JPH08101630A - 複製版の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【構成】絵柄中の任意の部分に絵柄の無い、または所望
の輪郭のレリーフパターンが設けられたスタンパを、ス
タンパのレリーフパターン面と、前記シートの成型層を
向かい合わせ、所望するレリーフパターンが無い部分の
形状と同型に凹状にしたプレス台側に前記シートの任意
の部分が来るように配置した後に加圧、もしくは所望す
る輪郭と同型、もしくはその輪郭より小さい範囲を加圧
台にて加圧しつつ、スタンパ側より加熱複製を繰り返し
て得られた被エンボスシートよりスタンパを作製する。 【効果】レリーフホログラムからなる絵柄の一部や絵柄
の輪郭を、任意の所望形状に変更できる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、レリーフパターンのス
タンパ（複製用版）を製造する方法に関し、特にレリー
フホログラムに代表されるレリーフパターンが形成され
たスタンパ（以後、マスタースタンパと称することとす
る）から、所望輪郭もしくは所望の部分のみ絵柄の無い
レリーフパターンが設けられたスタンパを製造する方法
に関する。

【０００２】

【従来の技術】フォトレジスト等の感光層表面に、既知
の方法により作製されるレリーフホログラム（以後マス
ターホログラムと称する）を大量複製するには、通常以
下の手順による。

【０００３】マスターホログラムの表面に、スパッタ
リング等により、金属導電膜（一般にＮｉまたは銀）を
形成する。

【０００４】前記導電膜を電極として電鋳（一般にＮ
ｉ電鋳）を行い、マスターホログラムから剥離すること
で、マスタースタンパを得る。

【０００５】前記マスタースタンパを用いて熱可塑性
樹脂の表面にエンボス成型を施すことで、レリーフホロ
グラムを大量複製しても良いが、一般には、マスタース
タンパより大量複製のためのスタンパ（以後、実用版と
称することとする）を繰り返し起こして多数の実用版を
得、実用版を用いてレリーフホログラムを大量にエンボ
ス複製する。

【０００６】レリーフホログラムからなる絵柄の輪郭が
任意か、絵柄中の任意の部分の絵柄の無いスタンパを得
たい場合には、上記した一連の手順（ー）では、マ
スターホログラムにおける絵柄やその形状に依存するた
め、マスターホログラム自体の絵柄やその輪郭を変更せ
ざるをえない。

【０００７】そのため、マスターホログラムの撮影工程
において、必要とする絵柄の数だけ、フォトレジスト等
の感光層が設けられた基板と、絵柄を無くしたい部分に
合わせたマスクを準備し、マスターホログラムを作製す
るか、マスターホログラムの撮影工程において、必要と
する絵柄の輪郭の数だけ、フォトレジスト等の感光層が
設けられた基板とマスクを準備し、それぞれのマスクの
開孔形状に応じたレリーフパターンを作製しなければな
らない等の煩雑さが伴う。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、手間を要す
るマスターホログラムの撮影工程の煩雑化によらずに、
レリーフホログラムからなる絵柄の任意の一部を無くし
たようなスタンパ（実用版）の製造方法を提供すること
を目的とする。また、本発明は、手間を要するマスター
ホログラムの撮影工程の煩雑化によらずに、レリーフホ
ログラムからなる絵柄の輪郭を、任意の所望形状に変更
できるようなスタンパ（実用版）の製造方法を提供する
ことを目的とする。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本発明は、表面にレリー
フパターン（ホログラム）が形成されたマスターパター
ン（マスターホログラムおよびマスタースタンパを含
む）と絵柄を無くすことを所望する形状で凹部を有する
プレス台、もしくは圧台を用いて、所望の輪郭の絵柄も
しくは、所望の輪郭で絵柄の一部を無くしたスタンパを
得ることができるようなスタンパ（実用版）の製造方法
である。

【００１０】すなわち、請求項１に記載の本発明は、任
意の部分の絵柄が無いレリーフパターンが設けられたス
タンパを製造するにあたって、以下の工程を具備するこ
とを特徴とするレリーフパターン複製版の製造方法であ
る

