JP2002177858A

JP2002177858A - 基板処理装置

Info

Publication number: JP2002177858A
Application number: JP2000379410A
Authority: JP
Inventors: Yukihiko Inagaki; 幸彦稲垣; Kouichi Kougaki; 孝一迎垣
Original assignee: Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Current assignee: Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Priority date: 2000-12-13
Filing date: 2000-12-13
Publication date: 2002-06-25

Abstract

(57)【要約】【課題】基板を金属汚染したり、処理液供給チューブ配
管を傷つけたりせずに簡単に導電線を新たに処理液供給
チューブに追加施工したり、或いは導電線を処理液供給
チューブから取り除いたりできる基板処理装置を提供す
ることを目的とする。【解決手段】そこで本発明では、処理液供給チューブ５
０のガロンビン６０からポンプ３２までの部分５０ａの
外周面と、ポンプ３２からフィルタ３３までの部分５０
ｂの外周面と、フィルタ３３から開閉弁３４までの部分
５０ｃの外周面と、開閉弁３４から継手部材８までの部
分５０ｄの外周面にそれぞれ材質がニッケル・チタン合
金の形状記憶合金よりなる導電線３５ａ，３５ｂ，３５
ｃ，３５ｄ，がコイル状に巻き回されている。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体ウエハ、フ
ォトマスク用のガラス基板、液晶表示装置用のガラス基
板、光ディスク用の基板等の基板に、フォトレジスト
液、現像液、溶剤、活性剤を含んだ洗浄液などの処理液
や基板とフォトレジストとの密着強化性を向上されるた
めにベーパ状に供給されるＨＭＤＳ（ヘキサメチルジシ
ラザン）などの処理流体を供給して処理するように、基
板を保持する基板保持手段と、その基板保持手段に保持
された基板に処理流体を供給する処理流体供給手段と、
処理流体を貯留する処理流体貯留手段と、処理流体供給
手段と処理流体貯留手段とを接続する処理流体供給配管
とを備えた基板処理装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】上述のような基板処理装置では、従来一
般に、例えばガロンビンなどの処理液貯留手段とノズル
とを接続する処理液供給チューブの途中箇所にポンプと
フィルターとエアーバルブとを介装し、フォトレジスト
などの処理液をガロンビンからノズルまで供給して基板
の処理を行っている。

【０００３】また、処理液が流れるときに、その処理液
供給チューブ内を流れる処理液と処理液供給チューブの
内周面との間での摩擦に起因して静電気が発生し、それ
によって溶剤等を発火させるスパーク事故を生じるおそ
れがあることからこれを防止するために、ガロンビンと
ポンプとの間、ポンプとフィルタとの間、或いはフィル
タとエアバルブの間などに位置する処理液供給チューブ
の周囲にＳＵＳによる導電線をコイル状に巻き回し、こ
の導電線をアース線により接地することが行われてい
る。

【０００４】ところで、処理液供給チューブにおいて
は、通常ポンプ、フィルタ、エアバルブなどとの接続の
ためにその両端において、図７に示すような配管のフィ
ッティング構造が採られている。即ち、図７に示すよう
に、このフィッティング構造は、処理液供給チューブ５
０の一端部が挿入されるともにその内周面にネジ溝が形
成されたユニオンナット５１と、その先端付近の一部の
外周が処理液供給チューブ５０の内周径より大径に構成
され、その大径に構成された部分が処理液供給チューブ
５０の管内に圧入されるスリーブ５２と、その外周面に
ネジ溝が形成されているとともにその内周面に、その管
内にスリーブ５２が圧入された処理液供給チューブ５０
の一端部が挿入されて嵌め込まれる本体フィッティング
５３とから構成されている。そして、処理液供給チュー
ブ５０をポンプ等に接続するにあたっては、まず処理液
供給チューブ５０の一端部をユニオンナット５１に挿入
する。次に、処理液供給チューブ５０の一端部の管内に
スリーブ５２を圧入する。そして、本体フィッティング
５３の内周面にその管内にスリーブ５２が圧入された処
理液供給チューブ５０の一端部が挿入されて嵌め込まれ
る。そして、本体フィッティング５３をユニオンナット
５１に螺合して処理液供給チューブ５０のポンプなどへ
の接続が完了する。

