JP2002144069A

JP2002144069A - レーザ加工方法

Info

Publication number: JP2002144069A
Application number: JP2001145565A
Authority: JP
Inventors: Noriaki Okada; 訓明岡田
Original assignee: Sharp Corp
Current assignee: Sharp Corp
Priority date: 2000-08-31
Filing date: 2001-05-15
Publication date: 2002-05-21
Anticipated expiration: 2021-05-15
Also published as: JP3736791B2; US6570124B2; US20020033388A1

Abstract

(57)【要約】【課題】投影マスク透光部のエッジによるレーザビー
ムの回折の影響を抑制する。【解決手段】投影マスク３は、長方形の透光部３ｃと
遮光部３ｂとから構成されている。投影マスク３の遮光
部３ｃの長辺の長さＡｘは、レーザビーム２のスポット
２ａの長径Ｂｘよりも長い。また、透光部３ｃに照射さ
れるレーザビーム２は、光スポット２ａが透光部３ｃの
各短辺にそれぞれ照射されないように、レーザビーム２
の光軸が、透光部３ｃの中央部に一致するように位置合
わせされている。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、レーザ光を利用し
て被加工物の表面を加工するレーザ加工方法に関し、特
に、レーザビームの照射によって、被加工物である基板
上の有機物をアブレーションして、基板表面に対して垂
直あるいは傾斜した平滑面を形成する際に好適に実施さ
れるレーザ加工方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】基板上の有機物をエッチング加工する方
法として、エキシマレーザ等のレーザビームのアブレー
ション作用を利用したレーザ加工方法がある。

【０００３】図１は、レーザ加工方法の実施に使用され
るレーザ加工装置の構成を示す概略図である。このレー
ザ加工装置は、例えば、シリコンなどの基板上にポリカ
ーボネート（ＰＣ）、ポリエチレンテレフタレート（Ｐ
ＥＴ）等のレーザビームの照射に対して光分解性を有す
る有機物シートを装着した被加工物５に対して、凹部を
形成するために使用され、被加工物５が載置されて固定
されるＸＹステージ６と、ＸＹステージ６上の被加工物
５に向けてエキシマレーザビームを発振するレーザ発振
器１とを備えている。レーザ発振器１から発振されたレ
ーザビーム２は、投影マスク３によって、所定のパター
ンとされ、対物光学系４によって光学的に縮小されて、
ＸＹステージ６の上に固定された被加工物５に照射され
る。

【０００４】図６は、このレーザ加工装置に設けられた
投影マスク３の平面図である。投影マスク３は、板ガラ
スの表面に、レーザビーム２が透過する長方形状パター
ンの透光部３ａが形成されるように金属膜の遮光部３ｂ
を形成して構成されている。遮光部３ｂを構成する金属
膜は、レーザビーム２を遮光し、金属膜が設けられてい
ない透光部３ａ内をレーザビーム２は通過する。

【０００５】レーザ発振器１から発振されるエキシマレ
ーザビーム２の断面は、楕円形状であり、この楕円形状
のレーザビーム２が投影マスク３に照射される。投影マ
スク３に照射されるレーザビーム２は、投影マスク３の
透光部３ａの全域に対して均一に照射されるように、レ
ーザビーム２のスポットが透光部３ａの全体をカバーし
ている。

【０００６】投影マスク３の透光部３ａを透過したレー
ザビーム２は、対物光学系４によって光学的に縮小され
て、ＸＹステージ６の上に固定された被加工物５に集光
され、投影マスク３に形成された長方形の透光部３ａの
像を、対物光学系４の縮小倍率に対応したパターンとし
て被加工物５に投影する。レーザビーム２が照射された
被加工物５の表面は、レーザビーム２によってアブレー
ションされ、基板平面に対して垂直な垂直面を有する凹
部が形成される。

【０００７】また、レーザビーム２を照射しながら被加
工物５を移動させることにより、傾斜面を作製すること
もできる。

【０００８】傾斜面の作製方法について、図１２に基づ
いて説明する。

【０００９】被加工物５は、基板５ａとこの基板５ａ上
に接着された有機物シート５ｂとを有しており、レーザ
ビーム２の照射条件として、有機物シート５ｂのみをア
ブレーションするような加工条件を選択し、投影マスク
３に形成された矩形状の透光部３ａを透過したレーザビ
ーム２を被加工物５に照射し、この状態で被加工物５を
図１２の矢印Ｃに示す方向に一定速度で移動させる。

