JP2002169317A - 電子写真感光体、電子写真感光体の製造方法、及び電子写真装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 かぶりによる画質低下を抑制すると共に、リ
ーク電流による画質欠陥の発生を抑制することが可能な
電子写真感光体、電子写真感光体の製造方法、及び電子
写真装置を提供する。 【解決手段】 電子写真感光体２８は、導電性基材７１
と、導電性基材７１上に設けられており、アークプラズ
マ法により生成された金属酸化物微粒子７２ａをバイン
ダ樹脂中７２ｂに含む中間層７２と、中間層７２上に設
けられた感光層７６とを備える。中間層７２に含まれる
金属酸化物微粒子７２ａは従来のものより粒径が小さい
ため、金属酸化物微粒子７２ａによる導電路間に介在す
るバインダ樹脂７２ｂと金属酸化物微粒子７２ａとの接
着頻度が比較的多くなっている。このため、感光層７３
に導電性材料が貫入しても、バインダ樹脂７２ｂが障壁
となって短絡的な電流の流れが抑制され、リーク電流の
発生が抑制される。また、金属酸化物微粒子７２ａはバ
インダ樹脂７２ｂへの分散性が良好であるため、かぶり
による画質低下が抑制される。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は電子写真感光体、電
子写真感光体の製造方法、及び電子写真装置に関し、よ
り詳細にはかぶりによる画質低下の抑制を図ると共に、
リーク電流による画質欠陥の発生を抑制することが可能
な電子写真感光体、電子写真感光体の製造方法、及び電
子写真装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】電子写真装置は、高速でかつ高品質の印
字が得られるため、複写機およびレーザービームプリン
ター等に広く利用されている。電子写真装置が備える感
光体としては、有機の光導電性材料を用いた有機感光体
が主流となっており、感光体の構成も電荷移動型錯体構
造や電荷発生材料を結着樹脂中に分散した機能分離型の
感光体へと変遷し性能が向上している。

【０００３】かかる感光体の典型的な構成は以下の通り
である。すなわち、感光体は導電性基材と、導電性基材
の上に形成された中間樹脂層と、中間樹脂層の上に形成
された感光層とを備えている。そして中間樹脂層は、例
えば酸化亜鉛、酸化チタンなどの金属酸化物微粒子を含
んでいる。

【０００４】酸化亜鉛は、ＪＩＳ Ｋ１４１０に記載さ
れているように、大別して間接法(フランス法)、または
直接法(アメリカ法)により製造されたものが従来より用
いられている。間接法(フランス法)は、金属亜鉛を１０
００℃に加熱し、亜鉛の蒸気を熱空気によって酸化す
る。そして、生成した酸化亜鉛を送風機において空気冷
却機を通じて冷却し、粒子の大きさによって分別する。
直接法(アメリカ法)は、亜鉛鉱石を培焼することによっ
て得られる酸化亜鉛を石炭などで還元し、生じた亜鉛の
蒸気を熱空気によって酸化するか、又は、亜鉛鉱石を硫
酸で浸出した鉱宰にコークスなどを加えたものを電気炉
で亜鉛を溶かして熱空気によって酸化する。これを間接
法と同様に処理する。この他、亜鉛の塩酸溶液をアルカ
リ溶液で沈殿させてできた塩基性炭酸亜鉛を培焼する湿
式製法もある。

【０００５】また酸化チタンは、通常工業生産に使用さ
れている製法として、硫酸法、または塩素法により製造
されたものが従来より用いられている。硫酸法は、基本
工程として鉱石を硫酸と反応させ硫酸塩溶液を作り、溶
液の清澄、加水分解による含水酸化チタンの沈殿、含水
酸化チタンの洗浄、焼成、粉砕・表面処理する工程より
なる。また塩素法は、鉱石の塩素化により四塩化チタン
液を作製し、その後精留、酸素による燃焼を行い酸化チ
タンにして粉砕・後処理を加える。この他、酸化チタン
の製法として、弗酸法、塩化チタンカリウム法、四塩化
チタン水溶液法などがある。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記し
た従来の感光体では、感光体の帯電電位と残留電位との
間で十分な電位のコントラストが得られず、かぶりによ
り画質低下が生じることがあった。

【０００７】また、繰り返し使用により感光体の表面に
は他の部材から剥離した導電性材料が貫入することがあ
るが、この導電性材料が引き金となって帯電装置による
帯電時に感光体に異常電流が発生し、感光体の電荷がリ
ークして記録紙上で画質欠陥として現れることもあっ
た。

【０００８】そこで本発明は、かぶりによる画質低下を
抑制すると共に、リーク電流による画質欠陥の発生を抑
制することが可能な電子写真感光体、電子写真感光体の
製造方法、及び電子写真装置を提供することを目的とす
る。

【０００９】

【課題を解決するための手段】発明者らは、上記目的を
達成するため、従来の電子写真感光体について、特に中
間樹脂層に含有される金属酸化物微粒子に着目して鋭意
検討を行った。そして、上記した方法により生成される
従来の金属酸化物微粒子は、粒径が０．２〜０．４μm
程度であり、粒径が極めて大きく、またバインダ樹脂へ
の分散が十分でないことを見出した。そして、このこと
がかぶりによる画質低下を生じさせる一因であり、また
短絡的な電流の流れを作り、異常放電によるリーク欠陥
を生じさせる一因であると推測された。

【００１０】これに対し、プラズマ法により生成された
金属酸化物微粒子は、平均粒径が従来のものよりも小さ
く、また粒形が比較的揃った晶癖の微粒子であり、バイ
ンダ樹脂への分散性が極めて良好であることが分かっ
た。そして、この金属酸化物微粒子をバインダ樹脂に添
加して中間層を形成することで、かぶりやリーク欠陥な
どの問題を解決することができることを見出し、本発明
を完成するに至った。

【００１１】すなわち、本発明に係る電子写真感光体
は、（１）導電性基材と、（２）導電性基材上に設けら
れており、プラズマ法により生成された金属酸化物微粒
子をバインダ樹脂中に含む中間層と、（３）中間層上に
設けられた感光層と、を備える。

【００１２】この電子写真感光体の中間層は、バインダ
樹脂中にプラズマ法により生成された金属酸化物微粒子
を含んでいる。この金属酸化物微粒子は従来のものより
も粒径が小さいため、金属酸化物微粒子による導電路間
に介在するバインダ樹脂と金属酸化物微粒子との接着頻
度が比較的多くなっている。このため、感光層に導電性
材料が貫入した場合であっても、バインダ樹脂が障壁と
なって短絡的な電流の流れを抑制し、リーク電流の発生
を抑制することができる。また、この金属酸化物微粒子
はバインダ樹脂への分散性が良好であるため、かぶりに
よる画質低下を抑制することができる。

【００１３】また本発明に係る電子写真感光体の製造方
法は、（１）導電性基材を準備する工程と、（２）プラ
ズマ法により生成された金属酸化物微粒子を含む樹脂を
用いて、導電性基材上に中間層を形成する工程と、
（３）中間層上に感光層を形成する工程と、を含む。

【００１４】この電子写真感光体の製造方法では、プラ
ズマ法により生成された金属酸化物微粒子を含む樹脂を
用いて中間層を形成している。プラズマ法により生成さ
れる金属酸化物微粒子は従来のものよりも粒径が小さい
ため、金属酸化物微粒子による導電路間に介在するバイ
ンダ樹脂と金属酸化物微粒子との接着頻度を比較的多く
することができる。よって、この方法により製造される
電子写真感光体では、感光層に導電性材料が貫入した場
合であっても、バインダ樹脂が障壁となって短絡的な電
流の流れを抑制し、リーク電流の発生を抑制することが
できる。また、この金属酸化物微粒子はバインダ樹脂へ
の分散性が良好であるため、かぶりによる画質低下を抑
制することができる。

【００１５】また本発明に係る電子写真感光体の製造方
法では、金属酸化物微粒子の平均粒径は１００nm以下で
あることを特徴としてもよい。このように、プラズマ法
により生成された金属酸化物微粒子は、平均粒径を１０
０nm以下とすることができ、各金属酸化物微粒子の間に
バインダ樹脂を多く存在させることができる。

【００１６】また本発明に係る電子写真感光体の製造方
法では、金属酸化物微粒子は、酸化亜鉛、酸化チタン、
及び酸化錫の少なくともいずれかを含むと好ましい。中
間層は、耐リーク性を得るために適切な抵抗値にするこ
とが好ましく、金属酸化物微粒子の抵抗値を１０⁴〜１
０⁹Ω・ｃｍ程度にすると好適である。この範囲の下限
よりも抵抗値が低いと十分なリーク耐性が得られず、こ
の範囲の上限よりも抵抗値が高いと残留電位の上昇を引
き起こしてしまう。よって、上記のように金属酸化物微
粒子として酸化亜鉛、酸化チタン、及び酸化錫の少なく
ともいずれかを含むことで、中間層の抵抗値を上記範囲
内に容易に設定することができる。

【００１７】本発明に係る電子写真装置は、（１）上記
した電子写真感光体の製造方法により製造された電子写
真感光体と、（２）電子写真感光体上に帯電を行うため
の接触帯電装置と、を備える。