【発明が解決しようとする課題】

【０００５】このような構成のもとにおいて、仕様変更
などに応じて導電線を新たに追加施工したり、或いは導
電線を取り除いたりする必要が生じる場合が多々発生す
る。その場合に、例えば導電線を取り除く場合を考えて
みると、従来導電線は材質がＳＵＳで構成されていたた
め非常に堅く、コイル状に巻き回された導電線を１本に
伸ばして取り除くようなことは非常に困難であり、もし
無理にこのようなことを行うと処理液供給チューブ５０
自体を傷つけてしまうことになる。そこで、この場合処
理液供給チューブ５０の両端部のフィッティング構造を
解除（本体フィッティング５３とユニオンナット５１の
螺合を解除）し、処理液供給チューブ５０のスリーブ５
２が圧入されていない箇所においてその両端を切除して
から導電線を取り除くような手順を踏む必要があり作業
が複雑化して無駄な作業工数を要することとなる。

【０００６】また、処理液供給チューブ５０自体を導電
性材料で構成し、導電線自体を省いてしまうことも考え
られるが、この場合には導電性材料に含まれているカー
ボンの処理液への溶出による基板の金属汚染のおそれが
あるという問題が生じる。

【０００７】そこで、本発明はこのような事情に鑑みて
なされたものであって、処理液供給チューブ配管を傷つ
けたりせずに簡単に導電線を新たに処理液供給チューブ
に追加施工したり、或いは導電線を処理液供給チューブ
から取り除いたりできる基板処理装置を提供することを
目的とする。

【０００８】

【課題を解決するための手段】請求項１に係る発明の基
板処理装置は、上述のような目的を達成するために、基
板を保持する基板保持手段と、基板保持手段に保持され
た基板に処理流体を供給する処理流体供給手段と、処理
流体を貯留する処理流体貯留手段と、前記処理流体貯留
手段に流路接続され、前記処理流体貯留手段から処理流
体を前記処理流体供給手段に導く処理流体供給配管と、
処理流体供給配管の少なくとも一部の箇所にコイル状に
巻き回された形状記憶合金よりなる導電線と、道電線を
接地するアース線とを備えたことを特徴とする。

【０００９】また、請求項２に係る発明の基板処理装置
は、上述のような目的を達成するために請求項１に記載
の基板処理装置において、形状記憶合金は、ニッケル・
チタン合金であることを特徴とする。

【００１０】

【実施の形態】図１は、本発明に係る基板処理装置の第
１の実施形態を示す全体概略正面図であり、基板Ｗを真
空吸引によって吸着保持する基台１に電動モータ２を連
動連結して基板保持手段３が構成され、基台１に回転可
能に保持された基板Ｗの周囲に、処理液の飛散を防止す
る飛散防止カップ４が設けられ、この飛散防止カップ４
が図示しない昇降手段によって飛散防止位置とそれより
下方の退避位置とに昇降できるように構成されている。

【００１１】基台１に回転可能に保持された基板Ｗの回
転中心近くの上方に設定した吐出位置と、基板Ｗの上方
から外れた待機位置とにわたって後述する支持アーム５
の移動に伴って変位可能に、処理流体の一例であるフォ
トレジスト液を供給する処理流体供給手段に相当するノ
ズル６が設けられている。

【００１２】図２の一部切欠全体概略側面図に示すよう
に、ノズル６は、ＳＵＳ製で剛性の高い第１温調配管３
０ａの先端に取り付けられている。第１温調配管３０ａ
の基部には、支持ブロック１６が一体的に取り付けられ
ている。第１温調配管３０ａは支持ブロック１６の一端
から水平方向へのび、その先端が鉛直下向きに屈曲して
おり、ノズル６はその先端に下向きに取り付けられてい
る。支持ブロックの他端側には、金属製の筒軸７が一体
的に連設され、これら第１温調配管３０ａ、支持ブロッ
ク１６、筒軸７により、ノズル６を支持する剛性の支持
アーム５が構成されている。そして、この支持アーム５
を図示しない駆動機構により移動させることにより、ノ
ズル６の、基板Ｗの回転中心近くの上方に設定した吐出
位置と、基板Ｗの上方から外れた待機位置とにわたって
の変位が可能となる。

