JP2002110615A

JP2002110615A - 基板洗浄方法およびその装置

Info

Publication number: JP2002110615A
Application number: JP2000292568A
Authority: JP
Inventors: Takashi Shimizu; 孝志清水; Kanjiro Kinoshita; 歓治郎木下
Original assignee: Daikin Industries Ltd
Current assignee: Daikin Industries Ltd
Priority date: 2000-09-26
Filing date: 2000-09-26
Publication date: 2002-04-12
Anticipated expiration: 2020-09-26
Also published as: JP4411766B2

Abstract

(57)【要約】【課題】基板の洗浄の十分な高品質化を達成する。【解決手段】基板２の各表面に対して１対のローラ３
が設けられ、基板２に近い部分を除いてローラ３の外表
面の大半を包囲するように包囲部材４を設け、各ステー
タ４の所定位置に氷粒を含む純水を供給するための純水
供給口４ａを設け、ローラ３と基板２との間隙よりも上
方の所定位置に基板洗浄用薬液供給ノズル５を設けてい
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は基板洗浄方法およ
びその装置に関し、さらに詳細にいえば、氷粒を含む純
水を基板の表面に供給して基板を洗浄するための方法お
よびその装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来から、氷粒と純水とを基板の表面に
供給して基板を洗浄する方法および装置として、特開平
１１−１５１４６７号公報に示すように、基板の表面に
近接するようにスクリュウを配置するとともに、スクリ
ュウに純水または純水と薬液との混合液を供給する液体
供給ノズルおよび雪氷を供給する雪氷供給ノズルを配置
し、スクリュウにより純水または純水と薬液との混合液
および雪氷を回転させて基板の表面に押圧することによ
り、基板の表面を洗浄するものが提案されている。

【０００３】この洗浄方法、装置を採用すれば、枚葉処
理で基板の表面を洗浄することができ、しかも、洗浄の
高品質化を達成することができると思われている。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかし、特開平１１−
１５１４６７号公報に示す基板洗浄方法、装置を採用し
た場合には、洗浄の十分な高品質化を達成することがで
きない。

【０００５】さらに説明する。

【０００６】スクリュウの回転中心と外周とでは周速の
差が大きいので、場所によって基板の表面と、純水また
は純水と薬液との混合液および雪氷との相対速度が大き
く異なり、ひいては場所によって洗浄の程度にばらつき
を生じてしまう。

【０００７】洗浄室内に純水または純水と薬液との混合
液および雪氷の循環流が発生するので、基板からパーテ
ィクルを除去することにより汚染された純水または純水
と薬液との混合液および雪氷によって基板の再汚染が生
じてしまう。

【０００８】スクリュウの回転に伴う遠心力で洗浄室の
上部に出た純水または純水と薬液との混合液および雪氷
が重力の影響によって再び洗浄室内に入り、基板の再汚
染が生じてしまう。

【０００９】スクリュウの回転に伴う遠心力で洗浄室内
への純水または純水と薬液との混合液および雪氷の供給
をスムーズに行うことができない。

【００１０】これらの不都合に起因して、基板の洗浄の
十分な高品質化を達成することができないのである。

【００１１】

【発明の目的】この発明は上記の問題点に鑑みてなされ
たものであり、基板の洗浄の十分な高品質化を達成する
ことができる基板洗浄方法およびその装置を提供するこ
とを目的としている。

【００１２】

【課題を解決するための手段】請求項１の基板洗浄方法
は、氷粒を含む純水を基板の表面に供給して基板を洗浄
するに当たって、氷粒を含む純水を一方向に流し、基板
を自転させる方法である。

【００１３】請求項２の基板洗浄方法は、基板の洗浄対
象表面に近接するローラを設け、このローラを一方向に
回転させることにより氷粒を含む純水を一方向に流す方
法である。

