KR20010034674A - 마스터를 보존하면서 복제물 제조방법 - Google Patents

마스터를 보존하면서 복제물 제조방법 Download PDF

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Abstract

마스터와 수개의 서브마스터를 사용하여 적층된 광학성분을 제조하는 개선된 방법이 발표된다. 유리/포토레지스트 마스터(10)는 간섭성 또는 비간섭성 광으로 포토레지스트(14)에 광학 표면 특징을 기록함으로써 제조된다. 마스터는 표면 특징을 노출시키도록 가공된다. 프레임(70)은 포토레지스트/유리 마스터 가장자리에 고정되고 가장자리는 마스터(10)의 상부표면보다 약간위에 상승한다. 실리콘 고무(72)가 포토레지스트층(14)위로 프레임에 부어지고 경화된다. 이후에 실리콘 고무 서브마스터(72)가 포토레지스트/유리 마스터(10)로부터 분리된다. 실리콘 고무를 사용함으로써 마스터를 손상시키지 않으면서 서브마스터(72)를 분리할 수 있다. 실리콘 고무는 공지 서브마스터보다 수축을 덜 일으키므로 포토레지스트/유리 마스터(10)의 표면특징을 더 정확히 복사한다. 후속 에폭시 복제물이 실리콘 고무 서브마스터로부터 제조될 수 있다.

Description

마스터를 보존하면서 복제물 제조방법{METHOD OF MAKING REPLICAS WHILE PRESERVING MASTER}
필요한 특성을 갖는 최종제품을 획득하기 위해서 마스터와 수개의 서브마스터를 활용하여 광학성분을 제조 및 복제하는 방법은 공지이다. 한가지 방법에서 간섭성 광을 사용하여 감광매체에 표면 구조를 발생시키고 매체를 가공하고 에폭시에 표면구조를 복제함으로써 관람 스크린 및 균질화기가 제조된다. 상이한 가공단계에서 감광성재료의 수축으로 인하여 서로 순차적으로 제조된 수개의 서브마스터가 필요한 광학 특성을 갖는 광학제품 제조에 필요하다. 예컨대, 수평방향으로 90°, 수직 방향으로 30°의 관측각도를 갖는 스크린 제조를 위해서 수평방향으로 130°, 수직 방향으로 60°의 관측각도를 갖도록 마스터가 제조되어야 한다. 이후에 수개의 서브마스터가 순차적으로 제조되며, 각각은 수평방향으로 90°, 수직방향으로 30° 관측각도를 갖는 서브마스터가 획득될 때까지 마스터의 관측각도보다 약간 적은 관측각도를 갖는다. 최종 제품은 최종 서브마스터로부터 제조된다.
불행히도 마스터로부터 제1세대 서브마스터의 생성은 마스터를 파괴하므로 후속 서브마스터가 사용불능이 되면 마스터는 나중에 사용할 수 없다. 필요한 특성을 갖는 광학제품이 필요할 때 활용할 수 있도록 마스터를 라이브러리에 보존하여 저장할 수 있다면 대단히 유리하고 비용효율적이 될 것이다.
상기 공정의 또다른 문제점은 각 서브마스터 표면구조의 "가로세로비"가 세대간에(서브마스터에서 후속 서브마스터까지)퇴화한다는 것이다. 예컨대 세대수가 증가하면 표면구조의 깊이가 감소하므로 제품의 광학성능과 가로세로비가 감소한다.
마지막으로 더 큰 각도 스펙트럼으로 광학 출력을 갖는 광학제품은 작은 특징 크기로 기록되어야 한다. 기록에 사용된 특징크기가 감소하면 마스터 및 서브마스터내 결함이 더욱 명백해진다. 이러한 문제는 더 큰 표면적을 갖는 광학 제품에서 더욱 커진다. 그러므로 결함의 개수가 많다면 제조공정은 낭비되는 재료를 많이 발생한다.