【００１３】また図２に示すように、ノズル６と処理液
貯留手段としての処理液貯留用のガロンビン６０とが、
処理流体供給配管としてのフッ化樹脂性の処理液供給チ
ューブ５０を介して接続されている。処理液供給チュー
ブ５０は、ＳＵＳ製の第１温調配管３０ａの内部に挿通
され、処理液供給チューブ５０と第１温調配管３０ａと
の間隙に恒温流体が流通されることによって、処理液供
給チューブ５０内の処理液の温度が一定化されるように
構成されている。なお、本実施の形態では、恒温流体と
して２３°Ｃ付近に温度調整された恒温水が使用され、
好ましくは、不凍液等の比熱の大きな溶液が使用され
る。また、第１温調配管３０ａは、ＳＵＳ製に限らず酸
化しにくい金属であればよく、またフッ化樹脂等の樹脂
製でもよい。あるいは又、伸縮性のあるチューブを用い
て外部で支持したものでもよい。

【００１４】図３は図２のＡ−Ａ矢視断面である図３に
示すように、処理液供給チューブ５０の周面に管軸に沿
った細長い一対の仕切り板４０が第１温調配管３０ａの
内壁３０ｃに当接するように突設され、処理液供給チュ
ーブ５０の外壁５０ａと第１温調配管３０ａの内壁３０
ｃとで形成される空間内部を、流路に沿って２分割する
ように構成されている。その２分割された、一方の仕切
り流路が恒温流体の供給流路４１とされ、他方の仕切り
流路が恒温流体の戻り流路４２とされている。各仕切り
板４０は、支持アーム５の断面（図３）においてそれぞ
れ略水平方向へ突設されており、第１温調配管３０ａ内
で処理液供給チューブ５０が鉛直方向（図３の上下方
向）へ曲げやすくなるように構成されている。従って、
第１温調配管３０ａが鉛直下向きに屈曲されるその先端
部分においても、処理液供給チューブ５０も容易に鉛直
下向きに屈曲させることができる。なお、恒温流体と処
理液供給チューブ５０内のフォトレジスト液との熱交換
が効率よく行われるためには、供給流路４１と戻り流路
４２とは完全に隔絶されていることが望ましい。しか
し、恒温流体とフォトレジスト液との温度差はごくわず
かであり、従って、供給流路４１と戻り流路４２とに流
通するそれぞれの恒温流体の温度差も小さいので、仕切
り板４０の先端部４０ａと第１温調配管３０ａの内壁３
０ｃとの密着が若干不完全な部分があったとしても、実
用上、問題はない。

【００１５】図２に戻って、筒軸７の下端には、上記し
た第１温調配管３０ａと同様の第２温調配管３０ｂが接
続されている。第２温調配管３０ｂの基端部は継手部材
８に連通接続され、その第２温調配管３０ｂと継手部材
８に処理液供給チューブ５０が挿通されている。図２の
Ｂ−Ｂ矢視断面図である図４に示すように、継手部材８
の相対する側部内壁には、平行な凸条８ａ，８ｂが２
組、その内壁と一体に形成されている。凸条８ａ，８ｂ
は、処理液供給チューブ２の挿通方向に沿って、継手部
材８の内側上面から下面にわたって形成されている。そ
して、処理液供給チューブ５０の各仕切り板４０は、凸
条８ａ，８ｂの各組の間にはめ込まれて、各仕切り板４
０の先端４０ａは凸条８ａ，８ｂの間の内壁に当接して
いる。また、各仕切り板４０の端部４０ｂは、それぞれ
継手部材８の下部内壁に当接するように構成されてい
る。従って、継手部材８の内部空間は２分割され、第２
温調配管３０ｂ内の供給流路４１と戻り流路４２とにそ
れぞれ連通するように構成されている。継手部材８の下
端に、供給流路４１と連通する恒温水供給配管４３と、
戻り流路４２と連通する恒温水回収配管４４とがそれぞ
れ連通接続されている。恒温水供給配管４３と恒温水回
収配管４４は、それぞれ送液ポンプを備えた温調ユニッ
ト４５に接続され、恒温流体が循環するように構成され
ている。

【００１６】恒温流体は、温調ユニット４５内の温調手
段（図示せず）によって一定温度に温調され、温調ユニ
ット４５から第１，第２温調配管３０ａ，３０ｂ内の供
給流路４１に供給される。そして、処理液供給チューブ
２内のフォトレジスト液を所定温度に一定化した後、戻
り流路４２を介して温調ユニット４５に回収されるよう
に構成されている。

