JPH05337951A - 簡易型の製作方法 - Google Patents
簡易型の製作方法Info
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- JPH05337951A JPH05337951A JP4171719A JP17171992A JPH05337951A JP H05337951 A JPH05337951 A JP H05337951A JP 4171719 A JP4171719 A JP 4171719A JP 17171992 A JP17171992 A JP 17171992A JP H05337951 A JPH05337951 A JP H05337951A
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- JP
- Japan
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- mold
- master
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- sectional
- showing
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 光造形物表面の凹凸へそれ自身の表面張力作
用により平滑固化する材料を塗布する。または高粘性の
物質を塗り込み、表面の凹凸を平滑化する。 【構成】 光造形物７の凹部８を光硬化樹脂９で埋めた
後、紫外線１０を照射することにより光硬化樹脂９を硬
化する。
用により平滑固化する材料を塗布する。または高粘性の
物質を塗り込み、表面の凹凸を平滑化する。 【構成】 光造形物７の凹部８を光硬化樹脂９で埋めた
後、紫外線１０を照射することにより光硬化樹脂９を硬
化する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、光造形法により造形さ
れたマスターを用いる簡易型の製作方法に関する。
れたマスターを用いる簡易型の製作方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、簡易型の製作方法としては、簡易
ゴム型あるいは簡易亜鉛合金型のいずれにおいてもその
製作方法はマスター製作から始まる。そして、このマス
ター製作が簡易型の製作過程の中で最も複雑かつ多くの
時間を要する工程であり、その多くは機械加工によるも
のである。
ゴム型あるいは簡易亜鉛合金型のいずれにおいてもその
製作方法はマスター製作から始まる。そして、このマス
ター製作が簡易型の製作過程の中で最も複雑かつ多くの
時間を要する工程であり、その多くは機械加工によるも
のである。
【０００３】そこで、最近では光造形法（紫外線レーザ
ーを感光材料に照射して固化積層することにより、所望
の形状を得る新しい加工法）を用いてマスターを短時間
で容易に製作する方法が用いられている。
ーを感光材料に照射して固化積層することにより、所望
の形状を得る新しい加工法）を用いてマスターを短時間
で容易に製作する方法が用いられている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかるに、前記従来技
術における光造形法で製作された造形物には、その原理
上、光を走査して硬化した階段状の凹凸（約０．１〜
０．３ｍｍ）が存在し、精密なマスターとなり得なかっ
た。従って、せっかく短時間で製作することのできる光
造形法による造形物から簡易マスターを製作しようとす
れば、この階段状の凸部を例えばヤスリ等で機械的に削
り取って表面を平滑にしなければならない。
術における光造形法で製作された造形物には、その原理
上、光を走査して硬化した階段状の凹凸（約０．１〜
０．３ｍｍ）が存在し、精密なマスターとなり得なかっ
た。従って、せっかく短時間で製作することのできる光
造形法による造形物から簡易マスターを製作しようとす
れば、この階段状の凸部を例えばヤスリ等で機械的に削
り取って表面を平滑にしなければならない。
【０００５】しかしながら、上記方法ではそのための加
工時間がかかり、さらには形状を損なうという欠点があ
り、機械加工によるマスターに代わるマスターとして使
用するに至らなかった。
工時間がかかり、さらには形状を損なうという欠点があ
