DE4340106A1 - Verfahren zur Herstellung eines optischen Beugungsgitters - Google Patents

Description

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung eines optischen Beugungsgitters unter Anwendung photochemischer Bearbeitungsschritte sowie die Verwendung des so herge­ stellten Beugungsgitters.

Beugungsgitter für optische Geräte werden traditionell aus Glas hergestellt, in das die Gitterstruktur mechanisch eingraviert wird. Eine diesem Zweck dienende, hochentwickel­ te Vorrichtung ist in US 4 012 843 beschrieben.

Auf diesem Wege hergestellte Beugungsgitter sind kosten­ aufwendig, zumal, wenn für spektroskopische oder photometri­ sche Anwendungen zur Erzielung hoher (Wellenlängen-)Auf­ lösung sehr hohe Genauigkeitsanforderungen eingehalten werden müssen.

Bekannt sind auch Beugungsgitter aus Kunststoff, die übli­ cherweise durch Prägeverfahren unter Verwendung einer Glas- oder Metall-Urform hergestellt werden. Hierbei bringt der Schritt des Einprägens der Gitterstruktur in den Kunststoff wegen dessen mechanischer - insbesondere rheologischer - Eigenschaften eine erhebliche Einbuße an Strukturperfektion mit sich, so daß derart hergestellte Gitter für hochwertige Geräte kaum verwendbar sind.

Es ist auch bekannt, Teile mit fein strukturierter Ober­ fläche aus Metall oder Kunststoff durch Druck- oder Spritzgießen mittels einer Dauerform herzustellen. Für optische Teile ist dies z. B. in R. K. Dakin, E.G. Loewen: "Replica Optics circa ′75", Optical Spectra 1975, S. 29-31, beschrieben.

Auch bei den bekannten Verfahren dieser Art gelangt eine Negativform des herzustellenden Teils als Master zum Ein­ satz, die zumeist aus Metall besteht und deren Oberflä­ chenstruktur üblicherweise durch bekannte Verfahren der Metallbearbeitung (Drehen, Fräsen, Schleifen, Gravieren) ausgebildet wird.

Aus H. Dislich, E. Hildebrandt: "Method of Production of Diffraction Gratings from Plastics with Inhibited Thermal Expansion", Optik 1968, S. 126-131, ist es bekannt, Kunststoff-Beugungsgitter mit niedrigem thermischen Aus­ dehnungskoeffizienten durch Auspolymerisation an einem Ma­ ster aus Glas oder Glaskeramik zu bilden. Auch dieser Ma­ ster wird durch mechanische Erzeugung der Oberflächen­ struktur hergestellt.

Allen genannten Verfahren ist gemeinsam, daß der Errei­ chung sehr hoher Gittergenauigkeiten auch durch die bei der mechanischen Bearbeitung der Urform bestehenden Tole­ ranzen Grenzen gesetzt sind.

Handelt es sich bei dem herzustellenden Gitter insbesonde­ re um eines, dessen Oberfläche konkav ist, so sind wegen dessen besonderer Abbildungseigenschaften gegenüber einem ebenen Gitter noch erhöhte Anforderungen an die Genauig­ keit der Gitterteilung zu stellen. Darüber hinaus ist die komplementäre Struktur der Negativform auf einer konvexen Oberfläche zu erzeugen. Daher ist die Herstellung der Ur­ form auf mechanischen Wege mit noch wesentlich erhöhtem Aufwand und größeren Toleranzen verbunden.

Es ist - etwa aus DE-OS 16 23 803 und mehreren Zusatzpa­ tenten hierzu - auch bekannt, photochemische Strukturbil­ dungsverfahren, wie sie in der Technologie der Mikroelek­ tronik große Bedeutung gewonnen haben, zur direkten Her­ stellung von optischen Beugungsgittern zu nutzen. Dabei wird in den Abbildungsbereich einer bei Überlagerung zweier kohärenter Strahlenbündel entstehenden Interferenz­ figur eine Resistschicht eingebracht, in der Interferenz­ figur belichtet und anschließend zum Gitter entwickelt.

Das auf diese Weise als Resistschicht auf einem Träger er­ zeugte Gitter wird mit einer Metallschicht bedampft und unmittelbar als optisches Element in einem Gerät einge­ setzt. Es können aber auch weitere Gitter von einem auf diese Weise erzeugten (Muster-)Gitter umkopiert werden.