【００１４】請求項３の基板洗浄方法は、基板をほぼ鉛
直状態で支持し、氷粒を含む純水の流れ方向を鉛直下向
きに設定する方法である。

【００１５】請求項４の基板洗浄方法は、ローラよりも
上方側から基板洗浄用薬液を供給する方法である。

【００１６】請求項５の基板洗浄方法は、氷粒を含む純
水と基板洗浄用薬液との界面を振動させる方法である。

【００１７】請求項６の基板洗浄装置は、氷粒を含む純
水を基板の表面に供給して基板を洗浄するものであっ
て、氷粒を含む純水を一方向に流す純水流動方向設定手
段と、基板を自転させる基板駆動手段とを含むものであ
る。

【００１８】請求項７の基板洗浄装置は、基板の洗浄対
象表面に近接するローラと、このローラを一方向に回転
させるローラ駆動手段とをさらに含むものである。

【００１９】請求項８の基板洗浄装置は、前記基板駆動
手段として、基板をほぼ鉛直状態で支持し、かつ自転さ
せるものを採用し、前記純水流動方向設定手段として、
氷粒を含む純水の流れ方向を鉛直下向きに設定するもの
を採用するものである。

【００２０】請求項９の基板洗浄装置は、ローラよりも
上方側から基板洗浄用薬液を供給する薬液供給手段をさ
らに含むものである。

【００２１】請求項１０の基板洗浄装置は、ローラの外
表面のうち、基板の洗浄対象表面から所定距離以上離れ
た外表面を包囲する包囲部材をさらに含み、包囲部材に
設けた純水供給口の下流側における包囲部材とローラと
の間隙を、ローラと基板の洗浄対象表面との間隙よりも
小さく設定したものである。

【００２２】請求項１１の基板洗浄装置は、包囲部材に
設けた純水供給口よりも上流側にローラ洗浄用薬液を供
給する薬液供給口を有するものである。

【００２３】請求項１２の基板洗浄装置は、前記ローラ
として、その外表面に複数の凹所を有するものを採用す
るものである。

【００２４】請求項１３の基板洗浄装置は、前記ローラ
として、その外表面に複数の外向き羽根部材を有するも
のを採用するものである。

【００２５】請求項１４の基板洗浄装置は、氷粒を含む
純水と基板洗浄用薬液との界面を脈動させる界面脈動手
段をさらに含むものである。

【００２６】

【作用】請求項１の基板洗浄方法であれば、氷粒を含む
純水を基板の表面に供給して基板を洗浄するに当たっ
て、氷粒を含む純水を一方向に流し、基板を自転させる
のであるから、基板の表面を均一に洗浄することができ
るとともに、基板の表面から除去されたパーティクルが
再付着することを防止することができ、ひいては基板洗
浄の高品質化を達成することができる。

【００２７】請求項２の基板洗浄方法であれば、基板の
洗浄対象表面に近接するローラを設け、このローラを一
方向に回転させることにより氷粒を含む純水を一方向に
流すのであるから、ローラの回転速度を高めることによ
り氷粒を含む純水の流速を向上させて洗浄性能を高める
ことができるほか、請求項１と同様の作用を達成するこ
とができる。

【００２８】請求項３の基板洗浄方法であれば、基板を
ほぼ鉛直状態で支持し、氷粒を含む純水の流れ方向を鉛
直下向きに設定するのであるから、重力の影響を利用し
て氷粒を含む純水の流れを作ることができるほか、請求
項１または請求項２と同様の作用を達成することができ
る。

【００２９】請求項４の基板洗浄方法であれば、ローラ
よりも上流側から基板洗浄用薬液を供給するのであるか
ら、請求項２または請求項３の作用に加え、基板洗浄用
薬液を併用することにより基板の洗浄性能を高めること
ができる。

【００３０】請求項５の基板洗浄方法であれば、氷粒を
含む純水と基板洗浄用薬液との界面を振動させるのであ
るから、請求項４の作用に加え、氷粒を含む純水と基板
洗浄用薬液との混合層を作るとともに、脈動化によって
基板の洗浄性能を高めることができる。

【００３１】請求項６の基板洗浄装置であれば、氷粒を
含む純水を基板の表面に供給して基板を洗浄するに当た
って、純水流動方向設定手段によって氷粒を含む純水を
一方向に流すとともに、基板駆動手段によって基板を自
転させることにより基板の表面を洗浄することができ
る。