り、機械加工によるマスターに代わるマスターとして使
用するに至らなかった。
【０００６】因って、本発明は前記従来技術における欠
点に鑑みて開発されたもので、光造形法によって製作さ
れた簡易型マスター表面の微細な凹凸を繁雑な作業や除
去する機械的な作用を施さず、また形状を破損すること
なく、容易に短時間かつ低コストで平滑な状態とする方
法であり、従来の機械加工によるマスター製作に比べて
同等の品質が得られるとともに、製作時間の飛躍的な短
縮が図れる簡易型の製作方法の提供を目的とする。
点に鑑みて開発されたもので、光造形法によって製作さ
れた簡易型マスター表面の微細な凹凸を繁雑な作業や除
去する機械的な作用を施さず、また形状を破損すること
なく、容易に短時間かつ低コストで平滑な状態とする方
法であり、従来の機械加工によるマスター製作に比べて
同等の品質が得られるとともに、製作時間の飛躍的な短
縮が図れる簡易型の製作方法の提供を目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明は、光造形法によ
り造形した造形物をマスターとし、該マスターをゴム型
に転写し、該ゴム型を石膏型に転写し、該石膏型を金属
型に転写し、この金属型を簡易型とする簡易型の製作方
法において、前記マスター表面に高い粘性の物質を塗布
することにより、マスター表面を平滑化する方法であ
る。
り造形した造形物をマスターとし、該マスターをゴム型
に転写し、該ゴム型を石膏型に転写し、該石膏型を金属
型に転写し、この金属型を簡易型とする簡易型の製作方
法において、前記マスター表面に高い粘性の物質を塗布
することにより、マスター表面を平滑化する方法であ
る。
【０００８】
【作用】本発明では、造形物表面の微細な凹凸により生
ずる谷間を埋める物質として、適当な粘性を有しかつ熱
や光等で硬化する物質を塗布することにより、自身の表
面張力作用により谷間を埋めた後、熱や光等に反応させ
て硬化させる。あるいは、粘土のような高粘性の物質を
その表面の微細な凹凸により生ずる谷間を埋めるように
塗布することで、容易に平滑な表面状態が得られる。
ずる谷間を埋める物質として、適当な粘性を有しかつ熱
や光等で硬化する物質を塗布することにより、自身の表
面張力作用により谷間を埋めた後、熱や光等に反応させ
て硬化させる。あるいは、粘土のような高粘性の物質を
その表面の微細な凹凸により生ずる谷間を埋めるように
塗布することで、容易に平滑な表面状態が得られる。
【０００９】
【実施例１】図１〜図１０は本実施例を示し、図１は本
実施例で用いる光造形装置の概略構成図、図２および図
３は光造形物の面粗度を平滑する方法の工程を示す断面
図、図４〜図１０は光造形物をマスターとする射出用簡
易型作成法の工程を示す断面図である。
実施例で用いる光造形装置の概略構成図、図２および図
３は光造形物の面粗度を平滑する方法の工程を示す断面
図、図４〜図１０は光造形物をマスターとする射出用簡
易型作成法の工程を示す断面図である。
【００１０】１はレーザーを照射するレーザー照射装置
で、このレーザー照射装置１は出力の調整機能を有して
おり、Ｘ−Ｙ駆動装置２にてＸ−Ｙを走査する。駆動装
置２はコントローラ４に接続され、さらにコントローラ
４にはＺ軸駆動装置３が接続されており、コントローラ
４はスライスしたデータを基に駆動装置２およびＺ軸駆
動装置３へ信号を送る様に構成されている。５はレーザ
ー照射装置１にて凝固される光硬化樹脂で、７はテーブ
ル６上で光硬化樹脂５が凝固されてＺ軸駆動装置３によ
り積層された光造形物である。
で、このレーザー照射装置１は出力の調整機能を有して
おり、Ｘ−Ｙ駆動装置２にてＸ−Ｙを走査する。駆動装
置２はコントローラ４に接続され、さらにコントローラ
４にはＺ軸駆動装置３が接続されており、コントローラ
４はスライスしたデータを基に駆動装置２およびＺ軸駆
動装置３へ信号を送る様に構成されている。５はレーザ
ー照射装置１にて凝固される光硬化樹脂で、７はテーブ
ル６上で光硬化樹脂５が凝固されてＺ軸駆動装置３によ
り積層された光造形物である。
【００１１】以上の構成から成る光造形装置を用いての
射出用簡易型作成法は、まず光造形装置に三次元データ
を取り込み、装置内のコンピューター上で平面的にスラ
イスし、この二次元データに基づきＸ−Ｙ駆動装置２に
よりレーザー照射装置１からのレーザー光線を走査する
