JP4522582B2 - マスターを保存しながらレプリカを作る方法 - Google Patents
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Description
(発明の背景)
【0002】
(1.発明の分野)
【0003】
本発明は、主に積層部品の作製の分野に関する。詳細には、本発明は、マスタおよび複数のサブマスタの使用を通じて積層光学部品を作製する方法に関する。具体的には、本発明の好適な実施形態は、マスタおよび複数のサブマスタを用いて光学ディフューザを作製し、これにより、当該プロセスにおいて上記マスタが保存される方法に関する。
【0004】
(2.関連技術の検討)
【0005】
マスタおよび複数のサブマスタを用いて光学部品を製造および複製して、所望の特性を有する最終製品を達成する方法が周知である。このような方法の一例として、観察面およびホモジナイザーを作製する際に用いられる方法がある。この方法では、コヒーレント光を用いて感光性媒体中に表面構造を生成し、上記媒体を処理し、上記表面構造をエポキシ中で複製する。上記所望の光学特性を有する光学製品を製造するためには、処理における異なる段階において上記感光性媒体が収縮(shrinkage)するため、互いに順に作成された複数のサブマスタが必要である。例えば、視野角が例えば垂直方向に30°、水平方向に90°の観察面を作成するには、視野角が垂直方向におよそ60°、水平方向に130°のマスタを作成する必要がある。その後、多数のサブマスタを順に互いに作成するが、これらのサブマスタはそれぞれ上記マスタの視野角よりも若干低い視野角を持ち、垂直に30°、水平に90°の上記所望の視野角に近い視野角を有するサブマスタが達成されるまで、作成が繰り返される。その後、この最終サブマスタから最終製品が作成される。しかしながら、マスタからの第1世代サブマスタの生成の際、上記マスタは破壊されてしまうため、後続のサブマスタのうちの1つが使用不可能となってしまった場合に、このマスタを後で使用することができない。そのため、上記マスタを保存し、これらの所望の特性を持つ光学製品が必要となった場合にいつでも将来において利用可能なマスタのライブラリ中に上記マスタを保管しておくことができれば、有利であり、またコスト効率も高まる。
【0006】
さらに、上記したプロセスにおける別の固有の問題として、上記サブマスタそれぞれの表面構造の「アスペクト比」が、生成を経るにつれて(すなわち、サブマスタから後続のサブマスタへとなるにつれて)劣化するという問題がある。例えば、生成回数が増加するにつれ、表面構造の深さが低減し、そのため、当該製品のアスペクト比および光学性能が低下する。
【0007】
最後に、角スペクトルのより大きい光出力を有する光学製品を、小さなフィーチャサイズで記録しなければならない。記録に用いられるフィーチャサイズが低減するにつれ、マスタおよびサブマスタ中の欠陥がより明らかになる。この問題は、表面積が大きい光学製品ほど、深刻になる。そのため、欠陥数が多い場合、製造プロセス中には、かなりの量の無駄な材料が含まれることになる。
【0008】
米国特許第5,365,354号(名称:「Grin Type Diffuser Based on Volume Holographic Material」)、米国特許第5,534,386号(名称:「Homogenizer Formed Using Coherent Light and a Holographic Diffuser」、および米国特許第5,609,939号(名称:「Viewing Screen Formed Using Coherent Light」)(これらの特許は全て本譲受人が所有)は、ディフューザなどの光学製品を記録し、これらのディフューザが大量生産できるようにこれらのディフューザを複製する方法に関する。これらの米国特許をそれぞれ、本発明の背景の記載および技術水準の例示などの目的(ただし、これらに限定されない)のため、本明細書中参考のため援用する。