【００３２】したがって、基板の表面を均一に洗浄する
ことができるとともに、基板の表面から除去されたパー
ティクルが再付着することを防止することができ、ひい
ては基板洗浄の高品質化を達成することができる。

【００３３】請求項７の基板洗浄装置であれば、基板の
洗浄対象表面に近接するローラと、このローラを一方向
に回転させるローラ駆動手段とをさらに含むのであるか
ら、ローラの回転速度を高めることにより氷粒を含む純
水の流速を向上させて洗浄性能を高めることができるほ
か、請求項６と同様の作用を達成することができる。

【００３４】請求項８の基板洗浄装置であれば、前記基
板駆動手段として、基板をほぼ鉛直状態で支持し、かつ
自転させるものを採用し、前記純水流動方向設定手段と
して、氷粒を含む純水の流れ方向を鉛直下向きに設定す
るものを採用するのであるから、重力の影響を利用して
氷粒を含む純水の流れを作ることができるほか、請求項
６または請求項７同様の作用を達成することができる。

【００３５】請求項９の基板洗浄装置であれば、ローラ
よりも上流側から基板洗浄用薬液を供給する薬液供給手
段をさらに含むのであるから、請求項７または請求項８
の作用に加え、基板洗浄用薬液を併用することにより基
板の洗浄性能を高めることができる。

【００３６】請求項１０の基板洗浄装置であれば、ロー
ラの外表面のうち、基板の洗浄対象表面から所定距離以
上離れた外表面を包囲する包囲部材をさらに含み、包囲
部材に設けた純水供給口の下流側における包囲部材とロ
ーラとの間隙を、ローラと基板の洗浄対象表面との間隙
よりも小さく設定したのであるから、請求項７から請求
項９の何れかの作用に加え、氷粒が基板とローラとの間
に噛み込んで基板を傷付けてしまうことを防止すること
ができる。

【００３７】請求項１１の基板洗浄装置であれば、包囲
部材に設けた純水供給口よりも上流側にローラ洗浄用薬
液を供給する薬液供給口を有するのであるから、請求項
１０の作用に加え、基板の洗浄を行わない期間にローラ
を洗浄することによりローラにおける蓄積汚染を防止す
ることができる。

【００３８】請求項１２の基板洗浄装置であれば、前記
ローラとして、その外表面に複数の凹所を有するものを
採用するのであるから、請求項７から請求項１１の何れ
かの作用に加え、ローラの表面積、摩擦抵抗を大きくし
て氷粒を含む純水のすべりを防止し、しかも、氷粒を含
む純水の流れに渦を作るとともに、氷粒を掻き削って小
さな氷粒にして洗浄性能を高めることができる。

【００３９】請求項１３の基板洗浄装置であれば、前記
ローラとして、その外表面に複数の外向き羽根部材を有
するものを採用するのであるから、請求項７から請求項
１１の何れかの作用に加え、外向き羽根部材によって遠
心力を発生させ、この遠心力により基板に面圧を与えて
洗浄性能を高めることができるとともに、氷粒の掻き込
みを容易にして洗浄性能を高めることができる。

【００４０】請求項１４の基板洗浄装置であれば、氷粒
を含む純水と基板洗浄用薬液との界面を脈動させる界面
脈動手段をさらに含むのであるから、請求項９から請求
項１３の何れかの作用に加え、氷粒を含む純水と基板洗
浄用薬液との混合層を作るとともに、脈動化によって基
板の洗浄性能を高めることができる。

【００４１】

【発明の実施の形態】以下、添付図面を参照して、この
発明の基板洗浄方法およびその装置の実施の態様を詳細
に説明する。

【００４２】図１はこの発明の基板洗浄装置の一実施態
様を示す概略側面図、図２は同概略正面図である。

【００４３】この基板洗浄装置は、コ字状の枠体１の下
辺部材の所定位置に設けた駆動ローラチャック１ａおよ
び従動ローラチャック１ｂと、上辺部材の所定位置に昇
降可能に設けた従動ローラチャック１ｃとで鉛直状態と
なるように支持された基板２の各表面に対して所定の間
隙ｈを存して対向され、かつ中心軸が水平方向を向くよ
うに１対のローラ３が設けられている。ここで、間隙ｈ
を小さくすることが好ましく（例えば、５／１００〜１
ｍｍ程度）、氷粒を含む純水と基板洗浄用薬液との混合
液の必要量を少なくし、しかも洗浄性能を高めることが
できる。

