JP2002155358A - イオンシャワー装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 装置の信頼性が高く、メンテナンスが容易な
イオンシャワー装置を提供する。 【解決手段】 イオンビーム３の照射により金属薄膜１
３に発生したパーティクルがチャージアップによりガラ
ス基板５側に舞い上がる前に巻取り軸１２を回転させて
金属薄膜を巻取ることにより、チャンバ２の底板が新し
い金属薄膜１３で覆われると共にパーティクルが発生し
た古い金属薄膜１３が巻き取られる。このため、ロール
状の金属薄膜１３を交換する時以外にチャンバ２を大気
開放する必要がなくなり、メンテナンスが容易となり、
装置の信頼性が向上する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、イオンシャワー装
置に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、テレビジョン、パソコン、ビデオ
カメラ等に液晶パネルが多用されるようになってきた。
これは液晶パネルは消費電力が少なく、軽量で、しかも
薄いためである。

【０００３】液晶パネルは、主にＴＦＴ（Ｔｈｉｎ Ｆ
ｉｌｍ Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）が形成されたガラス基
板と、透明全面電極が形成されたガラス基板とで液晶を
挟む構造を有している。

【０００４】ここで、ガラス基板上にＴＦＴを形成する
にはイオンシャワー装置が必要である。

【０００５】図３は従来のイオンシャワー装置の概念図
である。

【０００６】このイオンシャワー装置１は、チャンバ２
と、チャンバ２内の上部に設けられシャワー状のイオン
ビーム３を下方に出射するイオン源４と、チャンバ２内
の下部に設けられガラス基板５を水平（矢印６方向）に
往復移動させるプロセス室７とで構成されている（ビー
ム打ち下ろしタイプ）。尚、ガラス基板５を水平に往復
移動させるのは、ガラス基板５の面積が開発初期に比べ
て大型化（十数型）しており、しかもイオンビーム３の
断面積より大きいためである。

【０００７】このようなイオンシャワー装置１に、予め
Ｓｉ薄膜が形成されたガラス基板５を配置し、イオン源
４からリンＰ（あるいはボロンＢ）のイオンを下方に打
ち込むことでＳｉ薄膜がドーピングされトランジスタが
形成されるようになっている。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】ところで、図３に示し
た従来のイオンシャワー装置１はイオンビーム３の照射
範囲が限られており、ガラス基板５を水平に往復移動さ
せていたので、ガラス基板５が破線で示す位置に移動
し、影になっていた部分が露出してイオンビーム３に直
接照射されるとイオンシャワー装置１が傷んでしまう。
このため、チャンバ２の底面に厚さ１ｍｍ程度のステン
レス板からなる防着板８をネジ等で取付けてチャンバ１
の内面を保護していた。

【０００９】しかしながら、長時間のビーム照射によ
り、防着板８の表面にイオンの膜が付着し、それが剥離
してパーティクルが発生することによりガラス基板５を
用いた液晶パネルの性能を低下させる原因となる。特
に、ビーム打ち下ろしタイプのイオンシャワー装置はビ
ームがチャンバ内面を直撃するため、パーティクルがチ
ャージアップしてガラス基板５の処理面付近に飛散する
ことにより、処理基板（Ｓｉ薄膜が形成されたガラス基
板）５へのイオン注入処理を妨げるおそれがある。この
ため、防着板８を定期的に交換しなければならず、防着
板８の交換の度にチャンバ２を大気開放しなければなら
ないので、メンテナンスが面倒であるという問題があっ
た。

【００１０】そこで、本発明の目的は、上記課題を解決
し、装置の信頼性が高く、メンテナンスが容易なイオン
シャワー装置を提供することにある。

【００１１】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に本発明のイオンシャワー装置は、チャンバ内で水平に
往復移動する基板に上方からシャワー状のイオンビーム
を照射するイオンシャワー装置において、チャンバの下
部の一方の片隅に水平に配置された供給軸と、チャンバ
の底部の他方の片隅に該供給軸と平行に配置された巻取
り軸と、予め供給軸に巻かれており、チャンバの底面と
基板との間で底面を覆うように引き出された後巻取り軸
に巻き取られる金属薄膜とを備えたものである。