미국특허 5,365,354("Grin Type Diffuser Based on Volume Holographic Material"), 미국특허 5,534,386("Homogenizer Formed Using Coherent Light and a Holographic Diffuser") 및 미국특허 5,609,939("Viewing Screen Formed Using Coherent Light")는 확산기와 같은 광학제품을 기록하고 이러한 확산기를 복제하여 대량생산하는 방법을 발표한다. 미국 특허출원 08/595,307("LCD With Light Source Destructuring and Shaping Device"), 08/601,133("Liquid Crystal Display System with Collimated Backlighting and Non-Lambertian Diffusing"), 08/618,539("Method of Making Liquid Crystal Display System"), 08/800,872("Method of Making Replicas and Compositions for Use Therewith.")가 관련된 특허출원이다.
발명의 요약
본 발명의 주목적은 마스터를 파괴하지 않고 광학특징을 포함한 마스터 복제물을 제조하는 방법을 제공하는 것이다. 복제물 경화가 마스터에 비해서 복제물의 각도 출력 스펙트럼의 변화나 왜곡을 작게 하며 수축을 작게 하는 광학 특징 함유 마스터 복제물 제조방법 제공도 본 발명의 목적이다.
본 발명에 따르면 이들 목적은 간섭성 또는 비간섭성 광을 사용하여 감광재료상에 광학특징을 기록하며, 감광재료를 가공하여 마스터를 생성하고, 마스터 위에 RTV 실리콘과 같은 고무층을 부어서 고무에 마스터의 광학 표면 특징을 실현시키며, 고무를 경화시키고, 고무를 마스터로부터 분리시켜 고무 서브마스터를 획득하는 단계를 포함한 광학 제품용 서브마스터 생성방법을 제공함으로써 달성된다. 서브마스터를 에폭시층으로 덮고, 에폭시층을 플라스틱 기질로 덮고, 에폭시를 경화시키고, 에폭시를 서브마스터로부터 분리함으로써 고무 서브마스터가 후속 세대의 서브마스터 또는 최종 광학제품 제조에 사용될 수 있다.
또다른 측면에서 본 방법은 감광재료에 광학 특징을 기록하고, 감광재료를 가공하여 마스터를 생성하고, 감광재료에 은층을 코팅하고, 은층에 크롬니켈층을 전기도금하고 은층을 감광재료로부터 분리시켜 서브마스터를 형성하는 단계를 포함한다(최초 마스터는 보존되지 않는다). 은 서브마스터가 엠보싱 또는 사출 성형에 의해 최종 광학제품 생성에 사용될 수 있다.
본 발명은 적층성분 제조분야에 관계한단. 특히, 본 발명은 마스터와 수개의 서브마스터를 사용하여 적층된 광학성분 제조방법에 관계한다. 본 발명의 구체예는 마스터가 공정에서 보존되면서 마스터와 수개의 서브마스터를 사용하여 광학 확산기 제조방법에 관계한다.
도1은 포토레지스트/유리 기록방법을 보여준다.
도2는 마스터와 수개의 순차적 서브마스터 복제단계를 보여준다.
도3a-3d는 포토레지스트/유리 마스터의 측면도, 프레임으로 에워싸인 유리마스터의 평면도, RTV 실리콘 고무층이 덮힌 포토레지스트/유리 마스터의 측면도이다.
도4a-4d는 금속 쉼(shim)을 사용하는 복제방법을 보여준다.