Dies ist aufwendig und erhöht damit die Kosten der Gitter, und konkave Gitter sind auf diese Weise nicht ohne weite­ res herzustellen.

Der Erfindung liegt daher die Aufgabe zugrunde, ein Ver­ fahren der eingangs genannten Gattung anzugeben, das zur kostengünstigen Herstellung optischer Beugungsgitter - insbesondere auch konkaver Gitter - mit hohem Auflösungs­ vermögen geeignet ist.

Diese Aufgabe wird durch ein Verfahren mit den Merkmalen des Anspruchs 1 gelöst.

Die Erfindung schließt den Gedanken ein, in einem photoche­ mischen Verfahren auf direktem Wege eine direkt als Master in einem Abformungsverfahren einsetzbare, d. h. mechanisch hoch belastbare, Negativform herzustellen.

Sie schließt weiter den Gedanken ein, dazu vorab eine Negativ-Vorform mit glatter, zur Oberflächen-Grundform der mittels des Masters zu erzeugenden Gitter komplementärer - für ein konkaves Beugungsgitter konvex gekrümmter - Oberfläche herzustellen. Dies kann mittels herkömmlicher mechanischer Verfahren der Feinbearbeitung optischer Ober­ flächen geschehen, also etwa durch Schleifen und Polieren.

Letztlich schließt sie den Gedanken ein, den so gebildeten Master als Teil einer Spritzgußform zu nutzen und die kon­ kaven Beugungsgitter mit hoher Genauigkeit und dennoch ko­ stengünstig in einem Druck- oder Spritzgußverfahren zu er­ zeugen.

Als Gittermaterial eignen sich Epoxidharze, Silikonmassen und vor allem auch Thermoplastwerkstoffe wie Polykarbonat. Letztere weisen besonders gute Fließeigenschaften auf und lassen sich gut metallisieren.

Der diffizile Schritt des Belichtens der konvexen Ober­ fläche der Negativ-Vorform kann in vorteilhafter Weise durch das Material der Negativ-Vorform hindurch von deren Rückseite ausgeführt werden.

Die Belichtung kann grundsätzlich mit beliebiger Strahlung erfolgen, für die ein Resistmaterial mit entsprechender Empfindlichkeit verfügbar ist. Dabei ist für sehr feine Strukturen etwa die Verwendung von Elektronenstrahlen mit einem Elektronenstrahlresist, wie er aus der Halbleiter­ technologie bekannt ist, möglich.

Für optische Gitter wird jedoch zweckmäßigerweise elektro­ magnetische Strahlung mit einer Wellenlänge im optischen Bereich - vom nicht zu fernen UV- bis in den nahen IR- Bereich - benutzt werden, die leicht zu erzeugen und zu handhaben ist. Als Material der Negativform wird dann ein für Licht eines Teilbereiches aus dem ultravioletten bis zum nahen infraroten Bereich des elektromagnetischen Spek­ trums durchlässiges Material eingesetzt.

Eine relativ einfache und hochgenaue Vorbearbeitung und Strukturierung der Negativform ist möglich, wenn als Mate­ rial für diese Glaskeramik, Glas oder in Spezialfällen auch Quarz (unter anderem in Abhängigkeit von der Belich­ tungs-Wellenlänge) eingesetzt wird. Als besonders vorteil­ haft hat sich - zumindest für Belichtungs-Wellenlängen im sichtbaren Bereich - Glaskeramik erwiesen.

Um Absorptionsverluste klein zu halten und Streueffekte im Material, die die Abbildungsgenauigkeit beeinträchtigen, zu minimieren, erfolgt die Belichtung der konvexen Ober­ fläche der Negativform mittels Laserstrahlung mit einer Wellenlänge, die im Bereich eines Absorptionsminimums des Materials der Negativform liegt.

Daneben ist es von Bedeutung, für die Negativform eine Ma­ terialqualität mit möglichst hoher Transparenz auszuwäh­ len, die weitgehend frei von Inhomogenitäten ist.

Eine besonders schnelle und genaue Ausprägung der (flächi­ gen) Gitterstruktur eines Beugungsgitters in der lichtemp­ findlichen Schicht auf der Oberfläche der Negativ-Vorform ist durch Belichtung unter Anwendung eines holografischen Verfahrens möglich.

Grundsätzlich ist es jedoch auch möglich, die Oberfläche der konvexen Negativform mit einem auf sie fokussierten Strahl punktweise zu belichten oder ein als Maske vorlie­ gendes Muster durch eine flächige Belichtung durch die Maske hindurch zu übertragen.

