JP2002091271A - ホログラム形成体及びその作製方法 - Google Patents
ホログラム形成体及びその作製方法Info
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- G03H1/0486—Improving or monitoring the quality of the record, e.g. by compensating distortions, aberrations
Landscapes
- Holo Graphy (AREA)
Abstract
りを可能な限り解消する。 【解決手段】 第1の基板5、ホログラム感材層6、第
2の基板3をこの順で積層するホログラム形成体におい
て、第1の基板5のホログラム感材層6の反対側の面に
反りを矯正するための層9を形成する。反りを矯正する
ための層9は、好ましくは、接着剤層11とガラス層1
0とで形成される。
Description
間にホログラム感材を積層したホログラム形成体及びそ
の製造方法に関する。
板ガラスを被覆した種々の機能を付与した基板があり、
例えば、体積ホログラムを形成する積層体もその1例で
ある。体積ホログラムは、立体像の表示用、計測用、光
学素子等に用いられており、工業的には同じ体積ホログ
ラムを多量に複製する必要がある。従来、この複製は次
のようにして行っていた。なお、以下の記述でホログラ
ム材料は代表的な体積型のホログラム材料である米国デ
ュボン社「OMNIDEX」(商標名)等のフォトポリ
マー想定している。
用基板(ガラス基板上に体積ホログラム形成用樹脂組成
物層を塗布したもの)を重ね合わせて露光し、露光後、
紫外線照射(=光重合開始剤の分解及び重合)、および
加熱処理(=光重合可能な化合物の拡散移動)の各工程
を行うことによりホログラム原版が体積ホログラム形成
用樹脂組成物層に複製される。
さらに複製用原版としてそのまま使用され、前記と同様
な体積ホログラム形成用基板を準備して、ホログラム層
側を体積ホログラム形成用基板に接触させて露光するこ
とにより、体積ホログラムの生産を行っている。
いて大量複製を行う場合も、ホログラムを製造する際に
は、基板上にホログラム形成用の光硬化性樹脂組成物層
を積層したホログラム形成用感光材を使用し、光硬化牲
樹脂組成物層にホログラム情報を露光し、その後、末反
応の光硬化性樹脂を重合部分に移動させる目的で加熱処
理を行っている。具体的には、基板(第1の基板)上に
体積ホログラム形成用樹脂組成物層を積層したホログラ
ム感光材(ホログラム感材層)にホログラム情報を露光
した後、前記体積ホログラム形成用樹脂組成物層上に透
明基板(第2の基板)を光学接着剤を介して積層し、積
層後、加熱処理を行っている。
ば、前記光学接着剤が硬化すると体積が収縮するため、
ホログラム形成体に反りが生じる恐れがある。また、ホ
ログラム感材層に起因して、前記のような反りが生じる
ことも起こり得る。このような反りが生じると、例え
ば、ホログラム形成体と液晶の駆動用の電極を持つ基板
と合せた際、ホログラム形成体表面とこの基坂表面と間
隔が一定にならないことが起こり、この間に封入する液
晶の配向が不均一になるというというような不都合が生
じる。
であり、その目的は、ホログラム形成体を製造する際
に、接着剤等の収縮あるいはホログラム感材層や保護層
などに起因して生じる反りを可能な限り解消し、極めて
高い表面平坦度を維持することのできるホログラム形成
体及びその作製方法を提供することにある。
めの本発明によるホログラム形成体は、少なくとも、第
1の基板、ホログラム感材層、及び第2の基板をこの順
で積層するホログラム形成体において、第1の基板のホ
ログラム感材層の反対側の面に、反りを矯正するための
層をさらに有することを特徴とする。上記ホログラム形
成体は、第1の基板と第2の基板の間にさらに少なくと
もホログラム感材層以外の1層もしくはそれ以上の中間
層を積層していてもよく、該中間層としては、接着剤層
や保護層などであってよい。
の基板のホログラム感材層とは反対側の面に反りを矯正
するための層を有することにより、定法により形成した
ホログラム形成体に反りが生じた場合でも反りが矯正さ