【００１１】（ａ）基材上にレリーフパターン成型層を
形成し、両者で被エンボスシートとする工程。

【００１２】（ｂ）スタンパのレリーフパターン面と、
前記シートの成型層を向かい合わせ、所望するレリーフ
パターンが無い部分の形状と同型に凹状にしたプレス台
側に、前記シートの任意の部分が来るように配置した
後、加圧しつつスタンパ側より加熱することにより、そ
の凹部を除いた範囲のみレリーフパターンをエンボス複
製する工程。

【００１３】（ｃ）工程（ｂ）またはその繰り返しにて
得られた、所望の部分のみレリーフパターンが複製され
ていない被エンボスシートより、所定の方法によってス
タンパを作製する工程。

【００１４】また、工程（ｃ）におけるスタンパを作製
する所定の方法として、前述したＮｉ電鋳ではなく、所
望のレリーフパターンが形成されたレリーフ成型層を含
む表面に、放射線硬化型の樹脂を塗工した後、放射線を
照射することにより前記樹脂を硬化させて型どりを行っ
ても良い。

【００１５】以下、図面を参照しながら本発明の概念を
説明する。始めに、既知の手法（レーザー等のコヒーレ
ント光による光学的な方法や、電子線を用いて直接干渉
縞を描画する方法等）によって、フォトレジスト等の感
光層表面にマスターホログラムを作製する。（図示せ
ず）

【００１６】次いで、前記マスターホログラムより、既
知の手法（スパッタリングー電鋳等）によって、マスタ
ースタンパを得る。（図示せず）

【００１７】この際、注意を要するのは、マスターホロ
グラム（感光層）は１度マスタースタンパを作製する
と、その後は使用不可となるので、作製したマスタース
タンパを大切に保存しなくてはならず、マスタースタン
パの消耗を避けるため、それから作製した次世代（子、
孫）のスタンパを用いた方が良いことである。次世代の
スタンパを使用する場合、マスターホログラム（親）の
逆型がマスタースタンパ（自分）であり、子→孫→・・
と型の反転が繰り返されるので、実用版として用いるス
タンパがエンボス複製しようとするパターンの反転画像
とならないように注意することが必要である。以後、説
明の便宜上、世代を問わずレリーフホログラムの複製に
用いる基準となるスタンパをマスタースタンパと称する
こととする。

【００１８】プレス機の下定盤６上に、所望する部分の
絵柄を所望する形状で、凹部（平面図３に示すように、
この場合は円形）を有する金属またはゴム等の樹脂製の
プレス台５を設置し、その上にレリーフパターン成型層
３と基材４からなる被エンボスシートＡをのせる。（図
１）

【００１９】平面形状が図２のマスタースタンパ２と前
記シートＡをプレス機の上定盤１で加熱、加圧し圧着す
る。エンボス複製に要する適正時間経過後、圧着したま
まの状態で、加熱を解除して適正温度まで冷却する。こ
のとき、凹部以外の部分のみ、レリーフパターンが複製
される。（図４）

【００２０】圧着を解除し、凹部によってその凹部の形
状でレリーフパターンがその部分のみ複製されていない
被エンボスシートを得る。（図５）

【００２１】所望の絵柄を得られるまで、必要に応じ上
記工程を繰り返す。

【００２２】次いで、前記被エンボスシートより、所定
の方法（電鋳や、放射線硬化性樹脂への放射線照射によ
る型どり）にて、前記成型層３上に形成された所望の形
状のレリーフパターンから、所望する形状、部分のみ絵
柄の無いレリーフパターンが形成されたスタンパを作製
する。（図６）

【００２３】作製されたスタンパ７は、平面図（図８）
に示すように、最初にプレス台の凹部の形状として設定
した形状の輪郭で、絵柄の無いレリーフパターンが形成
されている。（図７）

【００２４】本発明は、表面にレリーフパターン（ホロ
グラム）が形成されたマスターパターン（マスターホロ
グラムおよびマスタースタンパを含む）と圧台を用い
て、所望の部分のみ絵柄のないスタンパを得ることがで
きるようなスタンパ（実用版）の製造方法である。

