JP2002159979A - 廃水処理方法及び廃水処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 触媒の再生を効果的に行うことができる廃水
処理方法及び廃水処理装置を提供することを目的とす
る。 【解決手段】 本発明は、反応器３内で廃水中の有害有
機化合物とオゾンとを触媒の存在下に反応させる反応工
程を含む廃水処理方法において、反応器３内の水を抜き
出す工程と、反応器３内に酸化性ガスを導入してその酸
化性ガスと触媒とを接触させることにより触媒の再生を
行う工程とを含むことを特徴とする。この場合、反応器
３から水を抜き出し、反応器３内に酸化性ガスを導入す
ると、反応器３内に水が存在する場合に比べて酸化性ガ
スが拡散しやすくなり、触媒に吸着された吸着物が酸化
性ガスに十分さらされ、触媒に吸着された吸着物が効果
的に分解される。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、廃水処理方法及び
廃水処理装置に関する。

【０００２】

【従来技術】上水、下水、ごみ最終処分場浸出水、工場
廃水等について、ダイオキシン、環境ホルモン、農薬そ
の他の有害有機化合物による汚染が問題となっている。

【０００３】こうした有害有機化合物を含有する廃水を
処理する方法として、反応器内で廃水中の有害有機化合
物とオゾン又は過酸化水素（以下、単に「オゾン」とい
う）とを触媒の存在下に反応させることにより廃水を処
理する方法がある。

【０００４】ところが、上記方法では、廃水の処理中に
触媒に難分解性の有害有機化合物が吸着して触媒の活性
を低下させることがある。また、場合によっては、目的
とする有害有機化合物を分解しても難分解性中間生成物
が生成し、それが触媒に吸着して触媒活性を低下させ
る。このため、劣化した触媒の再生を適宜行う必要があ
る。

【０００５】このような触媒の再生工程を含む廃水の処
理方法として、特開平７−２５６１１８号公報に開示さ
れるものがある。同公報には、廃水の処理を行った反応
器から廃水を抜き出し、その後反応器内に水素を導入
し、この水素により触媒に吸着された難分解性有機物等
の吸着物を還元することにより触媒を再生し、再び廃水
の処理を行う廃水処理方法が記載されている。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前述し
た従来の公報に記載の廃水の処理方法には、以下に示す
問題があった。

【０００７】即ち前述した廃水処理方法では、難分解性
有機物等の吸着物を吸着して劣化した触媒を水素で再生
するが、水素では脱ハロゲン化や水素添加反応が起こる
だけで、触媒に吸着された吸着物を低分子まで分解して
除去することは困難であり、十分な再生ができない。特
に、吸着物が、ごみ浸出水中に含まれる難分解性のフミ
ン質などである場合、水素では到底除去することができ
ず、再生が不十分となる。従って、時間の経過と共に、
廃水中の有害有機化合物を有効に除去できなくなる。

【０００８】本発明は、上記事情に鑑みてなされたもの
であり、触媒の再生を効果的に行うことができる廃水処
理方法及び廃水処理装置を提供することを目的とする。

【０００９】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明は、反応器内で廃水中の有害有機化合物を触
媒の存在下に酸化反応させる反応工程を含む廃水処理方
法において、反応器内の水を抜き出す抜出し工程と、反
応器内に酸化性ガスを導入してその酸化性ガスと触媒と
を接触させることにより触媒の再生を行うガス導入工程
とを含むことを特徴とする。

【００１０】この方法によれば、反応器内で廃水中の有
害有機化合物を触媒の存在下に酸化反応させた後、反応
器から水を抜き出し、反応器内に酸化性ガスを導入する
と、反応器内に水が存在する場合に比べて酸化性ガスが
拡散しやすくなり、触媒に吸着された吸着物が酸化性ガ
スに十分にさらされる。従って、触媒に吸着された吸着
物が十分に分解される。

【００１１】また、本発明は、反応器内で廃水中の有害
有機化合物を触媒の存在下に酸化反応させることにより
廃水を処理する廃水処理装置において、反応器内の廃水
を抜き出す抜出し手段と、抜出し手段により水が抜き出
された反応器内に酸化性ガスを導入するガス導入手段と
を備えることを特徴とする。