関連する米国特許出願を挙げると、シリアル番号第08/595,307号(名称:「LCD With Light Source Destructuring and Shaping Device」、シリアル番号第08/601,133号(名称:「Liquid Crystal Display System with Collimated Backlighting and Non−Lambertian Diffusing」、シリアル番号第08/618,539号(名称:「Method of Making Liquid Crystal Display System」、およびシリアル番号第08/800,872号(名称:「Method of Making Replicas and Compositions for Use Therewith」がある。上記出願は全て本譲受人が所有しており、本発明の背景の記載および技術水準の例示などの目的(ただし、これらに限定されない)のため、本明細書中参考のため援用する。
【0009】
(課題を解決すべき手段)
【0010】
(発明の要約)
【0011】
本発明の第1の目的は、光学形状を含むマスタのレプリカを上記マスタを破壊することなく作成する方法を提供することである。本発明の別の目的は、光学形状(optical feature)を含むマスタのレプリカを作成する方法を提供することであって、上記方法は、上記レプリカの硬化において、上記マスタと比較して、上記レプリカの角度出力スペクトルの収縮および歪みまたは変化は、比較的小さい。
【0012】
本発明によれば、これらの目的は、以下の方法を提供することにより、達成される。この方法は、光学製品のためのサブマスタを生成する方法であって、コヒーレント(coherent)光または非コヒーレント(incoherent)光を用いて光学形状を感光性材料上に記録する工程と、上記感光性材料を現像(processing)してマスタを生成する工程と、ゴムの層(例えば、RTVシリコーン)を上記マスタ上に注入する工程であって、上記マスタの光学表面フィーチャを上記ゴム中に実現するように注入を行う工程と、上記ゴムを硬化(curing)させる工程と、上記ゴムを上記マスタから分離してゴムサブマスタを得る工程と、を含む。上記ゴムサブマスタを用いて、上記サブマスタをエポキシ層で被覆し、上記エポキシ層をプラスチック基板で被覆し、上記エポキシ層を硬化させ、上記エポキシ層を上記サブマスタから分離することにより、サブマスタおよび/または最終光学製品を逐次的に作成することができる。
【0013】
本発明のさらに別の局面によれば、これらの目的(上記オリジナルのマスタの保存を除く)は、光学形状を感光性材料中に記録する工程と、上記感光性材料を現像してマスタを生成する工程と、上記感光性材料を銀の層で覆う工程と、上記銀層上にニッケルクロミウムの層を電気めっきする工程と、上記銀層を上記感光性材料から分離して、サブマスタを形成する工程とによって、達成される。その後、上記銀サブマスタを用いて、エンボス加工または射出成形により、最終光学製品を作成する。
【0014】
本発明の上記および他の局面は、以下の説明および添付図面と共に考察することにより、より深く理解される。しかし、本発明の好適な実施形態を示す以下の説明は、例示目的のために示したものであり、限定目的のために示したものではないことが理解されなければならない。本発明の範囲内においてその意図から逸脱することなく多くの変更および改変が可能であり、本発明は、このような改変全てを含む。
【0015】
【発明の実施の形態】
本発明によれば、以下に説明する標準的方法を実質的に変更することにより、フォトレジスト/ガラスマスタを保存することができる。マスタおよび複数のサブマスタを順に用いてディフューザまたは観察面などの光学製品を製造するための1つの標準的プロセスについて、以下に説明する。例えば30°x80°の光学ディフューザを作製するには、第1の工程として、例えばおよそ12”x12”のフォトレジスト/ガラスマスタを生成する。上記フォトレジスト/ガラスマスタを記録するための適切なプロセス(上記にて参照した米国特許中に記載のものを含む)を用いることができる。図1を参照すると、フォトレジスト/ガラスマスタ10がガラス基板12を含み、ガラス基板12上にはフォトレジスト層14がある様子が図示されている。