* 부호 설명
10 포토레지스트/유리 마스터 12 유리기질
14 포토레지스트층 16 레이저
18 공간 필터 20 확산기
22,26,32,38,44,50 에폭시층
24,28,34,40,46,52 폴리카보네이트 쉬이트
25,30,36,42,48 서브마스터 54 최종제품
60 유리 마스터 62 포토레지스트층
64 은층 66 크롬니켈층
70 프레임 72 RTV 고무층
62 표면
본 발명에 따라서 포토레지스트/유리 마스터가 표준 방법을 변경시킴으로써 보존될 수 있다. 마스터와 수개의 서브마스터를 순차적으로 활용하여 확산기 또는 관람 스크린과 같은 광학 제품을 제조하는 표준방법은 다음과 같다. 예컨대 30°×80°광학 확산기를 제조하기 위해서 제1단계는 12″×12″크기의 포토레지스트/유리 마스터를 제조하는 것이다. 포토레지스트/유리 마스터를 기록하는 공정은 위에서 언급된 미국특허에서 발표된다. 도1에서 포토레지스트/유리 마스터(10)는 포토레지스트층(14)이 위에 배치된 유리기질(12)을 포함한다. 포토레지스트는 공간필터(18)와 위에서 언급된 미국특허의 방법에 따라 기록된 접지된 유리 확산기일 수 있는 확산기(20)를 통해 통과된 레이저(16)에서 나온 빛에 노출된다. 확산기(20)는 유리판(12)상의 포토레지스트(14)를 기록하는 목적으로 사용되며 포토레지스트(14)에 스펙클을 기록하는데 필요한 특징을 제공한다. 포토레지스트는 Shipley 287(Shipley, 2300 Washington St., Newton, MA 02162)일 수 있다. 이러한 포토레지스트는 413 나노미터 파장에 민감하므로 412nm 크립톤 레이저가 광원으로 사용될 수 있다. 포토레지스트(14)는 유리판상에 포토레지스트를 붓고 회전시켜서 유리판위로 포토레지스트를 확산시키는 표준기술을 사용하여 유리판(12)에 적용될 수 있다. 포토레지스트의 두께는 가변적이지만 5-45㎛, 특히 25㎛이다.
30°×90°확산기를 기록하기 위해서 60°×130°스펙클 패턴을 기록하도록 레이저(16)에서 나온 빛을 써서 마스터(10)가 기록된다. 30°×90°대신에 60°×130° 각도 출력을 생성하는 패턴으로 마스터를 기록하는 것이 필요한데, 그 이유는 후속가공 및 서브마스터 발생시 재료의 수축 때문이다. 60°또는 130° 방향중 하나가 마스터(10)에 먼저 기록되고 마스터(10)가 회전되어 다른 방향을 기록한다. 확산기(20)와 마스터(10)간 거리(c)가 조절되어서 60°또는 130° 각도 스펙트럼 출력 특성을 기록한다. 기록된 포토레지스트(14)출력의 각도 스펙트럼 크기는 기록동안 대상으로 사용된 확산기내 특징의 크기와 거리(c)에 반비례한다. 다양한 각도 스펙트럼을 얻기 위해서 위에서 언급된 특허에 다양한 기록 셋업이 도시된다.
레이져(16)에서 나온 간섭성 레이저광을 써서 포토레지스트/유리 마스터가 기록된 후 마스터(10)는 자외선에 노출되어서 포토레지스트 경화에 필요한 폴리머 가교결합을 형성한다. 적당한 UV 공정이 사용될 수 있다. (위에서 언급된 미국특허에서 발표된) UV 노출후 Shipley Microposit 303A 전개기와 같은 전개기에서 마스터(10)가 습식 가공되어서 폴리머 가교결합 및 경화를 방지시킨다. 습식 가공후 마스터(10)는 하룻밤 형광에 노출되어서 반응 또는 경화를 종료한다. 형광에 노출 후 마스터가 제1세대 마스터 제조에 사용된다.
도2의 단계2a에서 포토레지스트층(14)의 한 가장자리를 따라 Norland Optical Adhesive #63 22 비이드를 배치시킴으로써 제1세대 서브마스터가 생성된다. 폴리카보네이트 쉬이트(24)가 에폭시 비이드 위에 배치된다. 비이드 위에서 시작하여 외향으로 계속되는 플라스틱 기질에 압력이 적용되어 비이드를 포토레지스트층(14)과 폴리카보네이트 쉬이트(24)사이에 균일하게 확산시킨다. 에폭시가 균일하게 확산된 후 도2a에 도시된 유리(12), 포토레지스트(14), 에폭시(22) 및 폴리카보네이트 쉬이트(24)를 포함하는 샌드위치가 표준 기술에 따라 UV 경화된다.