【００２５】また、請求項２に記載の本発明は、所望の
輪郭のレリーフパターンが設けられたスタンパを製造す
るにあたって、以下の工程を具備することを特徴とする
レリーフパターン複製版の製造方法である

【００２６】（ａ）基材上にレリーフパターン成型層を
形成し、両者で被エンボスシートとする工程。

【００２７】（ｂ）スタンパのレリーフパターン面と、
前記シートの成型層を向かい合わせ、所望する輪郭と同
型、もしくはその輪郭内より小さい範囲を加圧台にて加
圧しつつスタンパ側より加熱することにより、その加圧
部のみレリーフパターンをエンボス複製する工程。

【００２８】（ｃ）工程（ｂ）またはその繰り返しにて
得られた所望の輪郭内のみレリーフパターンが形成され
た被エンボスシートより、所定の方法によってスタンパ
を作製する工程。

【００２９】また、工程（ｃ）におけるスタンパを作製
する所定の方法として、前述したＮｉ電鋳ではなく、所
望の輪郭のレリーフパターンが形成されたレリーフ成型
層を含む表面に、放射線硬化型の樹脂を塗工した後、放
射線を照射することにより前記樹脂を硬化させて型どり
を行っても良い。

【００３０】以下、図面を参照しながら本発明の概念を
説明する。始めに、既知の手法（レーザー等のコヒーレ
ント光による光学的な方法や、電子線を用いて直接干渉
縞を描画する方法等）によって、フォトレジスト等の感
光層表面にマスターホログラムを作製する。（図示せ
ず）

【００３１】次いで、前記マスターホログラムより、既
知の手法（スパッタリングー電鋳等）によって、マスタ
ースタンパを得る。（図示せず）

【００３２】この際、注意を要するのは、マスタースタ
ンパに形成されたレリーフパターンが、所望するホログ
ラムの絵柄の輪郭を形成できる程度の大きさを持つもの
であることが必要であることと、マスターホログラム
（感光層）は１度マスタースタンパを作製すると、その
後は使用不可となるので、作製したマスタースタンパを
大切に保存しなくてはならず、マスタースタンパの消耗
を避けるため、それから作製した次世代（子、孫）のス
タンパを用いた方が良いことである。次世代のスタンパ
を使用する場合、マスターホログラム（親）の逆型がマ
スタースタンパ（自分）であり、子→孫→・・と型の反
転が繰り返されるので、実用版として用いるスタンパが
エンボス複製しようとするパターンの反転画像とならな
いように注意することが必要である。以後、説明の便宜
上、世代を問わずレリーフホログラムの複製に用いる基
準となるスタンパをマスタースタンパと称することとす
る。

【００３３】プレス機の下定盤６上に、所望する絵柄の
形状を得るのに適当な形状の金属またはゴム等の樹脂製
の加圧台５（平面図に示すように、この場合は、斜線で
表した円形）（図１０）を設置し、その上にレリーフパ
ターン成型層３と基材４からなる被エンボスシートＡを
のせる。（図９）

【００３４】マスタースタンパ２と前記シートＡをプレ
ス機の上定盤１で加熱、加圧し圧着する。エンボス複製
に要する適正時間経過後、圧着したままの状態で、加熱
を解除して適正温度まで冷却する。このとき、加圧台の
有る部分のみ、レリーフパターンが複製される。（図１
１）

【００３５】圧着を解除し、加圧台によってその加圧台
の形状でレリーフパターンが形成された被エンボスシー
トを得る。（図１２）

【００３６】所望の形状を得られるまで、必要に応じ上
記工程を繰り返す。

【００３７】次いで、前記被エンボスシートより、所定
の方法（電鋳や、放射線硬化性樹脂への放射線照射によ
る型どり）にて、前記成型層３上に形成された所望の形
状のレリーフパターンから、所望する形状の部分のみレ
リーフパターンが形成されたスタンパを作製する。（図
１３）

