JP2002155038A - 多価ナフトール化合物とその製造方法 - Google Patents

多価ナフトール化合物とその製造方法

Info

Publication number
JP2002155038A
JP2002155038A JP2000350917A JP2000350917A JP2002155038A JP 2002155038 A JP2002155038 A JP 2002155038A JP 2000350917 A JP2000350917 A JP 2000350917A JP 2000350917 A JP2000350917 A JP 2000350917A JP 2002155038 A JP2002155038 A JP 2002155038A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
compound
divalent
azomethine
naphthol compound
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2000350917A
Other languages
English (en)
Inventor
Ichiro Ogura
一郎 小椋
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
DIC Corp
Original Assignee
Dainippon Ink and Chemicals Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Dainippon Ink and Chemicals Co Ltd filed Critical Dainippon Ink and Chemicals Co Ltd
Priority to JP2000350917A priority Critical patent/JP2002155038A/ja
Publication of JP2002155038A publication Critical patent/JP2002155038A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 耐熱性や難燃性に優れる新規なアゾメ
チン基含有多価ナフトール化合物を提供する。 【解決手段】 一般式(1)で表わされるアゾメチン
基含有多価ナフトール化合物。 【化1】 (式中R1〜R7のうち、少なくとも1つが水酸基であ
り、その他はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜4
のアルキル基、炭素数5または6のシクロアルキル基、
またはフェニル基であって、且つXが2価の有機基を表
わす。)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】半導体封止材、プリント配線
基板に用途の硬化剤やエポキシ樹脂、ビニルエステル樹
脂の原料、半導体用フォトレジスト等の感光性材料の原
料、ポリカ−ボネ−ト樹脂やポリエステル樹脂の原料な
どに用いられる多価フェノ−ル化合物として好適な下記
一般式(1)で表わされる新規アゾメチン基含有多価ナ
フトール化合物、及び、ポリアミン化合物(A)とヒド
ロキシナフトアルデヒド化合物(B)を反応させること
を特徴とするアゾメチン基含有多価ナフトール化合物の
新規製造方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来から、半導体封止材、プリント配線
基板に用途の硬化剤やエポキシ樹脂、ビニルエステル樹
脂の原料、半導体用フォトレジスト等の感光性材料の原
料、ポリカ−ボネ−ト樹脂やポリエステル樹脂の原料な
どに用いられる芳香族ポリオール化合物の中で、優れた
耐熱性が期待される骨格を有する化合物は未だ知られて
いない。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】前記の耐熱性を発現さ
せる骨格としては、特に、アミド構造、またはイミド構
造のような、アミノ基とカルボニル基との縮合構造を有
した構造が好ましいことが知られている。これらの構造
をもつ化合物は、特性の大幅な向上は認められるもの
の、上記の骨格を導入した芳香族ポリオール化合物類
は、エポキシ樹脂の硬化剤やエポキシ樹脂、ビニルエス
テル樹脂の原料、半導体用フォトレジスト等の感光性材
料の原料、ポリカ−ボネ−ト樹脂やポリエステル樹脂の
原料とした場合、溶剤への溶解性が低く、また他の樹脂
等との相溶性に乏しい実用性のない化合物であった。し