【００１７】第１温調配管３０ａの先端に取り付けられ
ているノズル６は、図５に示すように、温調ノズル６ａ
と、袋ナット６ｂと、ノズル先端部材６ｃとから構成さ
れている。温調ノズル６ａは、その内部孔が下方に向か
って先細り状に形成されており、その先細り状の先端部
分において処理液供給チューブ５０の先端と係合してい
る。この温調ノズル６ａの先細り状に形成されている部
分にまで恒温流体が循環し、処理液供給チューブ５０内
のフォトレジスト液はノズル６から吐出される直前まで
温調が行なわれ、所定温度に保たれている。温調ノズル
６ａの下端に、ノズル先端部材６ｃが袋ナット６ｂを介
して接続されている。ノズル先端部材６ｃは、その軸芯
にフォトレジスト液を流通させる貫通孔を有し、その貫
通孔の上部開口径は、処理液供給チューブ２の内径に略
等しく形成されている。

【００１８】各仕切り板４０の端部４０ｃは、それぞれ
温調ノズル６ａの上端部分で終端しており、上記した温
調ノズル６ａの先細り状の内部孔と処理液供給チューブ
５０との間隙で、恒温流体が流通するように、すなわ
ち、供給流路４１に供給された恒温流体が戻り流路４２
へ流れ込むように構成されている。

【００１９】また、図２に示すように継手部材８より下
流側に位置する処理液供給チューブ５０の途中箇所に
は、フォトレジスト液をガロンビン６０から汲み出して
ノズル６へ向けて送液するポンプ３２と、フォトレジス
ト液中から異物を除去するフィルタ３３と、フォトレジ
スト液がノズル６へ向けて送液される状態と送液されな
い状態とに切り替える開閉弁３４とが介装されている。
なお、図示は省略しているが、それぞれ処理液供給チュ
ーブ５０の端部と、ポンプ３２、フィルタ３３、エアバ
ルブ３４との接続は、前述した図７に示すようなフィッ
ティング構造が採られている。

【００２０】そして、処理液供給チューブ５０のガロン
ビン６０からポンプ３２までの部分５０ａの外周面と、
ポンプ３２からフィルタ３３までの部分５０ｂの外周面
と、フィルタ３３から開閉弁３４までの部分５０ｃの外
周面と、開閉弁３４から継手部材８までの部分５０ｄの
外周面にそれぞれ材質がニッケル・チタン合金の形状記
憶合金よりなる導電線３５ａ，３５ｂ，３５ｃ，３５
ｄ，がコイル状に巻き回されている。さらには、処理液
供給チューブ５０の上記それぞれの部分に巻き回された
導電線３５ａ，３５ｂ，３５ｃ，３５ｄには、これらの
各導電線を接地するアース線３６ａ，３６ｂ，３６ｃ，
３６ｄがそれぞれ接続されている。これらのアース線３
６ａ，３６ｂ，３６ｃ，３６ｄを通じて処理液供給チュ
ーブ５０内を流れるフォトレジスト液と処理液供給チュ
ーブ５０の内周面との間での摩擦に起因して発生する静
電気を除去することができる。

【００２１】ところで、導電線３５（ここより「導電線
３５ａ，３５ｂ，３５ｃ，３５ｄ」を総じて「導電線３
５」という）の材質であるニッケル・チタン合金である
形状記憶合金は、所定の温度で形状を記憶させると、形
状回復温度よりも低い温度で変形可能であり、形状回復
温度より低い温度で変形させた場合、形状回復温度まで
加熱すれば再び元の形に戻るという特性を有する。そこ
で例えば、本実施形態における導電線３５は、約５０度
の温度に形状回復温度が設定されており、約５０度の温
度で当初記憶されていた処理液供給チューブ５０に巻き
回される際の所定のピッチ間隔でのコイル状の形状に戻
るように設定され、それより低い温度においては導電線
３５を所望の形に変形することができるようになされて
いる。

