様に(−)の直流のバイアス電圧または(−)
の直流に交流を重畳されたバイアス電圧が印加される。
また、書込装置3の書込電極3bは誘電体2bに接触し
て誘電体2bの非画像部の(−)電荷を除電するように
なっている。更に、現像ローラ4aには(+)の直流の
バイアス電圧が印加されていて、現像ローラ4aは
(+)に帯電された現像剤8を誘電体2bの方へ搬送す
るようになっている。なお、現像ローラ4aには(+)
の直流と交流とを重畳したバイアス電圧を印加すること
もできる。この例の画像形成プロセスの他の構成は、前
述の図2(b)に示す例と同じである。
【0027】この例の画像形成プロセスにおいては、帯
電用コロナ放電器7dにより誘電体2b上が(−)帯電
されて所定電圧の一様電荷状態にされた後、書込装置3
の書込電極3bにより感光体2a上の非画像部の(−)
電荷が除電されてこの誘電体2b上に静電潜像が書き込
まれる。そして、現像装置4の現像ローラ4aによって
搬送される(+)帯電された現像剤8が誘電体2bの
(−)帯電された画像部に付着して静電潜像が正規現像
される。
【0028】(4) 一様帯電−接触除電書込−反転現像 この画像形成プロセスの一例として、図2(g)に示す
プロセスがある。図2(g)に示すように、この画像形
成プロセスは潜像担持体2として感光体2aが用いられ
ているとともに、潜像担持体一様電荷制御装置7として
帯電ローラ7cが用いられている。この帯電ローラ7c
には(−)の直流に交流が重畳されたバイアス電圧が印
加されていて、帯電ローラ7cは感光体2a上を(−)
に一様帯電するようになっている。なお、帯電ローラ7
cには(−)の直流のみのバイアス電圧を印加すること
もできる。また、書込装置3の書込電極3bは感光体2
aに接触してこの感光体2aの画像部の(−)電荷を除
電するようになっている。この例の画像形成プロセスの
他の構成は図2(a)に示す例と同じである。
【0029】この例の画像形成プロセスにおいては、帯
電ローラ7cが感光体2aに接触され、この帯電ローラ
7cにより感光体2a上が(−)帯電されて所定電圧の
一様電荷状態にされた後、書込装置3の書込電極3bに
より感光体2a上の画像部の(−)電荷が除電されてこ
の感光体2a上に静電潜像が書き込まれる。そして、現
像装置4の現像ローラ4aによって搬送される(−)帯
電された現像剤8が感光体2aの(−)帯電されない画
像部に付着して静電潜像が反転現像される。
【0030】この画像形成プロセスの他の例として、図
2(h)に示すプロセスがある。図2(h)に示すよう
に、この画像形成プロセスは潜像担持体2として誘電体
2bが用いられているとともに、潜像担持体一様電荷制
御装置7として帯電用コロナ放電器7dが用いられてい
る。図示しないが、この帯電用コロナ放電器7dには、
従来と同様に(+)の直流のバイアス電圧または(+)
の直流に交流を重畳されたバイアス電圧が印加される。
この例の画像形成プロセスの他の構成は、前述の図2
(f)に示す例と同じである。
【0031】この例の画像形成プロセスにおいては、帯
電用コロナ放電器7dにより誘電体2b上が(+)帯電
されて所定電圧の一様電荷状態にされた後、書込装置3
の書込電極3bにより感光体2a上の画像部の(+)電
荷が除電されてこの誘電体2b上に静電潜像が書き込ま
れる。そして、現像装置4の現像ローラ4aによって搬
送される(+)帯電された現像剤8が誘電体2bの
(+)帯電されない画像部に付着して静電潜像が反転現
像される。
【0032】図3は、書込装置3の書込電極3bの帯電
または除電による静電潜像の書込の原理を説明し、
(a)は書込電極3bと潜像担持体2との接触部の拡大
図、(b)はこの接触部の電気的等価回路図、(c)な
いし(f)は各パラメータと潜像担持体2の表面電位と
の関係を示す図である。図3(a)に示すように潜像担
持体2は、アルミニウム等の導電性材料からなり、接地
されている基材2cと、この基材2cの外周に形成され
た絶縁性を有する帯電体層2dとからなっている。書込
装置3のFPC等からなる基材3aに支持されている書
込電極3bが前述のように帯電体層2dに所定の小さい
押圧力で接触しているとともに、潜像担持体2が所定の
速度vで移動(回転)している。この小さな押圧力は、
幅300mmで押圧力10N以下、すなわち線圧0.0
3N/mm以下が書込電極3bと潜像担持体2との接触
または書込電極3bの潜像担持体2への近接(書込電極
3bと潜像担持体2との間の空隙)を安定化し、電荷注
入または放電を安定化する上で好ましく、摩耗の観点か
ら接触を安定の保つ状態を維持しつつ極力線圧を下げる
ことが望ましい。
【0033】書込電極3bには、所定の高電圧V0また
は所定の低電圧V1が基材3aを介して選択的に切り替
えられて印加されるようになっている(前述のように±
の電荷があるため、高電圧は絶対値が高い電圧をいい、
また、低電圧は高電圧と同じ極性として絶対値が低い電
圧または0Vをいう。本明細書における本発明の説明で
は、この低電圧はすべて接地電圧であるとしているの
で、以下の説明では、高電圧V0を所定電圧V0といい、