【００１２】この装置によれば、上記方法の発明を有効
に実施することができる。

【００１３】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態について
詳細に説明する。

【００１４】図１は、本発明の廃水処理装置の一実施形
態を示すフロー図である。図１に示すように、廃水処理
装置は、廃水を貯留する貯留槽１を備えており、貯留槽
１には、ラインＬ１を経て廃水が導入される。

【００１５】貯留槽１に貯留された廃水は、廃水導入ポ
ンプ２により廃水導入ラインＬ２を経て反応器３に導入
される。また、廃水導入ラインＬ２には、ラインＬ３を
経て、オゾン及び過酸化水素又はそのいずれか一方が導
入される。更に、廃水導入ラインＬ２にはバルブ６が設
けられ、バルブ６の開閉により適宜反応器３へ廃水を導
入可能となっている。

【００１６】反応器３内には、多数の触媒からなる触媒
層４が設けられている。触媒としては、アルミナ、シリ
カ、チタニア（ＴｉＯ₂）、ジルコニア（ＺｒＯ₂）、ゼ
オライト等の担体にＰｔ又はＰｄを含ませた貴金属系触
媒が使用される。触媒の形状としては、粒状（球状、柱
状、破砕状等）、パイプ状、ハニカム状などが挙げられ
る。粒状のものについては、触媒層４の閉塞等を回避す
る観点から、粒径が０．５〜１０ｍｍ前後のものが用い
られる。

【００１７】反応器３には処理水排出ラインＬ４が接続
され、処理水排出ラインＬ４を経て処理水が排出され
る。なお、処理水排出ラインＬ４にはバルブ７が設けら
れ、バルブ７の開閉により反応器３から処理水を適宜排
出可能となっている。

【００１８】反応器３には水抜出しラインＬ５が接続さ
れ、水抜出しラインＬ５を経て反応器３内の水が抜き出
される。水の排出先は通常貯留槽１である。水抜出しラ
インＬ５にはバルブ８が設けられ、バルブ８を開くこと
により反応器３内の水の抜出しが可能となっている。な
お、水抜出しラインＬ５及びバルブ８により抜出し手段
が構成されている。

【００１９】更に反応器３には、ガス導入ラインＬ６を
経て酸化性ガスが導入される。導入される酸化性ガスと
しては、燃焼排ガス、空気、酸素が用いられる。また、
上記酸化性ガスの代わりに窒素又はスチームを導入する
場合や酸化性ガスの触媒再生効率を高める場合等必要に
応じて、ガス導入ラインＬ６には、酸化性物質導入ライ
ンＬ１６を経て酸化性物質が導入される。酸化性物質と
しては、酸素、過酸化水素、オゾン、ＳＯ₃、ＮＯ₂、Ｃ
ｌ₂、ＣｌＯ又はこれらの２種以上の混合ガス等が挙げ
られるが、これらのうち特に酸素、過酸化水素、オゾン
又はこれらの２種以上の混合ガスを用いることが好まし
い。この場合、酸化性ガスが無害あるいは後処理が容易
であるという利点がある。ガス導入ラインＬ６にはバル
ブ９が設けられ、バルブ９を開くことで反応器３内への
酸化性ガスを含むガスの導入が可能となっている。上記
ガス導入ラインＬ６、酸化性物質導入ラインＬ１６及び
バルブ９によりガス導入手段が構成されている。

【００２０】なお、図１に示す廃水処理装置では、酸化
性ガスは、酸化性物質導入ラインＬ１６及びガス導入ラ
インＬ６を経て反応器３に導入されているが、酸化性ガ
スは、反応器３へ直接導入されてもよい。

【００２１】また反応器３からは、再生時に反応器３内
に発生するガスを排出するガス排出ラインＬ７を経てガ
スが洗浄塔１０に導入される。なお、ガス排出ラインＬ
７にはバルブ１４が設けられ、バルブ１４の開閉により
反応器３内のガスを適宜排出可能となっている。

