JP2002153543A - 加熱処理方法およびその装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 処理室内の温度を短時間で所定温度とす
ることのできる加熱処理方法およびその装置を提供する
こと。 【解決手段】 処理室５内へ加熱用気体を供給すること
によって、前記処理室５内の被処理物を加熱する加熱処
理方法において、予め所定の熱量に調整した前記加熱用
気体を前記処理室５内へ供給する加熱処理方法である。
また、処理室５内へ加熱用気体を供給することによっ
て、前記処理室５内の被滅菌物を加熱する加熱処理装置
１であって、前記加熱用気体を予め所定の熱量に調整す
る調整室７と、熱量を調整した後の前記加熱用気体を前
記処理室５へ供給する手段とを備えた加熱処理装置１で
ある。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は、加熱用気体によ
って被処理物を加熱する加熱処理方法およびその装置に
関する。

【０００２】

【従来の技術】病院や各種医療機関などにおいては、手
術衣や患者の使用した衣服，手術用器材や医療用器材な
どを滅菌処理している。この滅菌処理には、たとえば蒸
気滅菌器が用いられている。この蒸気滅菌器において、
滅菌処理の完了の確認は、生物化学的インジケータや化
学的インジケータなどの滅菌インジケータ（以下、「イ
ンジケータ」という）を用いて行われている。

【０００３】前記インジケータは、前記インジケータの
メーカにおいて、所定の滅菌処理で確実に反応すること
を確認するための評価試験が行われている。この評価試
験は、専用の加熱処理装置を用いて行われており、前記
加熱処理装置の処理室内へ前記インジケータを収容した
後、実際の滅菌作業と同様に、前記処理室内へ蒸気を供
給し、前記処理室内を所定温度（すなわち、滅菌温度）
で所定時間（すなわち、滅菌時間）維持することによ
り、前記インジケータが反応するかどうかを確認してい
る。

【０００４】ところで、前記インジケータが熱によって
反応するので、前記インジケータの評価試験を正確に行
うためには、前記処理室内が前記所定温度に達するまで
の間の反応を極力少なくする必要がある。そのために
は、前記処理室内を短時間で前記所定温度まで加熱する
必要がある。

【０００５】しかし、前記加熱処理装置においては、前
記処理室内を前記所定温度まで加熱する際には、前記処
理室内の温度を検出しながら蒸気を供給しているため、
蒸気の供給量を制限する必要があって、前記所定温度に
達するまでの時間が長くかかってしまう。すると、前記
インジケータは、前記所定温度近くの温度において、反
応が始まるため、前記評価試験を正確に行うことができ
ない。逆に、前記所定温度までの加熱に要する時間を短
縮するために、蒸気を急速に供給すると、前記処理室内
の温度の検出遅れ時間や、給蒸弁の動作遅れ時間などの
影響により、前記処理室内が前記所定温度に達してから
も、蒸気が余分に供給されてしまうため、前記処理室内
の温度は、前記所定温度を超えてしまう。すると、前記
インジケータは、前記所定温度より高い温度において
は、反応が急速に進行するため、前記評価試験を正確に
行うことができない。

【０００６】すなわち、従来の前記加熱処理装置におい
ては、前記のように、前記処理室内の温度が前記所定温
度となるまでに時間がかかったり、また前記処理室内の
温度が前記所定温度を超えることがあり、前記インジケ
ータの評価試験を正確に行うことができない。そこで、
前記インジケータの評価試験を行うための前記加熱処理
装置においては、前記処理室内の温度を短時間で前記所
定温度とすることができる機能が要望されている。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】この発明が解決しよう
とする課題は、処理室内の温度を短時間で所定温度とす
ることのできる加熱処理方法およびその装置を提供する
ことである。

【０００８】

【課題を解決するための手段】この発明は、前記課題を
解決するためになされたもので、請求項１に記載の発明
は、処理室内へ加熱用気体を供給することによって、前
記処理室内の被処理物を加熱する加熱処理方法におい
て、予め所定の熱量に調整した前記加熱用気体を前記処
理室内へ供給することを特徴としている。

【０００９】さらに、請求項２に記載の発明は、処理室
内へ加熱用気体を供給することによって、前記処理室内
の被処理物を加熱する加熱処理装置であって、前記加熱
用気体を予め所定の熱量に調整する調整室と、熱量を調
整した後の前記加熱用気体を前記処理室へ供給する手段
とを備えたことを特徴としている。

