JPH0334075B2 - - Google Patents
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- JPH0334075B2 JPH0334075B2 JP55142776A JP14277680A JPH0334075B2 JP H0334075 B2 JPH0334075 B2 JP H0334075B2 JP 55142776 A JP55142776 A JP 55142776A JP 14277680 A JP14277680 A JP 14277680A JP H0334075 B2 JPH0334075 B2 JP H0334075B2
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- hologram
- metal film
- original
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- G03H1/00—Holographic processes or apparatus using light, infrared or ultraviolet waves for obtaining holograms or for obtaining an image from them; Details peculiar thereto
- G03H1/02—Details of features involved during the holographic process; Replication of holograms without interference recording
- G03H1/0276—Replicating a master hologram without interference recording
- G03H1/028—Replicating a master hologram without interference recording by embossing
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
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- G03H1/00—Holographic processes or apparatus using light, infrared or ultraviolet waves for obtaining holograms or for obtaining an image from them; Details peculiar thereto
- G03H1/04—Processes or apparatus for producing holograms
- G03H1/20—Copying holograms by holographic, i.e. optical means
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- G03H2260/00—Recording materials or recording processes
- G03H2260/14—Photoresist
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- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Holo Graphy (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はレリーフホログラムを経済的に且つ大
量に供給するためのホログラムの複製法に関し、
特に原版ホログラムからの忠実な複製を可能とす
る方法に関する。
量に供給するためのホログラムの複製法に関し、
特に原版ホログラムからの忠実な複製を可能とす
る方法に関する。
ホログラムは、一般に光の干渉のパターンを記
録したものであり、三次元画像の記録をはじめ、
高密度な情報記録が可能であるという特性を利用
して光メモリーとしての利用、その他多方面への
応用が期待されている。
録したものであり、三次元画像の記録をはじめ、