【００１８】接触帯電装置は、非接触型の帯電装置より
もオゾンの発生を抑制することができる。ところが、接
触型の帯電装置を用いた場合は、非接触型の帯電装置よ
りも高い電圧が感光体に接触し直接印加されるため、導
電性材料が電子写真感光体に貫入したときにリーク電流
が発生しやすくなる。しかし、この帯電装置は上記した
本発明に係る感光体を備えているため、リーク電流の発
生が抑制されている。このため、オゾンの発生を抑制し
つつ、リーク電流による画質欠陥がほとんど無い画像を
形成することができる。

【００１９】なお、本発明に係る電子写真感光体の製造
方法では、中間層のビッカース硬度を３０以上とすると
好ましい。このようにすれば、中間層への導電性材料の
貫入を効果的に抑制することができる。

【００２０】また本発明に係る電子写真感光体の製造方
法では、中間層の厚さを３μｍ以上２５μｍ以下とする
と好ましい。中間層の厚みが３μｍよりも薄いときは、
リーク電流の発生を充分に抑制できなくなる傾向にある
からである。また中間層の厚みが２５μｍよりも厚いと
きは、成膜が困難になったり、残留電荷の増加による画
質低下を招くおそれが高くなる傾向にあるからである。

【００２１】また本発明に係る電子写真感光体の製造方
法において、感光層を形成する工程は、電荷発生層を形
成する工程と、電荷輸送層を形成する工程とを含むと好
ましい。このようにすれば、機能分離型の高性能の電子
写真感光体が生成される。

【００２２】

【発明の実施の形態】以下、添付図面を参照して本発明
に係る電子写真感光体、電子写真感光体の製造方法、及
び電子写真装置の好適な実施形態について説明する。
尚、図面において同一の要素には同一の符号を附し、重
複する説明を省略する。

【００２３】図１は、本実施形態に係る複写機（電子写
真装置）１を示す概略構成図である。また図２は、本実
施形態に係る感光体ドラム（電子写真感光体）２８の構
造を示す斜視図である。また図３は、本実施形態に係る
感光体ドラム２８の積層構造を模式的に示す部分断面図
である。

【００２４】図１に示すように、複写機１は、主に複写
機本体１４と、この複写機本体１４の上面に設置された
プラテンガラス１６を開閉自在に覆う自動原稿搬送装置
１８と、から構成されている。

【００２５】複写機本体１４は、自動原稿搬送装置１８
を開いてプラテンガラス１６上に載置された固定原稿の
画像を読み取り、電気的な画像信号に変換する原稿読取
部２０と、この原稿読取部２０から受信した画像信号に
基づいて用紙に可視像を形成する画像形成部２２と、こ
の画像形成部２２に対して用紙を供給する複数の給紙ト
レイ３４とを有している。

【００２６】原稿読取部２０は、内部に収容するＣＣＤ
によって原稿のカラー画像情報をＲ（赤色），Ｇ（緑
色），Ｂ（青色）のアナログ信号として読み取った後、
当該信号に基づいて、Ｋ（黒色），Ｙ（イエロー），Ｍ
（マゼンダ），およびＣ（シアン）のカラー画像データ
を生成する。

【００２７】画像形成部２２は、主に原稿読取部２０か
らのカラー画像データに基づいて変調されたレーザビー
ムを出力する露光装置２４と、帯電装置２６により帯電
された後に前記レーザビームにより露光される感光体ド
ラム２８と、この露光により感光体ドラム２８上に形成
された静電潜像をトナー像に現像するロータリー式の現
像装置３０と、感光体ドラム２８上に形成されたトナー
像が一次転写位置Ｔ₁にて一次転写される無端の中間転
写ベルト３２を含む中間転写体ユニット４０と、中間転
写ベルト３２に一次転写されたトナー像を給紙トレイ３
４から供給された用紙に二次転写位置Ｔ₂にて二次転写
する二次転写ユニット５０と、用紙に二次転写された未
定着トナー像を当該用紙に定着させる定着装置３９とを
有している。

【００２８】画像形成部２２の露光装置２４としては、
半導体レーザー光、LED光、液晶シャッター光等の光源
を、所望の像様に露光できる光学系等が特に制限される
ことなく用いられる。光源の波長も感光体ドラムの分光
感度に適したものであれば、可視光、赤外光を問わな
い。

【００２９】帯電装置２６としては、本実施形態では導
電性または半導電性のローラ、ブラシ、フィルム、ゴ
ム、ブレード等を用いた接触型帯電装置が用いられる。
もちろん、非接触型の帯電装置も用ることができる。ま
た、帯電装置２６には、直流電圧に交流電圧を重畳した
電圧を印加すると好ましい。感光体ドラム２８が負帯電
極性の場合は、帯電装置２６によって通常−３００〜−
１０００Vに帯電される。また、帯電部材として、イオ
ン導電性、電子伝導性など適当な抵抗が得られるあらゆ
る材質のものを用いることができる。

【００３０】現像装置３０は、回転軸３０ｏ周囲に装着
されたＫ，Ｙ，Ｍ，Ｃの４色の現像器３０_K，３０_Y，３
０_M，３０_Cを有しており、回転軸３０ｏの回転に伴って
各４色の現像器３０_K，３０_Y，３０_M，３０_Cが順次感光
体ドラム２８に対向するように構成されている。各現像
器３０_K，３０_Y，３０_M，３０_Cは、感光体ドラム２８に
形成された静電潜像をＫ，Ｙ，Ｍ，Ｃの各色のトナー像
に現像する。また、トナー剤として、磁性若しくは非磁
性の一成分系現像剤又は二成分系現像剤を用いることが
できる。さらに、現像装置３０は、正規現像タイプ又は
反転現像タイプの何れでもよい。

【００３１】現像装置３０による現像工程をより具体的
に説明すると、以下の通りである。まず、４つの現像器
の内の現像器３０_Kにより、ブラックトナーによる現像
が行われる。次に、現像装置３０が回転し、現像器３０
_Yが感光体ドラム２８に対向する位置に移動する。そし
てこの現像器３０_Yにより、イエロートナーによる現像
が行われる。次に、現像装置３０が回転し、現像器３０
_Mが感光体ドラム２８に対向する位置に移動する。そし
てこの現像器３０_Mにより、マゼンタトナーによる現像
が行われる。次に、現像装置３０が回転し、現像器３０
_Cが感光体ドラム２８に対向する位置に移動する。そし
てこの現像器３０_Cにより、シアントナーによる現像が
行われる。この結果、４色のトナーによる重畳転写が行
われ、目的のカラー画像に対応した合成カラートナー像
が感光体ドラム２８上に形成される。

【００３２】なお、以上の４色での現像は１色ごとに独
立して行われ、該１色についての現像が行われている間
は他の色による現像は行われていないので、該１色につ
いての現像は他の色の現像器の影響を受けることはな
い。具体的には、目的の画像の第１の色成分像（例えば
ブラック成分像）に対応した静電潜像がまず形成され
る。次いで、現像器３０_Kによりその静電潜像がブラッ
クトナーで現像される。この時、他の現像器３０_Y，３
０_M，３０_Cは、オフ状態になっているので感光体ドラム
２８には作用せず、ブラックトナーによる現像像は他の
現像器３０_Y，３０_M，３０_Cの影響を受けない。

【００３３】感光体ドラム２８は、図２に示すように、
円筒形状の導電性基材７１と、導電性基材７１上に形成
された中間層７２と、中間層７２上に形成された下引層
７３と、下引層７３上に形成された感光層７６とを備え
ている。そして、感光層７６は電荷発生層７４と電荷輸
送層７５とを有している。

【００３４】この感光体ドラム２８は、以下のように製
造することができる。

【００３５】まず、導電性基材７１を準備する。導電性
基材７１としては、アルミニウム、銅、鉄、ステンレ
ス、亜鉛、ニッケルなどの金属ドラムを用いることがで
きる。或いは、シート、紙、プラスチック、ガラスなど
の上にアルミニウム、銅、金、銀、白金、パラジウム、
チタン、ニッケルークロム、ステンレス鋼、銅−インジ
ウム等の金属を蒸着したドラムや、酸化インジウム・酸
化錫などの導電性金属化合物を蒸着したドラムを用いる
ことができる。或いは、シート、紙、プラスチック、ガ
ラスなどの上に金属箔をラミネートしたドラムや、カー
ボンブラック、酸化インジウム、酸化錫−酸化アンチモ
ン粉、金属粉、沃化銅等を結着樹脂に分散したものを塗
布して導電処理したドラムを用いることができる。

【００３６】ここで、導電性基材７１の形状はドラム状
に限られず、シート状、プレート状としてもよい。な
お、導電性基材７１を金属パイプとした場合、表面は素
管のままであってもよいし、事前に鏡面切削、エッチン
グ、陽極酸化、粗切削、センタレス研削、サンドブラス
ト、ウエットホーニングなどの処理を施してもよい。

【００３７】次に、導電性基材７１の上に中間層７２を
形成する。中間層７２は、図２及び図３に示すように、
複数の金属酸化物微粒子７２ａを含有するバインダ樹脂
７２ｂを導電性基材７１の上に塗布して形成される。

【００３８】金属酸化物微粒子７２ａとしては、プラズ
マ法により生成した金属酸化物微粒子が用いられる。プ
ラズマ法により金属酸化物微粒子７２ａを生成する方法
としては、直流プラズマアーク法、高周波プラズマ法、
プラズマジェット法などの方法が挙げられる。