【００１０】

【発明の実施の形態】つぎに、この発明の実施の形態に
ついて説明する。まず、この発明に係る加熱処理方法お
よびその装置は、処理室内へ加熱用気体を供給すること
によって、前記処理室内の被処理物を加熱する加熱処理
装置において実施することができ、とくに前記処理室内
を短時間で所定温度に加熱する必要がある加熱処理装置
において、好適に実施することができる。そして、この
発明を実施した前記加熱処理装置は、滅菌インジケータ
の評価試験のように、前記所定温度で所定時間加熱する
ような用途の加熱処理装置として、好適に適用すること
ができる。

【００１１】この発明に係る加熱処理方法およびその装
置において、前記加熱用気体としては、加熱処理の目的
に応じた適宜の気体を使用する。たとえば、蒸気滅菌用
の滅菌インジケータの評価試験を行う場合には、蒸気を
用いる。

【００１２】さて、この発明に係る加熱処理方法は、予
め所定の熱量（以下、「所定熱量」という）に調整した
前記加熱用気体を前記処理室内へ供給する。前記所定熱
量は、前記処理室内へ前記加熱用気体を供給したとき
に、前記処理室内が前記所定温度となるように設定され
た熱量であって、前記所定温度，前記処理室内を昇温さ
せる温度差，前記処理室の容積や熱容量，前記処理室へ
の前記加熱用気体の供給量などに応じて決定した熱量で
ある。そして、熱量を調整した後の前記加熱用気体を前
記処理室へ所定量供給する。すると、前記処理室内の温
度は、前記処理室内へ供給された前記加熱用気体によっ
て加熱され、短時間で前記所定温度となる。

【００１３】つぎに、この発明に係る加熱処理装置につ
いて説明する。前記加熱処理装置は、被処理物を収容す
る処理室と、前記加熱用気体を予め前記所定熱量に調整
する調整室と、熱量を調整した後の前記加熱用気体を前
記処理室へ供給する手段（以下、「供給手段」という）
とを備えている。

【００１４】前記処理室および前記調整室は、それぞれ
互いに独立した空間であって、たとえば前記調整室およ
び前記処理室は、それぞれ別々の容器内に形成する。前
記処理室は、前記処理室内へ供給された前記加熱用気体
によって、前記被処理物の加熱処理を行うための領域で
あり、また前記調整室は、前記処理室へ供給する前記加
熱用気体を一時的に貯留し、その間に前記加熱用気体の
熱量を前記所定熱量に調整するための領域である。その
ため、前記調整室は、前記加熱用気体の熱量調整手段を
備えている。この熱量調整手段は、たとえば前記加熱用
気体の圧力や温度を制御しながら前記調整室へ導入する
ことにより、前記加熱用気体の熱量を調整する構成とす
る。

【００１５】前記供給手段は、前記処理室および前記調
整室がそれぞれ別々の容器内に形成されている場合に
は、前記処理室および前記調整室を接続する配管と、こ
の配管に接続した制御弁とで構成する。そして、前記供
給手段は、前記調整室から前記処理室への前記加熱用気
体の供給を圧力差を利用し、前記加熱用気体の供給を短
時間で行うことができる構成とする。

【００１６】さて、前記加熱処理装置における制御につ
いて説明する。まず、前記調整室へ前記加熱用気体を供
給する。このとき、前記調整室内の温度や圧力を検出し
ながら、前記加熱用気体を供給することにより、前記調
整室内における前記加熱用気体の熱量を前記所定熱量に
調整する。ここで、前記所定熱量は、前記処理室内へ前
記加熱用気体を供給したときに、前記処理室内が前記所
定温度となるように設定された熱量であって、前記所定
温度，前記処理室内を昇温させる温度差，前記処理室の
容積や熱容量，前記調整室の容積や熱容量などに応じて
決定した熱量である。

【００１７】そして、前記調整室内における前記加熱用
気体の熱量が前記所定熱量となったとき、前記供給手段
を作動させることによって、調整後の前記加熱用気体を
前記調整室内から前記処理室内へ供給する。すると、前
記調整室と前記処理室とが連通状態であるため、前記調
整室内および前記処理室内における前記加熱用気体の圧
力が等しくなるまで前記処理室内へ前記加熱用気体が急
速に流入する。前記加熱用気体は、前記処理室が前記所
定温度となるように、予め熱量が調整されているため、
前記加熱用気体の流入が終わったときには、前記処理室
は前記所定温度となる。