高密度な情報記録が可能であるという特性を利用
して光メモリーとしての利用、その他多方面への
応用が期待されている。
ホログラムの記録材料としては、一般のレーザ
ー光の波長で十分な感度を有する銀塩感光材料が
一般的に用いられるが、この材料は高価であり、
また撮影あるいは複製も困難であるため、ホログ
ラム製品は高価格となりまた大量生産に向かない
という欠点がある。
ー光の波長で十分な感度を有する銀塩感光材料が
一般的に用いられるが、この材料は高価であり、
また撮影あるいは複製も困難であるため、ホログ
ラム製品は高価格となりまた大量生産に向かない
という欠点がある。
一方、他の型のホログラムの一つとして、ホロ
グラム情報の干渉縞を記録材料表面の凹凸パター
ンとして記録する型のホログラム（本明細書では
これを「レリーフホログラム」と称する）があ
り、これはその凹凸パターンを他の可塑性材料に
プレスすることにより大量且つ安価にホログラム
を複製することができる。
グラム情報の干渉縞を記録材料表面の凹凸パター
ンとして記録する型のホログラム（本明細書では
これを「レリーフホログラム」と称する）があ
り、これはその凹凸パターンを他の可塑性材料に
プレスすることにより大量且つ安価にホログラム
を複製することができる。
このレリーフホログラムは、少くとも一次的に
は一般にフオトレジストにより与えられる。しか
しながら現在利用可能なフオトレジストは一般の
レーザー光に対して感光波長が十分適合せず、低
感度であるため、これを用いて直接被写体の撮影
をすることは少くとも大面積ホログラムの作製に
は適当でない。このため、一旦銀塩感光材料を用
いて撮影を行つて原版ホログラムを得、これを支
持体上に塗布したフオトレジストと密着させて、
原版ホログラムを通してフオトレジストに露光
し、銀塩感光材料に記録されたホログラム情報の
干渉縞をフオトレジストに複写し、その後フオト
レジストを現像して干渉縞の凹凸パターンを与え
る、いわゆる密着露光法による複製方法が知られ
ている。通常このようにして形成されたフオトレ
ジストの凹凸パターン上には、更にメツキ法によ
り金属膜を形成させ、これを剥離させて、サブマ
スタを得、熱可塑性樹脂シート等にプレスしてレ
リーフホログラムを得る方法が採られる。
は一般にフオトレジストにより与えられる。しか
しながら現在利用可能なフオトレジストは一般の
レーザー光に対して感光波長が十分適合せず、低
感度であるため、これを用いて直接被写体の撮影
をすることは少くとも大面積ホログラムの作製に
は適当でない。このため、一旦銀塩感光材料を用
いて撮影を行つて原版ホログラムを得、これを支
持体上に塗布したフオトレジストと密着させて、
原版ホログラムを通してフオトレジストに露光
し、銀塩感光材料に記録されたホログラム情報の
干渉縞をフオトレジストに複写し、その後フオト
レジストを現像して干渉縞の凹凸パターンを与え
る、いわゆる密着露光法による複製方法が知られ
ている。通常このようにして形成されたフオトレ
ジストの凹凸パターン上には、更にメツキ法によ
り金属膜を形成させ、これを剥離させて、サブマ
スタを得、熱可塑性樹脂シート等にプレスしてレ
リーフホログラムを得る方法が採られる。
上述した密着露光方法によれば、ホログラム撮
影中の振動の影響を受けないため、レーザー光に
対してフオトレジストが低感度であるという欠点
がそれ程問題にならず、比較的大面積のレリーフ
ホログラムが作動可能であるという利点がある。
しかしながら、この方法においては、原版ホログ
ラムからフオトレジストへの複写の過程において
これらの密着が確保されている必要があり、その
管理が必ずしも容易でないという欠点がある。す
なわち、原版ホログラムとフオトレジストの密着
が完全でなく、両者間に複写光源のコヒーレント
長以上の間隙ができると、その部分の情報の複写
が不完全となり、また両者間での不要な干渉がノ
イズとして記録されるため、良質のホログラムを
得ることが困難となる。したがつて原版ホログラ
ムとフオトレジスト間の密着性を改善するために
真空密着露光装置を使用する方法、あるいはフオ
トレジストの熱融着性を利用して支持体上に形成
したフオトレジストを可動熱板上で加熱した原版
ホログラムにロール圧着する方法（光学第８巻第
４号第211〜216頁）も知られている。しかしなが
