JP4803371B2 - (ポリ)アミド酸トリオルガノシリルエステル及び(ポリ)イミドの製造方法 - Google Patents

(ポリ)アミド酸トリオルガノシリルエステル及び(ポリ)イミドの製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP4803371B2
JP4803371B2 JP2006167298A JP2006167298A JP4803371B2 JP 4803371 B2 JP4803371 B2 JP 4803371B2 JP 2006167298 A JP2006167298 A JP 2006167298A JP 2006167298 A JP2006167298 A JP 2006167298A JP 4803371 B2 JP4803371 B2 JP 4803371B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
formula
represented
general formula
following general
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2006167298A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2007332091A (ja
Inventor
歩 清森
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shin Etsu Chemical Co Ltd
Original Assignee
Shin Etsu Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shin Etsu Chemical Co Ltd filed Critical Shin Etsu Chemical Co Ltd
Priority to JP2006167298A priority Critical patent/JP4803371B2/ja
Publication of JP2007332091A publication Critical patent/JP2007332091A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4803371B2 publication Critical patent/JP4803371B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Landscapes

  • Nitrogen Condensed Heterocyclic Rings (AREA)
  • Indole Compounds (AREA)
  • Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)

Description

本発明は、工業的に利用価値の高い化合物である(ポリ)イミド及びその前駆体である(ポリ)アミド酸トリオルガノシリルエステルの製造方法に関する。なお、本発明において、(ポリ)イミドは、イミド又はポリイミドであることを示し、(ポリ)アミド酸は、アミド酸又はポリアミド酸であることを示す。
環状イミドは、熱的に、また化学的に安定な化合物であり、材料科学の分野において種々の応用が図られている。芳香族イミドは電子欠乏性であるため、電子豊富な化合物と結合させた分子においては分子内電荷移動が観察され、この性質が有機EL用色素として利用されている(非特許文献1:Chemistry of Materials、2003年15巻(1,913〜1,917頁))。また、比較的大きな共役系を有する芳香族イミドを他の色素と連結させた分子を光励起すると、分子内や会合体内で効率的な電子移動やエネルギー移動が起こるため、光合成反応中心モデルとしての研究も行われている(例えば、非特許文献2:Journal of the American Chemical Society、2004年126巻(10,810〜10,811頁))。
環状イミド結合を介した重縮合型高分子であるポリイミドは、熱的に安定であることから産業上極めて有用である。芳香族ポリイミドは不溶不融でガラス転移点が観測されず、最も耐熱性が高い有機高分子の一つである。また、成形性を向上させた熱硬化性ポリイミドや熱可塑性ポリイミドも開発されており、実用的な観点から価値が高い。これらの重合体の物性を決定する要因としては様々あるが、主鎖と置換基の構造が最も重要である。従って、様々な構造のモノマーの組み合わせをポリイミドにすることによって目的の物性を得る試みがなされている。
環状イミド(以下、単にイミドという)の合成法としてこれまでに様々な方法が知られている。一般的には、アミンとジカルボン酸無水物を反応させてアミド酸を生成させた後、加熱により脱水環化させることによりイミドが得られる(下記スキーム[A])。
Figure 0004803371
(式中、Q1は一価の有機基、Q2は二価の有機基を表す。以下、同様。)
しかし、上記スキーム[A]において、Q1やQ2、特にQ1が塩基性条件や求核性条件で不安定な置換基を含む場合、原料となるアミン自身が安定でなく、このような合成法は万能ではない。
出発物質としてアミン以外の化合物を用いるイミドの合成方法としては、イミドのアルカリ金属塩を有機ハロゲン化物と反応させる方法(下記スキーム[B])やジカルボン酸無水物と有機イソシアナートを反応させる方法(下記スキーム[C])などがある。いずれもスキーム[A]とは異なる原料から同じ生成物を得ることができるが、前者はアルカリ金属塩が強塩基性かつ求核性の化合物であるためQ1が不安定となり、目的物は高収率で得られない。後者では反応条件が中性であるため目的物を得ることが可能であるが、求核性条件で不安定な置換基Q1を有するイソシアナートを合成することは容易でないため、有用な方法とはいえない。
Figure 0004803371
(式中、Xはハロゲン原子、Mはアルカリ金属原子を表す。)
Figure 0004803371
なお、一時的にカルバミン酸エステルなどとして保護することにより塩基性と求核性を低下させ、安定化させることが可能である。しかし、保護したアミンからは直接イミドを得る方法がなく、一旦アミンを脱保護する工程が必要となり、無意味である。
前記のごとく、新しい機能発現のためには新しい構造や置換基を有する(ポリ)イミドの製造が必要であり、特に反応基質の構造に由来する制限を緩和する新たなイミド化方法の開発が求められていた。
Chemistry of Materials、2003年15巻(1,913〜1,917頁) Journal of the American Chemical Society、2004年126巻(10,810〜10,811頁)
本発明は、上記要望に応えるためになされたもので、保護され安定化されたアミン成分を用いて工業的に有用な化合物である(ポリ)イミドを高収率で製造する方法を提供することを目的とする。
本発明者らは、前記課題を解決するため鋭意検討を行った結果、二個のトリオルガノシリル基で保護したアミンと酸無水物、水又はプロトン性化合物の三成分を共存させることにより、温和な条件で(ポリ)アミド酸トリオルガノシリルエステルが得られることを見出した。これにより安定化されたアミンを原料として簡便に(ポリ)イミド前駆体を製造し、またそれを用いて(ポリ)イミドを製造する方法を知見するに至った。
即ち本発明は、下記のイミド前駆体の製造方法及びイミドの製造方法を提供する。
請求項1:
下記一般式(1)で表されるアミン又は下記一般式(2)で表されるジアミンと下記一般式(3)で表されるジカルボン酸無水物又は下記一般式(4)で表されるテトラカルボン酸二無水物とを、下記一般式(5)で表されるプロトン性化合物又は水の存在下に反応させる(但し、式(2)のジアミンと式(4)のテトラカルボン酸二無水物とを反応させる場合を除く)ことを特徴とする、下記一般式(6)、(7)又は(8)で表されるアミド酸トリオルガノシリルエステルの製造方法。