低電圧V1を接地電圧V1という。接地電圧V1は0Vで
あることは言うまでもない。)。
【0034】すなわち、書込電極3bと潜像担持体2と
の接触部(ニップ部)において、図3(b)に示す電気
的な等価回路が構成されている。図3(b)において、
Rは書込電極3bの抵抗を示し、Cは潜像担持体2の容
量を示している。書込電極3bの抵抗Rは、A側の
(−)の所定電圧V0またはB側の接地電圧V1に選択的
に切換接続されるようになっている。
【0035】等価回路において、書込電極3bをA側に
接続してこの書込電極3bに(−)の所定電圧V0を印
加したときの書込電極3bの抵抗Rと潜像担持体2の表
面電位との関係は、図3(c)に実線で示すように書込
電極3bの抵抗Rが小さい領域では潜像担持体2の表面
電位が一定の所定電圧V0となり、書込電極3bの抵抗
Rが所定値より大きい領域であると、潜像担持体2の表
面電位の絶対値が低下する。一方、書込電極3bをB側
に接続してこの書込電極3bを接地したときの書込電極
3bの抵抗Rと潜像担持体2の表面電位との関係は、図
3(c)に点線で示すように書込電極3bの抵抗Rが小
さい領域では潜像担持体2の表面電位が一定のほぼ接地
電圧V1となり、書込電極3bの抵抗Rが所定値より大
きい領域であると、潜像担持体2の表面電位の絶対値が
上昇する。
【0036】そして、書込電極3bの抵抗Rが小さく潜
像担持体2の表面電位が一定の所定電圧V0または一定
の接地電圧V1である領域では、図4(a)に示すよう
に潜像担持体2に接触する書込電極3bと潜像担持体2
の帯電体層2dとの間で、電圧の低い方から高い方へ直
接(−)の電荷の電荷注入が行われる。すなわち、電荷
注入により潜像担持体2が帯電または除電される。ま
た、書込電極3bの抵抗Rが大きく潜像担持体2の表面
電位が変化し始める領域では、電荷注入による潜像担持
体2の帯電または除電が次第に小さくなってくるととも
に、書込電極3bの抵抗Rが大きくなることで図4
(b)に示すように基材3aの後述する導電パターン9
と潜像担持体2との間で放電が生じてくるようになる。
【0037】この基材3aの導電パターン9と潜像担持
体2との間で生じる放電は基材3aと潜像担持体2の基
材2cとの間の電圧(所定電圧V0)の絶対値が放電開
始電圧Vthより大きくなったときに生じるが、基材3a
および潜像担持体2間のギャップとこの放電開始電圧V
thとの関係はパッシェンの法則により図4(c)に示す
ようになる。すなわち、ギャップが約30μm位である
とき放電開始電圧Vthが最も小さく、ギャップが約30
μmより小さくても大きくても放電開始電圧V thが大き
くなり、放電が発生し難くなる。この放電によっても潜
像担持体2の表面が帯電または除電されるようになる。
しかし、書込電極3の抵抗Rがこの領域であるときに
は、電荷注入による潜像担持体2の帯電または除電が大
きいとともに放電による潜像担持体2の帯電または除電
が小さく、潜像担持体2の帯電または除電は電荷注入に
よる帯電または除電が支配的となっている。この電荷注
入による帯電または除電では、潜像担持体2の表面電位
は、書込電極3bに印加される所定電圧V0または接地
電圧V1となる。電荷注入による帯電の場合、書込電極
3bに供給される所定電圧V0は書込電極3bと潜像担
持体2との間で放電が発生する放電開始電圧Vth以下に
設定するのが望ましい。
【0038】書込電極3bの抵抗Rが更に大きい領域で
あると、電荷注入による潜像担持体2の帯電または除電
が小さく、放電による潜像担持体2の帯電または除電が
電荷注入による帯電または除電より大きくなり、潜像担
持体2の帯電または除電は次第に放電による帯電または
除電が支配的となってくる。すなわち、書込電極3bの
抵抗Rが大きくなると、潜像担持体2の表面は主に放電
によって帯電または除電され、電荷注入による潜像担持
体2はほとんど帯電または除電されなくなる。この放電
による帯電または除電では、潜像担持体2の表面電位
は、書込電極3bに印加される所定電圧V0または接地
電圧V1から放電開始電圧Vthを差し引いた電圧とな
る。なお、所定電圧V0が(+)の電圧でも同じであ
る。
【0039】したがって、電極の3bの抵抗Rを、潜像
担持体2の表面電位が一定の所定電圧|V0|(±の電
圧があるため、絶対値で表す)あるいは一定の接地電圧
1となる小さい領域に設定するとともに、書込電極3
bに印加する電圧を所定電圧V 0と接地電圧V1との間で
スイッチング制御することにより、電荷注入による潜像
担持体2の帯電または除電を行うことができるようにな
る。
【0040】また、書込電極3bをA側に接続してこの
書込電極3bに(−)の所定電圧V 0を印加したときの
潜像担持体2の容量Cと潜像担持体2の表面電位との関
係は、図3(d)に実線で示すように誘電体2bの容量
Cが小さい領域では潜像担持体2の表面電位が一定の所
定電圧V0となり、誘電体2bの容量Cが所定値より大
きい領域では、潜像担持体2の表面電位の絶対値が低下
する。一方、書込電極3bをB側に接続してこの書込電
極3bを接地したときの潜像担持体2の容量Cと潜像担
持体2の表面電位との関係は、図3(d)に点線で示す