ら真空密着露光装置でもその密着は十分とは言え
ず、一方、後者の方法には、加熱融着に際しての
ホログラム情報の損傷、熱融着条件の制御の困難
性などの問題点がある。また両方法とも大面積ホ
ログラムの複製については、一層その適用が困難
となる。
影中の振動の影響を受けないため、レーザー光に
対してフオトレジストが低感度であるという欠点
がそれ程問題にならず、比較的大面積のレリーフ
ホログラムが作動可能であるという利点がある。
しかしながら、この方法においては、原版ホログ
ラムからフオトレジストへの複写の過程において
これらの密着が確保されている必要があり、その
管理が必ずしも容易でないという欠点がある。す
なわち、原版ホログラムとフオトレジストの密着
が完全でなく、両者間に複写光源のコヒーレント
長以上の間隙ができると、その部分の情報の複写
が不完全となり、また両者間での不要な干渉がノ
イズとして記録されるため、良質のホログラムを
得ることが困難となる。したがつて原版ホログラ
ムとフオトレジスト間の密着性を改善するために
真空密着露光装置を使用する方法、あるいはフオ
トレジストの熱融着性を利用して支持体上に形成
したフオトレジストを可動熱板上で加熱した原版
ホログラムにロール圧着する方法（光学第８巻第
４号第211〜216頁）も知られている。しかしなが
ら真空密着露光装置でもその密着は十分とは言え
ず、一方、後者の方法には、加熱融着に際しての
ホログラム情報の損傷、熱融着条件の制御の困難
性などの問題点がある。また両方法とも大面積ホ
ログラムの複製については、一層その適用が困難
となる。
本発明は、上記したいわゆる密着露光法による
レリーフホログラムの製造法において、原版ホロ
グラムとフオトレジストとの密着性を改善し、良
質且つ大面積のレリーフホログラムを容易に得る
ための方法を提供することを目的とする。
レリーフホログラムの製造法において、原版ホロ
グラムとフオトレジストとの密着性を改善し、良
質且つ大面積のレリーフホログラムを容易に得る
ための方法を提供することを目的とする。
本発明者の研究によれば、このような目的はフ
オトレジストを一旦別の支持体に塗布したのち原
版ホログラムと密着させるのではなく、原版ホロ
グラム自体を支持体とてこれにフオトレジストを
塗布し支持体である原版ホログラム側からフオト
レジストに露光することにより達成されることが
見出された。より詳しくは、本発明のレリーフホ
ログラムの製造方法の第１発明は、銀塩感光材料
からなる原版ホログラム上にフオトレジストを直
接塗布し、このフオトレジストへ原版ホログラム
を通してホログラム情報の干渉縞パターンを複写
するための露光を行い、次いで露光されたフオト
レジストを現像してフオトレジスト表面に凹凸状
に変換された干渉縞パターンを形成することを特
徴とするものである。
オトレジストを一旦別の支持体に塗布したのち原
版ホログラムと密着させるのではなく、原版ホロ
グラム自体を支持体とてこれにフオトレジストを
塗布し支持体である原版ホログラム側からフオト
レジストに露光することにより達成されることが
見出された。より詳しくは、本発明のレリーフホ
ログラムの製造方法の第１発明は、銀塩感光材料
からなる原版ホログラム上にフオトレジストを直
接塗布し、このフオトレジストへ原版ホログラム
を通してホログラム情報の干渉縞パターンを複写
するための露光を行い、次いで露光されたフオト
レジストを現像してフオトレジスト表面に凹凸状
に変換された干渉縞パターンを形成することを特
徴とするものである。
また、第２発明は、銀塩感光材料からなる原版
ホログラム上にフオトレジストを直接塗布し、こ
のフオトレジストへ原版ホログラムを通してホロ
グラム情報の干渉縞パターンを複写するための露
光を行い、次いで露光されたフオトレジストを現
像してフオトレジスト表面に凹凸状に変換された
干渉縞パターンを形成し、該干渉縞パターン上
に、メツキあるいは蒸着により金属膜を形成し、
更に該金属膜をフオレジストより剥離させて表面
に干渉縞の凹凸パターンを有する金属膜からなる
レリーフホログラムを得ることを特徴とするもの
である。
ホログラム上にフオトレジストを直接塗布し、こ
のフオトレジストへ原版ホログラムを通してホロ
グラム情報の干渉縞パターンを複写するための露