【００１８】以上のように、この発明に係る加熱処理方
法およびその装置においては、前記処理室内の温度を短
時間で前記所定温度とし、加熱処理を精度よく行うこと
ができる。したがって、前記加熱処理装置を前記滅菌イ
ンジケータ用評価装置として適用する場合には、前記滅
菌インジケータの評価を確実に行うことができる。

【００１９】ここで、以上の説明において、前記処理室
および前記調整室は、前記のように、別々の容器内にそ
れぞれ形成しているが、１つの容器を適宜の隔壁で区画
することによってそれぞれを区画形成することができる
し、また第一の容器の内部に第二の容器を配置し、内側
の第一の容器の内部に前記処理室を形成するとともに、
第一の容器と第二の容器との間の空間を前記調整室とし
て形成することもできる。また、前記供給手段は、前記
調整室と前記処理室とを１つの容器を隔壁によって区画
して形成した構成の場合には、前記隔壁の一部または全
部を開閉可能な構成とすることができる。さらに、前記
熱量調整手段は、前記調整室へ導入した加熱用気体を加
熱することによって適宜の熱量に調整する構成とするこ
とができる。

【００２０】

【実施例】以下、この発明の具体的実施例を図面に基づ
いて説明する。図１は、この発明に係る加熱処理装置の
一実施例を概略的に示す説明図であり、図２は、この発
明の一実施例における制御内容を模式的に示す説明図で
ある。この実施例の加熱処理装置は、滅菌インジケータ
の評価試験を行うための加熱処理装置である。また、こ
の実施例における加熱用気体は、清浄蒸気である。

【００２１】まず、図１を参照しながら、前記加熱処理
装置の基本構成について説明する。図１において、加熱
処理装置１は、処理容器２，調整容器３および清浄蒸気
発生手段４を備えている。

【００２２】前記処理容器２は、被処理物を加熱処理す
るための容器であって、その内部には、被処理物，すな
わち滅菌インジケータ（図示省略）を収容する処理室５
が形成されている。前記処理容器２は、扉（図示省略）
を備えた前記滅菌インジケータ（以下、「インジケー
タ」という）の出入口を備えており、この扉を閉じるこ
とで前記処理室５を完全に密閉することができる。ま
た、前記処理容器２の外壁には、前記処理容器２を外側
から加熱するための手段６（以下、「加熱手段」とい
う）が設けられている。前記加熱手段６は、この実施例
においては、蒸気ジャケットである。

【００２３】つぎに、前記調整容器３は、前記清浄蒸気
発生手段４からの清浄蒸気の熱量を調整するための容器
であって、その内部には、調整室７が形成されている。

【００２４】つぎに、前記清浄蒸気発生手段４は、加熱
用気体としての清浄蒸気を発生する手段であって、この
実施例においては、リボイラである。すなわち、前記清
浄蒸気発生手段４は、適宜の熱源蒸気発生手段(図示省
略)によって発生させた蒸気を熱源とし、純水（または
軟水）を加熱することによって清浄蒸気を発生する。

【００２５】つぎに、前記加熱処理装置１の配管構成に
ついて説明する。まず、清浄蒸気の供給に関する配管構
造について説明すると、前記処理容器２と前記調整容器
３の上部との間には、前記処理室５内への清浄蒸気の供
給手段として機能する第一給蒸ライン８が接続されてい
る。この第一給蒸ライン８には、互いに並列をなす第一
給蒸弁９および第二給蒸弁１０が設けられている。そし
て、前記第一給蒸弁９を通過し得る清浄蒸気の流量は、
前記第二給蒸弁１０を通過し得る清浄蒸気の流量よりも
多く設定されている。また、前記第一給蒸ライン８にお
ける前記第一給蒸弁９の上流側と前記加熱手段６との間
には、第三給蒸弁１１を備えた第二給蒸ライン１２が接
続されている。つぎに、前記調整容器３と前記清浄蒸気
発生手段４との間には、前記調整室７内における清浄蒸
気の熱量を調整する熱量調整手段として、第四給蒸弁１
３を備えた第三給蒸ライン１４が接続されている。この
第三給蒸ライン１４の下流端は、前記調整室７の下部に
開口させてある。