【００３８】作製されたスタンパ７は、平面図（図１
５）に示すように、最初に加圧台の形状として設定した
形状の輪郭で、レリーフパターンが形成されている。
（図１４）

【００３９】

【作用】本発明によって、マスターホログラムの必要と
する絵柄の一部や絵柄の輪郭のみを加圧したりしなかっ
たりすることで、その加圧された部分のみのパターンを
写し取ることができるものであり、マスターホログラム
自体に手を加える必要がないものである。

【００４０】

【実施例】

＜実施例１＞ （１）マスターホログラム 厚さ３ｍｍのガラス基板上に、膜厚約１．５μｍのフォ
トレジスト層（ＭＩＣＲＯ−ＰＯＳＩＴ１４００ シプ
レイ社製）を形成し、アルゴンレーザー（波長４５７．
９ｎｍ、強度 ５０ｍＪ／ｃｍ² ）を用いて２光束干渉
法により、１０×１０ｃｍ² の正方形の輪郭内に、空間
周波数が１３００本／ｍｍの干渉縞を約１分露光した
後、アルカリ現像処理を施したものをマスターホログラ
ムとした。

【００４１】（２）マスタースタンパ スパッタリング処理によって、ターゲット材料のニッケ
ル金属による導電膜をマスターホログラムのレリーフ形
成面に、厚さが約７０ｎｍとなるように成膜した。次い
で、前記ニッケル導電膜を電極として電鋳を行い、マス
タースタンパとした。

【００４２】（３）被エンボスシート 厚さ０．５ｍｍのポリエステルシートを基材として、そ
の上にレリーフパターン成型層としてアクリル樹脂（ダ
イヤナールＢＲ−１１８ 三菱レーヨン社製）のトルエ
ン溶液（１０ｗｔ％）を乾燥時の膜厚が３μｍとなるよ
うにワイヤーバーコーティングし、被エンボスシートを
作製した。

【００４３】なお、基材としては、前述したポリエステ
ルシート以外に、アクリル、ポリエチレン、塩化ビニ
ル、ポリカーボネート等の合成樹脂や合成紙が使用でき
る。成型層としては、前述したアクリル以外に、ポリ塩
化ビニル、ポリ酢酸ビニル、ポリエステル、ポリエチレ
ンあるいはこれらの共重合体等が使用できる。

【００４４】（４）プレス台 厚さ３ｍｍのシリコンゴムシートに直径２ｃｍの円形の
穴を開け、、プレス台とした。なお、プレス台として
は、レリーフパターン複製のためのエンボス成型条件程
度の耐熱性、耐圧性があれば、合成樹脂、金属等が使用
できる。

【００４５】（５）被エンボスシートへのレリーフパタ
ーンのエンボス複製 平圧プレス装置の下定盤上に、前記プレス台を設置し、
その上で被エンボスシートの成型層側とマスタースタン
パのレリーフ面側とを向かい合わせ被エンボスシートが
プレス台側に来るように配置した後、上定盤の方より加
熱、加圧をした。平圧プレス装置の加熱加圧部（マスタ
ースタンパ側）の温度を７０℃まで加熱上昇し、圧力３
ｋｇ／ｃｍ² で１２０秒間圧着した。所定時間経過後、
加熱押圧部の温度を下げ、プレスを解除し、前記成型層
表面にプレス台によりその凹部の形状にレリーフパター
ンがエンボス複製されていない被エンボスシートを得
た。

【００４６】（６）被エンボスシートからのスタンパ
（実用版）の作製 上述の被エンボスシートのレリーフ形成面に、Ｎｉスパ
ッタにより厚さ約７０ｎｍのＮｉ薄膜を形成し、それを
電極として電鋳を行うことにより、厚さ約３００μｍの
Ｎｉメッキ層を形成した後、被エンボスシートを剥離し
て、付着した樹脂を除去することで、直径２ｃｍの円形
の輪郭内にはレリーフパターンが形成されていないスタ
ンパ（実用版）を得た。

【００４７】上記工程（３）−（６）を繰り返すことに
より数枚（工程（４）でのプレス台の凹部の形状を変更
することで、数種類とすることができる）のスタンパ
（実用版）を得ることが可能である。