【００４４】そして、基板２に近い部分を除いてローラ
３の外表面の大半を包囲するように包囲部材（ステー
タ）４を設け、各ステータ４の所定位置に氷粒を含む純
水を供給するための純水供給口４ａを設けているととも
に、純水供給口４ａよりも上流側の所定位置に、ローラ
洗浄用薬液を供給するためのローラ洗浄用薬液供給口４
ｂを設けている。

【００４５】また、ローラ３と基板２との間隙よりも上
方の所定位置に基板洗浄用薬液供給ノズル５を設けてい
る。

【００４６】なお、１ｄは駆動ローラチャック１ａを駆
動するためのモータ、６は薬液供給源、７は氷粒を含む
純水を供給するための純水供給源である。

【００４７】また、ローラ３の回転方向は、氷粒を含む
純水および各薬液を基板２の表面に沿って鉛直下方に導
くことができる方向（図１中矢印参照）に設定されてい
る。

【００４８】そして、純水供給口４ａよりも下流側にお
けるローラ３とステータ４との間隙がローラ３と基板２
との間隙ｈよりも小さく設定されている。

【００４９】前記コ字状の枠体１は、洗浄位置に対する
基板２の搬入、搬出を行うべく往復移動するものであ
る。

【００５０】前記ローラ３は基板２の直径とほぼ等しい
長さを有するものとして図示されているが、基板２が自
転されるのであるから、基板２の半径とほぼ等しい長さ
を有するものを採用することが可能である。また、基板
２の半径よりも短い長さを有するローラを採用し、この
ローラを昇降させることによって基板２の全表面を洗浄
することも可能である。この場合には、洗浄の終期にロ
ーラを基板２の下端縁部に正対させることにより、再汚
染を確実に防止することができる。

【００５１】上記の構成の基板洗浄装置の作用は次のと
おりである。

【００５２】コ字状の枠体１を移動させることにより基
板２を１対のローラ３の間に位置させ、この状態におい
て、基板２を自転させるとともに、１対のローラ３を矢
印方向に回転させながら、純水供給口４ａから氷粒を含
む純水を、基板洗浄用薬液供給ノズル５から基板洗浄用
薬液（アルコール、アンモニア水など）を供給する。こ
の場合には、１対のローラ３の位置は全く変化しないの
であるから、基板２とローラ３との間隙ｈを正確に再現
することができる。

【００５３】この結果、氷粒を含む純水と基板洗浄用薬
液との混合液が基板２とローラ３との間隙を通って鉛直
下方に流れ、基板２の表面の全範囲を均一に洗浄するこ
とができる。また、氷粒を含む純水と基板洗浄用薬液と
の混合液は一方向に流れるだけであるから、パーティク
ルの再付着が発生するおそれはない。したがって、基板
２の洗浄性能を高めることができる。

【００５４】そして、ローラ３の回転速度を高めること
によって混合液の流速を高め、洗浄性能を一層高めるこ
とができる。

【００５５】また、氷粒を含む純水と基板洗浄用薬液と
の混合液は鉛直下向きに流れるのであるから、重力をこ
の流れの形成に利用することができ、重力に逆らって流
れを形成する場合と比較して流れの形成を簡単化するこ
とができる。

【００５６】さらに、純水供給口４ａよりも下流側にお
けるローラ３とステータ４との間隙がローラ３と基板２
との間隙ｈよりも小さく設定されているので、氷粒が基
板２とローラ３との間に噛み込んで基板２が傷付くこと
を確実に防止することができる。