とともに、必要に応じてレーザー光線の照射をＯＮ／Ｏ
ＦＦさせることにより光硬化樹脂５を凝固させる。さら
に、その上に次のスライスした二次元データを基にテー
ブル６を上下させ、上記と同様に光硬化樹脂５を凝固さ
せて積層させる。以上の手順を繰り返すことにより光造
形物７を作製する（図２参照）。
射出用簡易型作成法は、まず光造形装置に三次元データ
を取り込み、装置内のコンピューター上で平面的にスラ
イスし、この二次元データに基づきＸ−Ｙ駆動装置２に
よりレーザー照射装置１からのレーザー光線を走査する
とともに、必要に応じてレーザー光線の照射をＯＮ／Ｏ
ＦＦさせることにより光硬化樹脂５を凝固させる。さら
に、その上に次のスライスした二次元データを基にテー
ブル６を上下させ、上記と同様に光硬化樹脂５を凝固さ
せて積層させる。以上の手順を繰り返すことにより光造
形物７を作製する（図２参照）。
【００１２】作製された光造形物７の表面上にある凹部
８を光硬化樹脂９で充填する。この時、光硬化樹脂９の
状態は自重で流れ出さず、表面張力にて凹部８を埋めて
しまう程度の粘性（２０００ｃｐｓ／２５℃位）を有し
ている。ハケやスプレー等で光造形物７の表面に光硬化
樹脂９を均一に塗り込むことで、自身の表面張力により
平滑化する。この様な状態で、光硬化樹脂９が硬化する
まで表面全体を紫外線１０で１５分位照射する（図３参
照）。
８を光硬化樹脂９で充填する。この時、光硬化樹脂９の
状態は自重で流れ出さず、表面張力にて凹部８を埋めて
しまう程度の粘性（２０００ｃｐｓ／２５℃位）を有し
ている。ハケやスプレー等で光造形物７の表面に光硬化
樹脂９を均一に塗り込むことで、自身の表面張力により
平滑化する。この様な状態で、光硬化樹脂９が硬化する
まで表面全体を紫外線１０で１５分位照射する（図３参
照）。
【００１３】照射された光造形物７の表面は平滑とな
り、簡易型のマスターモデル１１として使用する（図４
参照）。マスターモデル１１を外枠１２で囲み、その型
枠内に付加タイプで収縮が小さく触媒毒性を有していな
いシリコンゴム１３を注入し、２５℃で１２時間程度放
置して硬化させる（図５参照）。この後、マスターモデ
ル１１を抜きとることにより、シリコンゴム型１４を得
る（図６参照）。
り、簡易型のマスターモデル１１として使用する（図４
参照）。マスターモデル１１を外枠１２で囲み、その型
枠内に付加タイプで収縮が小さく触媒毒性を有していな
いシリコンゴム１３を注入し、２５℃で１２時間程度放
置して硬化させる（図５参照）。この後、マスターモデ
ル１１を抜きとることにより、シリコンゴム型１４を得
る（図６参照）。
【００１４】次に、シリコンゴム型１４の側面を型枠１
５で囲み、その型枠内に耐火物粉末を混入した凝固する
とポーラスな状態になる石膏スラリー１６を注入し、室
温で１時間程度放置する（図７参照）。その後、シリコ
ンゴム型１４を外して４００℃の高熱にも耐える石膏生
型１８を得る（図８参照）。
５で囲み、その型枠内に耐火物粉末を混入した凝固する
とポーラスな状態になる石膏スラリー１６を注入し、室
温で１時間程度放置する（図７参照）。その後、シリコ
ンゴム型１４を外して４００℃の高熱にも耐える石膏生
型１８を得る（図８参照）。
【００１５】続いて、石膏生型１８を型枠１７で囲み、
さらに組み立てヒーター枠２０にて囲む。そして、型枠
１７の温度が３００℃になるまでヒーター枠２０にて加
熱する。引き続いて、融点温度に達している低融点合金
１９を注入する。低融点合金１９として、本実施例では
亜鉛を用いており、その融点は約４００℃である。注入
し終わったらヒーター枠２０への通電を切り、約３時間
位自然冷却する（図９参照）。
さらに組み立てヒーター枠２０にて囲む。そして、型枠
１７の温度が３００℃になるまでヒーター枠２０にて加
熱する。引き続いて、融点温度に達している低融点合金
１９を注入する。低融点合金１９として、本実施例では
亜鉛を用いており、その融点は約４００℃である。注入
し終わったらヒーター枠２０への通電を切り、約３時間
位自然冷却する（図９参照）。
【００１６】低融点合金１９が冷却固化したらヒーター
枠２０および型枠１７を外し、石膏生型１８を取り除く
と、低融点合金１９により形成された射出成形用簡易型
２１が得られる（図１０参照）。なお、コア側の形成も
同様の方法で容易に形成できる。