上記フォトレジストは、レーザ16からの光に露出される。この光は、空間フィルタ18を通過した後、ディフューザ20を通過する。ディフューザ20は、すりガラスディフューザまたは上記にて参照した米国特許の方法に従って記録されたディフューザであり得る。ディフューザ20は、フォトレジスト14を上記ガラスプレート12上に記録するための対象として用いられ、フォトレジスト14中にスペックルを記録するために必要なフィーチャを提供する。上記使用されるフォトレジストは、Shipley (2300 Washington St., Newton, MA02162)によるShipley287であり得る。この特定種類のフォトレジストは、およそ413ナノメートルの波長に対して反応するため、413nmクリプトンレーザを光源として用いることができる。フォトレジスト14は、標準的技術(例えば、上記フォトレジストを上記ガラスプレート上に注入し、上記フォトレジストをスピンして、上記ガラスプレートの大部分上に上記フォトレジストを広げる技術など)を用いて、上記ガラスプレート12に塗布することができる。上記フォトレジストの厚さは異なり得るが、好適には5〜45μmであり、より好適には約25μmである。
【0016】
例えば30°x90°のディフューザを記録するためには、先ず、およそ60°x130°のスペックルパターンを記録するように、レーザ16からの光によってマスタ10を記録する。30°x90°の代わりに60°x130°の角度出力を生成するパターンで上記マスタを記録する工程が必要なのは、後続処理およびサブマスタ生成において上記材料の収縮が予測されるからである。上記60°または130°方向のうちの1つを先ずマスタ10中に記録し、その後マスタ10を90°回転させて、他方の方向を記録する。(ディフューザ20とマスタ10との間の)距離cは、上記にて参照した米国特許のうち1つ以上に記載のように、60°または130°の角スペクトル出力特性を記録するようにそれぞれ調整される。これらの特許中に説明されているように、記録されたフォトレジスト14の出力の角スペクトルのサイズは、距離cと、記録時において対象として用いられる上記ディフューザ中のフィーチャのサイズとに反比例して変化する。上記にて参照した米国特許中に、幅広く変化する角スペクトルを達成するための多様な記録セットアップが記載されている。
【0017】
上記フォトレジスト/ガラスマスタをレーザ16からのコヒーレントレーザ光で記録した後、マスタ10を紫外線に露出させて、上記フォトレジストを硬化させるのに必要なポリマー架橋を確立させる。上記にて参照した米国特許中に記載したものを含む適切なUVプロセスが、利用可能である。UV露出後、マスタ10を現像液(例えば、Shipley Microposit 303A 現像液)中でウェット処理して、上記ポリマー架橋および硬化を実質的に停止させる。ウェット処理後、マスタ10は好適には、蛍光灯に一晩露出させて、反応または硬化を完成させるとよい。蛍光灯への露出後、上記マスタを用いて、以下に説明する第1世代サブマスタを作成する。
【0018】
図2の工程2aを参照すると、第1世代サブマスタの作成は好適には、Norland Optical 接着剤 #63のエポキシのビード(bead)をフォトレジスト層14の一端に沿って配置することにより、行われる。ポリカーボネートシート24または他の任意の適切なシートを、上記エポキシのビード上に配置する。その後、上記プラスチック基板上に(好適には上記ビード上から連続的に外側方向に)圧力を付加して、フォトレジスト層14とポリカーボネートシート24との間で上記ビードを均等に広げる。上記エポキシのビードを均等に広げた後、標準的技術に従って、図2a中に示すようなガラス12、フォトレジスト層14、エポキシ層22およびポリカーボネートシート24を含むサンドイッチ構造をUV硬化させる。
【0019】