Figure 0004803371
(式中、R1は同一でも互いに異なっていてもよい炭素数1〜20の一価炭化水素基であり、A1アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、トリアルキルシロキシカルボニル基、トリアルキルシロキシ基、トリアルコキシシリル基、トリアルキルシリル基、アルキルポリシロキサニル基、アルキルシクロポリシロキサニル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、グリシジルオキシ基、エポキシシクロヘキシル基、アルケニル基、ハロゲン原子、メルカプト基から選ばれる基で置換された又は非置換の炭素数1〜40の一価の飽和脂肪族炭化水素基、一価の不飽和脂肪族炭化水素基、又は一価の芳香族炭化水素基を示す。
Figure 0004803371
(式中、R1は同一でも互いに異なっていてもよい炭素数1〜20の一価炭化水素基であり、A4後述する表1−1及び表1−2に示す式1−1−1〜式1−2−19で示される基を表す。)
Figure 0004803371
(式中、A2後述する表2−1に示す式2−1−1〜式2−1−9で示す基を表す。)
Figure 0004803371
(式中、A3後述する表3−1及び表3−2に示す3−1−1〜式3−1−18で示す基を表す。)
Figure 0004803371
(式中、Rはアルコキシ基、アルコキシカルボニル基、トリアルキルシロキシカルボニル基、トリアルキルシロキシ基、トリアルコキシシリル基、トリアルキルシリル基、アルキルポリシロキサニル基、アルキルシクロポリシロキサニル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、グリシジルオキシ基、エポキシシクロヘキシル基、アルケニル基、ハロゲン原子、メルカプト基から選ばれる基で置換された又は非置換の炭素数1〜20の一価炭化水素基を表す。)
Figure 0004803371
(式中、R1 、A 1 、A 2 は上記の通りである。)
Figure 0004803371
(式中、R1 、A 1 、A 3 は上記の通りである。)
Figure 0004803371
(式中、R1 、A 2 、A 4 は上記の通りである。)
請求項2:
下記一般式(2)で表されるジアミンと、下記一般式(4)で表されるテトラカルボン酸二無水物とを下記一般式(5)で表されるプロトン性化合物又は水の存在下に反応させることを特徴とする、下記一般式(9)で表される繰り返し単位からなるポリアミド酸トリオルガノシリルエステルの製造方法。
Figure 0004803371
(式中、R1 4上記の通りである。)
Figure 0004803371
(式中、A3上記の通りである。)
Figure 0004803371
(式中、Rは上記の通りである。)
Figure 0004803371
(式中、R1 、A 3 、A 4 は上記の通りである。)
請求項3:
下記一般式(1)で表されるアミン又は下記一般式(2)で表されるジアミンと下記一般式(3)で表されるジカルボン酸無水物又は下記一般式(4)で表されるテトラカルボン酸二無水物とを、下記一般式(5)で表されるプロトン性化合物又は水の存在下に反応させて(但し、式(2)のジアミンと式(4)のテトラカルボン酸二無水物とを反応させる場合を除く)、下記一般式(6)、(7)又は(8)で表されるアミド酸トリオルガノシリルエステルを製造した後、得られたアミド酸トリオルガノシリルエステルをイミド化させることを特徴とする、下記一般式(10)、(11)又は(12)で表されるイミドの製造方法。
Figure 0004803371
(式中、R 1 、A 1 は上記の通りである。)
Figure 0004803371
(式中、R 1 、A 4 は上記の通りである。)
Figure 0004803371
(式中、A 2 は上記の通りである。)
Figure 0004803371
(式中、A 3 は上記の通りである。)
Figure 0004803371
(式中、Rは上記の通りである。)
Figure 0004803371
(式中、R 1 、A 1 、A 2 は上記の通りである。)
Figure 0004803371
(式中、R 1 、A 1 、A 3 は上記の通りである。)
Figure 0004803371
(式中、R 1 、A 2 、A 4 は上記の通りである。)
Figure 0004803371
(式中、A1 、A 2 は上記の通りである。)
Figure 0004803371
(式中、A1 3上記の通りである。)
Figure 0004803371
(式中、A2 4上記の通りである。)
請求項4:
下記一般式(2)で表されるジアミンと、下記一般式(4)で表されるテトラカルボン酸二無水物とを下記一般式(5)で表されるプロトン性化合物又は水の存在下に反応させて下記一般式(9)で表される繰り返し単位からなるポリアミド酸トリオルガノシリルエステルを製造した後、得られたポリアミド酸トリオルガノシリルエステルをイミド化させることを特徴とする、下記一般式(13)で表される繰り返し単位からなるポリイミドの製造方法。
Figure 0004803371
(式中、R1 4上記の通りである。)
Figure 0004803371
(式中、A3上記の通りである。)
Figure 0004803371
(式中、Rは上記の通りである。)
Figure 0004803371
(式中、R1 、A 3 、A 4 は上記の通りである。)
Figure 0004803371
(式中、A3 4上記の通りである。)
本発明の製造方法によれば、安定化されたアミンを用いて塩基性条件や求核性条件で安定でない置換基を有するイミドやポリイミドを高収率で製造することができる。反応条件は温和でありワンポットで行うことができ、副生成物を容易に除去することができる。
本発明の製造方法においては、下記一般式(1)あるいは下記一般式(2)で表されるアミンを反応させる。アミノ基はそれぞれ二個のトリオルガノシリル基で保護されている。トリオルガノシリル基はかさ高く、アミノ基の求核性は著しく低下するために、置換基A1やA4が求核攻撃を受け易い場合でも安定に存在することができる。
Figure 0004803371
上記一般式(1)及び一般式(2)において、R1は同一でも互いに異なっていてもよい炭素数1〜20、好ましくは1〜10の一価炭化水素基を表す。R1の具体例として、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、シクロプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、2−ブチル基、tert−ブチル基、シクロブチル基、ペンチル基、シクロペンチル基、イソペンチル基、tert−ペンチル基、メチルシクロペンチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、テキシル基、メチルシクロヘキシル基、ヘプチル基、シクロヘプチル基、ノルボルニル基、2−エチルヘキシル基、オクチル基、イソオクチル基、デシル基、ドデシル基、テトラデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、イコシル基等の一価の飽和脂肪族炭化水素基(直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基等)、ビニル基、アリル基、プロペニル基、3−ブテニル基、2−ブテニル基、ヘキセニル基、シクロペンテニル基、シクロヘキセニル基、5−ノルボルネニル基、オクテニル基、デセニル基、エチニル基、プロピニル基、ブチニル基等の一価の不飽和脂肪族炭化水素基(直鎖状、分岐状又は環状のアルケニル基又はアルキニル基等)、フェニル基、4−tert−ブチルフェニル基、2−トリル基、3−トリル基、4−トリル基、2,6−ジメチルフェニル基、2,4−ジメチルフェニル基、3,5−ジメチルフェニル基、3,4−ジメチルフェニル基、2,5−ジメチルフェニル基、2,4,6−トリメチルフェニル基、ナフチル基、ビフェニリル基、フェナンスリル基、アントラセニル基、ベンジル基、1−フェニルエチル基、2−フェニルエチル基、ナフチルエチル基等の一価の芳香族炭化水素基(アリール基、アラルキル基等)などが挙げられる。なかでもメチル基、エチル基、イソプロピル基、tert−ブチル基、フェニル基が好ましく、メチル基が最も好ましい。