Für den sich an die photochemische Erzeugung bzw. Übertra­ gung eines vorgegebenen Gittermusters auf die Oberfläche der Negativform anschließenden Ätzschritt kommen grund­ sätzlich die aus der Glasbearbeitung bekannten chemischen oder auch die aus der Halbleitertechnologie bekannten phy­ sikalischen oder physikochemischen Ätzverfahren in Be­ tracht, soweit die dabei verwendbaren Ätzmittel eine gut steuerbare Strukturbildung im Material der Negativform - also etwa Glas oder Glaskeramik - zulassen. Besondere Eig­ nung hat nach den Erkenntnissen der Erfinder das Ionen­ strahlätzen.

Die mittels des erfindungsgemäßen Verfahrens mit hoher Ge­ nauigkeit und kostengünstig hergestellten Beugungsgitter eignen sich besonders für den Einsatz in einem Spektral­ photometer, wo die mit der Spritzgußtechnik gegebene Mög­ lichkeit der Anformung von Halteelementen etc. direkt an das Gitter zu konstruktiven Vereinfachungen und damit zu einer weiteren Kostenreduzierung führen kann.

Weitere vorteilhafte Weiterbildungen der Erfindung werden nachstehend zusammen mit der Beschreibung der bevorzugten Ausführung der Erfindung anhand der Figuren näher darge­ stellt. Es zeigen:

Fig. 1a bis 1c eine schematische Darstellung der Haupt­ schritte bei der Herstellung der Negativform entsprechend einer Ausführungsform des erfindungsgemäßen Verfahrens,

Fig. 2 eine schematische Darstellung des Prinzips der Ab­ formung eines konkaven Beugungsgitters von der Negativform durch Spritzgießen entsprechend einer Ausführungsform des Verfahrens und

Fig. 3a bis 3f schematische Darstellungen der einzelnen Phasen des Spritzgießverfahrens.

In Fig. 1a ist schematisch verdeutlicht, wie ein Rohling aus dem Glaskeramik-Werkstoff Zerodur 1′′ durch Schleifen und Polieren mittels eines rotierend über eine seiner Stirnflächen bewegten Werkzeugs 2 zu einer in ihrer Grund­ form zylindrischen Negativ-Vorform 1′ mit einer ebenen Stirnfläche 1a und einer sphärisch konvexen Stirnfläche 1b mit optischer Oberflächengüte bearbeitet wird. Diese Bearbeitung erfolgt auf eine Weise, wie sie für die Bear­ beitung von optischen Bauteilen aus Glas - etwa Linsen und Spiegeln - bekannt ist. Die Abweichungen der Gestalt der Negativ-Vorform von der Ideal- bzw. Sollform liegen im Er­ gebnis der feinoptischen Bearbeitung bei etwa 60 nm oder darunter. Diese Formgenauigkeit ist Voraussetzung zur Er­ zielung guter Abbildungsparameter des herzustellenden Beu­ gungsgitters.

Anschließend werden beide Stirnflächen der Negativ-Vorform 1′ mit einer Antireflexionsbeschichtung versehen, die in den Figuren nicht dargestellt ist.

Auf die konvexe Oberfläche 1b wird sodann - etwa durch Aufschleudern ("spin-coating") - eine dünne Fotolack­ schicht 3 aufgebracht, die für eine Belichtungs-Wellenlänge von 458 nm empfindlich ist. Als Fotolack kann dabei sowohl ein sogenannter Positiv- als auch ein Negativ-Resist ver­ wendet werden. Beide Resist-Arten unterscheiden sich inso­ fern, als beim Positiv-Resist die belichteten Teile im Entwicklungsprozeß aus der Schicht herausgelöst werden während beim Negativ-Resist die belichteten Teile stehen bleiben und die unbelichteten Teile herausgelöst werden. Die Dicke der Lackschicht wird entsprechend der zu erzeu­ genden Gitterstruktur und in Abstimmung auf das Ätzmittel und die Verfahrensparameter des anschließenden Ätzschrit­ tes vorgegeben.