도2의 단계2b에서 UV 경화후 유리(12)와 포토레지스트(14)를 포함한 마스터(10)가 포토레지스트(14) 및 에폭시(22)와 에폭시(22) 및 폴리카보네이트 쉬이트(24)로부터 분리된다. 이렇게 할 때 포토레지스트(14)가 파괴된다. 분리후 에폭시(22)상에 남아있는 포토레지스트가 표준절차에 따라서 아세톤 또는 기타 적당한 재료로 세척된다. 이 단계에서 도2b에 도시된대로 제1세대 서브마스터(25)생성이 완결된다. 제1세대 서브마스터(25)는 아직 필요한 광학특성을 갖지 않지만 120°×55°의 각도 스펙트럼을 가진다.
도2의 단계 3a 및 3b 는 제1세대 서브마스터 생성과 동일한 방식으로 제2세대 서브마스터를 생성한다. GAF guard 233 또는 UV-25(Mode Epic, Inc.,)비이드 또는 기타 접착제가 폴리카보네이트 쉬이트(24)상에 있는 경화된 에폭시(22)의 한 가장자리를 따라 배치되고 그 위에 폴리카보네이트 쉬이트(28)가 배치된다. 에폭시 비이드는 경화된 에폭시(22)와 폴리카보네이트 쉬이트(28)사이에 균일하게 압착되어서 에폭시층(26)을 생성한다. 폴리카보네이트 쉬이트(24), 경화된 에폭시(22), 경화안된 에폭시(26) 및 폴리카보네이트 쉬이트(28)의 샌드위치를 UV 광에 노출되어서 에폭시층(26)이 경화된다. 단계 3b에서 경화후 샌드위치는 에폭시(22)와 에폭시(26)사이에서 분리된다. 이 순간에 제2세대 서브마스터(30)가 생성된다. 서브마스터(30)는 110°×50°의 각도 출력을 갖는다.
도2의 단계4a 및 4b는 동일 기술을 사용하여 제3세대 서브마스터를 생성한다. 에폭시(26)와 폴리카보네이트층(28)이 사용된다. 에폭시 비이드가 이미 경화된 에폭시층(26)의 한 가장자리를 따라 배치되고 그 위에 폴리카보네이트층(34)이 배치된다. 이전처럼 폴리카보네이트층(34)과 이미 경화된 에폭시층(26)사이에서 에폭시 비이드가 압착된다. 폴리카보네이트 쉬이트(28), 경화된 에폭시(26), 경화안된 에폭시(32) 및 폴리카보네이트 쉬이트(34)로 구성된 샌드위치가 UV 광에 노출되어 에폭시층(32)이 경화된다. 단계4b에서 에폭시층(26)을 갖는 폴리카보네이트층(28)이 에폭시층(32)과 에폭시층(26)사이에서 에폭시층(32)을 갖는 폴리카보네이트층(34)으로부터 분리된다. 이 순간에 제3세대 서브마스터(36)가 생성된다. 서브마스터(36)는 105°×40°의 각도 스펙트럼 출력을 가진다.
도2의 단계5a 및 5b는 다른 서브마스터 생성기술과 동일한 방식으로 제4세대 서브마스터를 생성한다. 에폭시층(32)을 갖는 폴리카보네이트층(34)이 사용된다. 에폭시 비이드가 에폭시층(32)의 한 가장자리를 따라 배치되고 그 위에 폴리카보네이트 쉬이트(40)가 배치된다. 이전과 동일한 방식으로 에폭시 비이드가 균일하게 압착되어서 에폭시층(32)과 폴리카보네이트 쉬이트(40)사이에 에폭시층(38)을 형성한다. 폴리카보네이트 쉬이트(34), 경화된 에폭시(32), 경화안된 에폭시(33), 및 폴리카보네이트 쉬이트(40)로 구성된 샌드위치가 UV 광에 노출되어 에폭시(38)가 경화된다. 경화후 에폭시층(32)을 갖는 폴리카보네이트층(34)이 에폭시층(38)과 에폭시층(32) 사이에서 에폭시층(380을 갖는 폴리카보네이트 쉬이트(40)로부터 분리된다. 이것은 제4세대 서브마스터(42)를 생성시킨다. 서브마스터(42)는 90°×35°의 각도 출력을 가진다.