【００１２】上記構成に加え本発明のイオンシャワー装
置の巻取り軸はチャンバの側壁に設けられた真空シール
部を貫通して回転手段に接続されているのが好ましい。

【００１３】上記構成に加え本発明のイオンシャワー装
置の回転手段はハンドルであってもよい。

【００１４】上記構成に加え本発明のイオンシャワー装
置の回転手段はギヤードモータであってもよい。

【００１５】本発明によれば、イオンビームの照射によ
り金属薄膜に発生したパーティクルがチャージアップに
より基板側に舞い上がる前に巻取り軸を回転させて金属
薄膜を巻取ることにより、チャンバの底板が新しい金属
薄膜で覆われると共にパーティクルが発生した古い金属
薄膜が巻き取られる。このため、ロール状の金属薄膜を
交換する時以外にチャンバを大気開放する必要がなくな
り、メンテナンスが容易となり、装置の信頼性が向上す
る。

【００１６】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を添付
図面に基づいて詳述する。

【００１７】図１は本発明のイオンシャワー装置の一実
施の形態を示す概念図であり、図２は図１に用いられる
金属薄膜の外観斜視図である。尚、図３に示した従来例
と同様の部材には共通の符号を用いた。

【００１８】このイオンシャワー装置１０は、チャンバ
２と、チャンバ２内の上部に設けられシャワー状のイオ
ンビーム３を下方に出射するイオン源４と、チャンバ２
内の下部に設けられガラス基板５を水平（矢印６方向）
に往復移動させるプロセス室７と、プロセス室７の底部
の一方（図１では左側）の片隅に水平に配置された供給
軸１１と、プロセス室７の底部の他方（図１では右側）
の片隅に供給軸１１と平行に配置された巻取り軸１２
と、予め供給軸１１に巻かれており、チャンバ２の底面
とガラス基板５との間でチャンバ２の底面を覆うように
引き出された後、巻取り軸１２に巻き取られる金属薄膜
１３とで構成されている。

【００１９】巻取り軸１２はチャンバ２の側壁に設けら
れた真空シール部（例えばＯリング）１４を介して外部
に露出し、図示しない回転手段に接続される。回転手段
としてはハンドルでもギヤードモータでもよい。

【００２０】金属薄膜１３としては例えば厚さ０．１ｍ
ｍ〜０．５ｍｍのステンレス板が好ましい。

【００２１】このように構成したことで、イオンビーム
３の照射により金属薄膜１３に発生したパーティクルが
チャージアップによりガラス基板５側に舞い上がる前に
巻取り軸１２を矢印１５方向に回転させて金属薄膜１３
を巻取ることにより、チャンバ２の底面が新しい金属薄
膜１３で覆われると共に、パーティクルが発生した古い
金属薄膜１３が巻き取られる。このため、ロール状の金
属薄膜１３を交換する時以外にチャンバ２を大気開放す
る必要がなくなり、メンテナンスが容易となり、装置の
信頼性が向上する。

【００２２】尚、金属薄膜１３の交換（巻取り）時期に
ついては、一定時期ごとであってもよく、アーキング
（イオンシャワー照射時の電流の急激な減少）が発生し
てからでもよい。

【００２３】

【発明の効果】以上要するに本発明によれば、次のよう
な優れた効果を発揮する。

【００２４】装置の信頼性が高く、メンテナンスが容易
なイオンシャワー装置の提供を実現することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明のイオンシャワー装置の一実施の形態を
示す概念図である。

【図２】図１に用いられる金属薄膜の外観斜視図であ
る。

【図３】従来のイオンシャワー装置の概念図である。

【符号の説明】

２ チャンバ ３ イオンビーム ４ イオン源 ５ 基板（ガラス基板） １１ 供給軸 １２ 巻取り軸 １３ 金属薄膜 １４ 真空シール部

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 チャンバ内で水平に往復移動する基板に
   上方からシャワー状のイオンビームを照射するイオンシ
   ャワー装置において、上記チャンバの下部の一方の片隅
   に水平に配置された供給軸と、上記チャンバの底部の他
   方の片隅に該供給軸と平行に配置された巻取り軸と、予
   め上記供給軸に巻かれており、上記チャンバの底面と上
   記基板との間で上記底面を覆うように引き出された後上
   記巻取り軸に巻き取られる金属薄膜とを備えたことを特
   徴とするイオンシャワー装置。
2. 【請求項２】 上記巻取り軸は上記チャンバの側壁に設
   けられた真空シール部を貫通して回転手段に接続されて
   いる請求項１に記載のイオンシャワー装置。
3. 【請求項３】 上記回転手段はハンドルである請求項２
   に記載のイオンシャワー装置。
4. 【請求項４】 上記回転手段はギヤードモータである請
   求項２に記載のイオンシャワー装置。