【００４８】＜実施例２＞実施例１と同様のマスターホ
ログラムを使用する。（工程（１）は同一）

【００４９】（２）マスタースタンパ 厚さ０．１ｍｍのポリアリレートフィルム（エンブレー
トＵ１−１００ ユニチカ社製）を支持体として、その
上に下記組成の、マスタースタンパにおけるレリーフ形
成層となる樹脂層を、厚さが約５μｍとなるようにワイ
ヤーバーコーティングにより塗布形成した。

【００５０】紫外線硬化性のアクリレート樹脂組成 ・ネオペンチルグリコール変性トリメチロールプロパン
ジアクリレート・・７０重量部 ・ペンタエリスリトールトリアクリレート・・３０重量
部 ・２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン
−１−オン・・５重量部

【００５１】次いで、被エンボスシートの成型層側とマ
スタースタンパのレリーフ面側とを向かい合わせ、支持
体側より５００ｍＪ／ｃｍ² の紫外線を照射した後、マ
スターホログラムより剥離し、マスタースタンパを得
た。

【００５２】（３）被エンボスシート 実施例１の工程（３）と同様にして、被エンボスシート
を作製。

【００５３】（４）プレス台 実施例１の工程（４）と同様にして、プレス台を作製。

【００５４】（５）被エンボスシートへのレリーフパタ
ーンの複製 実施例１の工程（５）と同様にして、被エンボスシート
へのレリーフパターンの複製を行う。

【００５５】（６）被エンボスシートからのスタンパ
（実用版）の作製 上記組成の紫外線硬化性のアクリレート樹脂をポリアリ
レートフィルム表面に厚さ５μｍで塗工し、そのアクリ
レート樹脂側を、被エンボスシートのレリーフ形成面に
密着させ、ポリアリレートフィルム側より５００ｍＪ／
ｃｍ² の紫外線を照射した後、被エンボスシートより剥
離し、スタンパ（実用版）を得た。

【００５６】上記工程（３）−（６）を繰り返すことに
より数枚（工程（４）でのプレス台の凹部の形状を変更
することで、数種類とすることができる）のスタンパ
（実用版）を得ることが可能である。

【００５７】＜実施例３＞ （１）マスターホログラム 厚さ３ｍｍのガラス基板上に、膜厚約１．５μｍのフォ
トレジスト層（ＭＩＣＲＯ−ＰＯＳＩＴ１４００ シプ
レイ社製）を形成し、アルゴンレーザー（波長４５７．
９ｎｍ、強度 ５０ｍＪ／ｃｍ² ）を用いて２光束干渉
法により、１０×１０ｃｍ² の正方形の輪郭内に、空間
周波数が１３００本／ｍｍの干渉縞を約１分露光した
後、アルカリ現像処理を施したものをマスターホログラ
ムとした。

【００５８】（２）マスタースタンパ スパッタリング処理によって、ターゲット材料のニッケ
ル金属による導電膜をマスターホログラムのレリーフ形
成面に、厚さが約７０ｎｍとなるように成膜した。次い
で、前記ニッケル導電膜を電極として電鋳を行い、マス
タースタンパとした。

【００５９】（３）被エンボスシート 厚さ０．５ｍｍのポリエステルシートを基材として、そ
の上にレリーフパターン成型層としてアクリル樹脂（ダ
イヤナールＢＲ−１１８ 三菱レーヨン社製）のシクロ
ヘキサノン溶液（１０ｗｔ％）を乾燥時の膜厚が４μｍ
となるようにワイヤーバーコーティングし、被エンボス
シートを作製した。

【００６０】なお、基材としては、前述したポリエステ
ルシート以外に、アクリル、ポリエチレン、塩化ビニ
ル、ポリカーボネート等の合成樹脂や合成紙が使用でき
る。成型層としては、前述したアクリル以外に、ポリ塩
化ビニル、ポリ酢酸ビニル、ポリエステル、ポリエチレ
ンあるいはこれらの共重合体等が使用できる。