光を行い、次いで露光されたフオトレジストを現
像してフオトレジスト表面に凹凸状に変換された
干渉縞パターンを形成し、該干渉縞パターン上
に、メツキあるいは蒸着により金属膜を形成し、
更に該金属膜をフオレジストより剥離させて表面
に干渉縞の凹凸パターンを有する金属膜からなる
レリーフホログラムを得ることを特徴とするもの
である。
また、第３発明は、銀塩感光材料からなる原版
ホログラム上にフオトレジストを直接塗布し、こ
のフオトレジストへ原版ホログラムを通してホロ
グラム情報の干渉縞パターンを複写するための露
光を行い、次いで露光されたフオトレジストを現
像してフオトレジスト表面に凹凸状に変換された
干渉縞パターンを形成し、該干渉縞パターン上
に、メツキあるいは蒸着により金属膜を形成し、
更に該金属膜をフオトレジストより剥離させて表
面に干渉縞の凹凸パターンを有する金属膜からな
るレリーフホログラムを得、その後、該金属膜の
凹凸パターンを他の可塑性材料に型押しして、凹
凸パターンを転写することを特徴とするものであ
る。すなわち、本発明の方法によれば銀塩感光材
料からなる原版ホログラム上にフオトレジストを
直接塗布するため、両者間での密着不良により起
る上述した問題を全く除くことができる。そして
露光後のフオトレジストを現像して得られる凹凸
パターンは、銀塩感光材料に記録されていたホロ
グラム情報がフオトレジストの凹凸パターンに変
換されたものであり、原版ホログラムを支持体と
するレリーフホログラムを構成する。そしてこの
ようにして得られたレリーフホログラムの凹凸パ
ターンをもとに複製を行えば、更に大量のレリー
フホログラムが容易に製造可能である。
ホログラム上にフオトレジストを直接塗布し、こ
のフオトレジストへ原版ホログラムを通してホロ
グラム情報の干渉縞パターンを複写するための露
光を行い、次いで露光されたフオトレジストを現
像してフオトレジスト表面に凹凸状に変換された
干渉縞パターンを形成し、該干渉縞パターン上
に、メツキあるいは蒸着により金属膜を形成し、
更に該金属膜をフオトレジストより剥離させて表
面に干渉縞の凹凸パターンを有する金属膜からな
るレリーフホログラムを得、その後、該金属膜の
凹凸パターンを他の可塑性材料に型押しして、凹
凸パターンを転写することを特徴とするものであ
る。すなわち、本発明の方法によれば銀塩感光材
料からなる原版ホログラム上にフオトレジストを
直接塗布するため、両者間での密着不良により起
る上述した問題を全く除くことができる。そして
露光後のフオトレジストを現像して得られる凹凸
パターンは、銀塩感光材料に記録されていたホロ
グラム情報がフオトレジストの凹凸パターンに変
換されたものであり、原版ホログラムを支持体と
するレリーフホログラムを構成する。そしてこの
ようにして得られたレリーフホログラムの凹凸パ
ターンをもとに複製を行えば、更に大量のレリー
フホログラムが容易に製造可能である。
以下、本発明を図面を参照しつつ更に詳しく説
明する。
明する。
本発明で用いる原版ホログラムとしては、銀塩
感光材料を用いて公知の方法により得られた任意
のものが用いられる。たとえば、第１図は、その
撮影の一方法を示すものであり、ガラス等からな
る透明支持体１ａ上に銀塩乳剤層１ｂを塗布形成
してなる銀塩感光材料１の乳剤層１ｂには、コヒ
ーレントな参照光２および同一光源からのコヒー
レント光を物体に反射させて得た物体光３が入射
し、互いに干渉して主として２次元的な干渉縞か
らなるホログラム情報として記録される。使用可
能な銀塩感光材料としては、例えばコダツク社製
649F、120−01、120−02、131−01、131−02、
SO−173、SO−256；アグフアゲバルト社製
10E56、10E75、8E56、8E75、等がある。
感光材料を用いて公知の方法により得られた任意
のものが用いられる。たとえば、第１図は、その
撮影の一方法を示すものであり、ガラス等からな
る透明支持体１ａ上に銀塩乳剤層１ｂを塗布形成
してなる銀塩感光材料１の乳剤層１ｂには、コヒ
ーレントな参照光２および同一光源からのコヒー
レント光を物体に反射させて得た物体光３が入射
し、互いに干渉して主として２次元的な干渉縞か
らなるホログラム情報として記録される。使用可
能な銀塩感光材料としては、例えばコダツク社製