枠２０および型枠１７を外し、石膏生型１８を取り除く
と、低融点合金１９により形成された射出成形用簡易型
２１が得られる（図１０参照）。なお、コア側の形成も
同様の方法で容易に形成できる。
【００１７】本実施例によれば、凹凸のある光造形物の
表面に光硬化樹脂を塗布するだけで、それ自身の表面張
力作用により凹部を埋めて平滑化し、紫外線を照射して
硬化させるだけで表面が平滑化した簡易型マスターを得
られる。これにより、短時間で表面を平滑にすることが
できるとともに、従来では困難であった細部まで行える
様になった。これらのことから、マスターモデルとして
使用した時、転写によって作られた簡易型表面が平滑と
なり、良好な成形品の外観を得ることができる。
表面に光硬化樹脂を塗布するだけで、それ自身の表面張
力作用により凹部を埋めて平滑化し、紫外線を照射して
硬化させるだけで表面が平滑化した簡易型マスターを得
られる。これにより、短時間で表面を平滑にすることが
できるとともに、従来では困難であった細部まで行える
様になった。これらのことから、マスターモデルとして
使用した時、転写によって作られた簡易型表面が平滑と
なり、良好な成形品の外観を得ることができる。
【００１８】
【実施例２】図１１および図１２は本実施例における光
造形物の面粗度を平滑にする方法の工程図である。本実
施例では、前記実施例１と同様な光造形装置を用いるも
のであり、その説明を省略する。
造形物の面粗度を平滑にする方法の工程図である。本実
施例では、前記実施例１と同様な光造形装置を用いるも
のであり、その説明を省略する。
【００１９】７は前記実施例１と同様に作製された光造
形物であり、光造形物７の表面には凹凸がある。光造形
物７の表面上にある凹部８をシリコンゴムに害を与えな
い特殊な無害油粘土２２で充填する。凹部８の埋め込み
に際しては、ヘラ等で凸部の頂点まで表面全体が均一に
なる様に盛り込む。無害油粘土２２を盛り込まれた光造
形物７の表面は平滑となり、簡易型のマスターモデルが
出来上がる。以下、前記実施例１と同様に、マスターモ
デルから射出成形簡易型を得る。
形物であり、光造形物７の表面には凹凸がある。光造形
物７の表面上にある凹部８をシリコンゴムに害を与えな
い特殊な無害油粘土２２で充填する。凹部８の埋め込み
に際しては、ヘラ等で凸部の頂点まで表面全体が均一に
なる様に盛り込む。無害油粘土２２を盛り込まれた光造
形物７の表面は平滑となり、簡易型のマスターモデルが
出来上がる。以下、前記実施例１と同様に、マスターモ
デルから射出成形簡易型を得る。
【００２０】本実施例によれば、凹部８を無害油粘土２
２で埋めるだけで、表面が平滑化した簡易型のマスター
モデルを得られる。これにより、短時間で表面を平滑に
できるとともに、従来では出来なかった形状精度を損な
うことなく平滑にすることができる。これらのことか
ら、モスターモデルとして使用した時、前記実施例１と
同様な効果が得られる。
２で埋めるだけで、表面が平滑化した簡易型のマスター
モデルを得られる。これにより、短時間で表面を平滑に
できるとともに、従来では出来なかった形状精度を損な
うことなく平滑にすることができる。これらのことか
ら、モスターモデルとして使用した時、前記実施例１と
同様な効果が得られる。
【００２１】
【実施例３】図１３および図１４は本実施例における光
造形物の面粗度を平滑にする方法の工程図である。本実
施例では、前記実施例１と同様な光造形装置を用いるも
のであり、その説明を省略する。
造形物の面粗度を平滑にする方法の工程図である。本実
施例では、前記実施例１と同様な光造形装置を用いるも
のであり、その説明を省略する。
【００２２】７は前記実施例１と同様に作製された光造
形物であり、光造形物７の表面には凹凸がある。光造形
物７の表面上にある凹部８を溶剤２３で充填する。この
状態の溶剤２３は自重で流れ出さず、表面張力にて凹部
８を埋めてしまう程度の粘性（２０００ｃｐｓ／２５℃
位）を有するとともに、マスターとして使用した際に型
へ害を与えない物性を有している。なお、本実施例にお
いては、使用する溶剤２３は接着剤である。
形物であり、光造形物７の表面には凹凸がある。光造形
物７の表面上にある凹部８を溶剤２３で充填する。この
状態の溶剤２３は自重で流れ出さず、表面張力にて凹部
８を埋めてしまう程度の粘性（２０００ｃｐｓ／２５℃
位）を有するとともに、マスターとして使用した際に型