上記一般式(1)において、A1は置換又は非置換の炭素数1〜40、好ましくは1〜20の一価有機基を表しており、具体的にはメチル基、メトキシカルボニルメチル基、エチル基、メトキシカルボニルエチル基、トリメチルシロキシカルボニルエチル基、tert−ブチルジメチルシロキシカルボニルエチル基、トリメチルシロキシエチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、シクロプロピル基、3−トリメトキシシリルプロピル基、3−トリエトキシシリルプロピル基、3−トリメチルシリルプロピル基、3−トリメチルシロキシプロピル基、3−トリエチルシロキシプロピル基、3−tert−ブチルジメチルシロキシプロピル基、3−(ペンタメチルジシロキサン−1−イル)プロピル基、3−(1,1,3,3,5,5,5−ヘプタメチルトリシロキサン−1−イル)プロピル基、3−(1,3,3,5,5−ペンタメチルシクロテトラシロキサン−1−イル)プロピル基、3−(3−メタクリロイルオキシプロピル−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン−1−イル)プロピル基、3−(3−グリシジルオキシプロピル−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン−1−イル)プロピル基、3−(3−アクリロイルオキシプロピル−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン−1−イル)プロピル基、3−(3−エポキシシクロヘキシルエチル−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン−1−イル)プロピル基、3−(3−ビニル−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン−1−イル)プロピル基、3−(3−クロロプロピル−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン−1−イル)プロピル基、3−(3−メルカプトプロピル−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン−1−イル)プロピル基、3−(3−トリフルオロプロピル−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン−1−イル)プロピル基、3−(3−ノナフルオロヘキシル−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン−1−イル)プロピル基、3−(3−トリデカフルオロオクチル−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン−1−イル)プロピル基、3−(3−ヘプタデカフルオロデシル−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン−1−イル)プロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、2−ブチル基、tert−ブチル基、シクロブチル基、ペンチル基、シクロペンチル基、イソペンチル基、tert−ペンチル基、メチルシクロペンチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、テキシル基、メチルシクロヘキシル基、ヘプチル基、シクロヘプチル基、ノルボルニル基、2−エチルヘキシル基、オクチル基、イソオクチル基、デシル基、ドデシル基、テトラデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、イコシル基等の置換又は非置換の一価の飽和脂肪族炭化水素基(直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基等)、ビニル基、アリル基、プロペニル基、3−ブテニル基、2−ブテニル基、ヘキセニル基、シクロペンテニル基、シクロヘキセニル基、5−ノルボルネニル基、オクテニル基、デセニル基、エチニル基、プロピニル基、ブチニル基等の置換又は非置換の一価の不飽和脂肪族炭化水素基(直鎖状、分岐状又は環状のアルケニル基又はアルキニル基等)、フェニル基、4−tert−ブチルフェニル基、2−クロロフェニル基、3−クロロフェニル基、4−クロロフェニル基、2−ブロモフェニル基、3−ブロモフェニル基、4−ブロモフェニル基、2−ヨードフェニル基、3−ヨードフェニル基、4−ヨードフェニル基、4−フルオロフェニル基、4−トリフルオロメチルフェニル基、2−メトキシフェニル基、3−メトキシフェニル基、4−メトキシフェニル基、4−トリメチルシロキシフェニル基、4−tert−ブチルジメチルシロキシフェニル基、4−アセタミドフェニル基、4−アセチルフェニル基、4−ベンゾイルフェニル基、4−メトキシカルボニルフェニル基、4−エトキシカルボニルフェニル基、4−トリメチルシロキシカルボニルフェニル基、4−tert−ブチルジメチルシロキシカルボニルフェニル基、4−トリイソプロピルシロキシカルボニルシロキシ基、4−(トリメチルシロキシエチル)フェニル基、2−トリル基、3−トリル基、4−トリル基、2,6−ジメチルフェニル基、2,4−ジメチルフェニル基、3,5−ジメチルフェニル基、3,4−ジメチルフェニル基、2,5−ジメチルフェニル基、2,4,6−トリメチルフェニル基、ナフチル基、ビフェニリル基、フェナンスリル基、アントラセニル基、ベンジル基、1−フェニルエチル基、2−フェニルエチル基、ナフチルエチル基等の置換又は非置換の一価の芳香族炭化水素基(アリール基、アラルキル基等)などが挙げられる。
なお、本発明において、置換炭化水素基としては、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、トリアルキルシロキシカルボニル基、トリアルキルシロキシ基、トリアルコキシシリル基、トリアルキルシリル基、アルキルポリシロキサニル基、アルキルシクロポリシロキサニル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、グリシジルオキシ基、エポキシシクロヘキシル基、アルケニル基、ハロゲン原子、メルカプト基等で置換された炭化水素基が挙げられる。この場合、ポリシロキサニル基のケイ素原子数は2〜100、特に2〜50が好ましく、シクロポリシロキサニル基のケイ素原子数は3〜20、特に3〜10が好ましい。
上記一般式(2)において、A4は置換又は非置換の炭素数1〜40、好ましくは1〜20の二価有機基を表す。具体的には表1−1及び表1−2に示す基などが挙げられる。
Figure 0004803371
Figure 0004803371
本発明の製造方法において、下記一般式(3)及び一般式(4)で表されるジカルボン酸無水物又はテトラカルボン酸二無水物が酸無水物として用いられる。
Figure 0004803371
上記一般式(3)において、A2は置換又は非置換の炭素数2〜40、好ましくは2〜20の二価有機基を表す。具体的には表2−1に示す基などが挙げられる。
Figure 0004803371