도2의 단계 6a 및 6b 에 도시된대로 폴리카보네이트층(40)과 에폭시층(38)을 포함하는 제4세대 서브마스터가 제 5 및 최종 세대 서브마스터 생성에 사용된다. 에폭시 비이드가 경화된 에폭시(38)의 한 가장자리를 따라 배치되고 그위에 폴리카보네이트 쉬이트(46)가 배치된다. 에폭시 비이드가 폴리카보네이트 쉬이트(46)와 이미 경화된 에폭시층(38)사이에서 균일하게 압착된다. 폴리카보네이트 쉬이트(40), 에폭시(38), 에폭시(44) 및 폴리카보네이트 쉬이트(46)로 구성된 샌드위치가 UV 광에 노출되어서 에폭시(44)가 경화된다. 단계 5b에서 경화후 에폭시층(38)을 갖는 폴리카보네이트 쉬이트(40)가 에폭시층(44)과 에폭시층(38)사이에서 에폭시층(44)을 갖는 폴리카보네이트 쉬이트(46)로부터 분리된다. 그 결과 제5세대 서브마스터(48)가 생성된다. 5세대 서브마스터는 최종 제품의 각도 스펙트럼에 매우 근접한 85°×32°의 각도 출력 스펙트럼을 가진다.
도2의 단계 7a 및 7b 로 도시된 마지막 단계는 사용자에게 판매되는 확산기인 최종 제품을 생성한다. 이 공정은 서브마스터 생성과 유사하지만 GAFGARD 233과 같은 1편 에폭시가 사용된다. 에폭시 비이드가 경화된 에폭시(44)의 한 가장자리를 따라 배치되고 그위에 폴리카보네이트 쉬이트(52)가 배치된다. 에폭시 비이드가 폴리카보네이트 쉬이트(52)와 이미 경화된 4편 에폭시층(44)사이에서 균일하게 압착되어 균일한 에폭시층(50)이 형성된다. 폴리카보네이트 쉬이트(46), 에폭시(44), 에폭시(50) 및 폴리카보네이트 쉬이트(52)로 구성된 샌드위치가 UV 광에 노출되어서 1편 에폭시(50)가 경화된다. 경화후 에폭시층(44)을 갖는 폴리카보네이트 쉬이트(52)가 1편 에폭시층(50)과 4편 에폭시층(44)사이에서 1편 에폭시층(50)을 갖는 폴리카보네이트 쉬이트(52)로부터 분리된다. 그 결과 1편 에폭시층(50)을 갖는 폴리카보네이트 쉬이트(52)를 포함한 최종 제품(54)이 생성된다. 최종 제품은 80°×30°의 각도 출력 스펙트럼을 가진다.
본 발명의 공정에서 위에서 언급된 미국특허에 발표된대로 기록될 수 있는 포토레지스트/유리 마스터(10)가 공정에서 파괴되지 않고 복제된다. 도3a에서 포토레지스트/유리 마스터(10)는 유리기질(12)상에 포토레지스트층(14)을 가진다. 일반적으로 여러개의 고무 마스터가 포토레지스트마스터(10)로부터 제조될 수 있으며 3개 이상의 에폭시 마스터가 고무 마스터로부터 제조될 수 있다. 본 발명에 따르면 (도3b 참조) 포토레지스트/유리 마스터(10)가 복제를 위해 제조된다. 유리 또는 기타 재료로 제조된 프레임(70)이 포토레지스트/유리 마스터(10) 가장자리 둘레에 형성되며 프레임은 포토레지스트층(14)의 상부표면 약간 위로 상승한다. 프레임이 배치된 후 Silastic?J 또는 M-2 RTV 실리콘 고무(Dow Corning, Midland, Michigan 48686)와 같은 탄성재료(실리콘 고무)가 포토레지스트층(14)위로 프레임속에 부어진다. RTV 실리콘은 용기에 100중량부의 RTV 실리콘 고무 베이스와 10중량부의 경화제를 넣어 제조한다. 경화제가 베이스에 완전 분산되고 균일한 색상이 수득될 때까지 혼합된다. 철저한 혼합은 완전 경화에 중요하다. 그렇지 않으면 특징이 고무에 충실하게 재현되지 않는다. 혼합후 압력이 20밀리토르까지 감압된 진공챔버에 혼합물을 넣고 혼합물을 완전 팽창 및 붕괴시켜서 갇힌 공기를 제거한다. 공기를 빼낸후 공기가 포함되지 않게 하면서 혼합물을 마스터에 붓는다. 이 혼합물을 24시간 후 신축성 고무로 경화되고 그후 마스터가 고무로부터 벗겨진다. RTV 실리콘이 선호되는 고무이지만 포토레지스트층(14)에 기록된 표면 특징을 실현시킬 수 있는 다른 합성 탄성중합체로 사용될 수 있다.