れ、第2の基板側の高い表面平坦度が得られる。それに
より、ホログラム形成体が例えばホログラムカラーフィ
ルターである場合に、ホログラムカラーフィルターと液
晶の駆動用の電極を持つ基板と合せた際の両表面間の間
隔を一定にすることができ、封入する液晶の配向が不均
一になるように事態が生じるのを回避することができ
る。
成されるホログラム形成体に生じることが予測される反
りの大きさを勘案して、それを是正できる適宜の層であ
ってよく、実際に設計されるホログラム形成体に応じ
て、計算によりあるいは実験的に最適のものを定めれば
よい。例としては、加熱硬化により体積が収縮するよう
な材料(有機物等)を第1の基板の裏面に塗布あるいは
真空成膜などにより単層又は多層に形成するようなもの
が挙げられる。
材と第2の基材とを接着する接着剤が硬化するときの体
積収縮に起因するか、第1の基材に積層したホログラム
感材層に起因して生じるが、多くの場合、第1の基材と
第2の基材とを接着する接着剤の体積収縮に起因する。
そのために、前記反りを矯正するための層の特に好まし
い態様は、第3の基板と該第3の基板を第1の基板を接
着するための接着剤とからなる層である。第3の基板と
第1の基板との間の接着剤の種類や量を適宜選択するこ
とにより、第1の基材と第2の基材とを接着する接着剤
の体積収縮に起因して生じる反りを矯正するだけの逆方
向の反りを容易に生成させることが可能となり、第2の
基板側の高い表面平坦度を持つホログラム形成体を確実
に製造することができる。
しくは第1の基板は第2の基板よりも厚くされ、かつ、
反りを矯正するための層を構成する第3の基板の厚さは
第1の基板1/100〜1/2倍で、かつ第2の基板の
1/10〜10倍であり、接着剤の厚さは中間層の1/
5〜10倍とされる。第3の基板の厚さが上記の範囲を
はずれると、逆に第2の基板への反りを増加させるとい
う不都合が生じ、第3の基板と第1の基板との間の接着
剤の厚みが上記の範囲をはずれると、厚い場合は第2の
基板が逆に反転して凸になる不都合が生じ、薄い場合に
は反りを矯正する効果が生じない。
板、ホログラム感材層、及び第2の基板をこの順で積層
するホログラム形成体を製造したのちに、第1の基板の
ホログラム感材層の反対側の面に反りを矯正するための
層を積層することを特徴とするホログラム形成体の製造
方法、及び、少なくとも、第1の基板、ホログラム感材
層、及び第2の基板をこの順で積層したホログラム形成
体を製造するに際して、第1の基板の一方の反りを矯正
するための層を積層形成し、その後、第1の基板の反り
を矯正するための層の反対側の面にホログラム感材層及
び第2の基板とを順次積層することを特徴とするホログ
ラム形成体の製造方法を開示する。
るための層は、本体であるホログラム形成体を製造した
のちに、積層形成するようにしてもよく、一方の基板に
反りを矯正するための層を形成したのちに、該基板を用
いてホログラム形成体本体を積層成形するようにしても
よい。
成体及びその作製方法の一実施の形態を図面を参照して
説明する。図1〜図6は、本発明によるホログラム形成
体を従来知られた回転塗布機を用いて製造する場合の例
を示す要部断面図である。図1に示すように、台である
回転塗布機に設置されている被塗布体固定用のアルミニ
ウム製等のエアチャック1上に定盤2を真空吸引して固
定する。定盤2の固定は、機械的に行う等、真空吸引以
外の手段で固定してもかまわない。
固定したとは反対側の面は、平面性を高めた平坦面であ
ることが望ましく、フラットネスが0.5μm以下のも
ので、材質は例えばショット製BaK50ガラスのもの
を使用する。このように平面性を高めると、次に説明す
る第2の基板3の密着工程で、定盤2と第2の基板3が
隙間無しに接するので、真空吸引するような操作を伴う
ことなく密着が保たれる。
20mmであることが望ましく、第2の基板3としての
65mm×85mm、厚み100μmの薄板ガラスを置
くための定盤2は、53mm×53mm、厚み6mmで
あってよい。因みに、この例において、後記する第1の
基板5の大きさは65mm×65mm、厚み1.1mm
である。定盤2の材質としては、第2の基板3のガラス
と同様の膨張係数を持ち、接着剤を硬化するための紫外