ように潜像担持体2の容量Cが小さい領域では潜像担持
体2の表面電位が一定のほぼ接地電圧V 1となり、潜像
担持体2の容量Cが所定値より大きい領域では、潜像担
持体2の表面電位の絶対値が上昇する。
【0041】そして、潜像担持体2の容量Cが小さく潜
像担持体2の表面電位が一定の所定電圧V0または一定
の接地電圧V1である領域では、潜像担持体2に接触す
る書込電極3bと潜像担持体2の帯電体層2dとの間で
直接(−)の電荷の電荷注入が行われる。すなわち、電
荷注入により潜像担持体2が帯電または除電される。ま
た、潜像担持体2の容量Cが大きく潜像担持体2の表面
電位が変化し始める領域では、電荷注入による潜像担持
体2の帯電または除電が次第に小さくなってくるととも
に、潜像担持体2の容量Cが大きくなることで図4
(b)に示すように基材3aと潜像担持体2の基材2c
との間で放電が生じてくるようになる。この放電によっ
ても潜像担持体2の表面が帯電または除電されるように
なる。しかし、潜像担持体容量Cがこの領域であるとき
には、電荷注入による潜像担持体2の帯電または除電が
大きいとともに放電による潜像担持体2の帯電または除
電が小さく、潜像担持体2の帯電または除電は電荷注入
による帯電または除電が支配的となっている。この電荷
注入による帯電または除電では、潜像担持体2の表面電
位は、書込電極3bに印加される所定電圧V0または接
地電圧V1となる。
【0042】潜像担持体2の容量Cが更に大きい領域で
あると、書込電極3bと潜像担持体2の帯電体層2dと
ので間でこの電荷注入はほとんど行われない。すなわ
ち、電荷注入によっては潜像担持体2は帯電または除電
されなくなる。なお、所定電圧V0が(+)の電圧の場
合でも同様である。
【0043】したがって、潜像担持体2の容量Cを、潜
像担持体2の表面電位が一定の所定電圧|V0|(±の
電圧があるため、絶対値で表す)あるいは一定の接地電
圧V1となる小さい領域に設定するとともに、書込電極
3bに印加する電圧を所定電圧V0と接地電圧V1との間
でスイッチング制御することにより、電荷注入による潜
像担持体2の帯電または除電を行うことができるように
なる。
【0044】更に、書込電極3bをA側に接続してこの
書込電極3bに(−)の所定電圧V 0を印加したときの
潜像担持体2の速度(周速度)vと潜像担持体2の表面
電位との関係は、図3(e)に実線で示すように潜像担
持体2の速度vが比較的小さい領域では、潜像担持体2
の表面電位は速度vが大きくなるにしたがって上昇し、
潜像担持体2の速度vが所定値より大きくなると、潜像
担持体2の表面電位の絶対値は一定の電圧となる。潜像
担持体2の表面電位が潜像担持体2の速度vの増大に応
じて大きくなるのは、書込電極3bと潜像担持体2との
間の摩擦による潜像担持体2への電荷注入の容易化によ
るものであると考えられる。この摩擦による潜像担持体
2への電荷注入の容易化は潜像担持体2の速度vがある
程度大きくなると変化しなく、ほぼ一定となる。一方、
書込電極3bをB側に接続してこの書込電極3bを接地
したときの誘電体2bの速度vと誘電体2bの表面電位
との関係は、図3(e)に点線で示すように誘電体2b
の速度vに関係なく一定の接地電圧V1となる。なお、
所定電圧V0が(+)の電圧の場合でも同様である。
【0045】更に、書込電極3bをA側に接続してこの
書込電極3bに(−)の所定電圧V 0を印加したときの
書込電極3bの潜像担持体2への押圧力(以下、単に書
込電極3bの圧力という)と潜像担持体2の表面電位と
の関係は、図3(f)に実線で示すように書込電極3b
の圧力がきわめて小さい領域では、潜像担持体2の表面
電位は書込電極3bの圧力が大きくなるにしたがって比
較的急上昇し、書込電極3bの圧力が所定値より大きく
なると、潜像担持体2の表面電位の絶対値は一定の電圧
となる。潜像担持体2の表面電位が書込電極3bの圧力
の増大に応じて急上昇するのは、書込電極3bと潜像担
持体2との接触が書込電極3bの圧力の増大にしたがっ
てより確実になることによるものであると考えられる。
この書込電極3bと潜像担持体2との接触の確実性は、
書込電極3bの圧力がある程度大きくなると変化しな
く、ほぼ一定となる。一方、書込電極3bをB側に接続
してこの書込電極3bを接地したときの書込電極3bの
圧力と潜像担持体2の表面電位との関係は、図3(f)
に点線で示すように書込電極3bの圧力に関係なく一定
の接地電圧V1となる。なお、所定電圧V0が(+)の電
圧の場合でも同様である。
【0046】このようにして、書込電極3bの抵抗Rお
よび潜像担持体2の容量Cを潜像担持体2の表面電位が
一定の所定電圧となるように設定するとともに、潜像担
持体2の速度vおよび書込電極3bの圧力を潜像担持体
2の表面電位が一定の所定電圧となるように制御し、書
込電極3bに印加する電圧を所定電圧V0と接地電圧V1
との間でスイッチング制御することにより、電荷注入に
よる潜像担持体2の帯電または除電を確実にかつ簡単に
行うことができるようになる。
【0047】なお、前述の例では書込電極3bに印加す
る所定電圧V0が直流電圧であるが、直流電圧に交流電