たがって、本発明は、上述のような難点が無く、且つ上
記の耐熱性等の要求される樹脂類の原料に好適な、新規
な芳香族ポリオール化合物とその製造方法を提供するこ
とにある。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明者は、耐熱性をも
ち、且つ難燃性や靭性に優れた性能が期待される芳香族
ポリオール化合物を得るべく鋭意研究した結果、アゾメ
チン基含有多価ナフトール化合物が新規な化合物であっ
て、しかも上記の性能を満足すること、及び、新規なア
ゾメチン基含有多価ナフトール化合物がポリアミン化合
物とヒドロキシナフトアルデヒド化合物を反応させて得
られることを見出し、本発明に至った。
【0005】即ち、本発明は、 1.一般式(1)で表わされるアゾメチン基含有多価ナ
フトール化合物、
【化5】 (式中R1〜R7のうち、少なくとも1つが水酸基であ
り、その他はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜4
のアルキル基、炭素数5または6のシクロアルキル基、
またはフェニル基であって、且つXが2価の有機基を表
わす。) 2.一般式(2)または(3)で表されるアゾメチン基
含有多価ナフトール化合物、
【化6】 (式中R1〜R7のうち、少なくとも1つが水酸基であ
り、その他はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜4
のアルキル基、炭素数5または6のシクロアルキル基、
またはフェニル基であって、且つXが2価の有機基をあ
らわす。) 3.一般式(2)または(3)中のXがアルキル基で置
換されてもよい2価のベンゼン環、アルキレン−ビスフ
ェニル基、またはアルキル基で置換されてもよい2価の
ナフタレン環である前記2記載のアゾメチン基含有多価
ナフトール化合物、 4.下記構造式(4)で表されるアゾメチン基含有2価
ナフトール化合物、
【化7】 (式中、Yはアルキル基で置換されてもよい2価のベン
ゼン環、アルキレン−ビスフェニル基、またはアルキル
基で置換されてもよい2価のナフタレン環を表す。) 5.ポリアミン化合物(A)とヒドロキシナフトアルデ
ヒド化合物(B)を反応させることを特徴とするアゾメ
チン基含有多価ナフトール化合物の製造方法、 6.ポリアミン化合物(A)が芳香族ジアミン化合物で
ある前記5記載の製造方法、 7.ヒドロキシナフトアルデヒド化合物(B)が一般式
(5)で表される化合物である前記5または6記載の製
造方法、
【化8】 (式中R1〜R7のうち、少なくとも1つが水酸基であ
り、その他が水素原子、炭素数1〜4のアルキル基、炭
素数5または6のシクロアルキル基、またはフェニル基
をあらわす。)を提供する。
【0006】
【発明の実施の形態】本発明のアゾメチン基含有多価ナ
フトール化合物は、上記一般式(1)で表され、その具
体例としては、下記一般式(2)または(3)で表され
る化合物が挙げられる。
【化9】 (式中R1〜R7のうち、少なくとも1つが水酸基であ
り、その他はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜4
のアルキル基、炭素数5または6のシクロアルキル基、
またはフェニル基であって、且つXが2価の有機基を表
す。)
【0007】上記一般式(2)または(3)で表わされ
る化合物類の中でも、下記一般式(6a)〜(6g)で
表わされる化合物類が好ましい。
【化10】 (式中、R8〜R17は、それぞれ独立に水酸基、水素原
子、炭素数1〜4のアルキル基、フェニル基、またはシ
クロアルシル基を表わし、またYはアルキル基で置換さ
れてもよい2価のベンゼン環、アルキレン−ビスフェニ
ル基、またはアルキル基で置換されてもよい2価のナフ
タレン環を表す。)
【0008】また、上記一般式(6a)〜(6g)の中
でも、R8〜R17が水酸基、水素原子、フェニル基、ま
たはシクロへキシル基である下記一般式(7)〜(1
3)で表される化合物等が耐熱性の面から好ましい。
【化11】 (式中、Zは2価のベンゼン環、メチレン−ビスフェニ
ル基、2価のナフタレン環を表す。)
【0009】更に、本発明の多価ナフトール化合物とし
て下記構造式(14)、または(15)で表される化合
物が反応性、入手の容易さの点でとくに好ましい。
【化12】
【0010】次に、本発明のアゾメチン基含有多価ナフ
トール化合物の製造方法について説明する。本発明のア
ゾメチン基含有多価ナフトール化合物の製造方法は、必
要に応じて、反応溶剤中、ポリアミン化合物(A)、例
えば、下記一般式(16)
【化13】 (式中、Xは2価の有機基である。)で表される化合物