【００２６】つぎに、前記加熱処理装置１における残り
の配管構造について説明すると、まず前記処理容器２に
は、空気導入弁１５およびフィルタ１６を備えた清浄空
気導入ライン１７が接続されており、また第一排出弁１
８および真空ポンプ１９を備えた第一排出ライン２０が
接続されている。前記第一排出ライン２０における前記
処理室５と前記第一排出弁１８との間には、第二排出弁
２１を備えた第二排出ライン２２および第一スチームト
ラップ２３を備えた第一ドレン排出ライン２４がそれぞ
れ接続されている。つぎに、前記加熱手段６には、第二
スチームトラップ２５を備えた第二ドレン排出ライン２
６がそれぞれ接続されている。つぎに、前記調整容器３
には、第三スチームトラップ２７を備えた第三ドレン排
出ライン２８が接続されている。そして、前記各排出ラ
イン２０，２２，２４，２６，２８は、それぞれの下流
位置で合流させてある。

【００２７】つぎに、前記加熱処理装置１における制御
構成について説明する。まず、前記加熱処理装置１にお
いては、自動運転を可能とするための各種検出手段が設
けられている。まず、前記処理容器２には、前記処理室
５内の圧力を検出するための第一圧力検出手段２９と、
前記処理室５内の温度を検出するための第一温度検出手
段３０が設けられている。また、前記第一排出ライン２
０における前記処理容器２に近い側には、前記処理室５
内の温度を前記処理室５からのドレンの温度に基づいて
検出するための第二温度検出手段３１が設けられてい
る。つぎに、前記調整容器３には、前記調整室７内の圧
力を検出するための第二圧力検出手段３２が設けられて
いる。

【００２８】さて、前記各検出手段２９〜３２のそれぞ
れは、回線３３を介してそれぞれ制御器３４に接続され
ている。また、前記制御器３４には、前記各弁９〜１
１，１３，１５，１８，２１のそれぞれが回線３３を介
してそれぞれ接続されており、また前記真空ポンプ１９
も回線３３を介して接続されている。そして、前記制御
器３４は、予め設定されたプログラムにしたがい、前記
各検出手段２９〜３２からの検出値に基づいて、前記加
熱処理装置１を制御する。ここで、前記加熱処理装置１
においては、前記調整室７内の清浄蒸気の熱量について
は、前記調整室７内の清浄蒸気の圧力（すなわち、飽和
蒸気圧）に基づいて検出しており、また前記処理室５内
および前記調整室７内における温度も清浄蒸気の飽和蒸
気圧に基づいて検出している。

【００２９】つぎに、前記制御器３４の制御内容につい
て、前記加熱処理装置１の機能とともに、図１および図
２を参照しながら説明する。図２においては、前記イン
ジケータ（図示省略）の評価試験中における前記処理室
５内の圧力変化を実線で示すとともに、前記調整室７内
の圧力変化を点線で示している。ここで、図２において
は、前記所定温度に対応する前記処理室５内の清浄蒸気
の圧力を所定圧力Ａとして記載している。

【００３０】まず、前記加熱処理装置１における前記イ
ンジケータの評価試験の概略について説明する。前記評
価試験の各工程は、空気排除工程，給蒸工程，加熱処理
工程，排気工程および乾燥工程からなり、これらの工程
を順番に実行している。

【００３１】まず、前記加熱処理装置１の運転開始時に
は、前記制御器３４は、前記第三給蒸弁１１のみを開く
とともに、前記真空ポンプ１９を停止させている。さら
に、前記加熱処理装置１の運転開始時には、前記清浄蒸
気発生手段４においては、純水（または軟水）が供給さ
れるとともに、前記熱源蒸気発生手段(図示省略)からの
蒸気が供給され、清浄蒸気が発生している状態となって
いる。そして、この清浄蒸気は、前記調整容器３を介し
て前記加熱手段６へ供給されることにより、前記処理室
５を加熱している。また、前記調整室７においては、前
記調整室７へ供給された清浄蒸気により、前記調整室７
内の空気が前記第三ドレン排出ライン２８から押し出さ
れるようにして排出されている。すなわち、前記調整室
７内は、清浄蒸気で満たされた状態となっている。