649F、120−01、120−02、131−01、131−02、
SO−173、SO−256；アグフアゲバルト社製
10E56、10E75、8E56、8E75、等がある。
上述のようにしてホログラムを撮影した銀塩感
光材料は、現像してそのまま振幅ホログラムの形
態で用いてもよいし、又漂白を行い位相ホログラ
ムの形態で原版ホログラムとして用いてもよい。
また本発明で用いる原版ホログラムは、上述のよ
うに直接物体を撮影して得たホログラムに限ら
ず、更に多光束の干渉を記録した回折格子や、こ
れらを銀塩感光材料に複製したものであつてもよ
い。
光材料は、現像してそのまま振幅ホログラムの形
態で用いてもよいし、又漂白を行い位相ホログラ
ムの形態で原版ホログラムとして用いてもよい。
また本発明で用いる原版ホログラムは、上述のよ
うに直接物体を撮影して得たホログラムに限ら
ず、更に多光束の干渉を記録した回折格子や、こ
れらを銀塩感光材料に複製したものであつてもよ
い。
次いで、このようにして、ホログラム情報の干
渉縞４を記録した原版ホログラム１上に、第２図
に示すようにフオトレジスト５を、たとえば乾燥
厚みとして0.1〜100μ程度の厚みに塗布する。塗
布方法としては、例えばスピンナーコート、ホイ
ラーコート、ナイフコート等、上記厚みの均一な
塗布層を形成できるものであれば任意の方法が用
いられる。使用するフオトレジストとしては、高
解像度のものが好ましく、例えば、ネガタイプフ
オトレジストとしては、コダツク社製KPR、
KMER、KTFR；東京応化(株)製TPR、SVR、
OSR、OMR；ハント社製Way Coat等、または
ポジタイプフオトレジストとししてはシプレイ社
製AZ−1350、AZ−111；コダツク社製Kodak
Micro Posi809、東京応化(株)製OFPR、等が挙げ
られる。
渉縞４を記録した原版ホログラム１上に、第２図
に示すようにフオトレジスト５を、たとえば乾燥
厚みとして0.1〜100μ程度の厚みに塗布する。塗
布方法としては、例えばスピンナーコート、ホイ
ラーコート、ナイフコート等、上記厚みの均一な
塗布層を形成できるものであれば任意の方法が用
いられる。使用するフオトレジストとしては、高
解像度のものが好ましく、例えば、ネガタイプフ
オトレジストとしては、コダツク社製KPR、
KMER、KTFR；東京応化(株)製TPR、SVR、
OSR、OMR；ハント社製Way Coat等、または
ポジタイプフオトレジストとししてはシプレイ社
製AZ−1350、AZ−111；コダツク社製Kodak
Micro Posi809、東京応化(株)製OFPR、等が挙げ
られる。
フオトレジスト５は、第２図に示すように銀塩
感光材料の乳剤面１ｂに塗布することが好まし
い。この場合、ホログラムとフオトレジストが完
全に密着しているため、複写光としては、レーザ
ー光のようなコヒーレント光に限らず、インコヒ
ーレント光でも可能であり、フオトレジストの感
光光源として適当な光源、例えば水銀灯なども使
用できる。ただし、この際には、フオトレジスト
中の溶剤は、銀塩乳剤の塗膜を損傷するものであ
つてはならない。また複写光としてコヒーレント
光を用いる場合は、フオトレジストは銀塩感光材
料の支持体１ａ面上に塗布することも可能であ
る。
感光材料の乳剤面１ｂに塗布することが好まし
い。この場合、ホログラムとフオトレジストが完
全に密着しているため、複写光としては、レーザ
ー光のようなコヒーレント光に限らず、インコヒ
ーレント光でも可能であり、フオトレジストの感
光光源として適当な光源、例えば水銀灯なども使
用できる。ただし、この際には、フオトレジスト
中の溶剤は、銀塩乳剤の塗膜を損傷するものであ
つてはならない。また複写光としてコヒーレント
光を用いる場合は、フオトレジストは銀塩感光材
料の支持体１ａ面上に塗布することも可能であ
る。
複写のためのフオトレジストへの露光は、第２
図に示すようにホログラムを再生するのに適した
光束の複写光６を原版ホログラム１を通してフオ
トレジスト５へ照射することにより行われる。一
般に複写光６としては、原版ホログラムに記録さ
れた干渉縞の格子のブラツグ角で入射する光束の
光、すなわち一般的には原版ホログラムを作製す
るときに用いた参照光と共役となるような光束の
光を用いるが、他の光束の光で可能な場合もあ