とヒドロキシナフトアルデヒド化合物(B)、例えば、
下記一般式で表されるアルデヒド基含有多価ナフトール
化合物(5)とを脱水縮合反応させて得られることがで
きる。
【化14】 (式中R1〜R7のうち、少なくとも1つが水酸基であ
り、その他がそれぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜4
のアルキル基、炭素数5または6のシクロアルキル基、
またはフェニル基をあらわす。)
【0011】本発明によるアゾメチン基含有2価ナフト
ール化合物の製造において、上記一般式(16)で表さ
れるジアミン化合物としては、1分子中に2個のアミン
基を含有するものであればよく、特に限定されるもので
はないが、例えば、3,3'−ジメチル−4,4'−ジアミ
ノビフェニル、4,6−ジメチル−m−フェニレンジア
ミン、2,5−ジメチル−p−フェニレンジアミン、2,
4−ジアミノメシチレン、4,4'−メチレンジ−o−ト
ルイジン,4,4'−メチレンジ−2,6−キシリジン、
4,4'−メチレン−2,6−ジエチルアニリン、2,4−
トルエンジアミン、m−フェニレンジアミン、p−フェ
ニレンジアミン、4,4'−ジアミノジフェニルプロパ
ン、3,3'−ジアミノジフェニルプロパン、4,4'−ジ
アミノジフェニルエタン、3,3'−ジアミノジフェニル
エタン、4,4'−ジアミノジフェニルメタン、3,3'−
ジアミノジフェニルメタン、4,4'−ジアミノジフェニ
ルスルフィド、3,3'−ジアミノジフェニルスルフィ
ド、4,4'−ジアミノジフェニルスルフォン、3,3'−
ジアミノジフェニルスルフォン、4,4'−ジアミノジフ
ェニルエ−テル、3,3'−ジアミノジフェニルエ−テ
ル、ベンジジン、3,3'−ジアミノビフェニル、3,3'
−ジメチル−4,4'−ジアミノビフェニル、3,3'−ジ
メトキシベンジジン、ビス(p−アミノシクロヘキシ
ル)メタン、ビス(p−アミノ−t−ブチルフェニル)
エ−テル、ビス(p−メチルアミノペンチル)ベンゼ
ン、p−ビス(2−メチル−4−アミノペンチル)ベン
ゼン、1,5−ジアミノナフタレン、1,4−ジアミノナ
フタレン、2,6−ジアミノナフタレン、2,4−ビス
(アミノ−t−ブチル)トルエン、2,4−ジアミノト
ルエン、m−キシレン−2,5−ジアミン、p−キシレ
ン−2,5−ジアミン、m−キシリレンジアミン、p−
キシリレンジアミン、2,6−ジアミノピリジン、2,5
−ジアミノピリジン、2,5−ジアミノ−1,3,4−オ
キサジアゾ−ル、1,4−ジアミノシクロヘキサン、エ
チレンジアミン、テトラメチレンジアミン、ペンタメチ
レンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、2,5−ジメ
チルヘキサメチレンジアミン、3−メトキシヘキサメチ
レンジアミン、ヘプタメチレンジアミン、2,5−ジメ
チルヘプタメチレンジアミン、3−メチルヘプタメチレ
ンジアミン、4,4−ジメチルヘプタメチレンジアミ
ン、オクタメチレンジアミン、ノナメチレンジアミン、
5−メチルノナメチレンジアミン、デカメチレンジアミ
ン、1,3−ビス(3−アミノフェノキシ)ベンゼン、
2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニ
ル]プロパン、1,3−ビス(4−アミノフェノキシ)
ベンゼン、ビス−4−(4−アミノフェノキシ)フェニ
ルスルフォン、ビス−4−(3−アミノフェノキシ)フ
ェニルスルフォンなどを挙げることができる。
【0012】上記のジアミン類の中でも、一般式(1
6)中のXがアルキル基で置換されていてもよい2価の
芳香族基であることが、耐熱性の面から、4,4'−ジア
ミノジフェニルプロパン、3,3'−ジアミノジフェニル
プロパン、4,4'−ジアミノジフェニルエタン、3,3'
−ジアミノジフェニルエタン、4,4'−ジアミノジフェ
ニルメタン、3,3'−ジアミノジフェニルメタン、4,
4'−ジアミノジフェニルエ−テル、3,3'−ジアミノ
ジフェニルエ−テル、1,5−ジアミノナフタレン、1,
4−ジアミノナフタレン、2,6−ジアミノナフタレン
が好ましい。その中でもさらに、4,4'−ジアミノジフ
ェルメタンとジアミノナフタレンが、反応性、コストの
点からより好ましい。上記のジアミンは、単独で用いて
も良く、2種類以上を組み合わせて用いても良い。
【0013】本発明に用いる式(4)で表わされるヒド
ロキシナフトアルデヒド化合物類としては、1分子中に
1個以上の水酸基と1個以上のアルデヒド基を含有する
ナフタレン化合物であればよく、特に限定されるもので
はないが、例示するならば、構造式(17)〜(23)
【化15】 で表される化合物が挙げられる。そのなかでも入手の容