(Meはメチル基を示す。以下、同様。)
上記一般式(4)において、A3は置換又は非置換の炭素数4〜40、好ましくは4〜20の四価有機基を表す。具体的には表3−1及び表3−2に示す基などが挙げられる。
Figure 0004803371
Figure 0004803371
本発明の(ポリ)アミド酸トリオルガノシリルエステルの製造方法においては、アミン成分である上記一般式(1)又は(2)で表される化合物と、酸無水物成分である上記一般式(3)又は(4)で表される化合物とを、下記一般式(5)で表されるプロトン性化合物又は水の存在下で反応させる。
Figure 0004803371
式中、Rは置換又は非置換の炭素数1〜20の一価炭化水素基を表す。Rの具体例としてはメチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、シクロプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、2−ブチル基、tert−ブチル基、シクロブチル基、ペンチル基、シクロペンチル基、イソペンチル基、tert−ペンチル基、メチルシクロペンチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、テキシル基、メチルシクロヘキシル基、ヘプチル基、シクロヘプチル基、ノルボルニル基、2−エチルヘキシル基、オクチル基、イソオクチル基、デシル基、ドデシル基、テトラデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、イコシル基等の置換又は非置換の飽和炭化水素基、ビニル基、アリル基、プロペニル基、3−ブテニル基、2−ブテニル基、ヘキセニル基、シクロペンテニル基、シクロヘキセニル基、5−ノルボルネニル基、オクテニル基、デセニル基、エチニル基、プロピニル基、ブチニル基等の置換又は非置換の不飽和脂肪族炭化水素基、フェニル基、4−tert−ブチルフェニル基、2−トリル基、3−トリル基、4−トリル基、2,6−ジメチルフェニル基、2,4−ジメチルフェニル基、3,5−ジメチルフェニル基、3,4−ジメチルフェニル基、2,5−ジメチルフェニル基、2,4,6−トリメチルフェニル基、ナフチル基、ビフェニリル基、フェナンスリル基、アントラセニル基、ベンジル基、1−フェニルエチル基、2−フェニルエチル基、ナフチルエチル基等の置換又は非置換の芳香族炭化水素基や、これらの基に結合する水素原子の一部又は全部がフッ素、塩素又は臭素等のハロゲン原子、シアノ基、ジメチルアミノ基やジエチルアミノ基等のジオルガノアミノ基、ニトロ基、アセチル基やベンゾイル基等のアシル基、アセトキシ基やベンゾイルオキシ基等のアシロキシ基、アセトアミド基等のアミド基、メトキシ基やフェノキシ基等のオルガノオキシ基で置換された基等が挙げられる。
上記一般式(5)で表されるプロトン性化合物の必要量は、上記一般式(1)又は(2)で表されるアミン成分の窒素原子に結合するトリオルガノシリル基に対して1当量以上であり、通常1〜10当量が好ましい。水を使用する場合は、上記一般式(1)又は(2)で表されるアミン成分の窒素原子に結合するトリオルガノシリル基に対して0.5当量以上であり、通常0.5〜5当量が好ましい。過剰に使用する場合には生成したアミド酸トリオルガノシリルエステルが加溶媒分解によりアミド酸となる場合がある。
上記の反応は、通常溶媒の存在下に行う。使用する溶媒としては非プロトン性溶媒が好ましく、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類、アセトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、N,N−ジメチルアセタミド、N,N−ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリドン等のアミド類、ヘキサン、イソオクタン、ベンゼン、トルエン、キシレン等の炭化水素類、ジクロロメタン、ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類、アセトニトリル、プロピオニトリル、ベンゾニトリル等のニトリル類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類等を用いることができる。二種類以上の溶媒を混合して使用することもできる。反応基質である酸無水物は水分と反応して低反応性のジカルボン酸となることがあるので、本反応には水分を低減した溶媒を用い、必要量の上記一般式(5)で表されるプロトン性化合物や水を添加することが好ましい。酸無水物の反応性が低い場合にはその限りではなく、上記の非プロトン性溶媒に加えてメタノール、エタノール、イソプロパノール等のアルコール類やクレゾールやクロロフェノールなどのフェノール類を溶媒とすることも可能である。なお、溶媒の使用量は任意であるが、反応基質が実質的な濃度で溶解し得る量とすることが好ましく、例えば基質質量の合計に対して3〜30倍が好ましい。
反応温度は60℃以下、より好ましくは0〜40℃で行うのがよい。反応温度が高いと生成したアミド酸トリオルガノシリルエステルが一部イミド化して純度が低下する。また過度に冷却すると反応進行が遅くなる。反応は常圧下に不活性ガス雰囲気下で行われるのが通常であるが、必ずしもそれに限られるものではない。なお、反応時間は適宜選定されるが、通常1〜24時間である。
反応基質の混合方法はその反応性に応じて様々に最適化されるが、例えばアミン、酸無水物、プロトン性化合物あるいは水の全てを一括で反応器に仕込む方法、これら三成分のうち一つを反応器に仕込み、残りの二成分を徐々に加える方法、これら三成分のうち二つを反応器に仕込み、残りの一成分を徐々に加える方法などが挙げられる。上記一般式(5)のプロトン性化合物あるいは水と上記一般式(3)又は(4)で表される酸無水物とが実質的な反応性を有する場合には、アミン成分と酸無水物とを混合し、プロトン性化合物あるいは水を徐々に加える方法が好ましい。
上記一般式(1)で表されるアミンと上記一般式(3)で表されるジカルボン酸無水物を上記一般式(5)で表されるプロトン性化合物あるいは水の存在下に反応させると、下記一般式(6)で表されるアミド酸トリオルガノシリルエステルが得られる。同様に、上記一般式(1)で表されるアミンと上記一般式(4)で表されるテトラカルボン酸二無水物から下記一般式(7)で表されるアミド酸トリオルガノシリルエステルが得られる。また同様に、上記一般式(2)で表されるジアミンと上記一般式(3)で表されるジカルボン酸無水物から下記一般式(8)で表されるアミド酸トリオルガノシリルエステルが得られる。また上記一般式(2)で表されるジアミンと上記一般式(4)で表されるテトラカルボン酸二無水物からは下記一般式(9)で表される繰り返し単位を有するポリアミド酸トリオルガノシリルエステルが得られる。この場合、式(9)のポリアミド酸トリオルガノシリルエステルの繰り返し数は、2〜1,000、好ましくは2〜100である。
Figure 0004803371
式中、R1は同一でも互いに異なっていてもよい炭素数1〜20の一価炭化水素基、A1は置換又は非置換の炭素数1〜40の一価有機基、A2は置換又は非置換の炭素数2〜40の二価有機基、A3は置換又は非置換の炭素数4〜40の四価有機基を表す。A4は置換又は非置換の炭素数1〜40の二価有機基を表し、それぞれ上記一般式(1)〜(4)において説明した通りである。
本発明の(ポリ)イミドの製造方法においては、前記の方法により得られた上記一般式(6)、(7)又は(8)で表されるアミド酸トリオルガノシリルエステル、あるいは上記一般式(9)で表される繰り返し単位からなるポリアミド酸トリオルガノシリルエステルをイミド化させる。上記一般式(6)、(7)、(8)の化合物からそれぞれ下記一般式(10)、(11)、(12)で表されるイミドが得られる。
Figure 0004803371
(式中、A1は置換又は非置換の炭素数1〜40の一価有機基を表す。A2は置換又は非置換の炭素数2〜40の二価有機基を表す。)
Figure 0004803371
(式中、A1は置換又は非置換の炭素数1〜40の一価有機基を表す。A3は置換又は非置換の炭素数4〜40の四価有機基を表す。)
Figure 0004803371
(式中、A2は置換又は非置換の炭素数2〜40の二価有機基を表す。A4は置換又は非置換の炭素数1〜40の二価有機基を表す。)
また、上記一般式(9)で表される繰り返し単位からなるポリアミド酸トリオルガノシリルエステルから、下記一般式(13)で表される繰り返し単位からなるポリイミドが得られる。
Figure 0004803371
(式中、A3は置換又は非置換の炭素数4〜40の四価有機基を表す。A4は置換又は非置換の炭素数1〜40の二価有機基を表す。)
上記一般式(10)、(11)、(12)、(13)において、A1は置換又は非置換の炭素数1〜40の一価有機基、A2は置換又は非置換の炭素数2〜40の二価有機基、A3は置換又は非置換の炭素数4〜40の四価有機基、A4は置換又は非置換の炭素数1〜40の二価有機基を表しており、それぞれ既に説明した通りである。
イミド化反応は、アミド酸トリオルガノシリルエステルやポリアミド酸トリオルガノシリルエステルを加熱することにより行うことが好ましい。この場合、イミド化反応の温度は60℃以上、好ましくは100〜300℃である。イミド化反応は無水酢酸などの公知のイミド化剤を使用することによっても行うことができる。なお、反応時間は、通常1〜24時間である。
また、上述のようにアミド酸トリオルガノシリルエステルやポリアミド酸トリオルガノシリルエステルを加溶媒分解して(ポリ)アミド酸とした後にイミド化反応を行うことも可能である。