線を透過するものが望ましい。例えば商品名が硼珪酸ガ
ラス、7059、1737、AF45、パイレツタス、
テンバックス、8337B、8338、BK7、IR5
088、IR5188、0700、0709、BaK5
0等がある。
3を置いて密着させた状態を示している。なお、ここで
いう密着とは、定盤2と第2の基板3の各々の基板表面
の高低差△xが1μm以下である平坦性の高い基板同士
が積層された場合に、自己の真空吸着状態のような作用
効果を奏することを意味する。さらに、ここで、高低差
△xは基板表面の凹凸及び反り量を表す。他の積層方法
としては、基板間を外部より真空ポンプ等を用いて真空
吸着する方法、基板間に荷重あるいは圧力を加えて密着
させる方法、又は、接着剤を用いて両者間の密着強度を
高める方等がある。また、第2の基板3の材質は定盤と
同じものが望ましいが、膨張係数の近いものでもあれば
異なった材質でもよい。
(例えば、光学接着剤)をディスペンサー等を使用して
滴下したのち、その上に、重ね合わせるべき積層基板5
Aを置いた様子を示すものである。積層基板5Aは、第
1の基板5と、その裏面に形成した、レーザにてホログ
ラムパターンを露光後、紫外線照射(光重合開始剤の分
解)したホログラム感材層(体積ホログラム層)6と、
PVA等である保護膜7とを有している。第1の基板5
は、ガラスやセラミックスのような材料であってよく、
ガラス材質の場合には、定盤2あるいは第2の基板3と
同じものが望ましいが、膨張係数の近いものでもあれば
異なった材質でもよい。液状の接着剤4をディスペンサ
ー等を使用して滴下する際、貼り合わせに十分かつ過剰
でない量になるよう吐出条件を設定しておき、気泡が混
入しないようにして注意して行う。第1の基板5の重
量、接着剤4の吐出畳にもよるが、第1の基板5の自重
により接着剤4が多少広がって、図3に示すような状態
となる。
接着剤4が第2の基板3と第1の基板5(積層基板5
A)の間で周囲まで行き渡り、それに伴って接着剤の厚
みが減少し、余った接着剤が周囲よりはみ出すので、余
剰の接着剤を遠心力により振り切る。このとき接着剤の
粘度、経過時間に対する回転数(=回転数/分)および
回転時間を調整することにより接着剤の厚みの制御を行
うことができる。
板5(積層基板5A)が接着剤4により積層される。図
4は積層された状態を示す。この状態では接着剤4は未
硬化であり、定盤2に乗った状態でホログラム形成体8
をエアチャック1から取り外したのち、接着剤4が電離
放射線硬化性のものであれば、電離放射線(例えば、電
子線や紫外線)を照射して接着剤4を硬化する。この
後、第2の基板3と第1の基板5(積層基板5A)が一
体になったホログラム形成体8を定盤2から剥がす。
後に、エアチャック1からホログラム形成体8を剥がし
た状態を示す。図示されるように、上記のようにして作
られるホログラム形成体8は、接着剤4の硬化収縮等に
起因してり、反った状態となりがちである。なお、図で
は分かり易さのために反りの状態を誇張して示している
が、通常、前記した大きさのホログラム形成体8の場合
に、反りは3μm〜10μm程度である。
5の表面側、すなわち、第1の基板5のホログラム感材
層6及び接着剤層7の反対側の面に、反りを矯正するた
めの層9を形成する。図6はその状態を示しており、エ
アチャック1に固定した定盤2の上に、第3の基板10
(前記した第1の基板5と同じ材質であってよい)を密
着させ、その上に、接着剤11(前記した第2の基板3
と積層基板5Aとの接着に用いた接着剤4と同じもので
あってよく、別の熱硬化型接着剤であってもよい)をデ
ィスペンサー等を使用して滴下したのち、その上に、ホ
ログラム形成体8を反転した姿勢で乗せる。その後、単
に自重により、あるいは、図3、図4に基づき説明した
ように回転塗布機を回転させて、接着剤11を第1の基
板5と第3の基板10の間で周囲まで行き渡らせる。そ
れにより、第1の基板5の表面に反りを矯正するための
層9が積層されたホログラム形成体20が形成される。
該ホログラム形成体20をエアチャック1と定盤2から
剥がして接着剤11を硬化させたのち、加熱処理(15
0℃で2時間程度)を行う。
成体20を示しており、接着剤11の硬化収縮により、