易さ、反応性から考えると、上記の構造式(17)およ
び(18)で表されるヒドロキシナフトアルデヒド類が
特に好ましい。
【0014】上記のポリアミン化合物とヒドロキシナフ
トアルデヒド化合物と反応において、ヒドロキシナフト
アルデヒド化合物は、ポリアミン化合物1モルに対し
て、通常、0.3〜5.0モルの範囲で用いるが、収率
を考慮すると、1.8〜2.2モルの範囲が好ましい。
【0015】上記のポリアミン化合物とヒドロキシナフ
トアルデヒド化合物との反応において、必要に応じて、
反応溶剤を用いてもかまわない。反応溶剤を用いる場
合、例えば、脂肪族アルコ−ル、芳香族炭化水素又はこ
れらの混合溶剤が用いられる。脂肪族アルコ−ルとして
は、用いる反応原料、得られる生成物の溶解度、反応条
件、反応の経済性等を考慮して、メタノ−ル、エタノ−
ル、イソプロピルアルコ−ル、n−プロピルアルコ−
ル、t−ブチルアルコ−ル、イソブチルアルコ−ル、n
−ブチルアルコ−ル等を挙げることができる、また、芳
香族炭化水素溶剤としては、例えば、トルエン、キシレ
ン、クメン等を挙げることができる。このような溶剤
は、通常、用いるポリアミン化合物とヒドロキシナフト
アルデヒド化合物の合計100重量部に対して、20〜
500重量部の範囲で用いられるが、これに限定される
ものではない。
【0016】上記のポリアミン化合物とヒドロキシナフ
トアルデヒド化合物との反応は、通常、20〜200
℃、好ましくは、50〜150℃の温度にて、攪拌しな
がら2〜50時間程度、通常は5〜24時間程度おこな
えばよい。
【0017】上記の反応終了後、目的物質が結晶化して
析出している場合は、得られた反応混合物を濾別して、
次いで適当な有機溶剤、例えば、メタノ−ル、エタノ−
ル、アセトン、トルエン、ジオキサン、ヘキサンなどを
用いて洗浄精製した後に、乾燥させることによって、目
的のアゾメチン基含有4価フェノ−ル化合物を得ること
ができる。また目的物質が溶解している場合は、反応溶
媒を濃縮して得られた粗物質を再沈殿或いは再結晶など
で精製することによって、目的のアゾメチン基含有多価
ナフトール化合物を得ることができる。
【0018】
【実施例】以下に実施例を挙げて以下に本発明を説明す
るが、本発明はこれら実施例により何ら限定されるもの
ではない。
【0019】実施例1 撹拌装置と加熱装置が付いた500ミリリットル四つ口
フラスコに,4,4´−ジアミノジフェニルメタン9.
9g(0.05モル)と構造式(17)であらわされる
2−ヒドロキシ−1−ナフトアルデヒド17.2g
(0.1モル)とイソプロピルアルコール200gを仕
込み,窒素ガスを流しながら,還留状態まで加熱して,
20時間撹拌を続けた。反応終了後,イソプロピルアル
コールをエバポレーターで蒸留除去して結晶を得た。そ
の結晶をアセトンで繰り返し洗浄することにより下記構
造式(24)で表される化合物20.1gを得た。元素
分析はC%;H%;N%=82.02;5.33;5.46(理論値
82.98;5.17;5.53)と良好な一致を示した。赤外吸収
スペクトル(KBr)は,1625cm-1付近にアゾメチン基特
有なピークと3200〜3500cm-1付近に水酸基特有なピーク
が観察された。
【化16】
【0020】実施例2 4,4´−ジアミノジフェニルメタンを1,5−ジアミ
ノナフタレン7.9g(0.05モル)に代えた以外
は,実施例1と同様にして下記構造式(25)で表され
る化合物19.6gを得た。元素分析はC%;H%;N
%=82.99;4.86;5.88(理論値 82.38;4.75;6.00)
と良好な一致を示した。赤外吸収スペクトル(KBr)
は,1615cm-1付近にアゾメチン基特有なピークと3200〜
3500cm-1付近に水酸基特有なピークが観察された。
【化17】
【0021】
【発明の効果】本発明による新規なアゾメチン基含有多
価ナフトール化合物を原料として用いて、種々の反応に
よって、種々の有機高分子材料を誘導することができ
る。例えば、アゾメチン基を含有する2価ナフトール化
合物は、例えば、耐熱性や難燃性や靭性に優れた半導体
封止材やプリント配線基板やレジストインキなどに使用
されるエポキシ樹脂組成物に使用されるエポキシ樹脂の
原料、或いはエポキシ樹脂硬化剤として使用することが
できる。またこれで得られたエポキシ樹脂は、アクリレ
−ト化することによって、アゾメチン基を含有したエポ
キシアクリレ−ト樹脂とすることができる。またビスフ
ェノ−ルA型エポキシ樹脂などに、このアゾメチン基含
有多価ナフトール化合物を付加反応させて、耐熱性や難
燃性に優れるアゾメチン基含有変性エポキシ樹脂を得る
ことができる。