図2の工程2bを参照すると、UV硬化後、フォトレジスト層14とエポキシ層22との間において、ガラス12およびフォトレジスト層14を含むマスタ10をエポキシ層22およびポリカーボネートシート24から分離する。この工程において、フォトレジスト層14のマスタが破壊される。分離後のエポキシ層22上に残っているあらゆるフォトレジスト層は、標準的手順に従って、アセトンまたは他の適切な材料で洗浄することができる。この段階において、図2b中に見られるように第1世代サブマスタ25の生成が完成している。この第1世代サブマスタ25は、所望の光学特性はまだ持たないものの、恐らくおよそ120°x55°の角度スペクトルを持つ。
【0020】
図2の工程3aおよび工程3bに示すような次の工程において、第1世代サブマスタの作成と同様の様式で第2世代サブマスタを作成する。GAFガード233またはUV−25Mode Epic,Inc.のいずれかまたは他の適切な接着剤のビードを、ポリカーボネートシート24上の硬化したエポキシ層22の一端に沿って配置し、その上にポリカーボネートシート28を配置する。前回と同様に、上記エポキシビードを硬化エポキシ層22とポリカーボネートシート28との間に均等に絞り出して、エポキシ層26を作成する。その後、ポリカーボネートシート24、硬化エポキシ層22、未硬化エポキシ層26およびポリカーボネートシート28のこのサンドイッチ構造をUV光に露出させて、エポキシ層26を硬化させる。図2の工程3bを参照すると、硬化後、上記サンドイッチ構造をエポキシ層22とエポキシ層26との間で分割する。この時点において、第2世代サブマスタ30が生成されている。この第2世代サブマスタ30は、およそ110°x50°の角度出力を有する。
【0021】
図2の工程4aおよび工程4bに示すように次の工程において、同じ技術を用いて第3世代サブマスタを作成する。ポリカーボネートシート28をエポキシ26と共に用いる。エポキシのビードを、既硬化エポキシ層26の一端に沿って配置し、ポリカーボネートシート34をその上に配置する。前回と同様に、ポリカーボネートシート34と既硬化エポキシ層26との間にエポキシビードを均等に絞り出す。その後、ポリカーボネートシート28、硬化エポキシ26、未硬化エポキシ32およびポリカーボネートシート34のこのサンドイッチ構造をUV光に露出させて、エポキシ層32を硬化させる。工程4bを参照すると、硬化後、エポキシ層32とエポキシ層26との間で、エポキシ層26を有するポリカーボネートシート28をエポキシ層32を有するポリカーボネートシート34から分離させる。この時点において、第3世代サブマスタ36が作成されている。この第3世代サブマスタ36の角スペクトル出力は例えば105°x40°である。
【0022】
図2の工程5aおよび工程5bに示すように、次の工程において、その他のサブマスタが作成された様式と同様の様式で、第4世代サブマスタを作成する。エポキシ層32を有するポリカーボネートシート34が用いられる。エポキシビードをエポキシ層32の一端に沿って配置し、その上にポリカーボネートシート40を配置する。上記エポキシビードを上記と同様の様式で均等に絞り出して、ポリカーボネートシート40とエポキシ層32との間にエポキシ層38を形成する。その後、ポリカーボネートシート34、硬化エポキシ層32、未硬化エポキシ層38およびポリカーボネートシート40のこのサンドイッチ構造をUV光に露出させて、エポキシ層38を硬化させる。硬化後、エポキシ層38とエポキシ層32との間で、エポキシ層32を有するポリカーボネートシート34をエポキシ層38を有するポリカーボネートシート40から分離させる。その結果、第4世代サブマスタ42の作成が完了する。この第4世代サブマスタの角度出力は例えば90°x35°である。
【0023】
図2の工程6aおよび工程6bに示すように、その後、ポリカーボネートシート40およびエポキシ層38を含む第4世代サブマスタを用いて、最終世代である第5世代サブマスタを作成する。エポキシビードを硬化エポキシ層38の一端に沿って配置し、その上にポリカーボネートシート46を配置する。同様に、ポリカーボネートシート46と既硬化エポキシ層38との間にエポキシビードを均等に絞り出す。その後、ポリカーボネートシート40、エポキシ層38、44およびポリカーボネートシート46のこのサンドイッチ構造をUV光に露出させて、エポキシ層44を硬化させる。図2の工程6bを参照すると、硬化後、エポキシ層44とエポキシ層38との間において、エポキシ層38を有するポリカーボネートシート40をエポキシ層44を有するポリカーボネートシート46から分離させる。その結果、第5世代サブマスタ48の作成が完了する。この第5世代サブマスタ48の角度出力スペクトルは例えば85°x32°であり、これは、最終製品の所望の角スペクトルに非常に近い値である。