Nachdem die Resistschicht getrocknet wurde, wird die Negativ-Vorform 1′, wie Fig. 1b schematisch verdeutlicht, von der ebenen Stirnfläche 1a - also von der (konkaven) Rückseite der konvexen Oberfläche 1b - aus mit den überla­ gerten monochromatischen und kohärenten Lichtbündeln zweier Punktlichtquellen 4a und 4b belichtet. Die Punktlicht­ quellen 4a und 4b werden in der praktischen Ausführung et­ wa durch einen mittels einer Spiegel-Prismen-Anordnung aufgespaltenen Laserstrahl mit einer Wellenlänge von 458 nm und geeigneten Raumfiltereinheiten, bestehend aus an die zu belichtende Fläche angepaßten Mikroobjektiven und Pinholes, realisiert. Sie entwerfen in der Ebene der Foto­ lackschicht 3 auf der Oberfläche 1b ein holografisches In­ terferenzmuster und prägen dieses der Fotolackschicht in­ härent ein.

Anschließend wird der Resist entwickelt, und im Ergebnis des Entwicklungsschrittes entsteht aus der Resistschicht 3 mit gleichmäßiger Dicke eine strukturierte Schicht 3′ (siehe Fig. 1c) mit annähernd sinusförmigen Querschnitt. Für die Qualität der herzustellenden Gitter kommt es dar­ auf an, daß die Dicke der Resistschicht (in Abstimmung mit den Parametern des Entwicklungs- und des nachfolgenden Ätzschrittes) so groß gewählt wird, daß sich in dieser ge­ rade ein sinusförmiges Tiefenprofil mit idealer, unver­ zerrter Gestalt bzw. voller Amplitude ausbilden kann.

Der Resist wird dann gebacken bzw. gehärtet und kann ggf. auch mit einer zusätzlichen Schicht zur besseren Steuerung des folgenden Ätzschrittes bedeckt werden.

Wie Fig. 1c schematisch zeigt, wird anschließend die kon­ vexe Oberfläche 1b unter Nutzung der (in der Figur strich­ punktiert dargestellten) strukturierten Schicht 3′ als Ätzmaske unter-Verwendung einer Ionenstrahlquelle 5 einem gerichteten Ionenstrahlätzen unterzogen, in dessen Verlauf die von den dünneren stehengebliebenen Abschnitten der Ätz­ maske 3′ bedeckten Abschnitte der Oberfläche 1b stärker geätzt werden als die noch mit einer dickeren Schicht be­ deckten Abschnitte.

In diesem Schritt bildet sich eine annähernd den Verlauf des Tiefenprofils der Maske 3′ wiedergebende Reliefstruk­ tur im Material der Negativ-Vorform 1′ aus, wodurch die Negativform 1 entsteht. Die Profiltiefe hängt dabei von den Ätzparametern - beim Ionenstrahlätzen insbesondere von der Ätzdauer und der Ionenart und -energie - ab und kann durch Vorgabe dieser Parameter gesteuert werden. Da es durch unterschiedlichen Abtrag des Resists und des Glaskeramik-Materials der Negativform zu einer Gestaltän­ derung des vorgegebenen Struktur-Querschnittes kommt, muß die Wahl der Belichtungs-, Entwicklungs- und Ätzparameter bereits (im Sinne einer Vorkompensation) unter Berücksich­ tigung dieser Veränderung erfolgen.

Fig. 2 zeigt schematisch, daß von der Negativform 1 - in­ dem sie in ein Spritzgußwerkzeug 6 aus Stahl eingelegt wird und diese über einen Extruder 7 mit dem plastifizier­ ten (flüssigen bzw. erweichten) Ausgangsmaterial 8′ des künftigen Gitters gefüllt wird - ein konkaves Beugungs­ gitter 8 abgeformt wird.

Die Fig. 3a bis 3f zeigen den Ablauf des Spritzgießverfah­ rens genauer. Eine Bezeichnung der Teile der verwendeten Vorrichtung wird zur besseren Übersichtlichkeit der Dar­ stellungen nur in Fig. 3a vorgenommen. Die jeweiligen Be­ wegungsrichtungen der Teile sind - soweit in den einzelnen Schritten Bewegungen stattfinden - durch Pfeile verdeut­ licht.