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 一般式(1)で表わされるアゾメチン基
    含有多価ナフトール化合物。 【化1】 (式中R1〜R7のうち、少なくとも1つが水酸基であ
    り、その他はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜4
    のアルキル基、炭素数5または6のシクロアルキル基、
    またはフェニル基であって、且つXが2価の有機基を表
    わす。)
  2. 【請求項2】 一般式(2)または(3)で表されるア
    ゾメチン基含有多価ナフトール化合物。 【化2】 (式中R1〜R7のうち、少なくとも1つが水酸基であ
    り、その他はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜4
    のアルキル基、炭素数5または6のシクロアルキル基、
    またはフェニル基であって、且つXが2価の有機基を表
    わす。)
  3. 【請求項3】 一般式(2)または(3)中のXがアル
    キル基で置換されてもよい2価のベンゼン環、アルキレ
    ン−ビスフェニル基、またはアルキル基で置換されても
    よい2価のナフタレン環である請求項2記載のアゾメチ
    ン基含有多価ナフトール化合物。
  4. 【請求項4】 下記構造式(4)で表されるアゾメチン
    基含有2価ナフトール化合物。 【化3】 (式中、Yはアルキル基で置換されてもよい2価のベン
    ゼン環、アルキレン−ビスフェニル基、またはアルキル
    基で置換されてもよい2価のナフタレン環を表す。)
  5. 【請求項5】 ポリアミン化合物(A)とヒドロキシナ
    フトアルデヒド化合物(B)を反応させることを特徴と
    するアゾメチン基含有多価ナフトール化合物の製造方
    法。
  6. 【請求項6】 ポリアミン化合物(A)が芳香族ジアミ
    ン化合物である請求項5記載の製造方法。
  7. 【請求項7】 ヒドロキシナフトアルデヒド化合物
    (B)が一般式(5)で表される化合物である請求項5
    または6記載の製造方法。 【化4】 (式中R1〜R7のうち、少なくとも1つが水酸基であ
    り、その他はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜4
    のアルキル基、炭素数5または6のシクロアルキル基、
    またはフェニル基を表す。)
JP2000350917A 2000-11-17 2000-11-17 多価ナフトール化合物とその製造方法 Pending JP2002155038A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000350917A JP2002155038A (ja) 2000-11-17 2000-11-17 多価ナフトール化合物とその製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000350917A JP2002155038A (ja) 2000-11-17 2000-11-17 多価ナフトール化合物とその製造方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2002155038A true JP2002155038A (ja) 2002-05-28