【００２２】洗浄塔１０の底部には洗浄水が貯留されて
おり、この洗浄水が吸引ポンプ１１により引き上げら
れ、ラインＬ８を経て洗浄塔１０の上部に導入され、散
水管１２より散水される。従って、ガスが洗浄水により
洗浄可能となっている。なお、洗浄水の一部は、ライン
Ｌ８から分岐するラインＬ９を経て貯留槽１に送ること
が可能である。

【００２３】洗浄塔１０から排出されるガスは、ライン
Ｌ１０を経て、未反応のオゾン又は過酸化水素を分解す
る活性炭等を充填したオゾン分解塔１３に導入され、ガ
ス中のオゾンや過酸化水素がオゾン分解塔１３で分解さ
れ、無害化されて大気中へ放出される。

【００２４】次に、前述した廃水処理装置における廃水
処理方法について説明する。

【００２５】まずバルブ８，９，１４を閉じ、バルブ
６，７を開く。この状態で廃水導入ポンプ２を作動する
と共に、廃水導入ラインＬ２には、ラインＬ３を通して
例えばオゾンを導入する。すると、反応器３には、廃水
導入ラインＬ２を経てオゾンを含む廃水が導入される。
従って、反応器３では、廃水中の有害有機化合物とオゾ
ンとが触媒の存在下に反応する。こうして廃水中の有害
有機化合物が分解され、廃水の処理が行われる。なお、
廃水導入ラインＬ２に導入する酸化剤は、オゾンに限ら
ず、過酸化水素でもよく、オゾンと過酸化水素を共に用
いてもよい。

【００２６】ところが、廃水中の有害有機化合物とオゾ
ンとが反応すると、時間が経過するにつれて触媒に有害
有機化合物や難分解性中間生成物等の吸着物が吸着し、
これにより触媒の性能が劣化する。このため、触媒を再
生する必要がある。

【００２７】そこで、触媒の再生方法について説明す
る。

【００２８】まずバルブ６，７を閉じた後、バルブ８を
開き、反応器３内の水を水抜出しラインＬ５を経て抜き
出す（抜出し工程）。抜き出された水の排出先は通常、
図１に示すように貯留槽１である。

【００２９】次に、バルブ８を閉じ、バルブ９，１４を
開く。そして、ガス導入ラインＬ６を経て反応器３内に
酸化性ガスを導入する。また、必要に応じてガス導入ラ
インＬ６には、酸化性物質導入ラインＬ１６を経て酸化
性物質を導入する（ガス導入工程）。この場合、反応器
３から廃水が抜き出されているので、反応器３内に水が
存在する場合に比べて、導入された酸化性ガスが拡散す
る。このため、触媒に吸着された吸着物が酸化性ガスに
十分にさらされ、その吸着物が十分に酸化分解される。

【００３０】このとき、ガス導入ラインＬ６に通す酸化
性ガスは、加熱されたガス（以下、「加熱ガス」とい
う）であることが好ましい。この場合、加熱ガスの熱に
より触媒が乾燥し、触媒表面に水の被膜がなくなる。こ
のため、水の被膜がなくなる分、触媒を加熱しない場合
に比べて、触媒に吸着された吸着物がより十分に酸化性
ガスにさらされることとなる。また、触媒の再生は一般
的には単なる加熱（通常４００〜５００℃）により行わ
れることが多いが、本実施形態では、触媒の再生時に酸
化性ガスを導入するため、触媒の再生が効果的に行われ
る。このため、単なる加熱再生に比べて低温で再生が可
能となる。従って、別個に再生装置を必要とせず、反応
器３内に触媒を残したまま再生を行うことができる。

【００３１】上記加熱ガスによる触媒層４の加熱温度は
通常、２０〜２５０℃であり、好ましくは５０〜２００
℃である。加熱温度が２０℃未満では、触媒が十分乾燥
されず、触媒に吸着された吸着物が酸化性ガスに十分さ
らされず、吸着物を十分に分解できない傾向があり、２
５０℃を超えると、酸化性ガスとしてオゾン、過酸化水
素を用いる場合にその分解が顕著になる傾向がある。ま
た、燃費もかさむことになる。

【００３２】なお、触媒がカルシウムなどのスケーリン
グで汚染されている場合には、加熱や酸化性ガスでは分
解が困難であるため、酸化性ガスの導入に先立って、酸
あるいはアルカリで触媒を洗浄することが好ましい。