【００６１】（４）加圧台 厚さ３ｍｍのシリコンゴムシートを直径５ｃｍの円形に
切り出し、加圧台とした。なお、加圧台としては、レリ
ーフパターン複製のためのエンボス成型条件程度の耐熱
性、耐圧性があれば、合成樹脂、金属等が使用できる。

【００６２】（５）被エンボスシートへのレリーフパタ
ーンのエンボス複製 平圧プレス装置の下定盤上に、前記加圧台を設置し、そ
の上に被エンボスシートの成型層側とマスタースタンパ
のレリーフ面側とを向かい合わせた後、上定盤の方より
加熱、加圧をした。平圧プレス装置の加熱加圧部（マス
タースタンパ側）の温度を７０℃まで加熱上昇し、圧力
５ｋｇ／ｃｍ² で１２０秒間圧着した。所定時間経過
後、加熱押圧部の温度を下げ、プレスを解除し、前記成
型層表面に加圧台によりその形状にレリーフパターンが
エンボス複製された被エンボスシートを得た。

【００６３】（６）被エンボスシートからのスタンパ
（実用版）の作製 上述の被エンボスシートのレリーフ形成面に、Ｎｉスパ
ッタにより厚さ約７０ｎｍのＮｉ薄膜を形成し、それを
電極として電鋳を行うことにより、厚さ約３００μｍの
Ｎｉメッキ層を形成した後、被エンボスシートを剥離し
て、付着した樹脂を除去することで、直径５ｃｍの円形
の輪郭内にレリーフパターンが形成されたスタンパ（実
用版）を得た。

【００６４】上記工程（３）−（６）を繰り返すことに
より数枚（工程（４）での加圧台の形状を変更すること
で、数種類の輪郭の形状とすることができる）のスタン
パ（実用版）を得ることが可能である。

【００６５】また、同じ被エンボスシート面内で加圧台
またはレリーフパターン（マスタースタンパ）を移動も
しくは変更しながら上記工程を繰り返すことにより、よ
り複雑かつマスタースタンパより大きな輪郭を有するス
タンパ（実用版）を作製することも可能である。

【００６６】＜実施例４＞実施例３と同様のマスターホ
ログラムを使用する。（工程（１）は同一）

【００６７】（２）マスタースタンパ 厚さ０．１ｍｍのポリアリレートフィルム（エンブレー
トＵ１−１００ ユニチカ社製）を支持体として、その
上に下記組成の、マスタースタンパにおけるレリーフ形
成層となる樹脂層を、厚さが約５μｍとなるようにワイ
ヤーバーコーティングにより塗布形成した。

【００６８】紫外線硬化性のアクリレート樹脂組成 ・ネオペンチルグリコール変性トリメチロールプロパン
ジアクリレート・・７０重量部 ・ペンタエリスリトールトリアクリレート・・３０重量
部 ・２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン
−１−オン・・５重量部

【００６９】次いで、被エンボスシートの成型層側とマ
スタースタンパのレリーフ面側とを向かい合わせ、支持
体側より５００ｍＪ／ｃｍ² の紫外線を照射した後、マ
スターホログラムより剥離し、マスタースタンパを得
た。

【００７０】（３）被エンボスシート 実施例３の工程（３）と同様にして、被エンボスシート
を作製。

【００７１】（４）加圧台 実施例３の工程（４）と同様にして、加圧台を作製。

【００７２】（５）被エンボスシートへのレリーフパタ
ーンの複製 実施例３の工程（５）と同様にして、被エンボスシート
へのレリーフパターンの複製を行う。

【００７３】（６）被エンボスシートからのスタンパ
（実用版）の作製 上記組成の紫外線硬化性のアクリレート樹脂をポリアリ
レートフィルム表面に厚さ５μｍで塗工し、そのアクリ
レート樹脂側を、被エンボスシートのレリーフ形成面に
密着させ、ポリアリレートフィルム側より５００ｍＪ／
ｃｍ² の紫外線を照射した後、被エンボスシートより剥
離し、スタンパ（実用版）を得た。