最初に生じていた反りは矯正され、第2の基板3は高い
表面平坦度が得られている。ちなみに、このホログラム
形成体20の第2の基板3の表面をフィーゾ干渉計で評
価したところ、この表面の平坦度は1.5μmであり、
液晶表示の色ムラの原因にはならなかった。なお、本発
明で使用したホログラム感材6としたOMN工DEXの
例は次のようなものである(出典:雑誌 機能材料 1
995年8月号、VO115、No8、P51)。
において、第1〜第3の基板としては、ガラス、プラス
チックまたはセラミックの少なくとも1種類を用いたも
のの組合わせでよく、さらに、中間層は接着剤層を含
み、また、加熱現像の条件としては、温度100〜20
0℃の範囲、加熱時間は0.5〜5hrであるでことが
望ましい。
ものを準備した。 感光材形成用組成物: 酪酸ビニル 30重量部 酢酸ビニル 30重量部 N−ビニルカルバゾール 37重量部 へキサアリールビスイミデゾール 3重量部
素を添加し、厚み1100μmのガラス基板(コーニン
グ社製コーニング1737、膨張係数38×10−7/
℃)上に厚み3.8μmの感光材層を形成した。別に準
備した体積ホログラム原版を上記で得られたホログラム
感光材層上に置き、波長488nmのArレーザ光源を
用いてホログラム露光を行い、露光後、超高圧水銀灯
(強度300W)を用い、365nmの光を取り出して
2分間照射することにより(露光量3000mJ/cm
2)、露光後に未反応で残ったモノマーを硬化させて複
製ホログラムを得た。
接着剤である光学接着剤(ナガセケムテック社製、XN
R5507F)をスピンナーを使用して5μm塗布し、
塗布面に厚み100μmの透明ガラス(ショット社製A
F45、膨張係数45×10 −7/℃)の薄板を粘り合
わせ、貼り合わせたものに紫外線を照射(365nm、
9J/cm2)して接着剤を硬化させた。
μmのガラス基板側に、上記光学接着剤を、スピンナー
を使用して5μm塗布し、塗布面に厚み100μmの透
明ガラス(ショット社製AF45)の薄板を貼り合わ
せ、貼り合せたものに紫外線を照射(365nm,9J
/cm2)して接着剤を硬化させた。その後、温度15
0℃のオープン中に2時間置いて加熱処理した。加熱処
理後、ホログラム感材を持つ基板ガラス面側の薄板ガラ
ス表面をフイーゾ干渉計で測定したところ1.5μmの
高平坦度であった。
板(コーニング社製コーニング1737)に、光学接着
剤(ナガセケムテック社製XNR5507)を、スピン
ナーを使用して5μm塗布し、塗布面に厚み100μm
の透明ガラス(ショット社製AF45)の薄板を貼り合
せ、貼り合せたものに紫外線を照射(365nm,9J
/cm2)して接着剤を硬化させた。この薄板付き基板
の基板ガラス側の面に以下の感光材料を厚み3.8μm
塗布した。
素を添加した。別に準備した体積ホログラム原版を上記
で得られたホログラム感光材層上に置き、波長488n
mのArレーザ光源を用いてホログラム露光を行い、露
光後、超高圧水銀灯(強度300W)を用い、365n
mの光を取り出して2分間照射することにより(露光量
3000mJ/cm2)、露光後に未反応で覆ったモノ
マーを硬化させて複製ホログラムを得た。
接着剤である光学接着剤(ナガセケムテック社製、XN
R5507)を、スピンナーを使用して5μm塗布し、
塗布面に厚み100μmの透明ガラス(ショット社製A
F45、膨張係数45×10 −7/℃)の薄坂を貼り合
わせ、貼り合わせたものに紫外線を照射(365nm、
9J/cm2)して接着剤を硬化させた。その後、温度
150℃のオープン中に2時間置いて加熱処理した。加
熱処理後、ホログラム感材を持つ基板ガラス両側の薄板
ガラス表面をフイーゾ干渉計で測定したところ1.5μ
mの高平坦度であった。
造する際に、接着剤等の収縮あるいはホログラム感材層
や保護層などに起因して生じる反りを可能な限り解消し
た、極めて高い表面の平坦度を備えたホログラム形成体
が得られる。
図。
図。
を示す図。
形成体の断面図。
着剤、5A…積層基板、5…第1の基板、6…ホログラ
ム感材層、7…保護膜、8…ホログラム形成体、9…反
りを矯正するための層、10…第3の基板、11…接着
剤、20…本発明によるホログラム形成体
Claims (12)