【００３３】反応器３内のガス（反応器３に導入され触
媒層４を通過したガス及び触媒から発生したガス）は、
ガス排出ラインＬ７を経て洗浄塔１０に導入され、この
ガスは散水管１２から散水される洗浄水によって洗浄さ
れる。これによりガス中の有害物質等が除去される。洗
浄されたガスはラインＬ１０を経てオゾン分解塔１３に
導入され、オゾン分解塔１３でガス中のオゾンが分解さ
れる。

【００３４】こうして触媒の再生が終了したならば、バ
ルブ９，１４を閉じ、バルブ６，７を開いて反応器３内
に廃水を導入する。これにより、再び廃水の処理が行わ
れるようになる。

【００３５】なお、触媒層４を２００℃以上の高温で再
生する場合には、触媒の熱ショックによる破壊等を防止
するために、空冷等の後、廃水を導入することが好まし
い。

【００３６】次に、本発明の廃水処理装置の第２実施形
態について説明する。なお、図２において、第１実施形
態と同一又は同等の構成要素については同一の符号を付
し、重複する説明を省略する。

【００３７】本実施形態の廃水処理装置は、主として、
触媒層４を有する反応器１５を更に備える点で第１実施
形態の廃水処理装置と相違する。

【００３８】本実施形態の廃水処理装置では、廃水導入
ラインＬ２から分岐する分岐廃水導入ラインＬ１１を経
て廃水が反応器１５内に導入され、処理水は、ラインＬ
１３を経て処理水排出ラインＬ４に導入される。なお、
分岐廃水導入ラインＬ１１にはバルブ１６が設けられ、
ラインＬ１３にはバルブ１８が設けられている。

【００３９】また、反応器１５から抜き出された水は、
ラインＬ１５及びラインＬ５を経て貯留槽１に導入され
る。ラインＬ１５にはバルブ２０が設けられ、バルブ２
０を開くことにより反応器１５内の水の抜出しが可能と
なっている。なお、ラインＬ５、ラインＬ１５、バルブ
８、バルブ２０により抜出し手段が構成されている。

【００４０】更に、反応器１５には、ガス導入ラインＬ
６から分岐する分岐ガス導入ラインＬ１２を経て酸化性
ガスが導入され、反応器１５内のガスは、ラインＬ１４
を経て排出される。なお、分岐ガス導入ラインＬ１２に
はバルブ１７が設けられ、ラインＬ１４にバルブ１９が
設けられている。ガス導入ラインＬ６、分岐ガス導入ラ
インＬ１２、バルブ９、バルブ１７によりガス導入手段
が構成されている。

【００４１】この廃水処理装置においては、まずバルブ
８，９，１４，１６，１７，１８，１９，２０を閉じ、
バルブ６，７を開いた状態で廃水導入ポンプ２を作動す
る。そして、ラインＬ３を経て廃水導入ラインＬ２にオ
ゾンを導入する。すると、反応器３内にオゾンを含んだ
廃水が導入され、反応器３内で廃水中の有害有機化合物
とオゾンとが触媒の存在下に反応する。こうして廃水中
の有害有機化合物が分解され、廃水の処理が行われる。
なお、廃水導入ラインＬ２に導入する酸化剤は、オゾン
に限定されず、過酸化水素でもよく、オゾンと過酸化水
素を共に用いてもよい。

【００４２】上記のようにして反応器３で一定時間廃水
の処理を行った後は、以下のようにして反応器３内の触
媒の再生を行う。

【００４３】即ち、まずバルブ１６，１８を開き、その
後、バルブ６，７を閉じる。これにより廃水は、廃水導
入ラインＬ２、分岐廃水導入ラインＬ１１を経て反応器
１５に導入され、反応器１５で引き続き廃水の処理が行
われ、反応器３への廃水の導入が停止される。