Fig. 3a zeigt wiederum das aus zwei relativ zueinander verschieblichen Teilen 6a und 6b zusammengefügte Spritz­ gußwerkzeug 6 mit der in das Teil 6a eingelegten Negativ­ form 1 zur Abformung der Gitteroberfläche. Der Extruder 7 weist eine Schnecke 9 auf, die Kunststoffgranulat 8′′ aus einem Vorratsbehälter 10 erfaßt und in Richtung der Spritzgußform 6 vorschiebt. Um den der Spritzgußform 6 zu­ gewandten Mantelabschnitt des Extruders 7 (den Heizzylin­ der 7b) ist eine Heizung 11 angeordnet, die eine Verflüs­ sigung bzw. Erweichung des Kunstoffgranulats 8′′ bewirkt und dieses damit in plastifiziertes Material 8′ überführt, das durch eine Austrittsdüse 7a des Extruders in das Spritzgußwerkzeug 6 gelangen kann.

Der in Fig. 3a gezeigte Zustand der Spritzgießvorrichtung ist der zu Beginn des Spritzgießvorganges, in dem die ent­ sprechend der obigen Beschreibung hergestellte Negativform 1 in das Spritzgießwerkzeug 6 eingelegt, dieses geschlos­ sen und der Vorratsbehälter 10 mit Kunststoffgranulat ge­ füllt ist. Auch der Heizzylinder 7b ist mit der Kunst­ stofformmasse gefüllt, die sich im hinteren Bereich noch im granulierten Zustand 8′′ befindet und im vorderen Be­ reich infolge der Erwärmung durch die bereits eingeschal­ tete Heizung 11 plastifiziert ist. Der Schneckenkolben 9 ist vollständig zurückgezogen.

Fig. 3b zeigt, daß anschließend der gesamte Extruder in Richtung auf das Spritzgießwerkzeug 6 vorgeschoben wird, bis die Vorderkante der Spritzdüse 7a an diesem anliegt.

Dann wird, wie Fig. 3c zeigt, der Schneckenkolben 9 inner­ halb des Heizzylinders 7 des Extruders vorgeschoben, womit plastifizierter Kunststoff 8′ aus dem vorderen Bereich des Extruders 7 unter hohem Druck durch die Düse 7a in das Spritzgießwerkzeug 6 gedrückt wird, bis dieses vollständig gefüllt ist. Damit ist das Kunststoff-Beugungsgitter 8 in seiner Form gebildet.

Anschließend wird, wie Fig. 3d zeigt, der Schneckenkolben 9 unter Drehen wieder zurückgezogen, wobei neues Kunst­ stoffgranulat 8′′ in den hinteren, nicht beheizten Ab­ schnitt des Heizzylinders 7 zugeführt wird.

Im voll zurückgezogenen Zustand des Schneckenkolbens 9 ist der gesamte Extruder 7 wieder mit Kunststoff gefüllt. Die­ sen Zustand des Extruders - der hier zudem bereits wieder von der Spritzgußform 6 zurückgezogen ist, zeigt Fig. 3e.

Zuletzt wird, wie Fig. 3f zeigt, das Spritzgießwerkzeug 6 geöffnet, indem die beiden Teile 6a und 6b auseinandergezo­ gen werden. Das fertig geformte Kunststoff-Beugungsgitter 8 wird entnommen.

Dessen strukturierte (Gitter-)Oberfläche wird üblicherwei­ se - was in den Figuren nicht dargestellt ist - noch ei­ ner Verspiegelung unterzogen, die etwa durch Aufdampfen von Aluminium in einer herkömmlichen Vakuumbeschichtungs­ anlage erfolgen kann.

Mit der beschriebenen Herstellung der Gitter lassen sich an deren Grundform zugleich Fortsätze, Ausnehmungen, Ach­ sen etc. zur Halterung und ggf. Bewegung beim späteren Ein­ satz in einem optischen Gerät oder auch sonstige, kon­ struktiv mit dem Gitter starr verbindbare Teile des betref­ fenden Gerätes an das Gitter anformen, womit wesentliche Vereinfachungen des Aufbaus und Kostensenkungen erreichbar sein können.

Der Verfahrensabschnitt des Spritzgießens wird mit den üb­ lichen, auf den konkreten Werkstoff angepaßten Parametern ausgeführt.

Die gegebene Beschreibung ist rein schematisch, und der Verfahrensabschnitt kann in vielfältiger Art und Weise variiert werden. Der Begriff des Spritzgießens soll im vorliegenden Zusammenhang insbesondere die Verfahren des Formpressens (bei dem das Material in der Form statt im Extruder erweicht) und Spritzpressens ausdrücklich ein­ schließen.