圧を重畳することもできる。交流電圧を重畳する場合
は、直流成分を潜像担持体2に印加する電圧とし、ま
た、交流成分の振幅を放電開始電圧Vthの2倍以上に
設定するとともに、交流成分の周波数を潜像担持体2の
回転における周波数の500〜1000倍程度が好まし
い(例えば、潜像担持体2の径が30φでかつ潜像担持
体2の周速度が180mm/secであるとすると、潜
像担持体2の回転における周波数が2Hzであるから、
交流成分の周波数は1000〜2000Hzとなる)。
このように直流電圧に交流電圧を重畳させることによ
り、書込電極3bの放電による帯電または除電がより安
定するとともに、交流電圧により書込電極3bが振動す
ることで、書込電極3bに付着する異物を除去でき、こ
の書込電極3bの汚れが防止されるようになる。
【0048】次に、書込装置3の書込電極3bを支持す
る可撓性の基材3aについて説明する。図5は、書込装
置3の一例の潜像担持体2の軸方向から見た模式図であ
る。前述のように、基材3aはFPC、PETフィル
ム、フレキシブルPCB等の比較的柔らかい弾性を有す
る可撓性の材料から構成されており、図5に示すように
前述の例の基材3aと同じ材料からなる矩形の板状の基
材3aがその潜像担持体2の軸方向と直交する方向の中
央部分で潜像担持体2の軸方向の線に沿ってヘアピンカ
ーブ状に2つ折りに湾曲されており、その両端部3a1,
3a2が適宜の固定部材で固定されている。その場合、
基材3aの両端部3a1,3a2の間には、図において上
下に折り曲げられた基材3aの2つの部分の間のクロス
トークを防止するための導電性の取付板(シールド)1
0が介在されている。そして、複数の書込電極3bが潜
像担持体2の軸方向(主走査方向)に配設される(図7
に模式的に示されている)ことから、基材3aは潜像担
持体2の軸方向に潜像担持体2の帯電体層2dの軸方向
長さとほぼ同じ長さの矩形の板状に形成されている。
【0049】基材3aのヘアピンカーブ状部分(湾曲部
分)3a3の所定位置に、書込電極3bが潜像担持体2
の軸方向に複数列固定されている。そして、図示のよう
に基材3aの両端部3a1,3a2が固定された状態で
は、基材3aのヘアピンカーブ状部分3a3が弾性的に
若干撓んでおり、この基材3aのヘアピンカーブ状部分
3a3の弱い弾性復元力で書込電極3bが潜像担持体2
上に軽く押圧されて接触されている。この例の書込装置
3では、基材3aが両端部3a1,3a2で支持されてい
るので、書込電極3bはより確実にかつより安定して接
触するようになる。なお、図5では、基材3aの両端部
3a1,3a2にそれぞれ電極3bのドライバ11が固定
されていることが示されているが、これは後述する図7
に示す電極の配列パターンを示している。
【0050】この状態では、基材3aは弾性的に若干撓
んでいて弱い弾性復元力を発生しており、この弾性復元
力で書込電極3bが潜像担持体2上に小さい押圧力で軽
く押圧されて接触されている。このように書込電極3b
の潜像担持体2への押圧力が小さいことから、書込電極
3bによる潜像担持体2の帯電体層2dの摩耗が抑制さ
れて耐久性が向上するようになるとともに、基材3aの
弾性力で書込電極3bが帯電体層2dに接触されている
ことから、書込電極3bは帯電体層2dに安定して接触
するようになる。特に、基材3aの両端部3a1,3a2
が固定されるので、書込電極3bは帯電体層2dにより
一層安定して接触している。なお、基材3aの両端部3
1,3a2には、後述する書込電極3bを作動制御する
ドライバ11が固定されている。
【0051】図6は、複数の書込電極3bを潜像担持体
2の軸方向に配列した場合の配列パターン(電極パター
ン)を示し、(a)は最もシンプルな書込電極の配列パ
ターンの場合を示す図、(b)および(c)はそれぞれ
(a)の問題点を解消した書込電極の配列パターンの場
合を示す図である。複数の書込電極3bの最もシンプル
な配列パターン(電極パターン)は、図6(a)に示す
ように複数の長方形の書込電極3bが潜像担持体2の軸
方向に一列に配列されたものである。その場合、複数の
書込電極3bのうち、所定数(図示例では8個)の書込
電極3bがそれぞれそれらの書込電極3bを所定電圧V
0または接地電圧V1に切り替えることで駆動制御する1
つのドライバ11に接続されて1組にまとめられてお
り、この組の複数組が潜像担持体2の軸方向に一列に配
列されている。
【0052】しかし、このように単純な長方形の書込電
極3bを単に潜像担持体2の軸方向に一列に配列した場
合、隣接する書込電極3bの間に隙間が生じる。このた
め、この隙間に対向する潜像担持体2の表面は帯電され
ない非帯電部あるいは除電されない非除電部となってし
まう。そこで、図6(b)に示す例の書込電極3bの配
列パターンでは、書込電極3bが三角形に形成されると
ともに、隣接する三角形の書込電極3bの向きが互いに
反対(三角形の正立状態と倒立状態)となるように交互
に配列されている。その場合、複数の書込電極3bは、
隣接する書込電極3bの三角形の底辺の互いに対向する
端部が潜像担持体2の軸方向と直交する方向(潜像担持