프레임(70)은 RTV 실리콘 고무가 포토레지스트/유리 마스터로부터 흐르는 것을 방지한다. RTV 실리콘 고무의 두께는 1-5㎜, 특히 5㎜ 이다. 두꺼운 고무층이 취급의 용이성 때문에 바람직하지만 RTV 실리콘 고무는 매우 비싸므로 최소로 사용되어야 한다. 경화완료후 RTV 고무층(72)이 포토레지스트층(14)으로부터 분리된다(한 코너를 손으로 들어올려서). 도3d에서 포토레지스트층(14)과 접촉하는 제거된 RTV 고무층(72)의 표면(73)은 표면 구조, 즉 포토레지스트층(14)에 존재하는 광학 표면 특징을 포함한다. RTV 실리콘 고무층(72)의 제거는 유리기질(12)과 포토레지스트층(14)을 포함하는 유리기질(12)과 포토레지스트층(14)을 포함하는 포토레지스트/유리 마스터(10)를 파괴하지 않는다. 따라서 미래의 서브마스터 생성에 사용될 포토레지스트/유리 마스터(10)를 마스터 라이브러리에 저장할 수 있다.
RTV 서브마스터가 생성된 후 Norland 63 대신에 GAFGARD 233 또는 UV-25가 사용되는 것을 제외하고는 단계 3-7에 기술된 방법에 의해 에폭시 서브마스터를 생성하는데 사용할 수 있다. 이 방법은 서브마스터의 한 가장자리를 따라 에폭시 비이드를 배치하고, 그 위에 폴리카보네이트 쉬이트를 배치하고, 폴리카보네이트와 고무 서브마스터 사이에서 에폭시 비이드를 균일하게 압착하고, 에폭시를 UV 경화시키고, 에폭시를 고무로부터 분리시키는 단계를 포함한다. 제3세대 및 후속 서브마스터가 도2의 단계 3-7에 따라 제2세대 서브마스터로부터 제조될 수 있다. 게다가 단일 고무 서브마스터로부터 여러개의 제2세대 서브마스터가 생성될 수 있으므로 고무 서브마스터는 미래에 추가 제2세대 서브마스터 발생에 사용하도록 고무 서브마스터 라이브러리에 저장할 수 있다.
RTV 실리콘 고무 사용시 장점은 RTV 실리콘 고무 경화시간이 공지 방법에 비해 느리므로 수축이 감소된다는 것이다. 수축이 적으므로 포토레지스트/고무 마스터(10)의 각도 출력 스펙트럼이 더 적어질 수 있다. 과거에 90°×30° 각도 스펙트럼을 갖는 최종 광학제품을 제조하기 위해서 130°×60°의 각도 출력을 갖도록 포토레지스트/유리 마스터가 기록되었다. RTV 고무 사용으로 포토레지스트/유리 마스터(10)는 예컨대 120°×50°의 각도 스펙트럼을 갖도록 기록될 수 있으므로 과거의 방법보다 더 적은수의 서브마스터 세대가 필요하다. 따라서 한 서브마스터 세대를 제거함으로써 시간 및 재료가 절약되며, 마스터가 높은 각도출력을 가질 필요가 없기 때문에 최종 제품의 품질이 개선되며, 고 각도 출력 마스터는 저 각도 출력 마스터보다 오염 및 진동의 영향을 받기 쉽다. 특히 고 각도 스펙트럼 마스터를 기록하는데 필요한 적은 특징 크기를 기록과정동안 먼지등의 입자 크기에 근접하기 때문에 과거의 기록 과정은 먼지에 민감하다. 게다가, 전체 포토레지스트/유리 마스터는 진동에 매우 민감하며 진동의 효과는 고 각도 출력 스펙트럼 마스터의 기록동안 더욱 심오하다. 본 발명은 수축을 감소시킴으로써 과거와 같이 높은 각도 출력 마스터로 시작할 필요가 없으므로 기록 품질 및 효율이 향상된다.