【００１０】被加工物５をこのように移動させながら、
その途中で、レーザビーム２の照射を停止すると、被加
工物５の移動方向に対して前方となる部分と後方となる
部分とでレーザビーム２のトータル照射量が異なるた
め、エッチング量に差が生じる。この結果、被加工物５
の移動方向に対して前方側が深くなるように傾斜した傾
斜面が形成される。このように、レーザビーム２の強度
と被加工物５の移動速度を調整することにより、任意の
斜度の傾斜面を形成することができる。

【００１１】図７は、このようなレーザ加工装置によっ
て被加工物５の表面がアブレーションされて形成された
凹部の輪郭を示している。なお、ＸＹステージ６におい
てレーザビーム２のスポットの長軸方向がＸ方向となっ
ている。投影マスク３に形成された長方形の透光部３ａ
の全域にわたってレーザビーム２が照射されることによ
り、被加工物５の表面に形成される凹部の輪郭２９は、
全周にわたって波打った状態になる。なお、図の破線３
０は、投影マスク３に形成された透光部３ａの投影像の
外周縁を示しており、従って、その破線３０は、被加工
物５の表面に対して凹部を形成する内面が垂直になった
理想的な加工輪郭を示している。

【００１２】実際に形成される凹部の加工輪郭２９が波
打っている原因は、投影マスク３の透光部３ａを透過す
るレーザビーム２が、透光部３ａのエッジによって回折
することによるためである。

【００１３】図８は、投影マスク３の透光部３ａを透過
したレーザビーム２が被加工物５に照射された場合にお
ける被加工物５表面のレーザビーム２の強度分布を示し
ている。長方形状の透光部３ａを透過したレーザビーム
２は、透光部３ａのエッジである各長辺および各短辺そ
れぞれによる回折によって、被加工物５の表面において
強度差が生じ、高強度部分が格子状になる。このような
格子状になったレーザビーム２の高強度部分では、アブ
レーションが強く実施されるために、被加工物５の加工
輪郭２９は、全周にわたって、波打った状態になる。

【００１４】図９は、投影マスク３の透光部３ａを透過
して被加工物５の表面に照射されるレーザビーム２の強
度を、透光部３ａの長辺に沿ったＸＹステージ６におけ
るＸ方向に沿って示す分布曲線である。図９のｘ軸は、
ＸＹステージ６のＸ方向、すなわち、透光部３ａの長手
方向に沿った位置を示し、ｙ軸は、ｘ軸の各位置におけ
るレーザビーム２の相対強度を示している。図９の破線
は、透光部３ａのエッジによる回折が発生しない状態で
のレーザビーム２の強度分布を示している。レーザビー
ム２の強度分布は、図８の格子縞に対応しており、強度
のピークは、透光部３ａの各短辺側のエッジに近接した
位置にそれぞれ対応して現れている。

【００１５】このように、投影マスク３の透光部３ａを
透過したレーザビーム２によって被加工物５を加工する
場合に、透光部３ａのエッジにおけるレーザビーム２の
回折の影響が避けられず、被加工物５に形成される凹部
の内面である加工面に波打った状態になるために、被加
工物５に、光軸に平行で平坦な面を形成することは容易
でないという問題がある。また、傾斜面を形成する場合
も、レーザビーム２の強度分布を反映して、図１２に示
すように、傾斜面は波打った状態になり、平坦な面を得
ることは、容易ではない。

【００１６】特開平９−２０６９７４号公報には、投影
マスクの透光部を透過して被加工物上に形成されるレー
ザビームの強度分布を、透光部のエッジによる回折が生
じない理想的なレーザビームの強度分布に補正する方法
が開示されている。図１０は、特開平９−２０６９７４
号公報に開示されたレーザ加工方法に用いられる装置の
概略構成図である。