体2の回転方向;副走査方向)にオーバーラップする
(重なる)ように配列されている。このように、隣接す
る書込電極3bの一部が互いに潜像担持体2の軸方向と
直交する方向にオーバーラップさせることにより、潜像
担持体2の表面に前述のような非帯電部あるいは非除電
部は形成されなく、潜像担持体2の表面の全面が帯電可
能となる。この例においても、所定数の書込電極3bを
1つのドライバ11に接続した組が複数組配列されてい
る。なお、書込電極3bの形状は三角形以外に、例えば
台形、平行四辺形、隣接する書込電極3bの対向辺の少
なくとも一部に傾斜辺を有する形状、あるいは隣接する
書込電極3bの対向辺に凹凸を設けた形状等の隣接する
書込電極3bの一部が互いに潜像担持体2の軸方向と直
交する方向にオーバーラップするものであればどのよう
な形状にすることもできる。この例でも、図6(a)に
示す例同様に、隣接する所定数の電極3bを1つのドラ
イバ11に接続した組が複数組配列されているととも
に、各ドライバ11はそれぞれ電極3bに関して同じ側
に配置されている。
【0053】また、図6(c)に示す例の書込電極3b
の配列パターンでは、書込電極3bが円形に形成される
とともに、複数の円形の書込電極3bが潜像担持体2の
軸方向と直交する方向に2列にかつ千鳥状に配列されて
いる。その場合、1列目および2列目の互いに隣接する
各書込電極3bの一部どうしが潜像担持体2の潜像担持
体2の軸方向と直交する方向にオーバーラップするよう
に配列されている。この例の書込電極3の配列パターン
でも、潜像担持体2の表面に前述のような非帯電部ある
いは非除電部は形成されなく、潜像担持体2の表面の全
面が帯電可能となる。この例では、隣接する1列目の電
極3bと2列目の電極3bの所定数の電極3bを1つの
ドライバ11に接続した組が複数組潜像担持体2の軸方
向に配列されているとともに、各ドライバ11はそれぞ
れ電極3bに関して同じ側に配置されている。そして、
図7に示すように各ドライバ11が、基材3a上に形成
されかつ断面矩形状の薄い平板状の例えば銅(Cu)箔
からなる導電パターン(Cuパターン)9により電気的
に接続されているとともに、同様に各ドライバ11と各
電極3bとが基材3a上に形成された導電パターン9に
より電気的に接続されている。そして、これらの導電パ
ターン9は例えばエッチング等の従来の薄膜パターン形
成方法で形成することができる。そして、図7において
上方からラインデータ、書込タイミング信号および高圧
電力が各ドライバ11に供給されるようになっている。
【0054】図8は、複数の書込電極3bの配列パター
ンの更に他の例を示す図である。図8に示すように、こ
の例の書込電極3bの配列パターンでは、書込電極3b
が長方形に形成されるとともに、複数の長方形の書込電
極3bが、図6(c)に示す例と同様に潜像担持体2の
軸方向と直交する方向に2列にかつ千鳥状に配列されて
いるとともに、1列目および2列目の互いに隣接する各
書込電極3bの一部どうしが潜像担持体2の軸方向と直
交する方向にオーバーラップするように配列されてい
る。この例の書込電極3の配列パターンでも、潜像担持
体2の表面に前述のような非帯電部あるいは非除電部は
形成されなく、潜像担持体2の表面の全面が帯電可能と
なる。この例では、1列目の所定数の電極3bを1つの
ドライバ11に接続した組が複数組配列されているとと
もに、2列目の所定数の電極3bを1つのドライバ11
に接続した組が複数組列されている。その場合、1列目
の電極3bのドライバ11と2列目の電極3bのドライ
バ11はそれぞれ電極3bを挟んで互いに反対側に配置
され、前述の図6に示すように各ドライバ11は、それ
ぞれへアピンカーブ状に湾曲された基材3aの両端部3
1,3a2に固定されている。
【0055】図9は、複数の書込電極3bの配列パター
ンの更に他の例を示す図である。前述の図6(c)に示
す各例における書込電極3bの配列パターンは、いずれ
も、複数の書込電極3bを潜像担持体2の軸方向に2列
かつ千鳥状に配列しているが、この例の書込電極3bの
配列パターンは、図9(a)および(b)に示すように
潜像担持体2の軸方向に同じ配列パターンを2列にかつ
一列目の例えば台形状の書込電極3bとこの書込電極3
bに対応しかつこの書込電極3bとまったく同じ二列目
の書込電極3′bとが潜像担持体2の軸方向と直交する
方向(副走査方向)に所定のギャップをおいてオフセッ
トされかつ一列に整列されて設けられている。つまり、
2枚の同じ書込電極3b,3b′が副走査方向に重ねら
れて設けられており、これにより潜像担持体2の帯電体
層2dがより確実にかつより安定して帯電されるように
なる。なお、前述の図6(b)に示す例と同様に同じ列
の隣接する書込電極3bまたは書込電極3b′の台形の
対向する斜辺の一部は潜像担持体2の軸方向と直交する
方向にオーバーラップされている。
【0056】図9(c)に示す例は、図9(b)に示す
例において一列目の書込電極3bと二列目の書込電極3
b′のそれぞれの台形の向きが逆に配列されて配列パタ
ーンであり、また、図9(d)に示す例は千鳥状に配列