【0024】
図2の工程7aおよび工程7bに示すように、最終工程において、エンドユーザに販売される実際のディフューザである最終製品を作成する。このプロセスはサブマスタの作成と類似しているが、今回は、一液型(a one part)エポキシ(好適にはGAFGARD233)が用いられる。ここでもやはり、一液型エポキシのビードを硬化エポキシ層44の一端に沿って配置し、その上にポリカーボネートシート52を配置する。上記エポキシビードを、ポリカーボネートシート52と硬化した四液型(a four part)エポキシ層44との間に均等に絞り出して、一液型エポキシ層50を作成する。その後、ポリカーボネートシート46、エポキシ層44、エポキシ層50およびポリカーボネートシート52のサンドイッチ構造をUV光に露出させて、一液型エポキシ層50を硬化させる。硬化後、一液型エポキシ層50と四液型エポキシ層44との間で、エポキシ層44を有するポリカーボネート層46を一液型エポキシ層50を有するポリカーボネートシート52から分離させる。その結果、一液型エポキシ層50を有するポリカーボネートシート52を含む最終製品54が完成する。この最終製品は、所望の角度出力スペクトルである80°x30°を有する。
【0025】
この新規なプロセスにおいて、以下、フォトレジスト/ガラスマスタ10について説明する。フォトレジスト/ガラスマスタ10は、上記にて参照した米国特許に記載のようにあるいは他の適切な方法を用いて記録することができる。上記プロセスにおいて、このフォトレジスト/ガラスマスタ10は、破壊されることなく複製される。図3aに見られるように、フォトレジスト/ガラスマスタ10は、ガラス基板12上にフォトレジスト層14を有する。一般的に、複数のゴムマスタがフォトレジストマスタ10から作成可能であり、少なくとも3つのエポキシマスタが各ゴムマスタから作成可能である。本発明に従って、図3bを参照すると、本発明による複製のために、フォトレジスト/ガラスマスタ10を作成する。フォトレジスト層14の上面の上方に、ガラスまたは他の適切な材料のフレーム70を、上記フレームが若干盛り上がるように上記フォトレジスト/ガラスマスタ10の端部周囲に構築する。上記フレームを所定位置に設けた後、エラストマー材料(好適にはシリコーンゴム(例えば、Silastic(登録商標)JまたはM−2RTVシリコーンゴム(Dow Corning,Midland,Michigan48686))を準備し、フォトレジスト層14上の上記フレーム内に注入する。RTVシリコーンを、指示に従って、100重量部のRTVシリコーンゴムベースおよび10重量部の硬化剤をコンテナ内で計量することにより、準備する。上記硬化剤が上記ベース中で完全に分散しかつ色が均等になるまで、上記複合物を混合し続ける。完全に混合することが、完全な硬化を保証するために重要である。完全な混合ができないと、上記ゴム中において当該フィーチャが忠実に再現できない。混合後、内部に閉じ込められている空気を除去する。圧力が約20ミリトールに低減された真空チャンバ中に上記混合物を配置することで、上記混合物を完全膨張させ、その後崩壊させる。空気除去後、上記複合混合物を上記マスタ上に注入して、空気が内部に閉じ込められるのを回避する。この触媒混合物は典型的には、24時間で軟質ゴムに硬化し、24時間後は上記マスタを上記ゴムから剥離することができる。上記好適なゴムとしてRTVシリコーンを用いたが、当業者にとって明らかなような、フォトレジスト層14中に記録された表面フィーチャを実現することが可能な他の合成エラストマーを用いてもよい。