【００３９】直流プラズマアーク法では、金属原料を消
費アノード電極とする。そして、カソード電極からプラ
ズマフレームを発生させる。そして、アノード側の金属
原料を加熱、蒸発させ、金属原料の蒸気を酸化、冷却す
ることにより、金属酸化物微粒子を得ることができる。

【００４０】高周波プラズマ法では、大気圧力のもとで
ガスを高周波誘導放電によって加熱したときに発生する
熱プラズマを利用する。このうちプラズマ蒸発法では、
不活性ガスプラズマ中心に固体粒子を注入し、プラズマ
中を通過する間に蒸発させ、この高温蒸気を急冷凝縮す
ることにより超微粒子を生成することができる。

【００４１】金属原料としては、チタン、亜鉛、錫、ア
ルミニウム、セリウム、イットリウム、珪素、ジルコニ
ウム、鉄、マグネシウム、銅、マンガンなどの材料が挙
げられる。その結果、それらの酸化物を得ることができ
る。また、これらの金属の混合物もしくは化合物から、
複合金属酸化物を得ることもできる。

【００４２】金属酸化物の金属元素に一部に異なる金属
元素を混入し、金属酸化物の半導体特性を調節すること
も可能である。たとえば、２価の酸化亜鉛に対して３価
の金属であるアルミニウムを微量にドープして抵抗をコ
ントロールすることが例として挙げられる。

【００４３】プラズマ法は、不活性ガスのアルゴン、お
よび２原子分子ガスである水素や窒素、酸素雰囲気中で
アーク放電すると、アルゴンプラズマ、水素プラズマな
どが得られるが、とくに２原子分子ガスが熱解離して生
じた水素（窒素、酸素）プラズマは分子状ガスに比べて
きわめて反応性に富んでいるので、不活性ガスのプラズ
マと区別して反応性アークプラズマとも呼ばれている。
このうち酸素プラズマ法は金属酸化物微粒子を製造する
方法として効果的である。

【００４４】プラズマ法で得られる金属酸化物微粒子
は、平均粒径が１００nm以下である。ここでいう平均粒
径とは平均１次粒径を意味する。これに対し、上記した
従来の方法により生成された金属酸化物微粒子は、０．
２〜０．４μm程度の粒径のものが通例であり、本実施
形態において用いられる金属酸化物超微粒子７２ａと比
べれば1桁程度の粒径の違いがある。金属酸化物微粒子
の粒径が大きい場合には、中間層７２での電荷の伝導路
が少数の粒子によって形成されるのに対して、本実施形
態に係る複写機１では小粒径の金属酸化物微粒子７２ａ
を用いることにより数多くの粒子を介した電気伝導とな
り、各粒子の間には十分な樹脂が存在することで短絡的
な電流の流れが抑制され、異常放電によるリーク欠陥の
発生が少なくなる。

【００４５】また、プラズマ法で得られる金属酸化物微
粒子は、従来の製法からは得られにくい粒形が比較的揃
った晶癖の微粒子であって分散性が高い。よって、かぶ
りによる画質低下が抑制される。

【００４６】ここで、本実施形態において使用可能な金
属酸化物微粒子７２ａとしては、酸化チタン、酸化亜
鉛、酸化錫、酸化ケイ素、酸化鉄、酸化アルミニウム、
酸化セリウム、酸化イットリウム、酸化珪素、酸化ジル
コニウム、酸化鉄、酸化マグネシウム、酸化銅、酸化マ
ンガンなどが挙げられるが、特に酸化亜鉛、酸化チタ
ン、及び酸化錫の少なくともいずれかを含むと好まし
い。金属酸化物微粒子７２ａは、抵抗値が１０²〜１０
¹¹Ω・ｃｍのものが利用可能であるが、特に抵抗値が１
０⁴〜１０⁹Ω・ｃｍであると好ましい。抵抗値が１０⁴
Ω・ｃｍよりも低いときは十分なリーク耐性を得ること
ができない傾向にあり、また１０⁹Ω・ｃｍよりも高い
ときは残留電位上昇を引き起こす傾向にある。よって、
上記のように金属酸化物微粒子７２ａとして酸化亜鉛、
酸化チタン、及び酸化錫の少なくともいずれかを含むこ
とで、中間層７２の抵抗値を上記範囲内に容易に設定す
ることができる。

【００４７】また、これらの金属酸化物微粒子７２ａ
は、必要に応じて分散性等の諸特性を一層改善するため
に、シランカップリング剤、チタンカップリング剤、ジ
ルコニウムカップリング剤などの有機化合物で表面処理
を施してもよい。

【００４８】バインダー樹脂７２ｂとしては、ポリビニ
ルブチラールなどのアセタール樹脂、ポリビニルアルコ
ール樹脂、カゼイン、ポリアミド樹脂、セルロース樹
脂、ゼラチン、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、
メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、
ポリビニルアセテート樹脂、塩化ビニル-酢酸ビニル-無
水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、シリコーン-アル
キッド樹脂、フェノール樹脂、フェノール-ホルムアル
デヒド樹脂、メラミン樹脂などが用いられる。

【００４９】上記したバインダ樹脂７２ｂに上記した金
属酸化物微粒子７２ａを分散させ、これを用いて導電性
基材７１上に成膜を行うことで中間層７２が形成され
る。このとき、金属酸化物微粒子７２ａはバインダ樹脂
７２ｂ中によく分散されている。

【００５０】ここで、金属酸化物微粒子７２ａは、中間
層７２の固形分中に１０〜６０体積％、好ましくは２０
〜５０体積％が含有されると好ましい。金属酸化物微粒
子７２ａの含有量が１０体積％より少ないときは、抵抗
値が高くなりすぎて中間層７２の電荷移動ができず光減
衰特性が得られなくなる傾向にある。また金属酸化物微
粒子７２ａの含有量が６０体積％より多いときは、抵抗
値が低くなりすぎて耐リーク性の乏しい中間層７２とな
る傾向にある。

【００５１】また中間層７２の抵抗値は、１０³〜１０
¹³Ω・ｃｍとすると好ましい。中間層７２の抵抗値は、
金属酸化物微粒子７２ａの抵抗値とバインダ樹脂７２ｂ
への添加量とを調整することで制御することができる。

【００５２】本実施形態では、レーザー光源からの光の
干渉防止のために、中間層７２に光散乱剤を添加した
り、表面を粗面化するなど、光散乱機能を付与すると好
ましい。光散乱剤としては、屈折率の異なる金属酸化物
微粒子や有機粒子粉体などを用いることができる。これ
らは、それ自体光散乱機能を有するが、粒径によっては
中間層７２の粗面化にも寄与する。１μm以上好ましく
は２μm以上の粒子を添加することにより中間層７２の
粗面化が可能である。また、この添加物粒子は数百nm程
度の微粒子であっても、この材料の凝集効果により光の
散乱化させることも可能である。このような例としてシ
リカ粒子やアルミナ粒子などが挙げられる。

【００５３】また、外部から感光体ドラム２８に貫入す
る導電性材料を中間層７２で阻止するために、バインダ
樹脂７２ｂとしてはある程度以上の高い硬度を有する樹
脂を用いると好ましい。例えば、硬度の指標として中間
層７２のビッカース硬度を３０以上とすると好ましい。
このようにすれば、接触帯電時における電流リークの一
因となる外部からの導電性材料の貫入を防止し、耐久性
の高い中間層７２を形成することができる。

【００５４】また、中間層７２は膜厚が厚い方が外部か
らの導電性材料の貫入を阻止する効果が高くなるため、
耐電流リーク特性は向上する。膜厚が１〜３μｍでは十
分な耐電流リーク特性を有しない。一方、膜厚が厚すぎ
る場合には成膜が難しく、また残留電荷の増加による画
質低下を生じやすくなる。よって、中間層７２の膜厚は
３〜２５μｍに設定すると好ましい。もちろん、リーク
欠陥となる原因が懸念されないような状況下において
は、中間層７２の膜厚は０．１μｍ程度まで薄く設定す
ることが可能である。

【００５５】次に、図２及び図３に示すように、中間層
７２の上に下引層７３を形成する。この下引き層７３
は、感光層７６を塗布する際の濡れ性の改善や、ブロッ
キング性の強化を図る機能を有する。

【００５６】下引層７３は、ポリビニルブチラールなど
のアセタール樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、カゼイ
ン、ポリアミド樹脂、セルロース樹脂、ゼラチン、ポリ
ウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、ア
クリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリビニルアセテー
ト樹脂、塩化ビニル-酢酸ビニル-無水マレイン酸樹脂、
シリコーン樹脂、シリコーン-アルキッド樹脂、フェノ
ール-ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂などの高分
子樹脂化合物のほかに、ジルコニウム、チタニウム、ア
ルミニウム、マンガン、シリコン原子などを含有する有
機金属化合物などによって形成することができる。これ
らの化合物は、単独にあるいは複数の化合物の混合物あ
るいは重縮合物として用いることができる。中でも、ジ
ルコニウム、もしくはシリコンを含有する有機金属化合
物は、残留電位が低く環境による電位変化が少なく、ま
た繰り返し使用による電位の変化が少ないなど性能上優
れている。