【００１７】図１０において、エキシマレーザ発振器５
１から出射されたレーザビーム６１は、ビーム整形光学
系５２により、ビームサイズが拡大され、ホモジナイザ
ＨＮであるフライアイレンズ５３に照射される。フライ
アイレンズ５３は、光軸に沿って配置された多数のレン
ズエレメントによって構成されている。各レンズエレメ
ントによって構成されたフライアイレンズ５３から出射
されるレーザビームは、開口絞り５４を介してコンデン
サーレンズ５５に照射され、コンデンサーレンズ５５に
より平行光束とされて、投影マスク５６に照射される。
投影マスク５６に照射されるレーザビームの光スポット
は、投影マスク５６に設けられた長方形の透光部の全域
をカバーしており、その透光部の全域に均一に照射され
る。

【００１８】投影マスク５６の透光部を透過するレーザ
ビームは、２つのレンズ５７および５８と開口絞り５９
とによって構成される結像光学系ＯＳにより、被加工物
６０に照射される。被加工物６０は、照射されるレーザ
ビームによるアブレーション作用によって、投影マスク
５６の透光部に対応した凹部が形成される。

【００１９】このようなレーザ加工装置では、エキシマ
レーザ発振器５１と、ビーム整形光学系５２と、フライ
アイレンズ５３と、開口絞り５４およびコンデンサーレ
ンズ５５とによって、投影マスク５６に対してレーザビ
ームを均一に照射するための照明光学系ＩＬが構成され
ている。そして、照明光学系ＩＬの開口数をＮＡｃと
し、結合光学系ＯＳの投影マスク５６側の開口数をＮＡ
ｏとすると、コヒーレンスファクターσは、次の式
（１）によって定義される。

【００２０】σ＝ＮＡｃ／ＮＡｏ …（１）図１１は、このようなレーザ加工装置におけるコヒーレ
ンスファクターσを変化させた場合における被加工物６
０上に照射されるレーザビームの強度を、投影マスク５
６の透光部の長手方向に沿った分布曲線として示したも
のである。図１１におけるｘ軸は、投影マスク５６にお
ける長方形の透光部の相互に対向する短辺の中点同士を
結ぶ直線に沿った方向の位置を示しており、ｙ軸は、ｘ
軸の各位置におけるレーザビームの相対強度を示してい
る。図１１の破線は、投影マスク５６における透光部の
エッジによってレーザビームが回折しない場合における
被加工物６０上のレーザビームの強度分布を示してい
る。図１１（ａ）は、コヒーレンスファクターσ＝０．
２、図１１（ｂ）は、コヒーレンスファクターσ＝０．
７の場合をそれぞれ表している。

【００２１】図１１（ｂ）に示す分布曲線は、図１１
（ａ）に示す分布曲線と比較すると、レーザビーム回折
による強度のピークが比較的小さくなっている。コヒー
レンスファクターσを大きくすることにより、透光部の
各コーナー部にそれぞれ対応した位置において、レーザ
ビームが高強度になることを防止することができ、ま
た、透光部の中央部に対応した位置におけるレーザビー
ム強度の揺らぎも抑制することができる。被加工物６０
に、光軸に平行な加工面を高精度にて得るためには、コ
ヒーレンスファクターσを０．６以上にすればよい。

【００２２】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、図１１
（ｂ）に見られるように、投影マスク５６の透光部のエ
ッジ近傍に対応した各位置において、レーザビームの回
折による影響を完全に取り除くことは難しく、レーザビ
ームが局所的に高強度になることを完全に防止すること
は容易でなく、そのため、上記のレーザ加工方法では、
被加工物の表面に対して垂直、あるいは傾斜した平滑面
を形成することが容易でないという問題がある。

【００２３】本発明はこのような問題を解決するもので
あり、その目的は、投影マスクの透光部のエッジによる
レーザビームの回折を容易に制御することができ、その
結果、被加工物に、光軸に平行、あるいは傾斜した平滑
面を確実に形成することができる経済的なレーザ加工方
法を提供することにある。

【００２４】

【課題を解決するための手段】本発明のレーザ加工方法
は、レーザビームが透過する透光部が設けられた投影マ
スクにレーザビームを照射して、該投影マスクの透光部
を透過したレーザビームが被加工物に照射されることに
より、該被加工物の表面を加工するレーザ加工方法であ
って、該投影マスクに照射されるレーザビームの光スポ
ットが、該投影マスクの一方の方向におけるエッジ近傍
部にはレーザビームが照射され、他方の方向におけるエ
ッジ近傍部にはレーザビームが照射されない形状になっ
ていることを特徴とする。