フレーム70により、RTVシリコーンゴムがフォトレジスト/ガラスマスタ10から流出することを回避することができる。上記RTVシリコーンゴムの厚さは好適には1〜5ミリメートルであり、5ミリメートルが好適である。厚みのあるゴム層の方が扱いが容易であるため望ましいが、RTVシリコーンゴムは極めて高価であるため、使用量は最小限にしてもよい。RTVシリコーンゴム層を必要に応じて(好適には約24時間)硬化させる。硬化完了後、RTVゴム層72を上記フォトレジスト層14から(例えば一角を手で持つなどして)慎重に剥離することにより、RTVゴム層72をフォトレジスト層14から分離する。図3dを参照すると、フォトレジスト層14と接触していた除去されたRTVゴム層72の表面73は、フォトレジスト層14中に存在する表面構造(すなわち、光学表面フィーチャ)を含む。重要なことに、RTVシリコーンゴム層72の除去時において、ガラス基板12およびフォトレジスト層14を含むフォトレジスト/ガラスマスタ10は破壊されない。その結果、将来のサブマスタ生成のために用いられるべきマスタのライブラリ内に、フォトレジスト/ガラスマスタ10を保管しておくことが可能になる。
【0026】
上記RTVサブマスタの作成後、上記RTVサブマスタを用いて、図2の工程3〜工程7において上述したような方法により、必要となるさらなる世代のエポキシサブマスタを作成することができる。ただし、今回は、図2の工程3〜工程7において上述したような方法と以下の点において異なる。すなわち、Norland63の使用の代わりにGAFGARD233またはUV−25を用いることができ、エポキシビードを上記サブマスタの一端に配置し、その上にポリカーボネートシートを配置し、上記ポリカーボネートシートと上記ゴムサブマスタとの間で上記エポキシビードを均等に絞り出し、上記エポキシをUV硬化させ、その後、上記エポキシを上記ゴムから分離する。その後、第3以降のサブマスタを、上記した図2の工程3〜工程7中に示すような第2世代サブマスタから作成することができる。さらに、多数の第2世代サブマスタを単一のゴムサブマスタから作成することができ、これにより、上記ゴムサブマスタを、さらなる第2世代サブマスタを将来生成する際に利用できるよう、ゴムサブマスタライブラリ内に配置することができる。
【0027】
RTVシリコーンゴムの利用によって得られる1つの利点として、RTVシリコーンゴムの硬化時間は従来方法と比較して比較的ゆっくりであるため、収縮が低減する点がある。収縮が低減するため、フォトレジスト/ガラスマスタ10の角度出力スペクトルを、従来方法を用いていれば必要な数値よりも低くすることができる。上記例において、角スペクトルが90°x30°である最終光学製品を生成するために、上記フォトレジスト/ガラスマスタを角度出力が130°x60°となるように記録した。RTVゴムの使用により、フォトレジスト/ガラスマスタ10を角スペクトルが例えばおよそ120°x50°で記録することができ、これにより、従来方法と比較して世代数が少なくとも1世代は少ないサブマスタで済ませることができる。その結果、重要な利点が得られる。第1に、サブマスタ世代を1世代削減することにより、時間および材料の節約になる。第2に、マスタの角度出力が高くなくてもよいため、最終製品の品質が向上する。第3に、高角度出力マスタを記録すると、低角度出力マスタの記録時よりも、汚染および振動による影響を受け易い。すなわち、従来の記録プロセスの場合、高角度出力スペクトルマスタの記録に必要な小さなフィーチャサイズが、記録プロセス時に存在するほこりのサイズおよび他のゴミ粒子に近いサイズになるため、汚れによる影響を受け易くなる。さらに、フォトレジスト/ガラスマスタ記録プロセス全体が、極めて振動の影響を受け易くなり、この振動の影響は、高角度出力スペクトルマスタの記録時においてより顕著になる。本発明は、収縮を低減することにより、従来必要であったような高角度の出力マスタからの開始を不要にすることができ、これにより、記録品質および効率を向上させる。
【0028】