された二列の矩形状の書込電極3bにおいて、それぞれ
の列の配列パターンを潜像担持体2の軸方向と直交する
方向に設けたもので、それぞれの列の2枚の同じ書込電
極3b,3b′が潜像担持体2の軸方向と直交する方向
に重ねられている。これらの例の作用効果も図9(c)
に示す例と同じである。
【0057】図10は、本発明の画像形成装置の他の例
を示す、図5と同様の図である。前述の例では、いずれ
も書込電極3bが潜像担持体2に接触するものとしてい
るが、この例の画像形成装置1は、書込電極3bが潜像
担持体2に対して放電が発生するように所定のギャップ
(近接距離)をおいて近接されている。すなわち、図1
0に示すように基材3aの潜像担持体2に対向する面に
絶縁層28が設けられている。その場合、この絶縁層2
8は、基材3aに形成された導電パターン9の上から、
導電パターン9の電極部位の書込電極3bが露出するよ
うにして形成されている。この絶縁層28の厚みが書込
電極3bの厚みより所定厚大きく設定されている。
【0058】そして、絶縁層28は、基材3aの撓みに
よる弱い弾性復元力で潜像担持体2上に軽く押圧されて
接触されている。絶縁層28と書込電極3bとの間に厚
みの差があるので、絶縁層28が潜像担持体2に接触す
ることにより、書込電極3bが潜像担持体2に対して所
定のギャップ(近接距離)を置いて近接されるようにな
る。この近接距離は、例えば30〜100μm程度に設
定されるが、絶縁層28の厚みで調整可能である。この
近接距離の調整は絶縁層28を形成する過程、例えば絶
縁層28を絶縁性フォトレジストで構成する場合にこの
絶縁性フォトレジストを基材3aに塗布する行程で行う
ことができる。なお、図10において書込電極3bより
基材3aの先端側の絶縁層28aは省略することもでき
る。
【0059】図11は、書込電極3bに所定電圧V0
よび接地電圧V1を切替接続するためのスイッチング回
路を示す図である。図11に示すように、例えば4列に
配置された書込電極3bは、それぞれ、対応する高電圧
スイッチ(High Voltage Switch;H.V.S.W.)15に接
続されており、これらの高電圧スイッチ15は、それぞ
れ、対応する電極3bを所定電圧V 0と接地電圧V1と
に切替接続するようになっている。各高電圧スイッチ1
5には、それぞれシフトレジスタ(S.R.)16からの
画像書込制御信号が入力され、またこのシフトレジスタ
16には、バッファ17に蓄えられている画像信号およ
びクロック18からのクロック信号がそれぞれ入力され
る。そして、シフトレジスタ16からの画像書込制御信
号はアンド回路19によりエンコーダ20からの書込タ
イミング信号に基づいて各高電圧スイッチ15に入力さ
れるようになる。各高電圧スイッチ15およびアンド回
路19により各書込電極3bへの供給電圧を切替制御す
る前述のドライバ11が構成されている。
【0060】図12は、各電極3bの各高電圧スイッチ
15をそれぞれ所定電圧V0または接地電圧V1に選択
的に切替制御したときの状態を示し、(a)は各電極の
電圧状態を示す図、(b)は(a)の電圧状態で正規現
像したときの現像剤像を示す図、(c)は(a)の電圧
状態で反転現像したときの現像剤像を示す図である。図
12に示すように、例えばn−2番目、n−1番目、n
番目、n+1番目、n+2番目の各電極3bが、それぞ
れの高電圧スイッチ15が切替制御されて図12(a)
に示す電圧状態になっているとする。そこで、このよう
な電圧状態の各電極で潜像担持体2に静電潜像の書込を
行うとともに、正規現像によりこの静電潜像を現像する
と、現像剤8が潜像担持体2の所定電圧V0部上に付着
し、図12(b)にハッチング(斜線)で示すような現
像剤像が得られる。また、同様にして静電潜像の書込を
行い、反転現像によりこの静電潜像を現像すると、現像
剤8が潜像担持体2の接地電圧V1部上に付着し、図1
2(c)にハッチングで示すような現像剤像が得られ
る。
【0061】このように構成された書込装置3を用いた
画像形成装置1によれば、書込電極3bがヘアピンカー
ブ状に2つ折りに湾曲された可撓性の基材3aに支持さ
れているので、書込電極3bの潜像担持体2に対する位
置が柔軟にかつ安定して設定される。したがって、書込
電極3bと潜像担持体2との間の電荷注入または放電を
安定かつ確実に行うことができる。これにより、潜像担
持体2に対する書込電極3bによる帯電または除電をよ
り安定して高精度に行うことができるので、静電潜像の
書込をより安定して行うことができ、良好な画像を確実
にかつ高精度に得ることができる。また、可撓性の基材
3aにより、書込電極3bが小さい押圧力で潜像担持体
2に接触可能となるかあるいは潜像担持体2に近接可能
となるので、書込電極3bと潜像担持体2との間の空間
的なギャップをきわめて小さくできる。これにより、こ
の空間的なギャップの空気が不要にイオン化される機会
が減少できるので、オゾンの発生をより一層抑制するこ
とができるようになるとともに、低電位で静電潜像を形
成することが可能となる。しかも、書込電極3bによる
潜像担持体2の損傷を防止でき、潜像担持体2の耐久性