【００５７】さらにまた、基板２の洗浄を行うと、ロー
ラ３が汚染される可能性があるが、洗浄後の基板２を搬
出した後に、ローラ洗浄用薬液供給口４ｂからローラ洗
浄用薬液（基板洗浄用薬液と同じ薬液）を供給すること
により、ローラ３の外表面を洗浄して蓄積汚染を防止
し、次の基板２の洗浄に備えることができる。

【００５８】なお、上記の実施態様においては、氷粒を
含む純水と基板洗浄用薬液との混合液を基板２とローラ
３との間隙に向かって供給するようにしているが、多少
の洗浄性能の低下を許容する場合には、氷粒を含む純水
のみを供給することが可能である。

【００５９】また、上記の実施態様においては、基板２
の両表面に対応させてローラ３を設けて基板２の両面を
洗浄するようにしているが、基板２の一方の表面のみに
対応させてローラ３を設けて基板２の一面のみを洗浄す
るよう構成することが可能である。

【００６０】さらに、ローラ３を鉛直方向を向くように
配置することが可能である。

【００６１】図３はこの発明の基板洗浄装置の他の実施
態様の要部を示す概略側面図である。

【００６２】この基板洗浄装置が図１の基板洗浄装置と
異なる点は、ローラ３の外表面に複数の凹所３ａを形成
した点、および純水供給口４ａよりも下流側に整流板部
材８を設けた点のみである。

【００６３】前記凹所３ａとしては、矩形溝、三角溝、
半円溝など、種々の形状のものが採用可能である。ま
た、これらの溝は、ローラ３の中心軸と平行に形成され
ていてもよい｛図４中（Ａ）参照｝が、中心軸に対して
所定角度をなすように形成されていてもよく｛図４中
（Ｂ）参照｝、Ｖ字状のように屈曲するように形成され
ていてもよく｛図４中（Ｃ）参照｝、網目状に交差する
ように形成されていてもよい｛図４中（Ｄ）参照｝。こ
れらの溝の幅、深さは、共に０．１〜１ｍｍであればよ
い。さらに、微少な矩形孔、三角孔、円孔｛図４中
（Ｅ）参照｝などの形状のものも採用可能である。

【００６４】前記整流板部材８としては、平板、湾曲板
などからなるものが採用可能である。そして、この整流
板部材８は、外部から与えられる力によって振動される
ものであってもよいが、ばね鋼のように自身で振動する
ものであってもよい。

【００６５】この実施態様の場合には、ローラ３の外表
面の凹所３ａを形成したことにより、表面積および摩擦
抵抗を大きくし、氷粒を含む純水の滑りを防止し、もし
くは抑制することができる。

【００６６】また、氷粒を含む純水の流れに渦を作るこ
とができ、ひいては洗浄性能を高めることができる。

【００６７】さらに、氷粒を掻き削って、より小さな氷
粒にすることができ、ひいては洗浄性能を高めることが
できる。

【００６８】さらにまた、整流板部材８が振動すること
により、図５に示すように、氷粒を含む純水の流れを脈
動化して洗浄性能を高めることができ、しかも氷粒を含
む純水と基板洗浄用薬液との混合層を作り、この面から
も洗浄性能を高めることができる。

【００６９】図６はこの発明の基板洗浄装置のさらに他
の実施態様の要部を示す概略側面図である。

【００７０】この基板洗浄装置が図３の基板洗浄装置と
異なる点は、ローラ３の外表面に複数の凹所３ａを形成
する代わりに、ローラ３の外表面に複数の外向き羽根部
材３ｂを形成した点のみである。

【００７１】前記外向き羽根部材３ｂとしては、図６に
示すようにローラ３の半径方向に延びるもの、図７に示
すように、半径方向よりもローラ３の回転方向に傾斜す
るように延びるものなどが採用可能である。また、これ
らの外向き羽根部材３ｂは、ローラ３の中心軸と平行に
形成されていてもよいが、中心軸に対して所定角度をな
すように形成されていてもよい。そして、外向き羽根部
材３ｂ同士の間隔、長さは、共に数ｍｍ程度であればよ
い。