필요한 광학 특성을 갖는 최종 광학 제품을 생성하는 또다른 방법은 금속 쉬임을 먼저 만드는 것이다. 이 절차는 장점이 있지만 공지 절차처럼 포토레지스트/유리 마스터가 파괴된다. 도4a에서 이 절차는 포토레지스트층(62)이 위에 배치된 유리 마스터(60)를 사용한다. 포토레지스트의 두께는 약 20 마이크론이지만 다른 두께가 사용될 수 있다. 500-1000 옹스트롬 두께의 은층(64)이 표준 방법을 써서 포토레지스트층(62) 상에 진공코팅된다. 도4b에서 샌드위치층(60,62,64)이 은층(64)에 연결된 양극과 크롬 니켈판에 부착된 음극을 갖는 용액속도 담겨서 도4c에 도시된대로 은층(64)상에 크롬니켈층(66)이 침전된다. 도4d에서 은층(64)이 포토레지스트(62)으로 부터 이형되면 유리층(60)과 포토레지스트층(62)이 파괴된다. 은층(64)과 함께 6밀리미터 내지 1㎝ 두께의 남아있는 크롬니켈층(66)이 표준 엠보싱 또는 사출성형 단계에서 사용되어 최종 광학 제품을 생성한다.

Claims (28)

  1. 감광재료를 기록하고;
    감광재료를 가공하고;
    가공된 감광재료위로 고무를 붓고;
    고무를 경화시키고;
    경화된 고무를 경화된 감광재료로부터 분리하는 단계를 포함하는 광학제품용 서브마스터 형성방법.
  2. 제 1 항에 있어서, 고무가 합성 탄성중합체임을 특징으로 하는 방법.
  3. 제 1 항에 있어서, 고무가 RTV 실리콘임을 특징으로 하는 방법.
  4. 제 1 RTV 항에 있어서, 고무가 5밀리미터의 층두께를 가짐을 특징으로 하는 방법.
  5. 제 1 항에 있어서, 경화된 감광재료위에 고무를 붓는 단계가 마스터를 에워싸는 프레임에 고무를 붓는 단계를 포함함을 특징으로 하는 방법.
  6. 제 1 항에 있어서, 감광재료를 기록하는 단계가 간섭성 광을 사용하여 감광재료에 표면 구조를 발생시키는 과정을 포함함을 특징으로 하는 방법.
  7. 제 1 항에 있어서, 감광재료를 기록하는 단계가 비간섭성 광을 사용하여 감광재료에 표면 구조를 발생시키는 과정을 포함함을 특징으로 하는 방법.
  8. 제 1 항에 있어서, 상기 서브마스터를 에폭시층으로 덮고; 상기 에폭시층을 플라스틱 기질로 덮고; 에폭시를 경화시키고 ; 에폭시를 서브마스터로부터 분리하는 단계에 의해 후속 세대의 서브마스터를 생성하는데 상기 서브마스터를 사용함을 특징으로 하는 방법.
  9. 제 8 항에 있어서, 에폭시층으로 상기 서브마스터를 덮는 단계가 서브마스터의 한 가장자리를 따라 에폭시 비이드를 배치하고; 에폭시 비이드를 플라스틱 기질로 덮고; 플라스틱 기질에 압력을 적용하여 서브마스터와 플라스틱 기질 사이에 에폭시 비이드를 균일하게 확산시키는 단계를 포함함을 특징으로 하는 방법.