【００４４】そして、バルブ８を開き、ラインＬ５を経
て反応器３から水を抜き出す（抜出し工程）。

【００４５】反応器３から水を抜き出したならば、バル
ブ８を閉じ、バルブ９，１４を開く。そして、ラインＬ
６を経て反応器３内に酸化性ガスを導入する（ガス導入
工程）。この場合、反応器３から廃水が抜き出されてい
るので、反応器３内に水が存在する場合に比べて、導入
された酸化性ガスが拡散しやすくなる。このため、触媒
に吸着された吸着物が酸化性ガスに十分にさらされ、吸
着物が十分に酸化分解され、こうして触媒の再生が効果
的に行われる。

【００４６】反応器３内で発生するガスは、ガス排出ラ
インＬ７を経て洗浄塔１０に導入され、このガスは、洗
浄塔１０で散水管１２より散水される洗浄水によって洗
浄される。これによりガス中の有害物質等が除去され
る。洗浄されたガスは、ガス中のオゾンを分解する観点
からはオゾン分解塔１０に導入してもよいが、オゾンを
有効利用するという観点からは、図２に示すようにライ
ンＬ１７を経て廃水導入ラインＬ２に導入することが好
ましい。

【００４７】こうして反応器３内の触媒の再生が終了し
たならば、バルブ９，１４を閉じ、バルブ６，７を開い
た後、バルブ１６，１８を閉じる。すると、廃水が廃水
導入ラインＬ２を経て反応器３に導入される。このと
き、反応器３では触媒の再生が効果的に行われているた
め、廃水中の有害有機化合物を有効に除去することがで
きる。

【００４８】次に、こうして反応器３で廃水の処理を行
っている間、反応器１５の触媒の再生を行う。触媒の再
生は次のようにして行う。即ちまずバルブ２０を開き、
反応器１５内の水を抜き出す（抜出し工程）。その後、
バルブ１７，１９を開き、分岐ガス導入ラインＬ１２を
経て酸化性ガスを反応器１５に導入する。これにより触
媒の再生が効果的に行われることになる。触媒の再生が
行われたならば、再び反応器１５にて廃水の処理を行
う。

【００４９】以上のように、本実施形態の廃水処理装置
は、反応器内の触媒を効果的に再生しながら、廃水の連
続処理を行うことができる。

【００５０】本発明は、前述した第１及び第２実施形態
に限定されるものではない。例えば第２実施形態の廃水
処理装置は、反応器を２つ備えているが、複数であれば
よく、３つ以上であってもよい。

【００５１】また、上記第１及び第２実施形態では、加
熱ガスを反応器３又は反応器１５に導入することにより
反応器３又は反応器１５内の触媒の加熱が行われるが、
図３に示すように、触媒層４内に触媒加熱ガス流通管５
を設け、この触媒加熱ガス流通管５に加熱したガスを流
通させることにより触媒の加熱を行ってもよい。この場
合、ガス導入ラインＬ６から導入される酸化性ガスは加
熱しなくてもよい。また、反応器３が小さい場合には、
触媒層４の加熱は、反応器３全体を外壁から加熱するこ
とにより行ってもよい。

【００５２】また、反応器３、１５内の廃水の抜出しは
それぞれラインＬ５又はラインＬ１５を介して行われる
が、反応器３、１５内の水を処理水として全て抜き出し
た後に触媒の再生を行う場合又は廃水の導入と抜出しを
１つのラインで行う場合にはラインＬ５とラインＬ１５
を設けなくてもよい。

【００５３】以下、本発明の内容を、実施例を用いてよ
り具体的に説明するが、本発明の内容はこれら実施例に
限定されるものではない。

【００５４】

【実施例】（実施例１）触媒層として、Ｐｔを０．３％
担持した粒径約２ｍｍの活性アルミナ２００ｍｌを充填
した反応器（外部に反応器を加熱するためのマントルヒ
ータを設けたもの）へ全有機炭素（ＴＯＣ）を１０ｍｇ
／ｌ含有するごみ最終処分場の浸出水（１０ｍｌ／分）
に過酸化水素０．０１％を添加したもの（以下、「被処
理水」という）を５００時間通水した。そして、通水開
始時の反応器出口のＴＯＣ濃度と、５００時間経過後の
反応器出口のＴＯＣ濃度を測定し、これらのＴＯＣ濃度
と、上記被処理水中のＴＯＣ濃度とから、初期のＴＯＣ
の除去率と５００時間後のＴＯＣ除去率を算出し、時間
の経過に伴うＴＯＣ除去率の変化を調べた。その結果を
表１に示す。