【００２２】このような構成の下、例えば全体の配管が
完了した後に導電線３５を処理液供給チューブ５０に対
して追加で巻き回す必要が生じた場合には、処理液供給
チューブ５０の接続はフィッティング構造を解除せずに
そのままの状態で導電線３５を一旦作業者の手により一
本の線状に引き延ばし、導電線３５の先端をつかんだ状
態で処理液供給チューブ５０の追加で導電線３５を巻き
回す必要が生じた箇所に導電線３５をコイル状に巻き付
けていく。そして、追加で導電線３５を巻き付けた箇所
に約５０度の熱風を吹き付けることにより導電線３５
は、当初記憶されていた所定のピッチ間隔でのコイル状
の形状に戻った状態で、処理液供給チューブ５０に巻き
回されることとなる。そして、導電線３５に新たにアー
ス線３６を接続すればよい。なお、導電線３５を熱風に
て加熱する形状回復温度（約５０度）は、フッ素樹脂性
の処理液供給チューブ５０の溶融温度よりもはるかに低
いため導電線３５を処理液供給チューブ５０に巻き回し
た状態で、熱風を吹き付けても問題はない。

【００２３】一方、例えば全体の配管が完了した後に導
電線３５を処理液供給チューブ５０から除去する必要が
生じた場合には、まず導電線３５からアース線３６を取
り外す。その後処理液供給チューブ５０の接続はフィッ
ティング構造を解除せずにそのままの状態で上記形状回
復温度より低い温度の環境下で処理液供給チューブ５０
に巻き回されていた導電線３５を作業者の手によりその
先端から巻き回されていた方向と反対方向に回す作業を
導電線３５が一本の線状となるまで行い、導電線３５を
処理液供給チューブ５０から完全に除去することができ
る。なお、除去された導電線３５は、形状記憶温度であ
る約５０度で加熱することにより当初記憶されていた所
定のピッチ間隔でのコイル状の形状に戻すことができる
ので、当然再利用が可能である。

【００２４】本実施形態の基板処理装置においては、上
述したように処理液供給チューブ５０の帯電防止用の導
電線３５を形状記憶合金により構成しているので、ユー
ザによる仕様変更などに応じて処理液供給チューブ５０
に対して導電線３５を新たに追加施工したり、或いは処
理液供給チューブ５０から導電線３５を取り除いたりす
る必要が生じた場合にも、処理液供給チューブ５０とポ
ンプ３２やフィルタ３３などとの接続箇所のフィッティ
ング構造をいちいち解除する必要がなく、処理液供給チ
ューブ５０を傷つけずに容易に処理液供給チューブ５０
への導電線３５の追加施工や処理液供給チューブ５０か
らの取り外し作業を行うことができる。また、処理液供
給チューブ５０への帯電防止は導電線３５を処理液供給
チューブ５０に巻き回すことで行い、処理液供給チュー
ブ５０自体はフッ素樹脂で構成しているので、処理液へ
の金属汚染などの悪影響を及ぼすおそれは生じない。

【００２５】なお、本実施形態においては、処理液供給
チューブ５０の少なくとも一部の箇所に相当する処理液
供給チューブ５０のガロンビン６０からポンプ３２まで
の部分５０ａの外周面とポンプ３２からフィルタ３３ま
での部分５０ｂとフィルタ３３から開閉弁３４までの部
分５０ｃの外周面と開閉弁３４から継手部材８までの部
分の外周面５０ｄに材質がニッケル・チタン合金である
形状記憶合金よりなる導電線３５がコイル状に巻き回さ
れている構成となっているが、それに限られるものでは
なく、処理液供給チューブ５０が内挿されている第１温
調配管３０ａ、支持ブロック１６、筒軸７、継手部材８
などの外周にも導電線３５を巻き回すように構成しても
よい。

【００２６】次に本発明の第２実施形態にかかる基板処
理装置について図６に基づき説明する。図６は、本発明
の第２実施形態にかかる基板処理装置の概略縦断面図で
あり、この基板処理装置は、基板処理室６０と、基板Ｗ
の表面処理用のＨＭＤＳ（ヘキサメチルジシラザン）蒸
気を供給する基板処理用流体供給部７０とから構成され
ている。

【００２７】基板処理室６０には、上面に基板Ｗを載置
保持して基板Ｗを所定の温度に加熱する熱処理用の基板
載置プレート６１が設けられている。基板処理室６０の
上側は断熱材で形成された上部ハウジング６２で構成さ
れ、その上部ハウジング６２に昇降可能に筒状の支持部
材６３が設けられている。また、支持部材６３の下端に
蓋体６４が連接されるとともに、この蓋体６４には、そ
の外周面との間で隙間を形成するオーバーフロー用の筒
体６５が一体的に取り付けられている。さらに、蓋体６
４には、その内部空間を上下に仕切るように水平姿勢
で、多数の細孔を有する整流板６６が設けられている。
基板載置プレート６１の周囲には、排気ダクト６７が付
設されている。