上記の(ポリ)アミド酸トリオルガノシリルエステルは単離したものを用いてもよいし、単離せずにイミド化反応を行ってもよい。イミド化反応には溶媒は必ずしも必要でないが、溶媒を用いる場合にはジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類、アセトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、N,N−ジメチルアセタミド、N,N−ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリドン等のアミド類、ヘキサン、イソオクタン、ベンゼン、トルエン、キシレン等の炭化水素類、ジクロロメタン、ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類、アセトニトリル、プロピオニトリル、ベンゾニトリル等のニトリル類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類等の非プロトン性溶媒が使用できる。メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール等のアルコール類やクレゾール、クロロフェノール等のフェノール類などプロトン性溶媒も使用できるが、アミド酸トリオルガノシリルエステルの加溶媒分解が同時に進行することに留意しなくてはならない。
以下に実施例を示し、本発明を具体的に説明するが、本発明は下記の実施例に制限されるものではない。なお、下記の例において、反応はすべて窒素雰囲気下で行った。目的物のGC測定はTHF溶液として行い、溶媒ピークを差し引いて純度を算出した。
[実施例1] N−アリルフタルイミドの合成
Figure 0004803371
ジムロート式還流冷却器、撹拌機、温度計、滴下ロートを備えた200mLの四つ口フラスコを窒素置換した。無水フタル酸4.00g(27mmol)及びメタノール0.86g(27mmol)を脱水テトラヒドロフラン(以下、THFと略)37gに溶解させフラスコ内に仕込んだ。溶液を室温(約22℃)で撹拌しながら滴下ロートよりアミン成分であるN,N−ビス(トリメチルシリル)アミノプロペン5.44g(27mmol)を3時間で滴下した。滴下終了後室温で13時間撹拌したところ、アミン成分はほぼ消失していた。反応混合物を減圧濃縮するとオレンジ色の油状物が得られ、MALDI−TOFMS(コバルトマトリックス)によりこの油状物を分析するとN−アリルフタルアミド酸トリメチルシリルエステルであることが判明した。
得られた油状物をフラスコに入れ、0.8kPaに減圧しながら170℃の油浴中で3時間加熱した。内容物を室温に冷却すると結晶性の固体4.70gが得られた。GC−MS分析によりこの固体がN−アリルフタルイミドであることが判明した。純度は97.8%であり、収率は93.0%であった。
[実施例2] N−アリルフタルイミドの合成
Figure 0004803371
ジムロート式還流冷却器、撹拌機、温度計、滴下ロートを備えた100mLの四つ口フラスコを窒素置換した。無水フタル酸3.70g(25mmol)及びアミン成分であるN,N−ビス(トリメチルシリル)アミノプロペン5.04g(25mmol)をフラスコ内に仕込み、THF25gを加えて溶解させた。溶液を室温で撹拌しながら滴下ロートより水0.45g(25mmol)のTHF3g溶液を1時間で滴下した。滴下に伴い発熱があり、滴下終了後室温で10分間撹拌したところ、アミン成分が消失しており、トリメチルシラノールが生成したことがGC分析により確認された。更に12時間撹拌を続けた後、反応混合物を減圧濃縮して、オフホワイトの固体5.10gを得た。MALDI−TOFMS(コバルトマトリックス)によりこの固体を分析すると実施例1で得られたN−アリルフタルアミド酸トリメチルシリルエステルが加水分解されたN−アリルフタルアミド酸であることが判明した。
得られた固体をフラスコに入れ、0.8kPaに減圧しながら170℃の油浴中で3時間加熱した。内容物を室温に冷却すると結晶性の固体4.27gが得られた。GC−MS分析によりこの固体がN−アリルフタルイミドであることが判明した。収率は91.2%であった。
[実施例3] N−アリルナジアミド酸トリメチルシリルエステルの合成
Figure 0004803371
ジムロート式還流冷却器、撹拌機、温度計、滴下ロートを備えた200mLの四つ口フラスコを窒素置換した。5−ノルボルネンー2,3−ジカルボン酸無水物8.21g(50mmol)及びメタノール1.60g(50mmol)をTHF73gに溶解させてフラスコに仕込んだ。溶液を室温で撹拌しながら滴下ロートよりアミン成分であるN,N−ビス(トリメチルシリル)アミノプロペン10.1g(50mmol)を2時間で滴下した。滴下に伴い発熱があり、白色固体が析出した。滴下終了後室温で4時間撹拌したところ、アミン成分はほぼ消失していた。反応混合物を減圧濃縮して、オフホワイトの固体14.4gを得た。MALDI−TOFMS(コバルトマトリックス)によりこの固体を分析すると、N−アリルナジアミド酸トリメチルシリルエステルであることが判明した。
[実施例4] N,N’−ジアリルピロメリットイミドの合成
Figure 0004803371
ジムロート式還流冷却器、撹拌機、温度計、滴下ロートを備えた200mLの四つ口フラスコを窒素置換した。ピロメリット酸二無水物2.18g(10mmol)及びN,N−ビス(トリメチルシリル)アミノプロペン4.03g(20mmol)をフラスコに仕込み、THF24gを加えて溶解させた。溶液を室温で撹拌しながら滴下ロートよりメタノール0.64g(20mmol)のTHF6g溶液を1.5時間で滴下した。滴下終了後室温で2時間撹拌したところ、アミン成分はほぼ消失していた。反応混合物を減圧濃縮するとオフホワイトの固体4.68gが得られた。MALDI−TOFMS(コバルトマトリックス)によりこの固体を分析すると、中間生成物であるピロメリットアミド酸トリメチルシリルエステルであることが判明した。
得られた固体4.49gをガラスフラスコに入れ、オーブン中に入れ2.4kPaに減圧しながら80℃で1時間、170℃で2時間加熱した。淡褐色の固体2.7gが得られGC純度は98.2%であった。GC−MS分析によりこの固体が目的のN,N’−ジアリルピロメリットイミドであることがわかった。収率は用いたアミン成分に対して96.7%であった。
[実施例5] N−[3−(1,3,3,5,5,7,7−ヘプタメチルシクロテトラシロキサン−1−イル)プロピル]フタルアミド酸トリメチルシリルエステルの合成
Figure 0004803371
ジムロート式還流冷却器、撹拌機、温度計、滴下ロートを備えた100mLの四つ口フラスコを窒素置換した。無水フタル酸1.48g(10mmol)及びメタノール0.32g(10mmol)をフラスコ内に仕込み、THF18gを加えて溶解させた。溶液を室温で撹拌しながら滴下ロートよりアミン成分である1−[3−(N,N−ビス(トリメチルシリル)アミノ)プロピル]−1,3,3,5,5,7,7−ヘプタメチルシクロテトラシロキサン4.84g(10mmol)とTHF4.0gの混合物を2時間で滴下した。滴下後室温で4時間撹拌したところ、アミン成分がほぼ消失したことがGC分析により確認された。反応混合物を減圧濃縮すると白色固体5.68gが得られた。この固体をMALDI−TOFMSにより分析したところ、目的の化合物であることが判明した。
[実施例6] 1,3−ビス(3−フタルイミドプロピル)−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサンの合成
Figure 0004803371
ジムロート式還流冷却器、撹拌機、温度計を備えた100mLの四つ口フラスコを窒素置換した。無水フタル酸592mg(4.0mmol)、N,N,N’,N’−テトラキス(トリメチルシリル)−1,3−ビス(3−アミノプロピル)−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン1.07g(2.0mmol)をフラスコ内に仕込み、THF9.9gを加えて溶解させた。溶液を室温で撹拌しながらエタノール184mg(4.0mmol)をTHF2.5gで希釈した溶液を滴下ロートから0.5時間かけて滴下した。室温で9時間撹拌したところ、白色固体が析出した。反応混合物を減圧濃縮し、濃縮物158mgをステンレスシャーレ上にとってオーブン中に入れ、窒素通気しながら240℃で0.5時間加熱した。冷却するとわずかに黄色の針状結晶95mgが得られ、EI−MS及びFT−IRの分析結果より目的の1,3−ビス(3−フタルイミドプロピル)−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサンであることがわかった。GC純度は99.3%であり、収率は用いたアミン成分に対して85.8%であった。
[実施例7] ポリイミドシロキサンの合成
Figure 0004803371
ジムロート式還流冷却器、撹拌機、温度計を備えた100mLの四つ口フラスコを窒素置換した。ピロメリット酸二無水物1.09g(5.0mmol)、N,N,N’,N’−テトラキス(トリメチルシリル)−1,5−ビス(3−アミノプロピル)−1,1,3,3,5,5−ヘプタメチルトリシロキサン3.06g(5.0mmol)をフラスコ内に仕込み、N−メチル−2−ピロリドン(NMP)24.6gを加えて溶解させた。溶液を室温で撹拌しながらメタノール0.32g(10mmol)をNMP6.2gで希釈した溶液を滴下ロートから1.5時間かけて滴下した。室温で14時間撹拌後、徐々に温度を上昇させて184〜188℃で8時間反応させた。反応混合物をGPCで分析すると、出発物質は消失しておりMw=3,000、Mn=1,900のポリマーが生成していた。溶媒と副生成物を減圧下で除去すると褐色の固体2.49gが得られた。FT−IRスペクトルによると1,600〜1,700cm-1のアミド酸エステルに由来するピークはなく、1,718及び1,770cm-1にイミドに由来するピークが検出された。また、1,051及び1,079cm-1にシロキサン結合のピークが検出され、目的のポリマーが得られたことがわかった。