る。
図に示すようにホログラムを再生するのに適した
光束の複写光６を原版ホログラム１を通してフオ
トレジスト５へ照射することにより行われる。一
般に複写光６としては、原版ホログラムに記録さ
れた干渉縞の格子のブラツグ角で入射する光束の
光、すなわち一般的には原版ホログラムを作製す
るときに用いた参照光と共役となるような光束の
光を用いるが、他の光束の光で可能な場合もあ
る。
使用したフオトレジストの感度に応じた露光量
で露光後、所定の現像液により現像を行うことに
より、第３図に示すように、原版ホログラムのホ
ログラム情報の干渉縞が凹凸パターン５ａとして
フオトレジスト面に記録された第３図の如き構造
体が得られる。この構造体は、原版ホログラム１
を支持体としているが、ホログラム情報の干渉縞
を記録材料表面の凹凸パターン５ａとして表現す
るレリーフホログラムであり本発明法の基本的な
一製品を構成するものである。
で露光後、所定の現像液により現像を行うことに
より、第３図に示すように、原版ホログラムのホ
ログラム情報の干渉縞が凹凸パターン５ａとして
フオトレジスト面に記録された第３図の如き構造
体が得られる。この構造体は、原版ホログラム１
を支持体としているが、ホログラム情報の干渉縞
を記録材料表面の凹凸パターン５ａとして表現す
るレリーフホログラムであり本発明法の基本的な
一製品を構成するものである。
上述したように第３図の構造体は、それ自体レ
リーフホログラムであるが、その凹凸パターン５
ａを利用して複製を行うことができる。このため
には第４図に示すように凹凸パターン５ａ上にメ
ツキ（無電解メツキおよび電解メツキ）あるいは
蒸着法あるいはそれらの併用により、たとえば数
十μ〜数mmのNi等の金属膜７を形成し、これを
剥離させて、第５図のようなサブマスタを得、そ
の凹凸パターンを第６図に示すように熱可塑性樹
脂シート８等の他の可塑性材料に型押しすればよ
い。このようにして簡単かつ安価に大量生産する
ことのできる第７図に図示の構造体は、第３図の
ものの複製にかかるレリーフホログラムである。
熱可塑性樹脂としては、たとえばポリ塩化ビニ
ル、ポリスチレン、ポリ（メタ）アクリル酸エス
テル、ポリエチレンテレフタレート等の飽和ポリ
エステル等が使用でき、これらの透明樹脂を使用
すれば、第７図のレリーフホログラムは、透過型
のホログラムとなり、型押した面へさらに金属を
薄く蒸着あるいはメツキすれば反射型のホログラ
ムとなる。
リーフホログラムであるが、その凹凸パターン５
ａを利用して複製を行うことができる。このため
には第４図に示すように凹凸パターン５ａ上にメ
ツキ（無電解メツキおよび電解メツキ）あるいは
蒸着法あるいはそれらの併用により、たとえば数
十μ〜数mmのNi等の金属膜７を形成し、これを
剥離させて、第５図のようなサブマスタを得、そ
の凹凸パターンを第６図に示すように熱可塑性樹
脂シート８等の他の可塑性材料に型押しすればよ
い。このようにして簡単かつ安価に大量生産する
ことのできる第７図に図示の構造体は、第３図の
ものの複製にかかるレリーフホログラムである。
熱可塑性樹脂としては、たとえばポリ塩化ビニ
ル、ポリスチレン、ポリ（メタ）アクリル酸エス
テル、ポリエチレンテレフタレート等の飽和ポリ
エステル等が使用でき、これらの透明樹脂を使用
すれば、第７図のレリーフホログラムは、透過型
のホログラムとなり、型押した面へさらに金属を
薄く蒸着あるいはメツキすれば反射型のホログラ
ムとなる。
また第５図のサブマスタは、それ自体第３図と
は反転した凹凸パターンを有するレリーフホログ
ラムであり、金属膜の反射性により反射型ホログ
ラムを構成する。したがつて第３図のレリーフホ
ログラムを基に第４図および第５図の工程を繰り
返せば、多数の反射型ホログラムを得ることがで
きる。更に第６図の工程を行うに際して予め熱可
塑性樹脂シート８の型押し面上にラミネートある
いは蒸着等による金属膜を形成しておけば、第７
図相当の製品として反射型ホログラムを得ること
ができる。
は反転した凹凸パターンを有するレリーフホログ
ラムであり、金属膜の反射性により反射型ホログ
ラムを構成する。したがつて第３図のレリーフホ
ログラムを基に第４図および第５図の工程を繰り
返せば、多数の反射型ホログラムを得ることがで
きる。更に第６図の工程を行うに際して予め熱可