【００２８】基板処理用流体供給部７０には、基板Ｗの
表面処理用のＨＭＤＳ溶液を貯留するＳＵＳ製の液溜容
器７１が設けられ、この液溜容器７１にキャリアガス
（Ｎ_２）の導入管７３が接続されている。導入管７３に
は、一定圧力でキャリアガスを供給するレギュレータ７
３ａが付設されている。また、液溜容器７１には、ＨＭ
ＤＳ溶液を供給するＨＭＤＳ溶液供給管７４が接続され
るとともに、ＨＭＤＳ溶液供給管７４に開閉弁７５が設
けられている。

【００２９】そして、液溜容器７１と前記筒状の支持部
材６３とは、処理流体供給管７６を通して接続されてい
る。この処理流体供給管７６には、処理流体としてのＨ
ＭＤＳ蒸気の供給量を制御する流量制御バルブ７７が付
設されている。液溜容器７１内でＨＭＤＳ溶液とＮ_２ガ
スとを気化混合して発生されたＨＭＤＳ蒸気は、処理流
体供給管７６に導かれ、筒状の支持部材６３を通じて整
流板６６まで供給され、整流板６６を通じて基板Ｗの表
面全面に均一に良好に供給される。

【００３０】また処理流体供給管７６の端部と流量制御
バルブ７７、筒状の支持部材６３との接続は、図７に示
すようなフィッティング構造が採られている。そして処
理流体供給管７６の液溜容器７１から流量制御バルブ７
７までの部分の外周面７６ａと、流量制御バルブ７７か
ら筒状の支持部材６３までの部分７６ｂの外周面のそれ
ぞれに、材質がニッケル・チタン合金の形状記憶合金よ
りなる導電線７８ａ，７８ｂがコイル状に巻き回されて
いる。さらには、処理流体供給管７６の上記それぞれの
部分７６ａ，７６ｂに巻き回された導電線７８ａ，７８
ｂには、これらの導電線７８ａ，７８ｂを接地するアー
ス線７９ａ，７９ｂが接続されている。これらのアース
線７９ａ，７９ｂを通じて処理流体供給管７６内を流れ
るＨＭＤＳ蒸気と処理流体供給管７６の内周面との間で
の摩擦に起因して発生する静電気を除去することができ
る。

【００３１】このような構成の下、例えば全体の配管が
完了した後に導電線７８を処理流体供給管７６に対して
追加で巻き回す必要が生じた場合には、処理流体供給管
７６の接続はフィッティング構造を解除せずにそのまま
の状態で導電線７８を一旦作業者の手により一本の線状
に引き延ばし、導電線７８の先端をつかんだ状態で処理
流体供給管７６の追加で導電線７８を巻き回す必要が生
じた箇所に導電線７８をコイル状に巻き付けていく。そ
して、追加で導電線７８を巻き付けた箇所に所定の形状
回復温度に相当する温度の熱風を吹き付けることにより
導電線７８は、当初記憶されていた所定のピッチ間隔で
のコイル状の形状に戻った状態で、処理流体供給管７６
に巻き回されることとなる。そして、導電線７８に新た
にアース線７９を接続すればよい。

【００３２】一方、例えば全体の配管が完了した後に導
電線７８を処理流体供給管７６から除去する必要が生じ
た場合には、まず導電線７８からアース線７９を取り外
す。その後処理流体供給管７６の接続はフィッティング
構造を解除せずにそのままの状態で形状回復温度より低
い温度の環境下で処理流体供給管７６に巻き回されてい
た導電線７８を作業者の手によりその先端から巻き回さ
れていた方向と反対方向に回す作業を導電線７８が一本
の線状となるまで行い、導電線７８を処理流体供給管７
６から完全に除去することができる。なお、除去された
導電線７８は、形状回復温度に相当する温度で加熱する
ことにより当初記憶されていた所定のピッチ間隔でのコ
イル状の形状に戻すことができるので、当然再利用が可
能である。