所望の光学特性を有する最終光学製品を作成する別の方法として、先ず金属シムを作成する方法がある。この手順は、利点を持つが、上記従来手順と同様に、フォトレジスト/ガラスマスタを破壊する。図4aに示すようにこの手順は、フォトレジスト層62を上面に有するガラスマスタ60を用いる。上記フォトレジストの厚さはおよそ20ミクロンでよいが、他の厚さも有利に用いることができる。標準的プロセスを用いて、厚さがおよそ500〜1000オングストロームの銀の層64を、フォトレジスト層62上に真空コーティングすることができる。図4bに示すように、層60、層62および層64のこのサンドイッチ構造を、陽極が銀層64に接続され陰極がニッケルクロミウムプレートに取り付けられた溶液中に配置して、これにより、図4cに示すように、ニッケルクロミウム層66を銀層64上に堆積させることができる。図4dから分かるように、その後、銀層64をフォトレジスト層62から離すことで、ガラス層60およびフォトレジスト層62が破壊される。その後、厚さがおよそ6mil〜1cmの残りのニッケルクロミウム層66と、銀層64とを標準的エンボス加工または射出成形工程において用いて、最終光学製品を生成することができる。
【0029】
当業者にとって、本発明の他の目的、特徴および利点は、以下の詳細な説明および添付図面からより明らかになる。しかし、本発明の好適な実施形態を示すこれらの詳細な説明および具体例は、例示目的のために示したものであり、限定目的のために示したものではないことが理解されるべきである。本発明の範囲内においてその意図から逸脱することなく多くの変更および改変が可能であり、本発明は、このような改変全てを含む。
【0030】
上述したような本発明には、その意図から逸脱することなく、他の多くの任意の変更が可能である。これらの変更の範囲は、添付の特許請求の範囲から明らかとなる。
【図面の簡単な説明】
本発明の利点および特徴と、本発明と共に提供される典型的メカニズムの構造および作用の明確な理解が、添付図面に記載されかつ本明細書の一部を形成する以下の例示的でありよって非限定的な実施形態を参照することにより、より容易に明らかにされる。
【図1】 フォトレジスト/ガラスマスタを記録する方法を示す。
【図2】 マスタおよび複数の逐次的なサブマスタを複製する工程を示す。
【図3a】 フォトレジスト/ガラスマスターの側面図である。
【図3b】 フレームによって囲まれたガラスマスターの平面図である。
【図3c】 RTVシリコーンゴム層によって被覆されたフォトレジスト/ガラスマスターの側面図である。
【図3d】 RTVシリコーンゴム層の側面図である。
【図4a】 金属しむを用いた他の複製技術の説明図である。
【図4b】 金属しむを用いた他の複製技術の説明図である。
【図4c】 金属しむを用いた他の複製技術の説明図である。
【図4d】 金属しむを用いた他の複製技術の説明図である。
Claims (21)
- 光学製品のためのゴムサブマスタを生成する方法であって、
感光材料層に表面構造を記録する工程と、
前記感光材料層を現像して、前記表面構造を有するマスタ光学製品を作る工程と、
ゴムコンパウンドと硬化剤を混合して前記硬化剤を前記ゴムコンパウンド内に分散せしめる工程と、
前記硬化剤が混合された前記ゴムコンパウンドから内部の空気を除去する工程と、
前記マスタ光学製品の表面構造上に直接ゴムコンパウンドを注入する工程と、
前記ゴムコンパウンドを硬化する工程と、
前記硬化したゴムコンパウンドと前記マスタ光学製品を分離して、前記マスタ光学製品の表面構造を壊すことなく、前記ゴムサブマスタを形成する工程と、
を含むことを特徴とするゴムサブマスタ生成方法。 - 前記ゴムコンパウンドが合成エラストマであることを特徴とする請求項1記載のゴムサブマスタ生成方法。
- 前記ゴムコンパウンドがRTVシリコーンであることを特徴とする請求項1記載のゴムサブマスタ生成方法。
- 前記ゴムコンパウンドが約5ミクロンの厚さの層であることを特徴とする請求項1記載のゴムサブマスタ生成方法。
- 前記表面構造上に直接ゴムコンパウンドを注入する工程が、前記マスター光学製品を囲むフレーム内にゴムコンパウンドを注入する工程を含むことを特徴とする請求項1記載のゴムサブマスタ生成方法。
- 前記感光材料層に表面構造を記録する工程が、コヒーレント光を用いて感光材料層内に表面構造を作る工程を含むことを特徴とする請求項1記載のゴムサブマスタ生成方法。