塑性樹脂シート８の型押し面上にラミネートある
いは蒸着等による金属膜を形成しておけば、第７
図相当の製品として反射型ホログラムを得ること
ができる。
以下、実施例により本発明を更に具体的に説明
する。
する。
実施例 １
銀塩感光材料として、131−01（コダツク社製ホ
ログラフイー用乾板）、光源として、He−Neレ
ーザーの6328Åの光を用いて、第１図の光学系に
よりホログラムを撮影し、現像、定着、漂白を行
うことにより、原版ホログラムとした。
ログラフイー用乾板）、光源として、He−Neレ
ーザーの6328Åの光を用いて、第１図の光学系に
よりホログラムを撮影し、現像、定着、漂白を行
うことにより、原版ホログラムとした。
この原版ホログラムの乳剤面に、AZ−1350を、
スピンナーを用いて、乾燥後の塗膜厚みが3μに
なるようにコーテイングし、その後、90℃で30分
予備焼付を行つた。
スピンナーを用いて、乾燥後の塗膜厚みが3μに
なるようにコーテイングし、その後、90℃で30分
予備焼付を行つた。
これに対し、ホログラム側より、紫外線を照
射、（オーク製作所製、超高圧水銀灯、DC−3000
で60秒）し、その後AZ−デベロツパーで数分間
現像し、フオトレジストのレリーフホログラムを
得た。
射、（オーク製作所製、超高圧水銀灯、DC−3000
で60秒）し、その後AZ−デベロツパーで数分間
現像し、フオトレジストのレリーフホログラムを
得た。
実施例 ２
実施例１により作製されたフオトレジストレリ
ーフホログラムのホログラム記録面に銀を厚み約
1000Å蒸着し、さらに、この蒸着面上に、ニツケ
ルの電解メツキを行い約500μの厚みとした。こ
のメツキを、フオトレジスト面より剥離し、これ
をプレス型として、ホログラム記録面をを透明な
ポリ塩化ビニルシートに、120℃で100Kg／cm2の圧
力で型押し、冷却後、ポリ塩化ビニルシートをプ
レス型より剥離したところ、透過型ホログラムが
形成された。
ーフホログラムのホログラム記録面に銀を厚み約
1000Å蒸着し、さらに、この蒸着面上に、ニツケ
ルの電解メツキを行い約500μの厚みとした。こ
のメツキを、フオトレジスト面より剥離し、これ
をプレス型として、ホログラム記録面をを透明な
ポリ塩化ビニルシートに、120℃で100Kg／cm2の圧
力で型押し、冷却後、ポリ塩化ビニルシートをプ
レス型より剥離したところ、透過型ホログラムが
形成された。
さらに、この透過型ホログラムの型押された面
に、アルミニウムを、約1000Åの厚みに蒸着した
ところ、反射型ホログラムを作製できた。
に、アルミニウムを、約1000Åの厚みに蒸着した
ところ、反射型ホログラムを作製できた。
第１図は銀塩感光材料にホログラムを撮影する
一態様を示す模式説明図、第２図〜第７図は本発
明法中の各工程を説明する記録材料の厚み方向か
ら見た断面であり、第２図は複写露光工程、第３
図は本発明法による基本的なレリーフホログラ
ム、第４図は金属膜形成状態、第５図は、剥離し
た金属膜、第６図は型押し状態、第７図は型押し
による複製レリーフホログラムを、それぞれ示
す。 １……銀塩感光材料からなる原版ホログラム
（１ａ……支持体、１ｂ……銀塩乳剤）、２……参
照光、３……物体光、４……干渉縞、５……フオ
トレジスト、５ａ……フオトレジスト凹凸パター
ン、６……複写光、７……金属膜、８……熱可塑
性樹脂シート。
一態様を示す模式説明図、第２図〜第７図は本発
明法中の各工程を説明する記録材料の厚み方向か
ら見た断面であり、第２図は複写露光工程、第３
図は本発明法による基本的なレリーフホログラ
ム、第４図は金属膜形成状態、第５図は、剥離し
た金属膜、第６図は型押し状態、第７図は型押し
による複製レリーフホログラムを、それぞれ示
す。 １……銀塩感光材料からなる原版ホログラム
（１ａ……支持体、１ｂ……銀塩乳剤）、２……参
照光、３……物体光、４……干渉縞、５……フオ
トレジスト、５ａ……フオトレジスト凹凸パター
ン、６……複写光、７……金属膜、８……熱可塑
性樹脂シート。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 銀塩感光材料からなる原版ホログラム上にフ
オトレジストを直接塗布し、このフオトレジスト
へ原版ホログラムを通してホログラム情報の干渉