Claims (4)

  1. 下記一般式(1)で表されるアミン又は下記一般式(2)で表されるジアミンと下記一般式(3)で表されるジカルボン酸無水物又は下記一般式(4)で表されるテトラカルボン酸二無水物とを、下記一般式(5)で表されるプロトン性化合物又は水の存在下に反応させる(但し、式(2)のジアミンと式(4)のテトラカルボン酸二無水物とを反応させる場合を除く)ことを特徴とする、下記一般式(6)、(7)又は(8)で表されるアミド酸トリオルガノシリルエステルの製造方法。
    Figure 0004803371
    (式中、R1は同一でも互いに異なっていてもよい炭素数1〜20の一価炭化水素基であり、A1アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、トリアルキルシロキシカルボニル基、トリアルキルシロキシ基、トリアルコキシシリル基、トリアルキルシリル基、アルキルポリシロキサニル基、アルキルシクロポリシロキサニル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、グリシジルオキシ基、エポキシシクロヘキシル基、アルケニル基、ハロゲン原子、メルカプト基から選ばれる基で置換された又は非置換の炭素数1〜40の一価の飽和脂肪族炭化水素基、一価の不飽和脂肪族炭化水素基、又は一価の芳香族炭化水素基を示す。
    Figure 0004803371
    (式中、R1は同一でも互いに異なっていてもよい炭素数1〜20の一価炭化水素基であり、A4下記表1−1及び表1−2に示す式1−1−1〜式1−2−19で示される基を表す。)
    Figure 0004803371