- 前記感光材料層に表面構造を記録する工程が、非コヒーレント光を用いて感光材料層内に表面構造を作る工程を含むことを特徴とする請求項1記載のゴムサブマスタ生成方法。
- 前記ゴムサブマスタ生成方法は、前記ゴムサブマスタを用いてさらなる世代のサブマスタを生成する工程をさらに含み、
前記生成工程は、
前記ゴムサブマスタをエポキシ層で被膜する工程と、
前記エポキシ層をプラスチック基材で被膜する工程と、
前記エポキシ層を硬化させる工程と、
前記エポキシ層をサブマスタから分離する工程と、
によって行われることを特徴とする請求項1記載のサブマスタ生成方法。 - 前記ゴムサブマスタをエポキシ層で被膜する工程が、
エポキシのビードを前記ゴムサブマスタの一端に沿って配置する工程と、
前記エポキシのビードを前記プラスチック基材によって被膜する工程と、
前記プラスチック基板に圧力を付加して、前記サブマスタと前記プラスチック基材との間に前記エポキシのビードを均一に広げる工程と、
を含むことを特徴とする請求項8記載のゴムサブマスタ生成方法。 - 前記エポキシ層が4液型エポキシを含むことを特徴とする請求項8記載のゴムサブマスタ生成方法。
- 前記エポキシの層が1液型エポキシを含むことを特徴とする請求項8記載のゴムサブマスタ生成方法。
- 光学製品のためのゴムサブマスタを生成する方法であって、
感光材料層に光学形状を記録する工程と、
前記感光材料層を現像して、前記光学形状を有するマスタ光学製品を作成する工程と、
前記マスタ光学製品の表面構造上に直接ゴムの層を注入する工程と、
前記ゴムコンパウンドを硬化する工程と、
前記硬化したゴムコンパウンドを前記マスタ光学製品から分離して、ゴムサブマスタを形成する工程と、
同一のマスタ光学製品を用いて、前記注入工程、前記硬化工程および前記分離工程を少なくとも1回繰り返す工程と、
を含むことを特徴とするゴムサブマスタ生成方法。 - 前記ゴムコンパウンドが合成エラストマであることを特徴とする請求項12記載のゴムサブマスタ生成方法。
- 前記ゴムコンパウンドがRTVシリコーンであることを特徴とする請求項12記載のゴムサブマスタ生成方法。
- 前記ゴムコンパウンドが約5ミクロンの厚さの層であることを特徴とする請求項12記載のゴムサブマスタ生成方法。
- 前記感光材料層を記録する工程が、コヒーレント光を用いて感光材料層内に光学形状として表面構造を作る工程を含むことを特徴とする請求項12記載のゴムサブマスタ生成方法。
- 前記感光材料層に表面構造を記録する工程が、非コヒーレント光を用いて感光材料層内に光学形状として表面構造を作る工程を含むことを特徴とする請求項12記載のゴムサブマスタ生成方法。
- 前記ゴムサブマスタを用いてさらなる世代のサブマスタを生成する工程をさらに含み、
前記生成工程は、
前記ゴムサブマスタをエポキシ層で被膜する工程と、
前記エポキシ層をプラスチック基材で被膜する工程と、
前記エポキシ層を硬化させる工程と、
前記エポキシ層を前記ゴムサブマスタから分離する工程と、
によって行われることを特徴とする請求項12記載のゴムサブマスタ生成方法。 - 前記マスター光学製品の表面構造上に直接ゴムコンパウンドの層を注入する工程が、前記マスター光学製品を封入するフレーム内に前記ゴムコンパウンドを注入する工程を含むことを特徴とする請求項12記載のゴムサブマスタ生成方法。
- 前記マスター光学製品を再度用いて更にゴムサブマスタを作成する工程を更に含むことを特徴とする請求項1記載のゴムサブマスタ生成方法。
- 光学製品のためのゴムサブマスタを生成する方法であって、
感光材料層を記録する工程と、
前記感光材料層を現像して表面構造を有するマスタ光学製品を生成する工程と、
前記マスタ光学製品の表面構造を銀層で被覆して銀層を生成する工程と、
前記銀層上にニッケルクロミウムを電着して銀サブマスタを生成する工程と、
前記マスタ光学製品から前記銀サブマスタ分離する工程と、
を含むことを特徴とするゴムサブマスタ生成方法。
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