【００５７】シリコン化合物としては、例えばビニルト
リメトキシシラン、γ-メタクリルオキシプロピル-トリ
ス(β-メトキシエトキシ)シラン、β-(3,4-エポキシシ
クロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、γ-グリシド
キシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキ
シシラン、γ-メルカプトプロピルトリメトキシシラ
ン、γ-アミノプロピルトリエトキシシラン、N-β-(ア
ミノエチル)-γ-アミノプロピルトリメトキシシラン、N
-β-(アミノエチル)-γ-アミノプロピルメチルメトキシ
シラン、N,N-ビス(β-ヒドロキシエチル)-γ-アミノプ
ロピルトリエトキシシラン、γ-クロルプロピルトリメ
トキシシランなどが挙げられる。これらのなかでも特に
好ましく用いられるシリコン化合物としては、ビニルト
リエトキシシラン、ビニルトリス(2-メトキシエトキシ
シラン)、3-メタクリロキシプロピルトリメトキシシラ
ン、3-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、2-
(3,4-エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラ
ン、N-2-(アミノエチル)3-アミノプロピルトリメトキシ
シラン、N-2-(アミノエチル)3-アミノプロピルメチルジ
メトキシシラン、3-アミノプロピルトリエトキシシラ
ン、N-フェニル-3-アミノプロピルトリメトキシシラ
ン、3-メルカプトプロピルトリメトキシシラン、3-クロ
ロプロピルトリメトキシシランなどのシランカップリン
グ剤が挙げられる。

【００５８】有機ジルコニウム化合物としては、ジルコ
ニウムブトキシド、ジルコニウムアセト酢酸エチル、ジ
ルコニウムトリエタノールアミン、アセチルアセトネー
トジルコニウムブトキシド、アセト酢酸エチルジルコニ
ウムブトキシド、ジルコニウムアセテート、ジルコニウ
ムオキサレート、ジルコニウムラクテート、ジルコニウ
ムホスホネート、オクタン酸ジルコニウム、ナフテン酸
ジルコニウム、ラウリン酸ジルコニウム、ステアリン酸
ジルコニウム、イソステアリン酸ジルコニウム、メタク
リレートジルコニウムブトキシド、ステアレートジルコ
ニウムブトキシド、イソステアレートジルコニウムブト
キシドなどが挙げられる。

【００５９】有機チタン化合物としては、テトライソプ
ロピルチタネート、テトラノルマルブチルチタネート、
ブチルチタネートダイマー、テトラ(2-エチルヘキシル)
チタネート、チタンアセチルアセトネート、ポリチタン
アセチルアセトネート、チタンオクチレングリコレー
ト、チタンラクテートアンモニウム塩、チタンラクテー
ト、チタンラクテートエチルエステル、チタントリエタ
ノールアミネート、ポリヒドロキシチタンステアレート
などが挙げられる。

【００６０】有機アルミニウム化合物としては、アルミ
ニウムイソプロピレート、モノブトキシアルミニウムジ
イソプロピレート、アルミニウムブチレート、ジエチル
アセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート、ア
ルミニウムトリス(エチルアセトアセテート)などが挙げ
られる。

【００６１】下引き層７３は、上層の濡れ性改善の他
に、電気的なブロキング層の役割も果たすが、膜厚が大
きすぎる場合には電気的な障壁が強くなりすぎて、減感
や繰り返しによる電位の上昇を引き起こす。したがっ
て、下引層７３を形成する場合には、０．１〜３μmの
膜厚範囲に設定すると好ましい。尚、下引き層７３は必
ずしも設ける必要はない。

【００６２】次に、下引き層７３の上に感光層７６を形
成する。感光層７６の形成では、まず下引き層７３の上
に電荷発生層７４を形成する。電荷発生層７４は、電荷
発生物質を真空蒸着により形成するか、有機溶剤及び結
着樹脂とともに分散し塗布することにより形成される。

【００６３】電荷発生物質としては、非晶質セレン、結
晶性セレン、セレン−テルル合金、セレン−ヒ素合金、
その他のセレン化合物及びセレン合金、酸化亜鉛、酸化
チタン等の無機系光導電体、無金属フタロシアニン、チ
タニルフタロシアニン、銅フタロシアニン、錫フタロシ
アニン、ガリウムフタロシアニンなどの各種フタロシア
ニン顔料、スクエアリウム系、アントアントロン系、ペ
リレン系、アゾ系、アントラキノン系、ピレン系、ピリ
リウム塩、チアピリリウム塩等の各種有機顔料及び染料
が用いられる。また、これらの有機顔料は一般に数種の
結晶型を有しており、特にフタロシアニン顔料ではα
型、β型などをはじめとしてさまざまな結晶型が知られ
ているが、目的にあった感度その他の特性が得られる顔
料であるならば、これらのいずれの結晶型でも用いるこ
とができる。

【００６４】本実施形態において、特に優れた性能が得
られる電荷発生材料として以下の化合物が挙げられる。

【００６５】（１）電荷発生材料としてCukα線を用い
たX線回折スペクトルのブラッグ角度(２θ±０．２°)
において、少なくとも７．４°，１６．６°，２５．５
°，２８．３°の位置に回折ピークを有する結晶型に代
表されるクロルガリウムフタロシアニン。

【００６６】（２）電荷発生材料としてCukα線を用い
たX線回折スペクトルのブラッグ角度(２θ±０．２°)
において、少なくとも７．５゜，９．９゜，１２．５
゜，１６．３゜，１８．６゜，２５．１゜，２８．１゜
の位置に回折ピークを有する結晶型に代表されるヒドロ
キシガリウムフタロシアニン。

【００６７】（３）電荷発生材料としてCukα線を用い
たX線回折スペクトルのブラッグ角度(２θ±０．２°)
において、少なくとも９．５゜，１１．７゜，１５．０
゜，２４．１゜，２７．３゜の位置に回折ピークを有す
る結晶型に代表されるチタニルフタロシアニン。

【００６８】電荷発生層７４に於ける結着樹脂として
は、ビスフェノールAタイプあるいはビスフェノールZタ
イプのポリカーボネート樹脂、ポリアリレート樹脂、ポ
リエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ
塩化ビニル樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリビニルアセテ
ート樹脂、スチレン-ブタジエン共重合体樹脂、塩化ビ
ニリデン-アクリルニトリル共重合体樹脂、塩化ビニル-
酢酸ビニル-無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、シ
リコン-アルキド樹脂、フェノール-ホルムアルデヒド樹
脂、スチレン-アルキッド樹脂、ポリ-N-ビニルカルバゾ
ールなどが挙げられる。

【００６９】これらの結着樹脂は、単独あるいは２種以
上混合して用いることが可能である。電荷発生材料と結
着樹脂との配合比(重量比)は、１０：１〜１：１０の範
囲が望ましい。また、電荷発生層７４の厚みは、一般に
は０．０１〜５μm、好ましくは０．０５〜２．０μmの
範囲に設定される。

【００７０】電荷発生材料を樹脂中に分散させる方法と
しては、ロールミル、ボールミル、振動ボールミル、ア
トライター、ダイノーミル、サンドミル、コロイドミル
などの方法を用いることができる。

【００７１】次に、電荷発生層７４の上に電荷輸送層７
５を形成する。電荷輸送層７５に用いられる電荷輸送物
質としては、2,5-ビス(p-ジエチルアミノフェニル)-1,
3,4-オキサジアゾールなどのオキサジアゾール誘導体、
1,3,5-トリフェニル-ピラゾリン、1-[ピリジル-(2)]-3-
(p-ジエチルアミノスチリル)-5-(p-ジエチルアミノスチ
リル)ピラゾリンなどのピラゾリン誘導体、トリフェニ
ルアミン、トリ(P-メチル)フェニルアミン、N,N-ビス
(3,4-ジメチルフェニル)ビフェニル-4-アミン、ジベン
ジルアニリン、9,9-ジメチル-N,N-ジ(p-トリル)フルオ
レノン-2-アミンなどの芳香族第3級アミノ化合物、N,N
‘-ジフェニル-N,N‘-ビス(3-メチルフェニル)-[1,1-ビ
フェニル]-4,4‘-ジアミンなどの芳香族第3級ジアミノ
化合物、3-(4‘ジメチルアミノフェニル)-5,6-ジ-(4‘-
メトキシフェニル)-1,2,4-トリアジンなどの1,2,4-トリ
アジン誘導体、4-ジエチルアミノベンズアルデヒド-1,1
-ジフェニルヒドラゾン、4-ジフェニルアミノベンズア
ルデヒド-1,1-ジフェニルヒドラゾン、[p-(ジエチルア
ミノ)フェニル](1-ナフチル)フェニルヒドラゾン、１−
ピレンジフェニルヒドラゾン、９−エチル−３−[(２メ
チル−１−インドリニルイミノ)メチル]カルバゾール、
４−（２−メチル−１−インドリニルイミノメチル）ト
リフェニルアミン、９−メチル−３−カルバゾールジフ
ェニルヒドラゾン、1,１−ジ−（４，４’−メトキシフ
ェニル）アクリルアルデヒドジフェニルヒドラゾンなど
のヒドラゾン誘導体、2-フェニル-4-スチリル-キナゾリ
ンなどのキナゾリン誘導体、6-ヒドロキシ-2,3-ジ(p-メ
トキシフェニル)-ベンゾフランなどのベンゾフラン誘導
体、p-(2,2-ジフェニルビニル)-N,N-ジフェニルアニリ
ンなどのα-スチルベン誘導体、エナミン誘導体、N-エ
チルカルバゾールなどのカルバゾール誘導体、ポリ-N-
ビニルカルバゾールおよびその誘導体などの正孔輸送物
質が挙げられる。或いは、クロラニル、ブロモアニル、
アントラキノン等のキノン系化合物、テトラシアノキノ
ジメタン系化合物、2,4,7-トリニトロフルオレノン、2,
4,5,7-テトラニトロ-9-フルオレノン等のフルオレノン
化合物、2-(4-ビフェニル)-5-(4-t-ブチルフェニル)-1,
3,4-オキサジアゾールや2,5-ビス(4-ナフチル)-1,3,4-
オキサジアゾール、2,5-ビス(4-ジエチルアミノフェニ
ル)1,3,4オキサジアゾールなどのオキサジアゾール系化
合物、キサントン系化合物、チオフェン化合物、3,3',
5,5'テトラ-t-ブチルジフェノキノン、3,５−ジメチル-
3',5'−ジ−ｔ−ブチル-4,4'−ジフェノキノン等のジフ
ェノキノン化合物などの電子輸送物質が挙げられる。或
いは、以上に示した化合物からなる基を主鎖又は側鎖に
有する重合体などが挙げられる。これらの電荷輸送材料
は、１種又は２種以上を組み合せて使用することができ
る。