【００３２】まず、前記処理室５内へ前記インジケータ
を収容し、前記空気排除工程を行う。前記空気排除工程
では、前記制御器３４は、まず前記真空ポンプ１９を作
動させるとともに、前記第一排出弁１８を開くことによ
って、前記処理室５内を所定圧力となるまで減圧し、前
記処理室５内の空気を除去する。そして、前記制御器３
４は、前記第一圧力検出手段２９からの検出値に基づい
て、前記処理容器２内の圧力が所定圧力に達したと判断
すると、前記第一排出弁１８を閉じるとともに、前記真
空ポンプ１９を停止させる。このようにして、前記空気
排除工程が終了すると、前記給蒸工程を開始する。

【００３３】つぎに、前記給蒸工程では、前記制御器３
４は、前記第一給蒸弁９を開くことにより、前記調整室
７内から前記処理室５内へ清浄蒸気を供給する。そし
て、前記処理室５内の圧力が前記所定圧力Ａに達するこ
とにより、前記処理室５内の温度が前記所定温度となっ
たと判断すると、前記給蒸工程を終了し、前記加熱処理
工程を開始する。

【００３４】前記加熱処理工程では、前記処理室５内を
前記所定温度の清浄蒸気が充満した状態を所定時間継続
する。ここで、前記加熱処理工程においては、前記制御
器３４は、前記第一圧力検出手段２９からの検出値に基
づいて、前記第二給蒸弁１０を適宜開閉することによ
り、清浄蒸気の供給を制御し、前記処理室５内を前記所
定圧力Ａに維持する。前記加熱処理工程が終了すると、
前記排気工程を開始する。

【００３５】前記排気工程では、前記第二排出弁２１を
開いて、前記処理室５内の清浄蒸気を排出する。そし
て、前記処理室５内の圧力が大気圧近くになると、前記
第二排出弁２１を閉じて前記排気工程を終了し、前記乾
燥工程を開始する。

【００３６】前記乾燥工程では、前記制御器３４は、前
記真空ポンプ１９を作動させるとともに、前記第一排出
弁１８を開いて前記処理室５内を減圧し、この減圧状態
を所定時間維持することにより、前記処理室５内の前記
インジケータを真空乾燥する。そして、所定時間経過
後、前記制御器３４は、前記第一排出弁１８を閉じると
ともに、前記真空ポンプ１９を停止させ、前記空気導入
弁１５を開くことにより、前記フィルタ１６を介して雑
菌などを除去した清浄空気を前記処理室５内へ導入す
る。そして、前記処理室５内が大気圧となれば、前記乾
燥工程を終了する。この後は、前記処理室５の扉を開
き、前記処理室５から前記インジケータを取り出す。そ
して、前記インジケータに所定の反応が生じたかどうか
を確認する。

【００３７】つぎに、前記加熱処理装置１において、前
記処理室５内を前記所定温度に加熱する際の制御につい
て説明すると、この制御においては、前記調整室７内で
予め前記所定熱量に調整した清浄蒸気を前記処理室５内
へ供給することによって、前記処理室５内を前記所定温
度まで加熱する。

【００３８】まず、前記所定熱量について説明すると、
前記所定熱量は、前記調整室７から前記処理室５内へ前
記加熱用気体を供給したときに、前記処理室５内が前記
所定温度となるように設定された熱量であって、前記所
定温度，前記処理室５内を昇温させる温度差，前記処理
室５の容積や熱容量，前記調整室７の容積や熱容量など
に応じて決定した熱量である。ここで、前記調整室７内
における清浄蒸気の熱量の検出について説明すると、前
記調整室７の容積は既知であるため、前記調整室７内に
おける清浄蒸気の圧力（すなわち、飽和蒸気圧）または
清浄蒸気の温度（すなわち、飽和蒸気温度）に基づい
て、熱量を検出することができる。この実施例において
は、前記飽和蒸気圧に基づいて、前記調整室７内におけ
る清浄蒸気の熱量を検出するように構成している。そし
て、前記制御器３４には、前記処理室５内の清浄蒸気を
前記所定熱量に調整するために、前記所定熱量に対応す
る飽和蒸気圧を設定圧力Ｂとして予め記憶させている。