Abwandlungen, die der Fachmann aufgrund der gegebenen Be­ schreibung leicht vornehmen kann, ergeben sich entspre­ chend den Besonderheiten dieser Verfahren sowie etwa bei Verwendung von Metall anstelle von Kunststoff als Git­ terwerkstoff. Für diese eignen sich - je nach Gitterwerk­ stoff - auch herkömmliche Kalt- oder Warmkammer-Druck­ gußverfahren. Der nachfolgende Schritt des Metallisierens kann für Metallgitter verzichtbar sein.

Claims (14)

1. Verfahren zur Herstellung eines optischen Beugungs­ gitters (8) unter Anwendung photochemischer Musterübertra­ gung, mit den Schritten:

• - Herstellen einer Negativ-Vorform (1′) des Beugungsgit­ ters (8) mit einer glatten Oberfläche (1b),
• - Aufbringen einer lichtempfindlichen Schicht (3) auf die glatte Oberfläche (1b) der Negativ-Vorform,
• - Ausbilden eines Musters der Beugungsgittersoberfläche auf der glatten Oberfläche (1b) der Negativ-Vorform (1′) durch Belichten und Entwickeln der lichtempfindlichen Schicht (3),
• - Ätzen der Oberfläche (1b) der Negativ-Vorform zur Bil­ dung einer Negativform (1) mit zur Oberflächenstruktur des herzustellenden Beugungsgitters (8) komplementärer Relief- Struktur,
• - Herstellen des Beugungsgitters (8) durch Druck- oder Spritzgießen des Beugungsgittermaterials (8′) in einem Werkzeug (6), in das die Negativform (1) eingesetzt ist.

2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch ge­ kennzeichnet, daß das Beugungsgitter aus ei­ nem Epoxidharz hergestellt wird.

3. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch ge­ kennzeichnet, daß das Beugungsgitter aus ei­ ner Silikonmasse hergestellt wird.

4. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch ge­ kennzeichnet, daß das Beugungsgitter aus ei­ nem Thermoplastwerkstoff (8′′) hergestellt wird.

5. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 4, da­ durch gekennzeichnet, daß dem Schritt des Druck- oder Spritzgießens ein Schritt des Verspiegelns der Gitteroberfläche nachgeordnet ist.

6. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 5, da­ durch gekennzeichnet, daß die glatte Oberfläche (1b) der Negativ-Vorform (1′) entsprechend der konkaven Oberfläche eines herzustellenden Beugungsgitters (8) durch Urformen und mechanische Feinbearbeitung konvex gewölbt hergestellt wird.

7. Verfahren nach Anspruch 6 , dadurch ge­ kennzeichnet, daß des Belichten der lichtemp­ findlichen Schicht (3) durch das Material der Negativ- Vorform (1′) hindurch von deren Rückseite (1a) erfolgt.

8. Verfahren nach Anspruch 6 oder 7, dadurch gekennzeichnet, daß als Material der Nega­ tivform (1) ein für Licht eines Teilbereiches aus dem ul­ travioletten bis zum nahen infraroten Bereich des elektro­ magnetischen Spektrums durchlässiges Material eingesetzt wird.

9. Verfahren nach Anspruch 8, dadurch ge­ kennzeichnet, daß als Material der Negativ­ form (1) Glaskeramik, Glas oder Quarz eingesetzt wird.

10. Verfahren nach Anspruch 8 oder 9, dadurch gekennzeichnet, daß die Belichtung der kon­ vexen Oberfläche (1b) der Negativ-Vorform (1′) durch La­ serlicht (4a, 4b) mit einer Wellenlänge erfolgt, die im Be­ reich eines Absorptionsminimums des Materials der Negativ- Vorform liegt.

11. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 10 , da­ durch gekennzeichnet, daß die Belich­ tung der glatten Oberfläche (1b) der Negativ-Vorform (1′) unter Anwendung eines holografischen Verfahrens erfolgt.

12. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 11 , da­ durch gekennzeichnet, daß im Schritt des Druck- oder Spritzgießens des Beugungsgitters (8) zu­ gleich Halte- bzw. Jusierungsteile an dieses angeformt werden.

13. Verwendung eines mit dem Verfahren nach einem der An­ sprüche 1 bis 12 hergestellten Beugungsgitters in einem Spektralgerät, insbesondere einem Spektralphotometer, Spektrometer oder Monochromator.

14. Spektralgerät, insbesondere Spektralphotometer, mit einem konkaven Kunststoff-Spritzguß-Beugungsgitter (8), das mit dem Verfahren nach einem der Ansprüche 4 bis 12 herge­ stellt ist.