【００７２】この実施態様の場合には、外向き羽根部材
どうしの間隙に氷粒を含む純水を受け取ってローラ３の
回転に伴って搬送することができ、遠心力によって基板
２に面圧を与え、洗浄性能を高めることができる。

【００７３】また、純水供給口４ａからの氷粒を含む純
水の掻き込みを容易に行うことができる。

【００７４】

【発明の効果】請求項１の発明は、基板の表面を均一に
洗浄することができるとともに、基板の表面から除去さ
れたパーティクルが再付着することを防止することがで
き、ひいては基板洗浄の高品質化を達成することができ
るという特有の効果を奏する。

【００７５】請求項２の発明は、ローラの回転速度を高
めることにより氷粒を含む純水の流速を向上させて洗浄
性能を高めることができるほか、請求項１と同様の効果
を奏する。

【００７６】請求項３の発明は、重力の影響を利用して
氷粒を含む純水の流れを作ることができるほか、請求項
１または請求項２と同様の効果を奏する。

【００７７】請求項４の発明は、請求項２または請求項
３の効果に加え、基板洗浄用薬液を併用することにより
基板の洗浄性能を高めることができるという特有の効果
を奏する。

【００７８】請求項５の発明は、請求項４の効果に加
え、氷粒を含む純水と基板洗浄用薬液との混合層を作る
とともに、脈動化によって基板の洗浄性能を高めること
ができるという特有の効果を奏する。

【００７９】請求項６の発明は、基板の表面を均一に洗
浄することができるとともに、基板の表面から除去され
たパーティクルが再付着することを防止することがで
き、ひいては基板洗浄の高品質化を達成することができ
るという特有の効果を奏する。

【００８０】請求項７の発明は、ローラの回転速度を高
めることにより氷粒を含む純水の流速を向上させて洗浄
性能を高めることができるほか、請求項６と同様の効果
を奏する。

【００８１】請求項８の発明は、重力の影響を利用して
氷粒を含む純水の流れを作ることができるほか、請求項
６または請求項７同様の効果を奏する。

【００８２】請求項９の発明は、請求項７または請求項
８の効果に加え、基板洗浄用薬液を併用することにより
基板の洗浄性能を高めることができるという特有の効果
を奏する。

【００８３】請求項１０の発明は、請求項７から請求項
９の何れかの効果に加え、氷粒が基板とローラとの間に
噛み込んで基板を傷付けてしまうことを防止することが
できるという特有の効果を奏する。

【００８４】請求項１１の発明は、請求項１０の効果に
加え、基板の洗浄を行わない期間にローラを洗浄するこ
とによりローラにおける蓄積汚染を防止することができ
るという特有の効果を奏する。

【００８５】請求項１２の発明は、請求項７から請求項
１１の何れかの効果に加え、ローラの表面積、摩擦抵抗
を大きくして氷粒を含む純水のすべりを防止し、しか
も、氷粒を含む純水の流れに渦を作るとともに、氷粒を
掻き削って小さな氷粒にして洗浄性能を高めることがで
きるという特有の効果を奏する。

【００８６】請求項１３の発明は、請求項７から請求項
１１の何れかの効果に加え、外向き羽根部材によって遠
心力を発生させ、この遠心力により基板に面圧を与えて
洗浄性能を高めることができるとともに、氷粒の掻き込
みを容易にして洗浄性能を高めることができるという特
有の効果を奏する。

【００８７】請求項１４の発明は、請求項９から請求項
１３の何れかの効果に加え、氷粒を含む純水と基板洗浄
用薬液との混合層を作るとともに、脈動化によって基板
の洗浄性能を高めることができるという特有の効果を奏
する。

【図面の簡単な説明】

【図１】この発明の基板洗浄装置の一実施態様を示す概
略側面図である。

【図２】同上の概略正面図である。

【図３】この発明の基板洗浄装置の他の実施態様の要部
を示す概略側面図である。

【図４】溝の形状、孔の配置パターンを示す概略図であ
る。

【図５】整流板部材の作用を説明する概略図である。

【図６】この発明の基板洗浄装置のさらに他の実施態様
の要部を示す概略側面図である。

【図７】外向き羽根部材の他の例を示す要部側面図であ
る。

【符号の説明】

１ａ駆動ローラチャック１ｂ、１ｃ従動ローラ
チャック１ｄモータ２基板３ローラ３ａ凹所３ｂ外向き羽根部材４ステータ４ａ純水供給口５基板洗浄用薬液供給ノズル８整流板部材