【００２５】前記投影マスクの透光部は、前記一方の方
向に沿って長くなった長方形状になっている。

【００２６】前記レーザビームの光スポットは、前記投
影マスクの透光部における各短辺近傍に照射されない形
状になっている。

【００２７】前記被加工物は、前記投影マスクの透光部
の前記一方の方向に沿って移動される。

【００２８】前記被加工物は、前記投影マスクの透光部
の前記他方の方向に沿って移動される。

【００２９】前記被加工物は、前記他方の方向に沿った
移動に併せて、前記投影マスクの透光部の前記一方の方
向に沿って往復移動される。

【００３０】

【発明の実施の形態】以下、図面を参照しながら本発明
の実施の形態を説明する。

【００３１】本発明のレーザ加工方法は、図１に示すレ
ーザ加工装置を使用して実施される。このレーザ加工装
置は、前述したように、シリコン基板上にポリカーボネ
ート（ＰＣ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）
等の有機物シートを接着した被加工物５に凹部を形成す
るために使用され、被加工物５が載置されて固定される
ＸＹステージ６と、ＸＹステージ６上の被加工物５に対
してエキシマレーザビームを発振するレーザ発振器１と
を備えている。レーザビーム光源であるレーザ発振器１
から出射されて照射光学系ＩＬによって平行光束とされ
たレーザビーム２は、投影マスク３によって所定の長方
形状のパターンとされ、対物光学系４にて光学的に縮小
されて、ＸＹステージ６の上に固定された被加工物５に
照射される。

【００３２】図２は、このレーザ加工装置に設けられた
投影マスク３の平面図である。投影マスク３は、板ガラ
スの表面に、レーザビーム２が透過する長方形状パター
ンの透光部３ｃが形成されるように金属膜の遮光部３ｂ
を形成して構成されている。遮光部３ｂを構成する金属
膜は、レーザビーム２を遮光し、金属膜が設けられてい
ない透光部３ｃ内を、レーザビーム２は透過する。

【００３３】図２に破線にて示すように、投影マスク３
に照射されるレーザビーム２の光スポット２ａは楕円形
状になっている。投影マスク３に照射されるレーザビー
ム２の楕円状になった光スポット２ａの長軸をＢｘとす
ると、長方形の透光部３ｃの長辺は、その長軸に平行に
なるように配置されており、透光部３ｃの長辺の長さＡ
ｘは、レーザビーム２の光スポット２ａの長径Ｂｘより
も長くなっている。また、透光部３ｃに照射されるレー
ザビーム２は、光スポット２ａが透光部３ｃの各短辺に
それぞれ照射されないように、レーザビーム２の光軸
が、透光部３ｃの中央部に一致するように位置合わせさ
れている。

【００３４】図１において、投影マスク３の透光部３ｃ
を透過したレーザビーム２は、対物光学系４にて光学的
に縮小されて、ＸＹステージ６上に固定された被加工物
５に集光され、投影マスク３に形成された長方形状の透
光部３ｃの像を、対物光学系４の縮小倍率に対応したパ
ターンとして被加工物５に投影する。レーザビーム２が
照射された被加工物５の表面は、レーザビーム２によっ
てアブレーションされる。

【００３５】図３は、このようなレーザ加工装置によっ
て被加工物５を加工して形成された凹部の加工輪郭を示
している。なお、ＸＹステージ６において、照射される
レーザビーム２の楕円形状の光スポットにおける長軸方
向がＸ方向になっている。図３の破線２０は、投影マス
ク３に形成された透光部３ｃの投影像の外周縁を示して
おり、従って、破線２０は、レーザビーム２が、投影マ
スク３の透光部３ｃのエッジによって回折することなく
被加工物５に照射されて、被加工物５の表面に垂直な凹
部内面が形成された理想的な加工輪郭を示している。