【００５５】

【表１】

【００５６】その後、反応器から水を抜き出し、反応器
をマントルヒータにより外部から加熱して触媒層の温度
を５０℃に保持した。この状態で、オゾンを１％含有す
る空気を１Ｌ／分の割合で供給して再生した。

【００５７】その後、触媒を常温まで冷却し、再度、上
記被処理水を同一条件で５００時間通水した。そして、
再生後の通水開始時の反応器出口のＴＯＣ濃度と、５０
０時間経過後の反応器出口のＴＯＣ濃度を測定し、これ
らのＴＯＣ濃度と、上記被処理水中のＴＯＣ濃度とか
ら、初期のＴＯＣの除去率と５００時間後のＴＯＣ除去
率を算出し、時間の経過に伴うＴＯＣ除去率の変化を調
べた。その結果を表１に示す。

【００５８】（実施例２）再生時の触媒層の温度を１０
０℃に保持した以外は実施例１と同様にして、触媒の再
生前後における通水開始時のＴＯＣ除去率及び５００時
間経過後のＴＯＣ除去率を算出し、時間の経過に伴うＴ
ＯＣ除去率の変化を調べた。その結果を表１に示す。

【００５９】（実施例３）再生時の触媒層の温度を２０
０℃に保持した以外は実施例１と同様にして、触媒の再
生前後における通水開始時のＴＯＣ除去率及び５００時
間経過後のＴＯＣ除去率を測定し、時間の経過に伴うＴ
ＯＣ除去率の変化を調べた。その結果を表１に示す。

【００６０】（実施例４）再生時に反応器に導入するガ
スとして、過酸化水素を１％含有する窒素ガスを用い、
再生時の触媒層の温度を１００℃に保持した以外は実施
例１と同様にして、触媒の再生前後における通水開始時
のＴＯＣ除去率及び５００時間経過後のＴＯＣ除去率を
測定し、時間の経過に伴うＴＯＣ除去率の変化を調べ
た。その結果を表１に示す。

【００６１】（実施例５）再生時に反応器に導入するガ
スとして、過酸化水素を１％含有する窒素ガスを用い、
再生時の触媒層の温度を２００℃に保持した以外は実施
例１と同様にして、触媒の再生前後における通水開始時
のＴＯＣ除去率及び５００時間経過後のＴＯＣ除去率を
測定し、時間の経過に伴うＴＯＣ除去率の変化を調べ
た。その結果を表１に示す。

【００６２】（実施例６）再生時に反応器に導入するガ
スとして、オゾンに代えて空気を用い、再生時の触媒層
の温度を１００℃に保持した以外は実施例１と同様にし
て、触媒の再生前後における通水開始時のＴＯＣ除去率
及び５００時間経過後のＴＯＣ除去率を測定し、時間の
経過に伴うＴＯＣ除去率の変化を調べた。その結果を表
１に示す。

【００６３】（実施例７）再生時に反応器に導入するガ
スとして、オゾンに代えて空気を用い、再生時の触媒層
の温度を２００℃に保持した以外は実施例１と同様にし
て、触媒の再生前後における通水開始時のＴＯＣ除去率
及び５００時間経過後のＴＯＣ除去率を測定し、時間の
経過に伴うＴＯＣ除去率の変化を調べた。その結果を表
１に示す。

【００６４】（実施例８）再生時に反応器に導入するガ
スとして、オゾンに代えて空気を用い、再生時の触媒層
の温度を２５０℃に保持した以外は実施例１と同様にし
て、触媒の再生前後における通水開始時のＴＯＣ除去率
及び５００時間経過後のＴＯＣ除去率を測定し、時間の
経過に伴うＴＯＣ除去率の変化を調べた。その結果を表
１に示す。

【００６５】（比較例１）再生時に反応器に導入するガ
スとして、オゾンに代えて水素を用いた以外は実施例１
と同様にして、触媒の再生前後における通水開始時のＴ
ＯＣ除去率及び５００時間経過後のＴＯＣ除去率を測定
し、時間の経過に伴うＴＯＣ除去率の変化を調べた。そ
の結果を表１に示す。