【００７４】上記工程（３）−（６）を繰り返すことに
より数枚（工程（４）での加圧台の形状を変更すること
で、数種類の輪郭の形状とすることができる）のスタン
パ（実用版）を得ることが可能である。

【００７５】また、同じ被エンボスシート面内で加圧台
またはレリーフパターン（マスタースタンパ）を変更さ
せながら上記工程を繰り返すことにより、より複雑かつ
マスタースタンパより大きな輪郭を有するスタンパ（実
用版）を作製することも可能である。

【００７６】

【発明の効果】本発明によって、手間を要するマスター
ホログラムの撮影工程の煩雑化によらずに、レリーフホ
ログラムからなる絵柄の一部や絵柄の輪郭を、任意の所
望形状に変更できるようなスタンパ（実用版）の製造方
法が、提供された。本法によれば、絵柄の輪郭の変更が
容易であるため、作製工程が簡便化・短縮化されるの
で、製造コストの低減につながる有効な手段である。

【００７７】

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施例エンボス前の状態を示す断面
図である。

【図２】図１の例のスタンパを示す平面図である。

【図３】図１の例のプレス台と下定盤の平面図である。

【図４】図１の例のエンボス中の状態を示す断面図であ
る。

【図５】図１の例のエンボス後の状態を示す断面図であ
る。

【図６】図１の例の型取り中の状態を示す断面図であ
る。

【図７】図１の例の得られたスタンパを示す断面図であ
る。

【図８】図１の例の得られたスタンパを示す平面図であ
る。

【図９】本発明の一実施例エンボス前の状態を示す断面
図である。

【図１０】図９の例のエンボス用加圧台の平面図であ
る。

【図１１】図９の例のエンボス中の状態を示す断面図で
ある。

【図１２】図９の例のエンボス後の状態を示す断面図で
ある。

【図１３】図９の例の型取り中の状態を示す断面図であ
る。

【図１４】図９の例の得られたスタンパを示す断面図で
ある。

【図１５】図９の例の得られたスタンパを示す平面図で
ある。

【符合の説明】

１・・プレス装置の上定盤 ２・・マスタースタンパ ３・・レリーフ成型層 ４・・基材 ５・・プレス台 ６・・プレス装置の下定盤 ７・・スタンパ（実用版） Ａ・・被エンボスシート

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】絵柄中の任意の部分に絵柄の無いレリーフ
   パターンが設けられたスタンパを製造するにあたり、以
   下の工程を具備することを特徴とするレリーフパターン
   の複製版の製造方法。 （ａ）基材上にレリーフパターン成型層を形成し、両者
   で被エンボスシートとする工程。 （ｂ）スタンパのレリーフパターン面と、前記シートの
   成型層を向かい合わせ、所望するレリーフパターンが無
   い部分の形状と同型に凹状にしたプレス台側に前記シー
   トの任意の部分が来るように配置した後、加圧しつつス
   タンパ側より加熱することにより、その凹部を除いた範
   囲のみレリーフパターンをエンボス複製する工程。 （ｃ）工程（ｂ）またはその繰り返しにて得られた所望
   の部分のみレリーフパターンが複製されていない被エン
   ボスシートより、所定の方法によってスタンパを作製す
   る工程。
2. 【請求項２】所望の輪郭のレリーフパターンが設けられ
   たスタンパを製造するにあたり、以下の工程を具備する
   ことを特徴とするレリーフパターンの複製版の製造方
   法。 （ａ）基材上にレリーフパターン成型層を形成し、両者
   で被エンボスシートとする工程。 （ｂ）スタンパのレリーフパターン面と、前記シートの
   成型層を向かい合わせ、所望する輪郭と同型、もしくは
   その輪郭より小さい範囲を加圧台にて加圧しつつスタン
   パ側より加熱することにより、その加圧部のみレリーフ
   パターンをエンボス複製する工程。 （ｃ）工程（ｂ）またはその繰り返しにて得られた所望
   の輪郭内のみレリーフパターンが形成された被エンボス
   シートより、所定の方法によってスタンパを作製する工
   程。