【００３６】投影マスク３に形成された長方形の透光部
３ｃの各短辺に対して、光スポットが照射されないよう
に、レーザビーム２が照射されることにより、被加工物
５に形成される凹部の加工輪郭１９は、透光部３ｃの各
長辺に沿った側縁１９ａにおいて、波打った状態がそれ
ぞれ解消しており、破線２０にほぼ重なった平滑な状態
になっている。凹部の加工輪郭１９における長手方向に
沿った各側縁１９ａの波打った状態が解消した理由は、
投影マスク３の透光部３ｃを透過したレーザビーム２
が、透光部３ｃの各短辺に沿ったエッジによって回折さ
れないことによる。

【００３７】図４は、投影マスク３の透光部３ｃを透過
したレーザビーム２の被加工物５の表面における強度分
布である。長方形の透光部３ｃを透過したレーザビーム
２は、透光部３ｃの各長辺に沿ったそれぞれのエッジか
らの回折により、被加工物５の表面では、レーザビーム
２に強度差が生じ、高強度部分が、透光部３ｃの長手方
向に沿った直線部分によって形成された格子状になって
いるが、透光部３ｃの幅方向に沿った各エッジにおいて
は、レーザビーム２が照射されず、レーザビーム２の回
折が発生しない。

【００３８】このようなレーザビーム２によって、被加
工物５の表面がアブレーションされることにより、図３
に示すように、被加工物５の加工輪郭１９は、透光部３
ｃの長手方向に沿った側縁１９ａにおいて、波打った状
態が解消され、レーザビーム２の光軸に平行な平滑面が
形成される。

【００３９】図５は、投影マスク３の透光部３ｃを透過
して被加工物５の表面に照射されるレーザビーム強度
を、透光部３ｃの長辺に沿ったＸＹステージ６のＸ方向
に沿って示す分布曲線である。図５のｘ軸は、ＸＹステ
ージ６のＸ方向の位置、すなわち、透光部３ｃの長手方
向に沿った位置を示し、ｙ軸は、ｘ軸の各位置における
レーザビーム２の相対強度を示している。図５は破線
は、透光部３ｃのエッジによってレーザビーム２が回折
しない状態での被加工物５表面におけるレーザビーム２
の強度分布を示している。

【００４０】被加工物５の表面におけるレーザビーム２
の強度分布は、図４に示す格子縞にそれぞれ対応してお
り、透光部３ｃの長手方向の各端部を除いた中央部に対
応する部分において、回折が生じないレーザビーム２の
強度に一致したほぼ一定の強度になっている。透光部３
ｃの長手方向の各端部に対応する部分においては、回折
が生じないレーザビーム２の強度に対して若干ずれた状
態になっている。

【００４１】投影マスク３の透光部３ｃの形状を長方形
にした場合には、レーザビーム２のスポット２ａの長径
Ｂｘに比べて透光部３ｃの長辺の長さＡｘを十分長くす
ることができるから、透光部３ｃの各短辺に沿ったエッ
ジに光スポット２ａが照射されないようにすることがで
きる。従って、透光部３ｃの各短辺に沿ったエッジによ
ってレーザビーム２の回折が生じないために、透光部３
ｃの長手方向に沿ったＸ方向において、光強度に差が生
じることを防止することができる。

【００４２】このように、投影マスク３の透光部３ｃを
透過したレーザビーム２によって被加工物５を加工する
場合には、透光部３ｃのエッジにおけるレーザビーム２
の回折の影響を抑制することにより、被加工物５に形成
される凹部の内面である加工面を、波打つことなく、被
加工物５の表面に対して垂直な平坦面にすることができ
る。

【００４３】この投影マスク３の使用により、投影マス
ク３の透光部３ｃの回折による悪影響を低減することが
できるが、投影マスク３に入射するレーザビーム２自体
の光強度分布がＸ方向に周期的な強弱分布を有している
と、その強度分布を反映して、Ｘ方向に沿った加工面が
波打った状態となる。

【００４４】このような場合に、加工面を平坦にするた
めには、投影マスク３の透光部３ｃの各短辺に沿ったエ
ッジにおいて、光スポットが照射されないように、透光
部３ｃの長手方向（Ｘ方向）に沿って、被加工物５を移
動させればよい。被加工物５をスキャニングさせつつレ
ーザ加工を行うことにより、レーザビーム２自体の強度
分布の悪影響が緩和され、被加工物５に、レーザビーム
２の光軸に平行な平滑面を形成することができる。な
お、被加工物５を固定し、レーザビーム２の光軸をＸ方
向に往復移動させても、同様に、レーザビーム２の光軸
に平行な平滑面を形成することができる。