- 【請求項1】 少なくとも、第1の基板、ホログラム感
材層、及び第2の基板をこの順で積層するホログラム形
成体において、第1の基板のホログラム感材層の反対側
の面には、反りを矯正するための層を有することを特徴
とするホログラム形成体。 - 【請求項2】 前記ホログラム形成体において、第1の
基板と第2の基板の間にさらに少なくともホログラム感
材層以外の1層もしくはそれ以上の中間層を積層したこ
とを特徴とする請求項1記載のホログラム形成体。 - 【請求項3】 前記中間層が接着剤層を含むことを特徴
とする請求項2記載のホログラム形成体。 - 【請求項4】 前記反りを矯正するための層が、塗布し
た材料及びその多層膜であることを特徴とする請求項1
ないし3いずれか記載のホログラム形成体。 - 【請求項5】 前記反りを矯正するための層が、真空成
膜した材料及びその多層膜であることを特徴とする請求
項1ないし3いずれか記載の特徴とするホログラム形成
体。 - 【請求項6】 前記反りを矯正するための層が、塗布し
た材料と真空成膜した材料の複合した層であることを特
徹とする請求項1ないし3いずれか記載の特徴とするホ
ログラム形成体。 - 【請求項7】 前記反りを矯正するための層が、第3の
基板と該第3の基板を第1の基板を接着するための接着
剤とからなる層であることを特徴とする請求項1ないし
3いずれか記載の特徴とするホログラム形成体。 - 【請求項8】 第1の基板は第2の基板よりも厚く、反
りを矯正するための層を構成する第3の基板の厚さは第
1の基板1/100〜1/2倍で、かつ第2の基板の1
/10〜10倍であり、接着剤の厚さが中間層の1/5
〜10倍であることを特徴とするホログラム形成体。 - 【請求項9】 ホログラム形成体がホログラムカラーフ
ィルターである請求項1ないし8いずれか記載のホログ
ラム形成体。 - 【請求項10】 少なくとも、第1の基板、ホログラム
感材層、及び第2の基板をこの順で積層するホログラム
形成体を製造したのちに、第1の基板のホログラム感材
層の反対側の面に反りを矯正するための層を積層するこ
とを特徴とするホログラム形成体の製造方法。 - 【請求項11】 少なくとも、第1の基板、ホログラム
感材層、及び第2の基板をこの順で積層したホログラム
形成体を製造するに際して、第1の基板の一方の反りを
矯正するための層を積層形成し、その後、第1の基板の
反りを矯正するための層の反対側の面にホログラム感材
層及び第2の基板とを順次積層することを特徴とするホ
ログラム形成体の製造方法。 - 【請求項12】 反りを矯正するための層が第3の基板
と該第3の基板を第1の基板を接着するための接着剤と
からなる層であることを特徴とする請求項10又は11
記載のホログラム形成体の製造方法。
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JP2000285616A JP4495845B2 (ja) | 2000-09-20 | 2000-09-20 | ホログラム形成体及びその作製方法 |
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JP4495845B2 JP4495845B2 (ja) | 2010-07-07 |
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012027007A (ja) * | 2010-06-22 | 2012-02-09 | Mori Seiki Co Ltd | 光学スケール |
JP2016188906A (ja) * | 2015-03-30 | 2016-11-04 | セイコーエプソン株式会社 | 体積ホログラフィック素子および表示装置 |
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-
2000
- 2000-09-20 JP JP2000285616A patent/JP4495845B2/ja not_active Expired - Fee Related
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