JP2002118158A5 - - Google Patents

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4515020B2 (ja) * 2002-09-20 2010-07-28 大日本印刷株式会社 擬似sem画像データの生成方法およびフォトマスクの欠陥検査方法
JP2006127903A (ja) * 2004-10-28 2006-05-18 Applied Materials Inc 走査型電子顕微鏡及び試料観察方法
JP4320308B2 (ja) * 2005-03-15 2009-08-26 株式会社ルネサステクノロジ 欠陥検査方法
JP4790324B2 (ja) * 2005-06-15 2011-10-12 株式会社日立ハイテクノロジーズ パターン欠陥検査方法および装置
JP2007110087A (ja) 2005-09-13 2007-04-26 Hitachi High-Technologies Corp 電子線装置及び電子線照射パターン生成方法
JP2007109490A (ja) * 2005-10-13 2007-04-26 Jeol Ltd 荷電粒子線装置
WO2007086400A1 (ja) * 2006-01-25 2007-08-02 Ebara Corporation 試料表面検査方法及び検査装置
JP5058489B2 (ja) 2006-01-25 2012-10-24 株式会社荏原製作所 試料表面検査装置及び検査方法
JP2007212288A (ja) * 2006-02-09 2007-08-23 Toshiba Corp パターン検査方法、パターン検査装置およびプログラム
DE112007003536T5 (de) 2007-06-08 2010-04-22 Advantest Corp. Ladungsteilchenstrahl-Untersuchungsgerät und einen Ladungsteilchenstrahl verwendendes Untersuchungsverfahren
JP2009099540A (ja) * 2007-09-27 2009-05-07 Hitachi High-Technologies Corp 試料の検査,測定方法、及び走査電子顕微鏡
JP5228080B2 (ja) * 2011-05-11 2013-07-03 株式会社日立ハイテクノロジーズ パターン欠陥検査方法および装置
WO2020110276A1 (ja) * 2018-11-30 2020-06-04 株式会社日立ハイテク 荷電粒子線装置
JP6954963B2 (ja) * 2019-09-09 2021-10-27 日本電子株式会社 3次元積層造形方法及び3次元積層造形装置
CN117637417A (zh) * 2024-01-24 2024-03-01 电子科技大学 一种使用光阑结构进行辅助聚焦的微焦点电子枪

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