【００４５】また、この投影マスク３とスキャニング加
工とを組み合わせることにより、面精度の高い傾斜面を
形成することもできる。

【００４６】投影マスク３の透光部３ｃの短辺に沿った
エッジに、光スポットが照射されないようにレーザ発振
器１から発振されるレーザビームの楕円形状を調整し、
被加工物５を、透光部３ｃの短辺方向（Ｙ方向）に沿っ
て、一定速度で移動させる。被加工物５をこのように移
動させながら、その途中でレーザビーム２の照射を停止
すると、被加工物５の移動方向に傾斜した傾斜面が形成
される。

【００４７】図６に示したような、従来の投影マスク３
とレーザビーム２の組み合わせにより、レーザビーム２
を被加工物５上に照射して傾斜面を形成した場合、透光
部３ａでのレーザビーム２の回折により、被加工物５に
照射されるレーザビーム２は、図８に示すような強度分
布となる。このような強度分布となった光を用いて、Ｙ
方向にスキャニング加工を行った場合、図１２に示した
ようにＸ方向に沿って波打った状態に配列したシワが多
数形成され、傾斜面の平滑性が悪化する。

【００４８】これに対して、本発明のように、投影マス
ク３とレーザビーム２の楕円形状を図２に示したような
組み合わせとすることにより、透光部３ｃの短辺に沿っ
たエッジの回折がなくなるため、被加工物５上に照射さ
れるレーザビーム２の強度分布は、図４に示すようにな
る。このため、照射されるレーザビーム２の強度分布
は、Ｘ方向における中央部で光強度分布の差が小さくな
り、Ｙ方向にスキャニング加工を行っても、図１２に示
したようなシワは形成されず、傾斜面の平滑性が向上す
る。

【００４９】なお、本発明の投影マスク３を用いても、
図４に示すように、Ｙ方向に周期的に光の強弱が現れ
る。しかし、Ｙ方向へはスキャニング加工を行うので、
その光の強弱の差が緩和されて、問題を生じない。

【００５０】また、垂直面を形成する場合と同様に、投
影マスク３に入射するレーザビーム２自体が強度分布を
もっていると、その強度分布を反映して、加工される傾
斜面に凹凸が発生する。

【００５１】この場合、図１３の矢印Ｃ’に示すよう
に、被加工物５のＹ方向の移動に併せて、被加工物５を
Ｘ方向に往復移動させることにより、Ｙ方向に傾斜する
傾斜面を形成すればよい。このようなＸ方向の往復移動
によって、レーザビーム２自体が有する強度分布の悪影
響が緩和され、平滑性に優れた傾斜面を得ることができ
る。

【００５２】なお、上述の実施の形態では、被加工物に
所定形状を有する凹部を形成する場合について説明した
が、被加工物に所定形状の貫通孔を形成する場合につい
ても適用することができる。

【００５３】

【実施例】〈実施例１〉図１に示すレーザ加工装置とし
て、住友重機社製エキシマレーザ加工装置（ＫｒＦレー
ザ：波長２４８ｎｍ：発振出力２７０ｍＪ：発信周波数
２００パルス／ｓ）を使用して、本発明方法によるレー
ザ加工を実施した。被加工物５として、シリコン基板に
厚さ２００μｍのＰＥＴシートを接着固定したものを使
用し、この被加工物５を、ＸＹステージ６上に固定し
た。レーザ加工装置におけるレーザビーム２の光スポッ
ト２ａの径は、２５ｍｍ×８ｍｍである。このようなレ
ーザビーム２に対して、３０ｍｍ×３ｍｍの長方形の透
光部３ｃが形成された投影マスク３を用いた。

【００５４】長方形の透光部３ｃの長辺は、レーザビー
ム２の光スポット２ａの長軸に沿って配置されており、
レーザビーム２の光スポット２ａの中心を投影マスク３
の透光部３ｃの長方形の中心に一致させた。光スポット
２ａの長軸の径は２５ｍｍであり、透光部３ｃの長辺の
長さは３０ｍｍであるために、透光部３ｃの各短辺に沿
ったそれぞれのエッジには、光スポット２ａは、それぞ
れ照射されなかった。