Family

ID=18824063

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2000350917A Pending JP2002155038A (ja) 2000-11-17 2000-11-17 多価ナフトール化合物とその製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2002155038A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105061642A (zh) * 2015-07-28 2015-11-18 重庆大学 含脂肪链片段的萘酚类光敏剂及其合成与应用

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105061642A (zh) * 2015-07-28 2015-11-18 重庆大学 含脂肪链片段的萘酚类光敏剂及其合成与应用

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0032745B1 (en) Ether imides and process for producing the same
TWI486335B (zh) 鹼產生劑
US4011279A (en) Process for making polyimide-polydiorganosiloxane block polymers
KR100872778B1 (ko) 아미노기를 함유한 페놀 유도체
KR0131241B1 (ko) 이미드 화합물을 유효성분으로 하는 에폭시 수지 조성물
JPS5912931A (ja) ポリマレイミドの製造方法
WO2005066242A1 (ja) 芳香族ポリアミド酸及びポリイミド
JP4803371B2 (ja) (ポリ)アミド酸トリオルガノシリルエステル及び(ポリ)イミドの製造方法
JP2722915B2 (ja) 硬化性樹脂及びその製造方法並びに電子部品用保護膜
JPH06136120A (ja) 可溶性ポリイミドの製造方法
JPH03103441A (ja) アセチレンビス‐フタル酸化合物およびそれから形成されたポリイミド
JP2002155038A (ja) 多価ナフトール化合物とその製造方法
JP4683249B2 (ja) ポリフェノ−ル化合物とその製造方法
JP2006193434A (ja) 4,4’−ジアミノビフェニル化合物
US5216173A (en) N-cyanoimides
JP2712993B2 (ja) 硬化性樹脂、その溶液及びその製造法並びに電子部品用保護膜
JP3022933B2 (ja) 熱硬化型オリゴマー及びその製造方法
KR101775138B1 (ko) 반응성 단량체, 이의 제조방법 및 이로부터 얻어진포지티브형 감광성 폴리이미드 전구체
JPH0262884A (ja) ビスシクロシロキサンイミド及びそのコーティング方法
JP2805999B2 (ja) 酸無水物基含有ジシロキサン及びその製造方法
JP3055329B2 (ja) 含フッ素ポリイミドイソインドロキナゾリンジオン及びその前駆体の製造法
TWI320045B (en) Solvent-free polyimidesilicone resin composition and a resin film composed of the same
JP2713056B2 (ja) ポリイミド樹脂及びその製造方法
JP2961868B2 (ja) 熱硬化性樹脂組成物及び熱硬化性イミド樹脂の製造法
JPH0730165B2 (ja) エポキシ樹脂組成物

Legal Events

Date Code Title Description
RD01 Notification of change of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7421

Effective date: 20050808