【００３３】この第２の実施形態の基板処理装置におい
ても、上述したように処理流体供給管７６の帯電防止用
の導電線７８を形状記憶合金により構成しているので、
ユーザによる仕様変更などに応じて処理流体供給管７６
に対して導電線７８を新たに追加施工したり、或いは処
理流体供給管７６から導電線７８を取り除いたりする必
要が生じた場合にも、処理流体供給管７６と流量制御バ
ルブ７７や筒状の支持部材６３などとの接続箇所のフィ
ッティング構造をいちいち解除する必要がなく、処理流
体供給管７６を傷つけずに容易に処理流体供給管７６へ
の導電線７８の追加施工や処理流体供給管７６からの取
り外し作業を行うことができる。

【００３４】なお、この第２の実施形態においては、処
理流体供給管７６の液溜容器７１から流量制御バルブ７
７までの部分７６ａの外周面と、流量制御バルブ７７か
ら筒状の支持部材６３までの部分７６ｂの外周面のそれ
ぞれに、材質がニッケル・チタン合金の形状記憶合金よ
りなる導電線７８ａ，７８ｂがコイル状に巻き回されて
いが、いずれか一方のみに導電線７８を巻き回すように
構成してもよい。

【００３５】この第２の実施形態において、基板載置プ
レート６１が基板保持手段に相当し、液溜容器７１が処
理流体貯留に相当し、整流板６６が処理流体供給手段に
相当し、処理流体供給管７６が処理流体供給配管に相当
する。

【００３６】上記第１の実施形態および第２の実施形態
においては、形状記憶合金としてニッケル・チタン合金
である場合を例にとり説明したが、これに限られるもの
ではなく、例えばＮ_Ｉ−Ｔ_Ｉ−Ｃ_Ｏ合金やＮ_Ｉ−Ｔ_Ｉ−
Ｃ_Ｕ合金など必要に応じて所望のものを選択することが
できる。

【００３７】また、上記第１の実施形態および第２の実
施形態においては、処理流体としてそれぞれフォトレジ
スト液とＨＭＤＳ蒸気である場合を例にとり説明した
が、これに限られるものではなく、現像液、エッチング
液、有機溶剤、その他諸種の処理流体に対して本発明は
適用可能である。

【００３８】さらに、上記第１の実施形態および第２の
実施形態においては、導電線を形状回復温度で加熱する
場合に熱風を吹き付けて加熱するようにしていたが、た
とえば、導電線に対して通電して加熱が可能なように構
成してもよい。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明にかかる基板処理装置の第１の実施形態
を示す全体概略正面図である。

【図２】第１の実施形態の基板処理装置の配管構成を示
す要部の一部切欠全体概略側面図である。

【図３】図２におけるＡ―Ａ矢視断面図である。

【図４】図２におけるＢ―Ｂ矢視断面図である。

【図５】支持アームの先端部の縦断面図である。

【図６】本発明に係る第２の実施形態の基板処理装置を
示す概略縦断面図である。

【図７】配管のフィッティング構成を示した図である。

【符号の説明】

３基板保持手段６ノズル３５ａ，３５ｂ，３５ｃ，３５ｄ，７８ａ，７８ｂ導
電線３６ａ，３６ｂ，３６ｃ，３６ｄ，７９ａ，７９ｂア
ース線５０処理液供給供給チューブ６０ガロンビン６１基板載置プレート６６整流板７１液溜容器読取部７６処理液流体供給管

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号ＦＩテーマコート゛(参考）Ｈ０１Ｌ 21/30 ５６９ＡＦターム(参考） 2H025 AA00 AB16 AB17 EA04 4F042 AA07 CA08 CB26 EB30 5F046 HA02 JA02 JA03 JA04 JA24 LA03

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】基板を保持する基板保持手段と、前記基
板保持手段に保持された基板に処理流体を供給する処理
流体供給手段と、処理流体が貯留される処理流体貯留手
段と、前記処理流体貯留手段に流路接続され、前記処理流体貯
留手段から処理流体を前記処理流体供給手段に導く処理
流体供給配管と、前記処理流体供給配管の少なくとも一
部の箇所にコイル状に巻き回された形状記憶合金よりな
る導電線と、前記道電線を接地するアース線とを備えた
ことを特徴とする基板処理装置。
【請求項２】請求項１に記載の基板処理装置におい
て、前記形状記憶合金は、ニッケル・チタン合金である
ことを特徴とする基板処理装置。