【００５５】投影マスク３の透光部３ｃを透過したレー
ザビーム２は、対物光学系４により１／３に縮小される
ように設定した。

【００５６】このような状態で、被加工物５の表面に凹
部を形成する所定のレーザ加工を実施して、被加工物５
に形成された凹部における基板の表面に垂直な内面の面
精度を、Ｚｙｇｏ社製干渉計にて測定した。その結果
は、ＲＭＳ値で５０ｎｍであり、凹部の内面の面精度は
極めて良好であった。

【００５７】〈実施例２〉ＸＹステージ６の上に固定し
た被加工物５を移動させるスキャニング加工を行った場
合の、本実施の形態におけるレーザ加工方法の実施例を
示す。

【００５８】実施例１において、レーザビーム２を照射
した状態で、被加工物５を固定したＸＹステージ６を、
Ｘ方向に移動させるスキャニング加工を行った。それ以
外は、実施例１と同じ加工条件によって被加工物５を加
工した。

【００５９】被加工物５に形成された凹部における基板
表面に垂直な内面の面精度を、Ｚｙｇｏ社製干渉計にて
測定したところ、ＲＭＳ値で４０ｎｍであり、実施例１
に比べて、更に、加工面の面精度は良好であった。

【００６０】〈実施例３〉ＸＹステージ６の上に固定し
た被加工物５を移動させるスキャニング加工を行うこと
により、傾斜面を形成した場合の、本実施の形態におけ
るレーザ加工方法の実施例を示す。

【００６１】実施例１において、レーザビーム２を照射
した状態で、被加工物５を固定したＸＹステージ６を、
Ｙ方向に移動させるスキャニング加工を行った。それ以
外は、実施例１と同じ加工条件によって被加工物５を加
工した。

【００６２】被加工物５に形成された傾斜面の面精度
を、Ｚｙｇｏ社製干渉計にて測定したところ、ＲＭＳ値
で１２０ｎｍであり、傾斜面の面精度は良好であった。

【００６３】〈実施例４〉ＸＹステージ６の上に固定し
た被加工物５を移動させるスキャニング加工を行うこと
により、傾斜面を形成した場合の、本実施の形態におけ
るレーザ加工方法の実施例を示す。

【００６４】この実施例４では、レーザビーム２を照射
した状態で、被加工物５を固定したＸＹステージ６を、
Ｙ方向に移動させるスキャニング加工を行う際に、Ｘ方
向への往復移動を併せて行った。それ以外は、実施例３
と同じ加工条件で被加工物５を加工した。

【００６５】被加工物５に形成された傾斜面の面精度
を、Ｚｙｇｏ社製干渉計にて測定したところ、ＲＭＳ値
で６０ｎｍであり、実施例３に比べて、更に、加工面の
面精度は良好であった。

【００６６】〈比較例１〉２５ｍｍ×８ｍｍのレーザビ
ームの光スポット径に対して、投影マスクに設けられた
遮光部を６ｍｍ×３ｍｍの長方形としたこと以外は、実
施例１と同様にして、被加工物５の表面に凹部を形成す
る所定のレーザ加工を実施して、被加工物５に形成され
た凹部における基板の表面に垂直な内面の面精度を、Ｚ
ｙｇｏ社製干渉計にて測定した。その結果は、ＲＭＳ値
で８０ｎｍであり、実施例１および２に比べて、加工面
の面精度は悪くなった。

【００６７】〈比較例２〉２５ｍｍ×８ｍｍのレーザビ
ームの光スポット径に対して、投影マスクに設けられた
透光部を６ｍｍ×３ｍｍの長方形としたこと以外は、実
施例３と同様にして、被加工物５の表面に傾斜面を形成
する所定のレーザ加工を実施して、被加工物５に形成さ
れた傾斜面の面精度を、Ｚｙｇｏ社製干渉計にて測定し
た。その結果は、ＲＭＳ値で２００ｎｍであり、実施例
３および４に比べて、加工面の面精度は悪くなった。

