JP5077843B2 - 成型用微細金型の製造方法 - Google Patents
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即ち、本発明は、
電気めっき法による平板状の微細金型の製造方法であって、
導電性基板に感光性ドライフィルムを被膜する工程、
前記感光性ドライフィルムに露光及び現像を施し、レジストによる所望の凸型パターンを基板表面に形成して、レジスト型を作製する工程、
前記レジスト型にエラストマー材料を流し込み、前記凸パターンの反転パターンを形成して母型を作製する工程、
前記母型をレジスト型から剥離する工程、
前記母型表面に電極膜を形成する工程、
当該電極膜を形成された母型に、金属の電解めっきを行い、めっき皮膜を形成する工程、
前記めっき皮膜を母型から剥離する工程、
からなることを特徴とする、微細金型の製造方法、及び
前記エラストマー材料からなる母型の厚さが0.5〜10.0mmの範囲であることを特徴とする前記微細金型の製造方法及び、
前記エラストマー材料が、硬化性シリコーンゴムからなることを特徴とする前記微細金型の製造方法、
である。
2.感光性レジスト層
3.露光マスク
4.透光板
5.遮光膜
6.レジスト型
7.エラストマー材料層
8.電極膜
9.めっき母型
10.微細金型
2a.硬化した感光性レジストによるパターン
3a.遮光膜に覆われていない部分
Claims (3)
- 電気めっき法による平板状の微細金型の製造方法であって、
導電性基板に感光性ドライフィルムを被膜する工程、
前記感光性ドライフィルムに露光及び現像を施し、レジストによる所望の凸型パターンを基板表面に形成して、レジスト型を作製する工程、
前記レジスト型にエラストマー材料を流し込み、前記凸パターンの反転パターンを形成して母型を作製する工程、
前記母型をレジスト型から剥離する工程、
前記母型表面に電極膜を形成する工程、
当該電極膜を形成された母型に、金属の電解めっきを行い、めっき皮膜を形成する工程、
前記めっき皮膜を母型から剥離する工程、
からなることを特徴とする、微細金型の製造方法。 - 前記エラストマー材料からなる母型の厚さが0.5〜10.0mmの範囲であることを特徴とする請求項1記載の微細金型の製造方法。
- 前記エラストマー材料が、硬化性シリコーンゴムからなることを特徴とする請求項1〜2記載の微細金型の製造方法。
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