    Figure 0004803371

    Figure 0004803371
    (式中、A2下記表2−1に示す式2−1−1〜式2−1−9で示す基を表す。)
    Figure 0004803371
    (Meはメチル基を示す。)
    Figure 0004803371
    (式中、A3下記表3−1及び表3−2に示す3−1−1〜式3−1−18で示す基を表す。)
    Figure 0004803371

    Figure 0004803371

    Figure 0004803371
    (式中、Rはアルコキシ基、アルコキシカルボニル基、トリアルキルシロキシカルボニル基、トリアルキルシロキシ基、トリアルコキシシリル基、トリアルキルシリル基、アルキルポリシロキサニル基、アルキルシクロポリシロキサニル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、グリシジルオキシ基、エポキシシクロヘキシル基、アルケニル基、ハロゲン原子、メルカプト基から選ばれる基で置換された又は非置換の炭素数1〜20の一価炭化水素基を表す。)
    Figure 0004803371
    (式中、R1 、A 1 、A 2 は上記の通りである。)
    Figure 0004803371
    (式中、R1 、A 1 、A 3 は上記の通りである。)
    Figure 0004803371
    (式中、R1 、A 2 、A 4 は上記の通りである。)
  2. 下記一般式(2)で表されるジアミンと、下記一般式(4)で表されるテトラカルボン酸二無水物とを下記一般式(5)で表されるプロトン性化合物又は水の存在下に反応させることを特徴とする、下記一般式(9)で表される繰り返し単位からなるポリアミド酸トリオルガノシリルエステルの製造方法。
    Figure 0004803371
    (式中、R1 4請求項1で定義した通りの意味を表す。)
    Figure 0004803371
    (式中、A3請求項1で定義した通りの意味を表す。)
    Figure 0004803371
    (式中、Rは請求項1で定義した通りの意味を表す。)
    Figure 0004803371
    (式中、R1 、A 3 、A 4 は上記の通りである。)
  3. 下記一般式(1)で表されるアミン又は下記一般式(2)で表されるジアミンと下記一般式(3)で表されるジカルボン酸無水物又は下記一般式(4)で表されるテトラカルボン酸二無水物とを、下記一般式(5)で表されるプロトン性化合物又は水の存在下に反応させて(但し、式(2)のジアミンと式(4)のテトラカルボン酸二無水物とを反応させる場合を除く)、下記一般式(6)、(7)又は(8)で表されるアミド酸トリオルガノシリルエステルを製造した後、得られたアミド酸トリオルガノシリルエステルをイミド化させることを特徴とする、下記一般式(10)、(11)又は(12)で表されるイミドの製造方法。
    Figure 0004803371
    (式中、R 1 、A 1 は請求項1で定義した通りの意味を表す。)
    Figure 0004803371
    (式中、R 1 、A 4 は請求項1で定義した通りの意味を表す。)
    Figure 0004803371
    (式中、A 2 は請求項1で定義した通りの意味を表す。)
    Figure 0004803371
    (式中、A 3 は請求項1で定義した通りの意味を表す。)
    Figure 0004803371
    (式中、Rは請求項1で定義した通りの意味を表す。)
    Figure 0004803371
    (式中、R 1 、A 1 、A 2 は上記の通りである。)
    Figure 0004803371
    (式中、R 1 、A 1 、A 3 は上記の通りである。)
    Figure 0004803371
    (式中、R 1 、A 2 、A 4 は上記の通りである。)
    Figure 0004803371
    (式中、A1 、A 2 は上記の通りである。
    Figure 0004803371
    (式中、A1 3上記の通りである。)
    Figure 0004803371
    (式中、A2 4上記の通りである。)
  4. 下記一般式(2)で表されるジアミンと、下記一般式(4)で表されるテトラカルボン酸二無水物とを下記一般式(5)で表されるプロトン性化合物又は水の存在下に反応させて下記一般式(9)で表される繰り返し単位からなるポリアミド酸トリオルガノシリルエステルを製造した後、得られたポリアミド酸トリオルガノシリルエステルをイミド化させることを特徴とする、下記一般式(13)で表される繰り返し単位からなるポリイミドの製造方法。
    Figure 0004803371
    (式中、R1 4請求項1で定義した通りの意味を表す。)
    Figure 0004803371
    (式中、A3請求項1で定義した通りの意味を表す。)
    Figure 0004803371
    (式中、Rは請求項1で定義した通りの意味を表す。)
    Figure 0004803371
    (式中、R1 、A 3 、A 4 は上記の通りである。)
    Figure 0004803371
    (式中、A3 4上記の通りである。)
JP2006167298A 2006-06-16 2006-06-16 (ポリ)アミド酸トリオルガノシリルエステル及び(ポリ)イミドの製造方法 Active JP4803371B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006167298A JP4803371B2 (ja) 2006-06-16 2006-06-16 (ポリ)アミド酸トリオルガノシリルエステル及び(ポリ)イミドの製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006167298A JP4803371B2 (ja) 2006-06-16 2006-06-16 (ポリ)アミド酸トリオルガノシリルエステル及び(ポリ)イミドの製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2007332091A JP2007332091A (ja) 2007-12-27
JP4803371B2 true JP4803371B2 (ja) 2011-10-26