【００７２】本実施形態に係る感光体ドラム２８のよう
な積層型の感光体では、電荷輸送材料の電荷輸送極性に
より感光体の帯電極性が異なる。正孔輸送物質を用いた
場合には感光体は負帯電で用いられ、電子輸送物質を用
いた場合には正帯電で用いられる。両者を混合した場合
には両帯電極性の感光体とすることが可能である。

【００７３】電荷輸送層７５に用いられる結着樹脂には
任意のものを用いることができるが、特に電荷輸送材料
と相溶性を有し適当な強度を有することが望ましい。

【００７４】バインダー樹脂としては、ビスフェノール
ＡやビスフェノールＺ，ビスフェノールＣ,ビスフェノ
ールＴＰなどからなる各種のポリカーボネート樹脂やそ
の共重合体、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アク
リル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹
脂、ポリスチレン樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、ス
チレン−ブタジエン共重合体樹脂、塩化ビニル−酢酸ビ
ニル共重合体樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレ
イン酸共重合体樹脂、シリコーン樹脂、シリコーンアル
キッド樹脂、フェノールーホルムアルデヒド樹脂、スチ
レン−アクリル共重合体樹脂、アチレン−アルキッド樹
脂、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール樹脂、ポリビニルブ
チラール樹脂、ポリフェニレンエーテル樹脂などが挙げ
られる。これらの樹脂は単独あるいは２種以上の混合物
として使用することができる。

【００７５】本実施形態で用いられる重合体の分子量
は、感光層７６の膜厚や溶剤などの成膜条件によって適
宜選択されるが、通常は粘度平均分子量で３０００〜３
０万、より好ましくは２万〜２０万の範囲が適当であ
る。

【００７６】電荷輸送層７５は、上記した電荷輸送物質
及び結着樹脂とを適当な溶媒に溶解させた溶液を塗布
し、乾燥することによって形成することができる。電荷
輸送層７５の形成に使用される溶媒としては、ベンゼ
ン、トルエン、クロルベンゼン等の芳香族炭化水素系、
アセトン、2-ブタノン等のケトン類、塩化メチレン、ク
ロロホルム、塩化エチレン等のハロゲン化脂肪族炭化水
素類、テトラヒドロフラン、ジオキサン、エチレングリ
コール、ジエチルエーテル等の環状あるいは直鎖状エー
テル、あるいはこれらの混合溶剤などが挙げられる。

【００７７】また、塗布液には塗膜の平滑性向上のため
のレベリング剤としてシリコーンオイルを微量添加する
こともできる。

【００７８】電荷輸送材料と上記結着樹脂との配合比は
１０：１〜１：５が好ましい。また電荷輸送層７５の膜
厚は一般に５〜５０μm、好ましくは１０〜４０μmの範
囲に設定される。

【００７９】塗工は、感光体の形状や用途に応じて浸漬
塗布法、リング塗布法、スプレー塗布法、ビード塗布
法、ブレード塗布法、ローラー塗布法などの塗布法を用
いて行うことが出来る。乾燥は、室温での指触乾燥の後
に加熱乾燥するのが好ましい。加熱乾燥は、３０℃〜２
００℃の温度で５分〜２時間の範囲の時間で行うことが
好ましい。

【００８０】尚、本実施形態では、感光層７６を電荷発
生層７４と電荷輸送層７５との２層構造としているが、
感光層７６は単層であってもよい。また、電荷発生層７
４と電荷輸送層７５との積層順序は反対であってもよ
い。

【００８１】さらに、複写機１中で発生するオゾンや酸
化性ガス、あるいは光・熱による感光体ドラム２８の劣
化を防止する目的で、感光層７６中に酸化防止剤・光安
定剤・熱安定剤などの添加剤を添加することができる。

【００８２】たとえば、酸化防止剤としてはヒンダード
フェノール、ヒンダードアミン、パラフェニレンジアミ
ン、アリールアルカン、ハイドロキノン、スピロクロマ
ン、スピロインダノン及びそれらの誘導体、有機硫黄化
合物、有機燐化合物などが挙げられる。

【００８３】酸化防止剤の具体的な化合物として、フェ
ノール系酸化防止剤では2,6-ジ-t-ブチル-4-メチル フ
ェノール、スチレン化フェノール、n-オクタデシル-3-
(3',5'-ジ-t-ブチル 4'-ヒドロキシフェニル)-プロピオ
ネート、2,2'-メチレン-ビス-(4-メチル-6-t-ブチル フ
ェノール)、2-t-ブチル-6-(3'-t-ブチル-5'-メチル-2'-
ヒドロキシベンジル)-4-メチルフェニル アクリレー
ト、4,4'-ブチリデン-ビス-(3-メチル-6-t-ブチル-フェ
ノール)、4,4'-チオ-ビス-(3-メチル 6-t-ブチルフェノ
ール)、1,3,5-トリス(4-t-ブチル-3-ヒドロキシ-2,6-ジ
メチル ベンジル)イソシアヌレート、テトラキス-[メチ
レン-3-(3',5'-ジ-t-ブチル-4'-ヒドロキシ-フェニル)
プロピオネート]-メタン、3,9-ビス[2-[3-(3-t-ブチル-
4-ヒドロキシ-5-メチル フェニル)プロピオニルオキシ]
-1,1-ジメチル エチル]-2,4,8,10-テトラオキサスピロ
[5,5]ウンデカンなどが挙げられる。ヒンダードアミン
系化合物ではビス(2,2,6,6-テトラメチル-4-ピペリジ
ル)セバケート、ビス(1,2,2,6,6-ペンタメチル-4-ピペ
リジル)セバケート、1-[2-[3-(3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒド
ロキシフェニル)プロピオニルオキシ]エチル]-4-[3-(3,
5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシフェニル)プロピオニルオ
キシ]-2,2,6,6-テトラメチルピペリジン、8-ベンジル-
7,7,9,9-テトラメチル-3-オクチル-1,3,8-トリアザスピ
ロ[4,5]ウンデカン-2,4-ジオン、4-ベンゾイルオキシ-
2,2,6,6-テトラメチルピペリジン、コハク酸ジメチル-1
-(2-ヒドロキシエチル)-4-ヒドロキシ-2,2,6,6-テトラ
メチルピペリジン重縮合物、ポリ[[6-(1,1,3,3-テトラ
メチルブチル)イミノ-1,3,5-トリアジン-2,4-ジイミル]
[(2,2,6,6-テトラメチル-4-ピペリジル)イミノ]ヘキサ
メチレン[(2,3,6,6-テトラメチル-4-ピペリジル)イミ
ノ]]、2-(3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシベンジル)-2-n
-ブチルマロン酸ビス(1,2,2,6,6-ペンタメチル-4-ピペ
リジル)、N,N'-ビス(3-アミノプロピル)エチレンジアミ
ン-2,4-ビス[N-ブチル-N-(1,2,2,6,6,-ペンタメチル-4
ピペリジル)アミノ]-6-クロロ-1,3,5-トリアジン縮合物
などが挙げられる。有機イオウ系酸化防止剤としてジラ
ウリル-3,3'-チオジプロピオネート、ジミリスチル-3,
3'-チオジプロピオネート、ジステアリル-3,3'-チオジ
プロピオネート、ペンタエリスリトール-テトラキス-
(β-ラウリル-チオプロピオネート)、ジトリデシル-3,
3'-チオジプロピオネート、2-メルカプトベンズイミダ
ゾールなどが挙げられる。有機燐系酸化防止剤としてト
リスノニルフェニル フォスフィート、トリフェニル フ
ォスフィート、トリス(2,4-ジ-t-ブチル フェニル)-フ
ォスフィートなどが挙げられる。

【００８４】有機硫黄系および有機燐系酸化防止剤は２
次酸化防止剤と言われ、フェノール系あるいはアミン系
などの１次酸化防止剤と併用することにより相乗効果を
得ることができる。