へ害を与えない物性を有している。なお、本実施例にお
いては、使用する溶剤２３は接着剤である。
【００２３】ハケやスプレー等で光造形物７の表面へ溶
剤２３を均一に塗り込み、それ自身の表面張力により平
滑化する。この様な状態で溶剤２３が自然硬化するまで
３時間位放置する。溶剤２３が硬化した光造形物７の表
面は平滑になり簡易型のマスターが出来上がる。
剤２３を均一に塗り込み、それ自身の表面張力により平
滑化する。この様な状態で溶剤２３が自然硬化するまで
３時間位放置する。溶剤２３が硬化した光造形物７の表
面は平滑になり簡易型のマスターが出来上がる。
【００２４】本実施例によれば、前記実施例１と同様な
効果が得られる。また、光造形物だけではなく、エンド
ミルによるＮＣ切削加工やレーザー加工で作成した階段
状の凹凸を有する品物にも同様に適用することができ
る。
効果が得られる。また、光造形物だけではなく、エンド
ミルによるＮＣ切削加工やレーザー加工で作成した階段
状の凹凸を有する品物にも同様に適用することができ
る。
【００２５】尚、本実施例においては、溶剤として接着
剤を用いたが、型に害を与えず、堯高粘性を有し、かつ
硬化する溶剤であれば、その種類は問わない。また、前
記各実施例においては、光造形物の表面の凹凸に、高い
粘性を有する物質を塗布し、この物質の表面張力を利用
して光造形物の表面に生じた凹部を埋めて、光造形物の
表面を平滑化することに関してのみ説明したが、光造形
物の素材自体を溶解する溶剤を光造形物の表面に塗布
し、光造形物の表面に生じた凸部を溶解するとともに、
凸部の溶解物にて光造形物の表面に生じた凹部を埋めて
光造形物の表面を平滑化しても良い。
剤を用いたが、型に害を与えず、堯高粘性を有し、かつ
硬化する溶剤であれば、その種類は問わない。また、前
記各実施例においては、光造形物の表面の凹凸に、高い
粘性を有する物質を塗布し、この物質の表面張力を利用
して光造形物の表面に生じた凹部を埋めて、光造形物の
表面を平滑化することに関してのみ説明したが、光造形
物の素材自体を溶解する溶剤を光造形物の表面に塗布
し、光造形物の表面に生じた凸部を溶解するとともに、
凸部の溶解物にて光造形物の表面に生じた凹部を埋めて
光造形物の表面を平滑化しても良い。
【００２６】
【発明の効果】以上説明した様に、本発明に係る簡易型
の製作方法によれば、光造形法により製作された造形物
表面の微細な階段状の凹凸へ、その自身の表面張力作用
により平滑固化する材料を塗布する、あるいは粘土のよ
うな高粘性の物質を塗り込むことにより、その表面の凹
凸を埋めることができ、従来ヤスリ等で凹凸を除去して
いた時間が大幅に短縮できる。また、機械加工と同等の
外観品質が得られる為、機械加工と同等の品質で、それ
より飛躍的に早い時間で所望のマスターを得ることがで
きる。因って、簡易型の製作が飛躍的に早まるという効
果がある。
の製作方法によれば、光造形法により製作された造形物
表面の微細な階段状の凹凸へ、その自身の表面張力作用
により平滑固化する材料を塗布する、あるいは粘土のよ
うな高粘性の物質を塗り込むことにより、その表面の凹
凸を埋めることができ、従来ヤスリ等で凹凸を除去して
いた時間が大幅に短縮できる。また、機械加工と同等の
外観品質が得られる為、機械加工と同等の品質で、それ
より飛躍的に早い時間で所望のマスターを得ることがで
きる。因って、簡易型の製作が飛躍的に早まるという効
果がある。
【図１】実施例１を示す概略構成図である。
【図２】実施例１の工程を示す断面図である。
【図３】実施例１の工程を示す断面図である。
【図４】実施例１の工程を示す断面図である。
【図５】実施例１の工程を示す断面図である。
【図６】実施例１の工程を示す断面図である。
【図７】実施例１の工程を示す断面図である。
【図８】実施例１の工程を示す断面図である。
【図９】実施例１の工程を示す断面図である。
【図１０】実施例１の工程を示す断面図である。
【図１１】実施例２の工程を示す断面図である。
【図１２】実施例２の工程を示す断面図である。
【図１３】実施例３の工程を示す断面図である。
【図１４】実施例３の工程を示す断面図である。
１ レーザー照射装置 ２ Ｘ−Ｙ駆動装置 ３ Ｚ軸駆動装置 ４ コントローラ ５，９ 光硬化樹脂 ６ テーブル ７ 光造形物 ８ 凹部 １０ 紫外線 １１ マスターモデル １２ 外枠 １３ シリコンゴム １４ シリコンゴム型 １５，１７ 型枠 １６ 石膏スラリー １８ 石膏生型 １９ 低融点合金 ２０ ヒーター枠 ２１ 射出成形用簡易型 ２２ 粘土 ２３ 溶剤