縞パターンを複写するための露光を行い、次いで
露光されたフオトレジストを現像してフオトレジ
スト表面に凹凸状に変換された干渉縞パターンを
形成することを特徴とするレリーフホログラムの
製造方法。 ２ 銀塩感光材料からなる原版ホログラム上にフ
オトレジストを直接塗布し、このフオトレジスト
へ原版ホログラムを通してホログラム情報の干渉
縞パターンを複写するための露光を行い、次いで
露光されたフオトレジストを現像してフオトレジ
スト表面に凹凸状に変換された干渉縞パターンを
形成し、該干渉縞パターン上に、メツキあるいは
蒸着により金属膜を形成し、更に該金属膜をフオ
トレジストより剥離させて表面に干渉縞の凹凸パ
ターンを有する金属膜からなるレリーフホログラ
ムを得ることを特徴とするレリーフホログラムの
製造方法。 ３ 銀塩感光材料からなる原版ホログラム上にフ
オトレジストを直接塗布し、このフオトレジスト
へ原版ホログラムを通してホログラム情報の干渉
縞パターンを複写するための露光を行い、次いで
露光されたフオトレジストを現像してフオトレジ
スト表面に凹凸状に変換された干渉縞パターンを
形成し、該干渉縞パターン上に、メツキあるいは
蒸着により金属膜を形成し、更に該金属膜をフオ
トレジストより剥離させて表面に干渉縞の凹凸パ
ターンを有する金属膜からなるレリーフホログラ
ムを得、その後、該金属膜の凹凸パターンを他の
可塑性材料に型押しして、凹凸パターンを転写す
ることを特徴とするレリーフホログラムの製造方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14277680A JPS5766467A (en) | 1980-10-13 | 1980-10-13 | Manufacture of relief hologram |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14277680A JPS5766467A (en) | 1980-10-13 | 1980-10-13 | Manufacture of relief hologram |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5766467A JPS5766467A (en) | 1982-04-22 |
| JPH0334075B2 true JPH0334075B2 (ja) | 1991-05-21 |
Family
ID=15323320
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14277680A Granted JPS5766467A (en) | 1980-10-13 | 1980-10-13 | Manufacture of relief hologram |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5766467A (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58168076A (ja) * | 1982-03-30 | 1983-10-04 | Fujitsu Ltd | 位相型ホログラムの作成方法 |
| JPS61169713U (ja) * | 1985-04-09 | 1986-10-21 | ||
| JPS61169712U (ja) * | 1985-04-09 | 1986-10-21 | ||
| US8241479B2 (en) | 2008-07-10 | 2012-08-14 | Illinois Tool Works Inc. | Imaging of deep structures of reliefs for shallow relief embossing |
-
1980
- 1980-10-13 JP JP14277680A patent/JPS5766467A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5766467A (en) | 1982-04-22 |
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