【００８５】光安定剤としては、ベンゾフェノン系、ベ
ンゾトリアゾール系、ジチオカルバメート系、テトラメ
チルピペリジン系などの誘導体が挙げられる。

【００８６】ベンゾフェノン系光安定剤としては、2-ヒ
ドロキシ-4-メトキシ ベンゾフェノン、2-ヒドロキシ-4
-オクトキシ ベンゾフェノン、2,2'-ジ-ヒドロキシ-4-
メトキシ ベンゾフェノンなどが挙げられる。ベンゾト
リアゾール系系光安定剤としては、2-(-2'-ヒドロキシ-
5'メチル フェニル-)-ベンゾトリアゾール、2-[2'-ヒド
ロキシ-3'-(3'',4'',5'',6''-テトラ-ヒドロフタルイミ
ド-メチル)-5'-メチルフェニル]-ベンゾトリアゾール、
2-(-2'-ヒドロキシ-3'-t-ブチル 5'-メチルフェニル-)-
5-クロロ ベンゾトリアゾール、2-(2'-ヒドロキシ-3'-t
-ブチル 5'-メチルフェニル-)-5-クロロ ベンゾトリア
ゾール、2-(2'-ヒドロキシ-3',5'-t-ブチルフェニル-)-
ベンゾトリアゾール、2-(2'-ヒドロキシ-5'-t-オクチル
フェニル)-ベンゾトリアゾール、2-(2'-ヒドロキシ
3',5'-ジ-t-アミル フェニル-)-ベンゾトリアゾールな
どが挙げられる。その他の化合物として2,4,ジ-t-ブチ
ルフェニル 3',5'-ジ-t-ブチル-4'-ヒドロキシベンゾエ
ート、ニッケル ジブチル-ジチオカルバメートなどが挙
げられる。

【００８７】また感度の向上、残留電位の低減、繰り返
し使用時の疲労低減等を目的として、少なくとも１種の
電子受容性物質を含有せしめることができる。本実施形
態に係る感光体ドラム２８に使用可能な電子受容性物質
としては、例えば無水琥珀酸、無水マレイン酸、ジブロ
ム無水マレイン酸、無水フタル酸、テトラブロム無水フ
タル酸、テトラシアノエチレン、テトラシアノキノジメ
タン、o-ジニトロベンゼン、m-ジニトロベンゼン、クロ
ラニル、ジニトロアントラキノン、トリニトロフルオレ
ノン、ピクリン酸、o-ニトロ安息香酸、p-ニトロ安息香
酸、フタル酸などが挙げられる。これらのうち、フルオ
レノン系、キノン系や、Cl,CN,NO₂等の電子吸引性置換
基を有するベンゼン誘導体を特に好適に用いることがで
きる。

【００８８】さらに、感光層７６の上に、必要に応じて
表面保護層を形成することができる（図示省略）。例え
ば、金属酸化物を分散した半導電性保護層は、絶縁性樹
脂中に半導電性微粒子を分散した層である。半導電性微
粒子として電気抵抗が１０⁹Ω・cm以下で白色、灰色も
しくは青白色を呈する平均粒径が０．３μm以下好まし
くは０．１μm以下の微粒子が適当であり、例えば、酸
化モリブデン、酸化タングステン、酸化アンチモン、酸
化錫、酸化チタン、酸化インジウム、酸化錫とアンチモ
ンあるいは酸化アンチモンとの固溶体の担体またはこれ
らの混合物、あるいは単一粒子中にこれらの金属酸化物
を混合したもの、あるいは被覆したものがあげられる。
中でも、酸化錫、酸化錫とアンチモンあるいは酸化アン
チモンとの固溶体は電気抵抗を適切に調節することが可
能で、かつ、保護層を実質的に透明にすることが可能で
あるので、好ましく用いられる(特開昭57-30847号、特
開昭57-128344号参照) 。また分散性向上のためにこれ
らの粉体面上に他の金属酸化物層やシランカップリング
剤などの表面コート層を形成したものもある。絶縁性樹
脂としては、ポリアミド、ポリウレタン、ポリエステ
ル、エポキシ樹脂、ポリケトン、ポリカーボネート等の
縮合樹脂や、ポリビニルケトン、ポリスチレン、ポリア
クリルアミド、ポリビニルブチラールのようなビニル重
合体等が挙げられる。

【００８９】表面保護層の膜厚は光透過率が低くならな
い程度、すなわち１５μｍ以下にすることが必要であ
り、０．５μｍ〜９μｍ程度が望ましい。

【００９０】さらに、表面の潤滑性向上のために電荷輸
送層若しくは表面保護層の表面層中にテフロン（商標
名）のような離型性固体粒子を含有することも可能であ
る。

【００９１】また、他の表面保護層の例としてポリマー
成分中に電荷輸送性機能を織り込んだ高分子電荷輸送剤
を用いることや、シリコーンハードコート剤等の強靭な
コート剤中に低分子の電荷輸送剤を分子分散させるなど
して電荷輸送機能機能をもたせた保護層も可能である。
ポリマー成分中に電荷輸送機能を織り込んだ表面保護層
の例としては、シリコーンポリマー中に電荷輸送材料機
能基を織り込んだ表面保護層の例が挙げられる。

【００９２】このようにして、本実施形態に係る複写機
１が備える感光体ドラム２８が形成される。

【００９３】次に、複写機１が備える中間転写体ユニッ
ト４０について説明する。中間転写体ユニット４０の中
間転写ベルト３２は、一次転写位置Ｔ₁に配置された一
次転写ロール３６、内側二次転写ロール（バイアスロー
ル）４６、及び駆動ロール３８等によって張架されてお
り、図示しない駆動機構により感光体ドラム２８と略同
速度で駆動ロール３８を介して図中の矢印方向へ回転す
る。

【００９４】一次転写ロール３６としては、感光体ドラ
ム２８上のトナー像を中間転写ベルト３２に転写する機
能を有している限りとくに制限はなく、例えばベルト、
ローラー、フィルム、ゴムブレード等を用いた接触型転
写帯電器、コロナ放電を利用したスコロトロン転写帯電
器やコロトロン転写帯電器等の公知の転写帯電器を用い
ることができる。これらの中でも、転写帯電補償能力に
優れる点では接触型転写帯電器が望ましい。

【００９５】尚、本実施形態においては、一次転写ロー
ル３６の他、剥離帯電器等を併用することもできる。ま
た、一次転写の際に、一次転写ロール３６から感光体ド
ラム２８に付与される転写電流には、通常直流電流が使
用されるが、本実施形態においては更に交流を重畳させ
て使用してもよい。一次転写ロール３６における設定条
件としては、帯電すべき画像領域幅、転写帯電器の形
状、開口幅、プロセススピード（周速）等により異なり
一概に規定することはできないが、たとえば、一次転写
電流としては１００〜４００μA、一次転写電圧として
は５００〜２００Vを設定値とすることができる。

【００９６】中間転写体ユニット４０の中間転写ベルト
３２は、一般的には多層構造であり、例えば、導電性支
持体上に、少なくともゴム、エラストマー、樹脂等から
形成される弾性層と、少なくとも１層の被覆層とを設け
てなる構造とすることができる。また、中間転写体の形
状は特に限定されず、目的に応じてベルト状やローラ形
状等としてもよい。本実施形態においては、これらの中
でも、画像の重ねあわせ時の色ズレ、繰り返し使用によ
る耐久性、他のサブシステムの配置の自由度の取り易さ
等の点で、無端ベルト形状を採用している。

【００９７】中間転写ベルト３２の表層の材料として
は、例えば、ポリウレタン系樹脂、ポリエステル系樹
脂、ポリスチレン系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリ
ブタジエン系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリ塩化ビニル
系樹脂、ポリエチレン系樹脂、フッ素系樹脂等に対し
て、導電性のカーボン粒子や金属粉等を分散混合させた
ものが好適に用いられる。これらの中でも、ポリイミド
系樹脂にカーボン粒子を分散させたものを好適に用いる
ことができる。

【００９８】中間転写ベルト３２の表面抵抗値として
は、例えば、１０⁸〜１０¹⁶Ω・cmであることが好まし
い。この表面抵抗値が、１０⁸Ω・cm未満であると画像に
滲みや太りが生じ、１０¹⁶Ω・cmを超えると画像の飛び
散りの発生や中間転写体シートの除電の必要性が発生
し、何れの場合も好ましくない。また、中間転写ベルト
３２の厚みとしては、例えば５０〜２００μm程度が好
ましい。

【００９９】二次転写ユニット５０は、二次転写位置Ｔ
₂に配置された外側二次転写ロール４８を具備してい
る。この外側二次転写ロール４８は、中間転写ベルト３
２を間に挟んで内側二次転写ロール４６と対向してお
り、二次転写を行う際は内側二次転写ロール４６側に加
圧される。そして、内側二次転写ロール４６にトナーと
逆極性のバイアス電圧が印加されると、中間転写ベルト
３２上のトナー像が用紙に二次転写される。

【０１００】外側二次転写ロール４８として、上述の機
能を有している限り特に制限はなく、例えば、一次転写
ロールとして例示した接触型転写帯電器、スコロトロン
転写帯電器、コロトロン転写帯電器などが用いられる。
これらの中でも、一次転写ロール３６と同様に接触型転
写帯電器が好ましい。また、二次転写の際に、外側二次
転写ロール４８から中間転写ベルト３２に付与される転
写電流には、通常直流帯電が使用されるが、本実施形態
においては更に交流電流を重畳させて使用しても良い。
外側二次転写ロール４８における設定条件としては、帯
電すべき画像領域幅、転写帯電器の形状、開口幅、プロ
セススピード（周速）等により異なり一概に規定するこ
とはできないが、例えば、二次転写電流としては＋１０
０〜＋４００μＡ、１次転写電圧としては＋２０００〜
＋５０００Ｖを設定値とすることができる。