【００６８】

【発明の効果】本発明のレーザ加工方法は、投影マスク
の透光部の辺の長さが、少なくとも１方向において、レ
ーザビームの照射径より大きくなっており、透光部のエ
ッジによるレーザビームの回折の影響を抑制できるか
ら、被加工物の基板面に垂直な面及び傾斜した面の高精
度の加工が可能になる。

【００６９】更に、投影マスクの透光部の形状が長方形
である場合、長辺の長さの向きに被加工物を移動させる
スキャニング加工を行うことにより、被加工物の基板面
に垂直な面及び傾斜した面の加工精度をより高くするこ
とができる。

【００７０】また、本発明のレーザ加工方法は、従来の
投影マスクの透光部に、その形状の改良を加えるだけで
達成できるから、そのコストメリットは大きい。

【００７１】また、一軸、あるいは二軸のスキャニング
加工を行うことにより、被加工物の基板面に対して傾斜
した面の加工精度をより高くすることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】レーザ加工装置の構成を示す概略図である。

【図２】本発明のレーザ加工方法に用いられる投影マス
クの平面図を示す。

【図３】本発明のレーザ加工方法によるレーザ加工後の
被加工物に形成された凹部の輪郭を示す概略図である。

【図４】本発明のレーザ加工方法において被加工物の表
面に照射されるレーザビームの強度分布を示す概略図で
ある。

【図５】本発明のレーザ加工方法において、被加工物上
に投影されたレーザビームの強度分布を示すグラフであ
る。

【図６】従来のレーザ加工方法において使用される投影
マスクの平面図である。

【図７】従来のレーザ加工方法によるレーザ加工後の被
加工物に形成された凹部の輪郭を示す概略図である。

【図８】従来のレーザ加工方法において被加工物の表面
に照射されるレーザビームの強度分布を示す概略図であ
る。

【図９】従来のレーザ加工方法において、被加工物上に
投影されたレーザビームの強度分布を示すグラフであ
る。

【図１０】従来のレーザ加工装置の構成を示す概略図で
ある。

【図１１】（ａ）は、そのレーザ加工装置において、コ
ヒーレンスファクターσ＝０．２の場合に被加工物上に
照射されたレーザビームの強度分布を示すグラフ、
（ｂ）は、コヒーレンスファクターσ＝０．７の場合
に、被加工物上に照射されたレーザビームの強度分布を
示すグラフである。

【図１２】従来のレーザ加工方法による傾斜面の形成方
法を説明する斜視図である。

【図１３】本発明のレーザ加工方法による傾斜面の形成
方法を説明する斜視図である。

【符号の説明】

１レーザ発振器２レーザビーム２ａ光スポット３投影マスク３ｂ遮光部３ｃ遮光部４対物光学系５被加工物６ＸＹステージ

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】レーザビームが透過する透光部が設けら
れた投影マスクにレーザビームを照射して、該投影マス
クの透光部を透過したレーザビームが被加工物に照射さ
れることにより、該被加工物の表面を加工するレーザ加
工方法であって、該投影マスクに照射されるレーザビームの光スポット
が、該投影マスクの一方の方向におけるエッジ近傍部に
はレーザビームが照射され、他方の方向におけるエッジ
近傍部にはレーザビームが照射されない形状になってい
ることを特徴とするレーザ加工方法。
【請求項２】前記投影マスクの透光部は、前記一方の
方向に沿って長くなった長方形状になっている請求項１
記載のレーザ加工方法。
【請求項３】前記レーザビームの光スポットは、前記
投影マスクの透光部における各短辺近傍に照射されない
形状になっている請求項２記載のレーザ加工方法。
【請求項４】前記被加工物が、前記投影マスクの透光
部の前記一方の方向に沿って移動される請求項１〜３の
いずれかに記載のレーザ加工方法。
【請求項５】前記被加工物が、前記投影マスクの透光
部の前記他方の方向に沿って移動される請求項１〜３の
いずれかに記載のレーザ加工方法。
【請求項６】前記被加工物が、前記他方の方向に沿っ
た移動に併せて、前記投影マスクの透光部の前記一方の
方向に沿って往復移動される、請求項５に記載のレーザ
加工方法。