【００３９】つぎに、前記調整室７内における清浄蒸気
の熱量の調整について説明すると、前記調整室７内にお
ける清浄蒸気の熱量の調整は、前記空気排除工程におい
て行う。すなわち、前記空気排除工程において、前記第
四給蒸弁１３を開放した状態を維持し、前記第三給蒸弁
１１を閉じる。この状態では、前記第一給蒸弁９および
前記第二給蒸弁１０も閉じられた状態であるため、前記
調整容器３は、前記清浄蒸気発生手段４からの清浄蒸気
の供給を受け、前記調整室７内の圧力が上昇していく。
そして、前記調整室７内が前記設定圧力Ｂに達すると、
前記第四給蒸弁１３を閉じる。すると、前記調整室７内
の清浄蒸気は、前記所定熱量に調整された状態となる。
この状態においては、前記調整室７内の圧力，すなわち
飽和蒸気圧は、前記所定圧力Ａよりも高くなっている。

【００４０】つぎに、前記給蒸工程では、前記制御器３
４は、前記第一給蒸弁９を開くことにより、加圧状態の
前記調整室７から減圧状態の前記処理室５内へ清浄蒸気
を供給する。前記調整室７内から前記処理室５内への清
浄蒸気の供給は、前記調整室７と前記処理室５内の圧力
差により、前記第一給蒸弁９を開放することのみによっ
て行われるため、短時間で終了する。そして、前記調整
室７内から前記処理室５内への清浄蒸気の流入により、
前記処理室５内および前記調整室７内の圧力は、ともに
前記所定圧力Ａとなる。清浄蒸気は、前記調整室７内に
おいて、予め所定の熱量に調整されているため、前記処
理室５内が前記所定圧力Ａとなったときには、前記処理
室５内の温度は、前記所定温度となっている。

【００４１】ここで、従来の加熱処理装置のように、前
記処理室５内の温度を検出しながら蒸気を供給すると、
前記処理室５内の温度が前記所定温度を超えないよう
に、前記処理室５内への清浄蒸気の供給を制御する必要
があって、図２に二点鎖線で示すように、前記所定温度
に対応する前記所定圧力Ａに達するまでの時間が長くか
かってしまう。逆に、前記所定温度までの加熱に要する
時間を短縮するために、蒸気を急速に供給すると、前記
処理室５内の温度の検出遅れ時間や、前記給蒸弁の動作
遅れ時間などの影響により、前記処理室５内が前記所定
圧力Ａに達してからも、清浄蒸気が余分に供給されてし
まうため、図２に一点鎖線で示すように、前記処理室５
内の圧力は、前記所定圧力Ａを超えてしまう。したがっ
て、従来の加熱処理装置においては、前記処理室５内お
よび前記インジケータを短時間で前記所定温度に昇温す
ることができない。

【００４２】一方、前記従来の加熱処理装置に対して、
この実施例における前記加熱処理装置１においては、前
記のように、熱量を調整した後の清浄蒸気を前記処理室
５と前記調整室７との圧力差を利用することによって、
前記処理室５内へ供給するようにしているので、前記処
理室５内および前記インジケータを短時間で前記所定温
度に昇温することができるため、前記加熱処理工程にお
いて精度のよい加熱処理が行うことができ、したがって
前記インジケータの評価試験を正確に行うことができ
る。

【００４３】

【発明の効果】この発明によれば、処理室内の温度を短
時間で所定温度とすることができるため、加熱処理を精
度よく行うことができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】この発明に係る加熱処理装置の一実施例を概略
的に示す説明図である。

【図２】この発明の一実施例における制御内容を模式的
に示す説明図である。

【符号の説明】

１ 加熱処理装置 ５ 処理室 ７ 調整室

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 処理室５内へ加熱用気体を供給すること
   によって、前記処理室５内の被処理物を加熱する加熱処
   理方法において、予め所定の熱量に調整した前記加熱用
   気体を前記処理室５内へ供給することを特徴とする加熱
   処理方法。
2. 【請求項２】 処理室５内へ加熱用気体を供給すること
   によって、前記処理室５内の被処理物を加熱する加熱処
   理装置１であって、前記加熱用気体を予め所定の熱量に
   調整する調整室７と、熱量を調整した後の前記加熱用気
   体を前記処理室５へ供給する手段とを備えたことを特徴
   とする加熱処理装置。