を向上できる。
【0062】更に、書込装置3として書込電極3bを用
いているだけであり、従来のような大型のレーザ光発生
装置やLEDランプ光発生装置等を設けないので、装置
をより一層小型化することができるとともに、部品点数
をより一層削減できて一層シンプルで安価な画像形成装
置を得ることができる。更に、2枚の書込電極3b,
3′bを副走査方向にオフセットして重ねて設けている
ので、書込電極3b,3′bによる帯電または除電を更
に安定してかつより確実に行うことができる。更に、基
材3aのエッジを潜像担持体2に接触させないようにし
ているので、不要な電荷蓄積や放電を防止でき、その結
果縦すじを防止できる。
【0063】図13は、本発明に係る画像形成装置の実
施の形態の更に他の例を模式的にかつ部分的に示す、図
5と同様の図である。前述の各例では、いずれも、潜像
担持体2を一様帯電させるための潜像担持体一様電荷制
御装置7が書込装置3とは別に独立して設けられている
が、この例の画像形成装置1では、図13に示すように
潜像担持体一様電荷制御装置7が書込装置3の基材3a
に書込電極3bと一体的に設けられている。すなわち、
書込装置3の基材3aの先端部3a1に、潜像担持体一
様電荷制御装置7の一様電荷制御電極7eが設けられて
いるとともに、この一様電荷制御電極7eと所定のギャ
ップを置いて書込電極3bが設けられている。その場
合、一様電荷制御電極7eは断面矩形状の薄い平板状に
形成され、潜像担持体2の帯電体層2dの軸方向長さと
同じ長さだけ潜像担持体2の軸方向に連続して延設され
ている。そして、これらの書込電極3bおよび一様電荷
制御電極7は、いずれも、基材3aの撓みによる弱い弾
性復元力で潜像担持体2の表面に小さい押圧力で接触さ
れている。
【0064】このように構成されたこの例の画像形成装
置1においては、基材3aの先端部3a1の一様電荷制
御電極7eで潜像担持体2の表面が一様帯電された後、
書込電極3bが潜像担持体を帯電または除電すること
で、静電潜像が潜像担持体2の表面に書き込まれるよう
になる。この例の画像形成装置1においては、一様電荷
制御電極7eと書込電極3bとが一体的に設けられてい
るので、画像形成装置1をより一層小型にかつシンプル
に形成することができる。この例の画像形成装置1の他
の構成および他の作用効果は図5に示す例と同じであ
る。
【0065】なお、書込電極として前述の例のように書
込電極3b以外に、静電潜像を書き込むことができる他
の書込電極を用いることもできる。また、一様電荷制御
電極7eと書込電極3bとを一体的に設けることは、図
13に示す例に限ることなく、図6に示すような書込電
極3bを近接させる書込装置3にも適用でき、その場合
には書込電極3bの場合と同様に、一様電荷制御電極7
eを静電潜像担持体7に接触させてもよいし、また静電
潜像担持体7に近接させてもよい。更に、一様電荷制御
電極7eと書込電極3bとを一体的に設けることは、前
述の他の例の画像形成装置に適用することができ、しか
も同様の作用効果を得ることができることは言うまでも
ない。また、書込電極3bと一様電荷制御電極7eとの
間のギャップに適宜の絶縁体を設けることもできる。
【0066】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
の画像形成装置によれば、書込電極をヘアピンカーブ状
に2つ折りに湾曲された可撓性の基材に支持しているの
で、書込電極の潜像担持体に対する位置を柔軟にかつ安
定して設定できるようになる。したがって、書込電極と
潜像担持体との間の電荷注入または放電を安定かつ確実
に行うことができる。これにより、潜像担持体に対する
書込電極による帯電または除電をより安定して高精度に
行うことができるので、静電潜像の書込をより安定して
行うことができるようになり、良好な画像を確実にかつ
高精度に得ることができる。
【0067】また、可撓性の基材により、書込電極を小
さい押圧力で潜像担持体に接触可能となるかあるいは潜
像担持体により確実に近接可能となるので、書込電極と
潜像担持体との間の空間的なギャップをきわめて小さく
できる。これにより、この空間的なギャップの空気が不
要にイオン化される機会を減少できるので、オゾンの発
生をより一層抑制できるようになるとともに、低電位で
静電潜像を形成可能となる。しかも、書込電極による潜
像担持体の損傷を防止でき、潜像担持体の耐久性を向上
できる。更に、書込装置として書込電極を用いているの
で、従来のような大型のレーザ光発生装置やLEDラン
プ光発生装置等を不要にできる。これにより、装置をよ
り一層小型化できるとともに、部品点数をより一層削減
できて一層シンプルで安価な画像形成装置を得ることが
できる。
【0068】特に、請求項3の発明によれば、可撓性の
基材の両端部にシールド部材を介在させているので、こ
れらの両端部間のクロストークを防止できる。また、請
求項4の発明によれば、2枚の書込電極を副走査方向に
オフセットして重ねて設けているので、書込電極による
帯電または除電を更に安定してかつより確実に行うこと
ができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明に係る画像形成装置の実施の形態の基
本構成を模式的に示す図である。
【図2】 本発明の画像形成装置における画像形成の基
本プロセスを示す図である。
【図3】 書込装置の書込電極の帯電または除電による
静電潜像の書込の原理を説明し、(a)は書込電極と潜
像担持体との接触部の拡大図、(b)はこの接触部の電
気的等価回路図、(c)ないし(f)は各パラメータと
潜像担持体の表面電位との関係を示す図である。
【図4】 潜像担持体に対する帯電または除電を説明
し、(a)は電荷注入による潜像担持体に対する帯電ま
たは除電の説明図、(b)は放電による潜像担持体に対
する帯電または除電の説明図、(c)はパッシェンの法
則を説明する図である。
【図5】 書込装置の一例の潜像担持体の軸方向から見
た模式図である。
【図6】 複数の書込電極を潜像担持体の軸方向に配列
した場合の配列パターンを示し、(a)は最もシンプル
な書込電極の配列パターンの場合を示す図、(b)およ
び(c)はそれぞれ(a)の問題点を解消した書込電極
の配列パターンの場合を示す図である。
【図7】 書込電極およびドライバの配列パターンと配
線パターンとを示す図である。
【図8】 複数の書込電極3bの配列パターンの更に他
の例を示す図である。
【図9】 複数の書込電極3bの配列パターンの更に他
の例を示す図である。
【図10】本発明の画像形成装置の他の例を示す、図5
と同様の図である。
【図11】書込電極に所定電圧V0および接地電圧V1
切替接続するためのスイッチング回路を示す図である。
【図12】各電極の各高電圧スイッチをそれぞれ所定電
圧V0または接地電圧V1に選択的に切替制御したとき
の状態を示し、(a)は各電極の電圧状態を示す図、
(b)は(a)の電圧状態で正規現像したときの現像剤
像を示す図、(c)は(a)の電圧状態で反転現像した
ときの現像剤像を示す図である。
【図13】本発明に係る画像形成装置の実施の形態の更
に他の例を模式的にかつ部分的に示す、図5と同様の図
である。
【符号の説明】
1…画像形成装置、2…潜像担持体、3…書込装置、3
a,3′a…基材、3b,3′b…書込電極、4…現像装
置、5…転写材、6…転写装置、7…潜像担持体一様電
荷制御装置、8…現像剤、9…導電パターン、28…絶
縁層
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成13年6月12日(2001.6.1
2)
【手続補正1】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図2
【補正方法】変更
【補正内容】
【図2】
【手続補正2】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図3
【補正方法】変更
【補正内容】
【図3】
【手続補正3】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図9
【補正方法】変更
【補正内容】
【図9】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 依田兼雄 長野県諏訪市大和3丁目3番5号 セイコ −エプソン株式会社内 (72)発明者 阿部信正 長野県諏訪市大和3丁目3番5号 セイコ −エプソン株式会社内 (72)発明者 野村雄二郎 長野県諏訪市大和3丁目3番5号 セイコ −エプソン株式会社内 Fターム(参考) 2C162 AE21 AE31 AE44 AE47 EA17 2H029 AA06 AB03 AB04 AB10

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 静電潜像が形成される潜像担持体と、前
    記潜像担持体に前記静電潜像を書き込む書込装置と、前
    記潜像担持体上の前記静電潜像を現像する現像装置と少
    なくとも備え、前記書込装置によって前記潜像担持体に
    書き込まれた前記静電潜像を前記現像装置で現像するこ
    とにより画像を形成する画像形成装置において、 前記書込装置は、前記潜像担持体に前記静電潜像を書き
    込む書込電極とこの書込電極を支持しかつヘアピンカー
    ブ状に2つ折りに湾曲された可撓性の基材とを有するこ
    とを特徴とする画像形成装置。
  2. 【請求項2】 前記基材に、複数の前記書込電極の電極
    パターンが形成されていることを特徴とする請求項1記
    載の画像形成装置。
  3. 【請求項3】 ヘアピンカーブ状に2つ折りに湾曲され
    た可撓性の基材の両端部にシールド部材が介在されてい
    ることを特徴とする請求項1または2記載の画像形成装
    置。
  4. 【請求項4】 2枚の前記書込電極が前記潜像担持体の
    回転方向にオフセットされかつ重ねられて設けられてい
    ることを特徴とする請求項1ないし3のいずれか1記載
    の画像形成装置。
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