【０１０１】トナー像を二次転写された用紙は、定着装
置３９によって当該トナー像を定着された後、排出ロー
ル５２より複写機本体１４の外部へ排出される。以上
が、本実施形態の複写機１の構成である。

【０１０２】次に、本実施形態の感光体ドラム２８、感
光体ドラム２８の製造方法、及び複写機１の作用効果を
説明する。

【０１０３】複写機１によって用紙に画像を形成するプ
ロセス中に、帯電装置２６、現像装置３０等に含まれた
導電性材料が飛び出し、感光体ドラム２８に貫入する場
合がある。特に、現像装置３０の現像剤には、針状の導
電性材料が異物として混入されていることがしばしばあ
り、この針状の導電性材料は感光体ドラム２８に貫入し
易かった。すると、従来の複写機では、感光層にリーク
電流が流れて記録紙に画質欠陥が現れていた。特に、中
間転写体を用いたカラー複写機の場合は、色連点欠陥と
なり、プリント画像の見栄えを悪くする大きな原因とな
っていた。

【０１０４】ところが、本実施形態の複写機１の感光体
ドラム２８は、金属酸化物微粒子７２ａを含有するバイ
ンダ樹脂７２ｂを用いて中間層７２を形成しているた
め、各金属酸化物微粒子７２ａの間にはバインダ樹脂７
２ｂが十分に存在している。しかも、金属酸化物微粒子
７２ａは平均粒径が１００ｎｍ以下と径が小さなものと
され、金属酸化物微粒子７２ａによる導電路間に介在す
るバインダ樹脂７２ｂと金属酸化物微粒子７２ａとの接
着頻度が比較的多くなっている。このため、感光層７６
に導電性材料が貫入した場合でも、バインダ樹脂７２ｂ
が障壁となってリーク電流の発生を抑制することができ
る。また、この金属酸化物微粒子７２ａはバインダ樹脂
７２ｂ中に十分に分散しているため、帯電電位と残留電
位との間で電位の十分なコントラストが得られ、かぶり
による画質低下を抑制することができる。

【０１０５】また、上述のように中間層７２は、ビッカ
ース強度が３０以上と比較的硬くされているため、中間
層７２への導電性材料の侵入を効果的に抑制することが
できる。さらに、中間層７２は、厚さが３μｍ以上２５
μｍ以下とされているため、中間層７２への導電性材料
の貫入を抑制することができる。尚、中間層７２がこの
範囲の下限よりも薄い場合は、リーク電流の発生を十分
抑制することができず、この範囲の上限よりも厚い場合
は、成膜に困難になったり、残留電荷の増加による画質
低下を招くことになる。

【０１０６】さらに、帯電装置２６は接触型とされてい
るため、オゾンの発生を抑制することができる。通常、
接触型の帯電装置を用いた場合は、非接触式の帯電装置
よりも感光体ドラム２８に高い電圧が印加されるため、
導電性材料が感光層７６に貫入した場合にリーク電流が
発生しやすくなる。しかし、本実施形態の複写機１で
は、上記のように中間層７２によってリーク電流の発生
が抑制されている。このため、オゾンの発生を抑制しつ
つ、リーク電流による画質欠陥が殆ど無い画像を形成す
ることができる。

【０１０７】また、帯電装置２６に、直流電圧に交流電
圧を重畳した電圧を印加することで、直流電圧のみを印
加する場合と比較して最大電圧が高くなり、感光体ドラ
ム２８の帯電効率が高まる。通常、感光体ドラム２８に
印加される電圧が高くなるとリーク電流が発生し易くな
るが、本実施形態では上記のように中間層７２によって
リーク電流を抑制することができる。

【０１０８】以下、実施例、比較例により本発明に係る
電子写真感光体及び電子写真装置を更に具体的に説明す
るが、本発明はこの実施例に限定されるものではない。

【０１０９】

【実施例】［実施例１］ (感光体ドラムの作製)実施例１では、直径８４mm、長さ
３４７mm、肉厚１mmのアルミニウム基材を導電性基材と
し、これに以下の組成の中間層を形成した。

【０１１０】 ブチラール樹脂 BM-1 (積水化学社製) ６重量部 硬化剤 ブロック化イソシアネート スミジュール3175 (住友バイエルンウレ タン社製) １２重量部 酸化亜鉛 Nano Tec ZnO (シーアイ化成社) （一次粒径30nm） ４１重量部 シリコーンボール トスパール120（東芝シリコーン） １重量部 レベリング剤 シリコーンオイルＳＨ２９ＰＡ（東レダウコーニングシリコー ン） １００ppm メチルエチルケトン ５２重量部 からなる材料をバッチ式ミルにて１０時間の分散を行
い、分散液を得た。

【０１１１】この塗布液を浸漬塗布法にてアルミニウム
基材上に塗布し、１５０℃、３０分の乾燥硬化を行い２
０μmの塗膜を得た。

【０１１２】次に、電荷発生物質としてのCukα線を用
いたX線回折スペクトルのブラッグ角度(2θ±0.2°)が
少なくとも7.4°,16.6°,25.5°,28.3°の位置に回折ピ
ークを有する塩化ガリウムフタロシアニン１５部、結着
樹脂としての塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体樹脂（Ｖ
ＭＣＨ、日本ユニカー社製）１０部、ｎ−ブチルアルコ
ール３００部からなる混合物を、サンドミルにて４時間
分散した。得られた分散液を電荷発生層用の塗布液とし
て、これを中間層上に浸漬塗布し、乾燥して、厚みが
０．２μｍの電荷発生層を形成した。

【０１１３】さらに、N,N'-シ゛フェニル-N,N'-ヒ゛ス(3-メチルフェニ
ル)-[1、1']ヒ゛フェニル-4,4'-シ゛アミン４重量部と、ビスフェノー
ルＺポリカーボネート樹脂（分子量4万）6重量部と、ク
ロルベンゼン８０重量部とを混合して溶解した塗布液を
電荷発生層上に形成し、１３０℃、４０分の乾燥を行う
ことにより膜厚２５μmの電荷輸送層を形成した。

【０１１４】この感光体ドラムの電気特性を帯電装置、
露光装置を有する電気特性試験機EPA-8100（川口電気
製）で測定して、帯電電位、光減衰後の電位および残留
電位を調べた。その結果、表１に示す良好な電気特性が
得られた。

【０１１５】この感光体ドラムを接触帯電装置、中間転
写装置を有する富士ゼロックス社製フルカラープリンタ
ーDocu Print C620に搭載しプリント画質を調べたとこ
ろ、良好な画質が得られた。

【０１１６】この感光体ドラムを用いて連続１万枚のプ
リントテストを行ったが、リーク欠陥の発生もない優れ
た維持性を示した。

【０１１７】［比較例１〜４］ (感光体の作製)比較例１〜４では、実施例１の感光体ド
ラムにおいて、酸化亜鉛を表１に示す材料に変更した他
は、実施例１と同様にして感光体ドラムを作製し、実施
例１と同様にして評価を行った。その結果を表１に同様
に示す。比較例１〜４では、帯電電位が劣り、残留電位
も高く十分なコントラスト電位が得られず、かぶりが発
生して画質の低下が見られた。

【０１１８】

【表１】

【０１１９】［実施例２］ (感光体ドラムの作製)実施例２では、直径８０mm、長さ
３４０mm、肉厚１mmのアルミニウム基材を導電性基材と
し、これに以下の組成の中間層を形成した。

【０１２０】 ブチラール樹脂 BM-1 (積水化学社製) １０重量部 硬化剤 ブロック化イソシアネート スミジュール3475 (住友バイエルンウレ タン社製) １０重量部 酸化チタンNanoTec TiO₂(シーアイ化成社) （一次粒径３０nm） ３５重量部 シリコーンボール トスパール120（東芝シリコーン） ５重量部 レベリング剤 シリコーンオイルＳＨ２９ＰＡ（東レダウコーニングシリコー ン） ０．１重量部 メチルエチルケトン ５０重量部 からなる材料をバッチ式ミルにて２時間の分散を行い、
分散液を得た。

【０１２１】この塗布液を浸漬塗布法にてアルミニウム
基材上に塗布し、１５０℃、３０分の乾燥硬化を行い２
０μmの塗膜を得た。

【０１２２】次に、電荷発生材料としてCukα線を用い
たX線回折スペクトルのブラッグ角度(2θ±0.2°)にお
いて、少なくとも7.5°,9.9°,12.5°,16.3°,18.6°,
25.1°,28.1°の位置に回折ピークを有するヒドロキシ
ガリウムフタロシアニン１５部、結着樹脂としてのブチ
ラール樹脂（ＢＭ-1、積水化学社製）１０部、ｎ−ブチ
ルアルコール３００部からなる混合物を、サンドミルに
て４時間分散した。得られた分散液を電荷発生層用の塗
布液として、これを中間層上に浸漬塗布し、乾燥して、
厚みが０．２μｍの電荷発生層を形成した。