【００６６】（比較例２）再生時に反応器に導入するガ
スとして、オゾンに代えて水素を用い、再生時の触媒層
の温度を１００℃に保持した以外は実施例１と同様にし
て、触媒の再生前後における通水開始時のＴＯＣ除去率
及び５００時間経過後のＴＯＣ除去率を測定し、時間の
経過に伴うＴＯＣ除去率の変化を調べた。その結果を表
１に示す。

【００６７】（比較例３）再生時に反応器に導入するガ
スとして、オゾンに代えて水素を用い、再生時の触媒層
の温度を２００℃に保持した以外は実施例１と同様にし
て、触媒の再生前後における通水開始時のＴＯＣ除去率
及び５００時間経過後のＴＯＣ除去率を測定し、時間の
経過に伴うＴＯＣ除去率の変化を調べた。その結果を表
１に示す。

【００６８】以上の実施例１〜８及び比較例１〜３の結
果より、再生時に反応器に酸化性ガスを導入すると、触
媒が効果的に再生されるのに対し、再生時に反応器に水
素ガス（還元性ガス）を導入すると、触媒が効果的に再
生されないことが分かった。

【００６９】また、実施例１〜８より、触媒層の温度を
一定にして比較した場合、酸化性ガスとしてオゾンを導
入すると、触媒の再生がより効果的に行われることが分
かった。更に、触媒層の温度を高くする方が、触媒がよ
り効果的に再生されることが分かった。

【００７０】

【発明の効果】以上説明したように本発明の廃水処理方
法及び廃水処理装置によれば、触媒の再生時に、反応器
内に水が存在する場合に比べて酸化性ガスが拡散しやす
くなり、触媒に吸着された吸着物が酸化性ガスに十分さ
らされ、吸着物が十分に分解されるため、触媒の再生を
効果的に行うことができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の廃水処理装置の一実施形態を示すフロ
ー図である。

【図２】本発明の廃水処理装置の他の実施形態を示すフ
ロー図である。

【図３】触媒層の加熱形態の一例を示す断面図である。

【符号の説明】

３，１５…反応器、５…触媒加熱ガス流通管（加熱手
段）、８，２０…バルブ（抜出し手段）、９，１７…バ
ルブ、Ｌ５、Ｌ１５…ライン（抜出し手段）、Ｌ６，Ｌ
１２，Ｌ１６…ライン（ガス導入手段）。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 4D050 AA13 AB19 BB02 BB09 BC01 BC06 BD02 BD08 4G069 AA10 BA01A BA01B BA02A BA02B BA04A BA04B BA05A BA05B BA07A BA07B BB02A BB02B BC72A BC72B BC75A BC75B CA05 CA19 EA02Y EA06 EA18 GA06 GA14

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 反応器内で廃水中の有害有機化合物を触
   媒の存在下に酸化反応させる反応工程を含む廃水処理方
   法において、 前記反応器内の水を抜き出す抜出し工程と、 前記反応器内に酸化性ガスを導入してその酸化性ガスと
   前記触媒とを接触させることにより前記触媒の再生を行
   うガス導入工程と、を含むことを特徴とする廃水処理方
   法。
2. 【請求項２】 前記ガス導入工程において、前記酸化性
   ガスは、酸素、過酸化水素及びオゾンからなる群より選
   ばれる少なくとも１種を含むことを特徴とする請求項１
   に記載の廃水処理方法。
3. 【請求項３】 前記ガス導入工程において、前記触媒を
   加熱することを特徴とする請求項１又は２に記載の廃水
   処理方法。
4. 【請求項４】 反応器内で廃水中の有害有機化合物を触
   媒の存在下に酸化反応させることにより廃水を処理する
   廃水処理装置において、 前記反応器内の水を抜き出す抜出し手段と、 前記抜出し手段により水が抜き出された前記反応器内に
   酸化性ガスを導入するガス導入手段と、を備えることを
   特徴とする廃水処理装置。
5. 【請求項５】 前記反応器内の前記触媒を加熱する加熱
   手段を更に備えることを特徴とする請求項４に記載の廃
   水処理装置。