Family

ID=38931895

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2006167298A Active JP4803371B2 (ja) 2006-06-16 2006-06-16 (ポリ)アミド酸トリオルガノシリルエステル及び(ポリ)イミドの製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4803371B2 (ja)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2022140004A1 (en) 2020-12-23 2022-06-30 Momentive Performance Materials Inc. Condensation curable composition comprising siloxane-imide crosslinker
WO2022140003A1 (en) 2020-12-23 2022-06-30 Momentive Performance Materials Inc. Addition curable composition comprising siloxane-imide copolymers
WO2022140005A1 (en) 2020-12-23 2022-06-30 Momentive Performance Materials Inc. Siloxane-imide copolymer and addition curable composition comprising same
WO2022140006A1 (en) 2020-12-23 2022-06-30 Momentive Performance Materials Inc. Condensation curable composition comprising siloxane-imide base polymer

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2017052914A (ja) * 2015-09-11 2017-03-16 信越化学工業株式会社 片末端ビストリアルキルシリルアミノプロピルシリコーン
CN112930352B (zh) * 2018-10-31 2024-02-13 广荣化学株式会社 甲硅烷基胺化合物和含有其的潜在性固化剂
JP7228325B2 (ja) 2019-01-07 2023-02-24 四国化成ホールディングス株式会社 チオール化合物、その合成方法および該チオール化合物の利用

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB1581731A (en) * 1977-03-17 1980-12-17 Goldschmidt Ag Th Process for the reaction of organosilicon compounds with anhydrides of polybasic inorganic or organic acids
JP2001072768A (ja) * 1999-09-03 2001-03-21 Yoshiyuki Oishi ポリイミドの製造方法

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2022140004A1 (en) 2020-12-23 2022-06-30 Momentive Performance Materials Inc. Condensation curable composition comprising siloxane-imide crosslinker
WO2022140003A1 (en) 2020-12-23 2022-06-30 Momentive Performance Materials Inc. Addition curable composition comprising siloxane-imide copolymers
WO2022140005A1 (en) 2020-12-23 2022-06-30 Momentive Performance Materials Inc. Siloxane-imide copolymer and addition curable composition comprising same
WO2022140006A1 (en) 2020-12-23 2022-06-30 Momentive Performance Materials Inc. Condensation curable composition comprising siloxane-imide base polymer
US11466126B2 (en) 2020-12-23 2022-10-11 Momentive Performance Materials Inc. Condensation curable composition comprising siloxane-imide base polymer
US11535715B2 (en) 2020-12-23 2022-12-27 Momentive Performance Materials Inc. Siloxane-imide copolymer and addition curable composition comprising same
US11655368B2 (en) 2020-12-23 2023-05-23 Momentive Performance Materials Inc. Condensation curable composition comprising siloxane-imide crosslinker
US11753507B2 (en) 2020-12-23 2023-09-12 Momentive Performance Materials Inc. Addition curable composition comprising siloxane-imide copolymers

Also Published As

Publication number Publication date
JP2007332091A (ja) 2007-12-27

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4803371B2 (ja) (ポリ)アミド酸トリオルガノシリルエステル及び(ポリ)イミドの製造方法
Wu et al. Maleimide-epoxy resins: preparation, thermal properties, and flame retardance
Yin et al. Synthesis and characterization of novel polyimides derived from 1, 1-bis [4-(4′-aminophenoxy) phenyl]-1-[3 ″, 5 ″-bis (trifluoromethyl) phenyl]-2, 2, 2-trifluoroethane
CN108884023B (zh) 双酚m双邻苯二甲腈醚树脂、双酚p双邻苯二甲腈醚树脂、它们的制备方法、树脂共混物以及双组分体系
Kumar et al. Development and characterization of phosphorus-containing siliconized epoxy resin coatings
Ren et al. Synthesis and characterization of a novel heat resistant epoxy resin based on N, N′-bis (5-hydroxy-1-naphthyl) pyromellitic diimide
EP2033984B1 (en) Heat-curable polyimide silicone composition and a cured film therefrom
JPS61207428A (ja) ポリイミドおよびその製法
CN110317535A (zh) 有机硅改性聚酰亚胺树脂组合物
Shah et al. Synthesis and characterisation of cycloaliphatic and aromatic amines based cardanol benzoxazines: a comparative study
Lin et al. Dietheramine from an alkaline-stable phosphinated bisphenol for soluble polyetherimides
JP2011173827A (ja) ビスイミドフェノール誘導体及びその製造方法並びに高分子化合物
CN110317453A (zh) 有机硅改性聚酰亚胺树脂组合物
KR102249696B1 (ko) 실란 커플링제 및 그의 제조 방법, 프라이머 조성물 및 도료 조성물
JPH03103441A (ja) アセチレンビス‐フタル酸化合物およびそれから形成されたポリイミド
Durga et al. Curing and thermal behaviour of diamide–diimide–diamines based on l-phenylalanine with epoxy blends containing phosphorus/silicon
Ghaemy et al. Organosoluble and thermally stable polyimides derived from a new diamine containing bulky-flexible triaryl pyridine pendent group
US20070282078A1 (en) Synthesis of aryl N-acylurea from aryl isocyanates or aryl carbodiimides for use as intermediate in novel sequential self-repetitive reaction (SSRR) to form amides, amide-imides and their polymers
Bhuvana et al. Synthesis and characterization of epoxy/amine terminated amide‐imide‐imide blends
Hariharan et al. Synthesis and properties of novel organosoluble bismaleimides and polyaspartimides containing bis (4‐maleimido‐3, 5‐dimethyl phenyl) halo phenyl methane
JP3867983B2 (ja) フェニルエチニル基を有するジアミンモノマー
JP7388296B2 (ja) ケイ素含有テトラカルボン酸二無水物、その製造方法およびポリイミド樹脂
JPH093044A (ja) 含フッ素ビスマレイミド化合物および熱硬化性樹脂組成物
MALAKPOUR et al. Thionyl chloride/pyridine system as a condensing agent for the polyesterification reaction of N, N′-(4, 4′-oxydiphthaloyl)-bis-l-leucine and aromatic diols
WO2023095613A1 (ja) イミド結合及び重合性不飽和結合含有環状オルガノシロキサン、及びそれを含む硬化性樹脂組成物

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20080826

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20110208

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20110216

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20110413

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20110713

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20110726

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 4803371

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140819

Year of fee payment: 3