  10. 제 8 항에 있어서, 에폭시층이 4편 에폭시를 포함함을 특징으로 하는 방법.
  11. 제 8 항에 있어서, 에폭시층이 1편 에폭시를 포함함을 특징으로 하는 방법.
  12. 감광재료에 광학 특징을 기록하고;
    감광재료를 가공하여 마스터를 생성하고;
    마스터위에 고무층을 붓고;
    고무를 경화시키고;
    경화된 고무를 감광재료로부터 분리시켜 고무 서브마스터를 생성하는 단계를 포함하는 광학제품용 서브마스터 생성방법.
  13. 제 12 항에 있어서, 고무가 합성 탄성중합체임을 특징으로 하는 방법.
  14. 제 12 항에 있어서, 고무가 RTV 실리콘임을 특징으로 하는 방법.
  15. 제 12 RTV 항에 있어서, 고무가 5밀리미터의 층두께를 가짐을 특징으로 하는 방법.
  16. 제 12 항에 있어서, 감광재료를 기록하는 단계가 간섭성 광을 사용하여 감광재료에 표면 구조를 발생시키는 과정을 포함함을 특징으로 하는 방법.
  17. 제 12 항에 있어서, 감광재료를 기록하는 단계가 비간섭성 광을 사용하여 감광재료에 표면 구조를 발생시키는 과정을 포함함을 특징으로 하는 방법.
  18. 제 12 항에 있어서, 상기 고무 서브마스터를 에폭시층으로 덮고; 상기 에폭시층을 플라스틱 기질로 덮고; 에폭시를 경화시키고 ; 에폭시를 서브마스터로부터 분리하는 단계에 의해 후속 세대의 서브마스터를 생성하는데 상기 서브마스터를 사용함을 특징으로 하는 방법.
  19. 제 12 항에 있어서, 마스터 위에 고무층을 붓는 단계가 마스터를 에워싸는 프레임에 고무를 붓는 단계를 포함함을 특징으로 하는 방법.
  20. 마스터위에 고무층을 부어서 고무에 마스터의 광학 표면 특징을 실현시키고;
    고무를 경화시키고;
    경화된 고무를 분리시켜 고무 서브마스터를 수득하는 단계를 포함하는 광학 표면 특징이 기록된 마스터로부터 광학 제품용 서브마스터 생성방법.
  21. 제 20 항에 있어서, 고무가 합성 탄성중합체임을 특징으로 하는 방법.
  22. 제 20 항에 있어서, 고무가 RTV 실리콘임을 특징으로 하는 방법.
  23. 제 20 항에 있어서, 고무가 5밀리미터의 층두께를 가짐을 특징으로 하는 방법.
  24. 제 20 항에 있어서, 마스터 위에 고무층을 붓는 단계가 마스터를 에워싸는 프레임에 고무를 붓는 단계를 포함함을 특징으로 하는 방법.
  25. 제 20 항에 있어서, 상기 서브마스터를 에폭시층으로 덮고; 상기 에폭시층을 플라스틱 기질로 덮고; 에폭시를 경화시키고 ; 에폭시를 서브마스터로부터 분리하는 단계에 의해 후속 세대의 서브마스터를 생성하는데 상기 서브마스터를 사용함을 특징으로 하는 방법.
  26. 감광재료에 광학특징을 기록하고;
    감광재료를 가공하여 마스터를 생성하고;
    감광재료에 은층을 코팅하고;
    크롬니켈층을 은층상에 전기도금하고;
    은층을 감광재료로부터 분리시켜 서브마스터를 형성하는 단계를 포함하는 광학제품용 서브마스터 생성방법.
  27. 제 26 항에 있어서, 은 서브마스터를 사용하여 엠보싱에 의해 최종 광학 제품을 생성하는 단계를 더욱 포함하는 방법.
  28. 제 26 항에 있어서, 은 서브마스터를 사용하여 사출성형기에 의해 최종 광학 제품을 생성하는 단계를 더욱 포함하는 방법.
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