【０１２３】次に、ジ(3,4-ジメチルフェニル)(4-フェ
ニルフェニル)アミン２重量部と、 N,N’-ジフェニル-
N,N’-ビス(3-メチルフェニル)-[1,1’-ビフェニル]-4,
4’-ジアミン６重量部と、ビスフェノールＺポリカーボ
ネート(分子量4万)６重量部とを、それぞれテトラヒド
ロフラン８０重量部、2,6-ジ-t-ブチル-4-メチル フェ
ノール０．２重量部を加えて溶解した。この液を用い
て、塗布し１２０℃、４０分の乾燥を行うことにより膜
厚２５μmの電荷輸送層を形成し、三層からなる感光体
ドラムを作製した。

【０１２４】この感光体ドラムの電気特性を帯電装置、
露光装置を有する電気特性試験機EPA-8100（川口電気
製）で測定して、帯電電位、光減衰後の電位および残留
電位を調べた。その結果、表２に示す良好な電気特性が
得られた。

【０１２５】この感光体ドラムを、接触帯電装置、中間
転写装置を有する富士ゼロックス社製フルカラープリン
ターDocu Print C620に搭載しプリント画質を調べたと
ころ、良好な画質が得られた。

【０１２６】この感光体ドラムを用いて連続１万枚のプ
リントテストを行ったが、リーク欠陥の発生もない優れ
た維持性を示した。

【０１２７】［比較例５〜６］比較例５〜６では、実施
例２の感光体ドラムにおいて、酸化チタンを表２に示す
材料に変更した他は、実施例２と同様にして感光体ドラ
ムを作製し、実施例２と同様にして評価を行った。その
結果を表２に同様に示す。比較例５〜６では、残留電位
が高く十分なコントラスト電位が得られず、かぶりが発
生して画質の低下が見られた。また、繰り返し使用によ
りリーク欠陥の発生が見られた。

【０１２８】

【表２】

【０１２９】［実施例３］ (感光体ドラムの作製)直径８０mm、長さ３４０mm、肉厚
１mmのアルミニウム基材を導電性基材とし、これに以下
の組成の中間層を形成した。

【０１３０】 ブチラール樹脂 BM-1 (積水化学社製) ６重量部 硬化剤 ブロック化イソシアネート スミジュール3175) (住友バイエルンウレ タン社製) １０重量部 酸化錫 NanoTec SnO₂ (シーアイ化成社) （一次粒径30nm）５０重量部 シリコーンボール トスパール120（東芝シリコーン） ２重量部 レベリング剤 シリコーンオイルＳＨ２９ＰＡ（東レダウコーニングシリコー ン） ０．１重量部 n-ブチルアルコール ５０重量部 からなる材料をバッチ式ミルにて１０時間の分散を行
い、分散液を得た。

【０１３１】この塗布液を浸漬塗布法にてアルミニウム
基材上に塗布し、１５０℃、３０分の乾燥硬化を行い２
０μmの塗膜を得た。

【０１３２】この上に以下の組成の下引層を形成した。

【０１３３】４重量部のポリビニルブチラール樹脂（エ
スレックＢＭ−Ｓ、積水化学社製）を溶解したｎ−ブチ
ルアルコール１７０重量部、有機ジルコニウム化合物
（アセチルアセトンジルコニウムブチレート）３０重量
部及び有機シラン化合物の混合物（γ−アミノプロピル
トリエトキシシシラン）３重量部を混合し、攪拌し、下
引き層形成用の塗布液を得た。この下引き層形成用の塗
布液を塗布し、室温で５分間風乾を行った後、５０℃で
７分間の前記導電性支持体の昇温を行い、５０℃で８５
％ＲＨ（露点４７℃）の恒温恒湿槽中に入れ、１０分
間、加湿硬化促進処理を行った後、熱風乾燥機に入れて
１３５℃で１０分間乾燥を行った。以上により、中間層
上に１μｍの下引き層を形成した。

【０１３４】次に、電荷発生材料としてCukα線を用い
たX線回折スペクトルのブラッグ角度(2θ±0.2°)にお
いて、少なくとも7.5°,9.9°,12.5°,16.3°,18.6°,
25.1°,28.1°の位置に回折ピークを有するヒドロキシ
ガリウムフタロシアニン１５部、結着樹脂としてのブチ
ラール樹脂（ＢＭ-1、積水化学社製）１０部、ｎ−ブチ
ルアルコール３００部からなる混合物を、サンドミルに
て４時間分散した。得られた分散液を電荷発生層用の塗
布液として、これを下引き層上に浸漬塗布し、乾燥し
て、厚みが０．２μｍの電荷発生層を形成した。

【０１３５】次に、ジ(3,4-ジメチルフェニル)(4-フェ
ニルフェニル)アミン２重量部と、N,N’-ジフェニル-N,
N’-ビス(3-メチルフェニル)-[1,1’-ビフェニル]-4,
4’-ジアミン２重量部と、ビスフェノールＺポリカーボ
ネート(分子量４万)６重量部とを、それぞれテトラヒド
ロフラン８０重量部、2,6-ジ-t-ブチル-4-メチル フェ
ノール０．２重量部を加えて溶解した。この液を用い
て、塗布し１２０℃、４０分の乾燥を行うことにより膜
厚２５μmの電荷輸送層を形成し、四層からなる感光体
ドラムを作製した。

【０１３６】この感光体ドラムの電気特性を帯電装置、
露光装置を有する電気特性試験機EPA-8100（川口電気
製）で測定して、帯電電位、光減衰後の電位および残留
電位を調べた。その結果、表３に示す良好な電気特性が
得られた。

【０１３７】この感光体ドラムを、接触帯電装置、中間
転写装置を有する富士ゼロックス社製フルカラープリン
ターDocu Print C620に搭載しプリント画質を調べたと
ころ、良好な画質が得られた。

【０１３８】この感光体ドラムを用いて連続１万枚のプ
リントテストを行ったが、リーク欠陥の発生もない優れ
た維持性を示した。

【０１３９】

【表３】

【０１４０】

【発明の効果】本発明によれば、かぶりによる画質低下
を抑制すると共に、リーク電流による画質欠陥の発生を
抑制することが可能な電子写真感光体、電子写真感光体
の製造方法、及び電子写真装置を得ることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本実施形態に係る画像形成装置（複写機）の全
体構成を示す図である。

【図２】本実施形態に係る感光体ドラムの構成を示す斜
視図である。

【図３】本実施形態に係る感光体ドラムの部分断面図で
ある。

【符号の説明】

１…複写機（電子写真装置）、２０…原稿読取部、２２
…画像形成部、２４…露光装置、２６…帯電装置、２８
…感光体ドラム（電子写真感光体）、３０_K，３０_Y，３
０_M，３０_C…現像器、３０…現像装置、３２…中間転写
ベルト、３４…給紙トレイ、３６…一次転写ロール、３
９…定着装置、４０…中間転写体ユニット、４６…内側
二次転写ロール、４８…外側二次転写ロール、５０…二
次転写ユニット、５２…排出ロール、７１…導電性基
材、７２…中間層、７２ａ…金属酸化物微粒子、７２ｂ
…バインダ樹脂、７３…下引層、７４…電荷発生層、７
５…電荷輸送層、７６…感光層。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 中村 博史 神奈川県南足柄市竹松1600番地 富士ゼロ ックス株式会社内 (72)発明者 相田 美智子 神奈川県南足柄市竹松1600番地 富士ゼロ ックス株式会社内 (72)発明者 上條 由紀子 神奈川県南足柄市竹松1600番地 富士ゼロ ックス株式会社内 (72)発明者 山崎 一夫 神奈川県川崎市高津区坂戸３丁目２番１号 ＫＳＰ Ｒ＆Ｄ ビジネスパークビル 富士ゼロックス株式会社内 (72)発明者 岩崎 真宏 神奈川県南足柄市竹松1600番地 富士ゼロ ックス株式会社内 Ｆターム(参考） 2H068 AA04 CA22 CA29 CA37 EA16

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 導電性基材と、 前記導電性基材上に設けられており、プラズマ法により
   生成された金属酸化物微粒子をバインダ樹脂中に含む中
   間層と、 前記中間層上に設けられた感光層と、を備える電子写真
   感光体。
2. 【請求項２】 導電性基材を準備する工程と、 プラズマ法により生成された金属酸化物微粒子を含む樹
   脂を用いて、前記導電性基材上に中間層を形成する工程
   と、 前記中間層上に感光層を形成する工程と、を含む電子写
   真感光体の製造方法。
3. 【請求項３】 前記金属酸化物微粒子の平均粒径は１０
   ０nm以下である請求項２に記載の電子写真感光体の製造
   方法。
4. 【請求項４】 前記金属酸化物微粒子は、酸化亜鉛、酸
   化チタン、及び酸化錫の少なくともいずれかを含む請求
   項２又は請求項３に記載の電子写真感光体の製造方法。
5. 【請求項５】 請求項２〜４のいずれかに記載の電子写
   真感光体の製造方法により製造された電子写真感光体。
6. 【請求項６】 請求項２〜４のいずれかに記載の電子写
   真感光体の製造方法により製造された電子写真感光体
   と、 前記電子写真感光体上に帯電を行うための接触帯電装置
   と、を備える電子写真装置。