Claims (1)
- 【請求項１】 光造形法により造形した造形物をマスタ
ーとし、該マスターをゴム型に転写し、該ゴム型を石膏
型に転写し、該石膏型を金属型に転写し、この金属型を
簡易型とする簡易型の製作方法において、前記マスター
表面に高い粘性の物質を塗布することにより、マスター
表面を平滑化することを特徴とする簡易型の製作方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4171719A JPH05337951A (ja) | 1992-06-05 | 1992-06-05 | 簡易型の製作方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4171719A JPH05337951A (ja) | 1992-06-05 | 1992-06-05 | 簡易型の製作方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05337951A true JPH05337951A (ja) | 1993-12-21 |
Family
ID=15928405
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4171719A Pending JPH05337951A (ja) | 1992-06-05 | 1992-06-05 | 簡易型の製作方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05337951A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002509819A (ja) * | 1998-03-31 | 2002-04-02 | フィジィカル オプティクス コーポレーション | マスターを保存しながらレプリカを作る方法 |
| US7125236B2 (en) | 1996-09-25 | 2006-10-24 | Shin - Etsu Chemical Co. Ltd. | Replica molding |
| JP2010094912A (ja) * | 2008-10-17 | 2010-04-30 | Cmet Inc | 光学的立体造形物の処理方法 |
| US8123999B2 (en) | 2002-04-17 | 2012-02-28 | Stratasys, Inc. | Smoothing method for layered deposition modeling |
| JPWO2020250416A1 (ja) * | 2019-06-14 | 2020-12-17 |
-
1992
- 1992-06-05 JP JP4171719A patent/JPH05337951A/ja active Pending
Cited By (5)
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| US7125236B2 (en) | 1996-09-25 | 2006-10-24 | Shin - Etsu Chemical Co. Ltd. | Replica molding |
| JP2002509819A (ja) * | 1998-03-31 | 2002-04-02 | フィジィカル オプティクス コーポレーション | マスターを保存しながらレプリカを作る方法 |
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| JP2010094912A (ja) * | 2008-10-17 | 2010-04-30 | Cmet Inc | 光学的立体造形物の処理方法 |
| JPWO2020250416A1 (ja) * | 2019-06-14 | 2020-12-17 |
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| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20020423 |