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号ＦＩテーマコート゛(参考）Ｂ０８Ｂ 3/10 Ｂ０８Ｂ 3/10 Ａ 7/04 7/04 ＺＦターム(参考） 3B116 AA03 AB33 AB42 BA06 BB22 BB87 CD24 3B201 AA03 AB33 AB42 BA06 BB22 BB87 BB92 BB93 BB95 CB01 CD24

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】氷粒を含む純水を基板の表面に供給して
基板を洗浄する方法であって、氷粒を含む純水を一方向
に流し、基板を自転させることを特徴とする基板洗浄方
法。
【請求項２】基板の洗浄対象表面に近接するローラを
設け、このローラを一方向に回転させることにより氷粒
を含む純水を一方向に流す請求項１に記載の基板洗浄方
法。
【請求項３】基板をほぼ鉛直状態で支持し、氷粒を含
む純水の流れ方向を鉛直下向きに設定する請求項１また
は請求項２に記載の基板洗浄方法。
【請求項４】ローラよりも上方側から基板洗浄用薬液
を供給する請求項２または請求項３に記載の基板洗浄方
法。
【請求項５】氷粒を含む純水と基板洗浄用薬液との界
面を振動させる請求項４に記載の基板洗浄方法。
【請求項６】氷粒を含む純水を基板（２）の表面に供
給して基板（２）を洗浄する装置であって、氷粒を含む純水を一方向に流す純水流動方向設定手段
（３）と、基板を自転させる基板駆動手段（１ａ）（１ｂ）（１
ｃ）とを含むことを特徴とする基板洗浄装置。
【請求項７】基板（２）の洗浄対象表面に近接するロ
ーラ（３）と、このローラ（３）を一方向に回転させる
ローラ駆動手段（１ｄ）とをさらに含む請求項６に記載
の基板洗浄装置。
【請求項８】前記基板駆動手段（１ａ）（１ｂ）（１
ｃ）は、基板（２）をほぼ鉛直状態で支持し、かつ自転
させるものであり、前記純水流動方向設定手段（３）
は、氷粒を含む純水の流れ方向を鉛直下向きに設定する
ものである請求項６または請求項７に記載の基板洗浄装
置。
【請求項９】ローラ（３）よりも上流側から基板洗浄
用薬液を供給する薬液供給手段（５）をさらに含む請求
項７または請求項８に記載の基板洗浄装置。
【請求項１０】ローラ（３）の外表面のうち、基板
（２）の洗浄対象表面から所定距離以上離れた外表面を
包囲する包囲部材（４）をさらに含み、包囲部材（４）
に設けた純水供給口（４ａ）の下流側における包囲部材
（４）とローラ（３）との間隙を、ローラ（３）と基板
（２）の洗浄対象表面との間隙よりも小さく設定してい
る請求項７から請求項９の何れかに記載の基板洗浄装
置。
【請求項１１】包囲部材（４）に設けた純水供給口
（４ａ）よりも上流側にローラ洗浄用薬液を供給する薬
液供給口（４ｂ）を有している請求項１０に記載の基板
洗浄装置。
【請求項１２】前記ローラ（３）は、その外表面に複
数の凹所（３ａ）を有している請求項７から請求項１１
の何れかに記載の基板洗浄装置。
【請求項１３】前記ローラ（３）は、その外表面に複
数の外向き羽根部材（３ｂ）を有している請求項７から
請求項１１の何れかに記載の基板洗浄装置。
【請求項１４】氷粒を含む純水と基板洗浄用薬液との
界面を脈動させる界面脈動手段（８）をさらに含む請求
項９から請求項１３の何れかに記載の基板洗浄装置。