JP2002087998A - オクタフルオロプロパンの精製方法及び製造方法、高純度オクタフルオロプロパン並びにその用途 - Google Patents
オクタフルオロプロパンの精製方法及び製造方法、高純度オクタフルオロプロパン並びにその用途Info
- Publication number
- JP2002087998A JP2002087998A JP2000279315A JP2000279315A JP2002087998A JP 2002087998 A JP2002087998 A JP 2002087998A JP 2000279315 A JP2000279315 A JP 2000279315A JP 2000279315 A JP2000279315 A JP 2000279315A JP 2002087998 A JP2002087998 A JP 2002087998A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- octafluoropropane
- inert gas
- temperature
- acid
- purifying
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- Y02E50/14—
Landscapes
- Separation Of Gases By Adsorption (AREA)
- Solid-Sorbent Or Filter-Aiding Compositions (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Drying Of Semiconductors (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 粗オクタフルオロプロパン中に含まれる不純
物を除去することができる吸着剤を用い、高純度のオク
タフルオロプロパンを得るための精製方法及び製造方
法、高純度オクタフルオロプロパン並びにその用途を提
供する。 【解決手段】 （１）原料炭を酸洗浄処理し水洗浄処理
する工程、（２）原料炭の脱酸素及び／または脱水を行
う工程、（３）５００〜７００℃の温度範囲で原料炭を
再炭化処理する工程、（４）不活性ガス、二酸化炭素及
び水蒸気を含有する混合ガス気流中、７００〜９００℃
の温度範囲で原料炭を賦活処理する工程、を行うことに
より製造できる吸着剤を用いてオクタフルオロプロパン
を精製する。
物を除去することができる吸着剤を用い、高純度のオク
タフルオロプロパンを得るための精製方法及び製造方
法、高純度オクタフルオロプロパン並びにその用途を提
供する。 【解決手段】 （１）原料炭を酸洗浄処理し水洗浄処理
する工程、（２）原料炭の脱酸素及び／または脱水を行
う工程、（３）５００〜７００℃の温度範囲で原料炭を
再炭化処理する工程、（４）不活性ガス、二酸化炭素及
び水蒸気を含有する混合ガス気流中、７００〜９００℃
の温度範囲で原料炭を賦活処理する工程、を行うことに
より製造できる吸着剤を用いてオクタフルオロプロパン
を精製する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、オクタフルオロプ
ロパンの精製方法及び製造方法、高純度オクタフルオロ
プロパン並びにその用途に関する。
ロパンの精製方法及び製造方法、高純度オクタフルオロ
プロパン並びにその用途に関する。
【０００２】
【従来の技術】オクタフルオロプロパン（以下「ＦＣ−
２１８」という。）は、半導体デバイス製造プロセスに
おいてエッチングガスまたはクリーニングガスとして用
いられ、ＦＣ−２１８の製造方法としては、１−クロル
プロパンを電解フッ素化する方法（米国特許第３７０９
８００号公報）、トリフルオロペンタクロロプロパンと
三フッ化マンガンの反応（米国特許第２５７８７２１号
公報）、プロパン、プロピレン等をフッ化水素と塩素に
反応させる方法（米国特許第５２００８３号公報）等が
知られている。しかしながら、それらの方法では、原料
等に塩素分を含む化合物等を使用しているため、含塩素
不純物が副生物として生成するという問題がある。
２１８」という。）は、半導体デバイス製造プロセスに
おいてエッチングガスまたはクリーニングガスとして用
いられ、ＦＣ−２１８の製造方法としては、１−クロル
プロパンを電解フッ素化する方法（米国特許第３７０９
８００号公報）、トリフルオロペンタクロロプロパンと
三フッ化マンガンの反応（米国特許第２５７８７２１号
公報）、プロパン、プロピレン等をフッ化水素と塩素に
反応させる方法（米国特許第５２００８３号公報）等が
知られている。しかしながら、それらの方法では、原料
等に塩素分を含む化合物等を使用しているため、含塩素
不純物が副生物として生成するという問題がある。
【０００３】原料等に塩素分が含まれない方法として
は、プロパンを電解フッ素化する方法（米国特許第３８
４００４４５号公報）等が知られているが、装置が極め
て複雑であり、収率が低く、工業的に有利な方法とは言
えない。また、ヘキサフルオロプロペン（以下「ＦＣ−
１２１６」という。）をフッ素化してＦＣ−２１８を製
造する方法が知られている。例えば、不活性ガスと反応
生成ガスによる希釈下で、ＦＣ−１２１６とフッ素ガス
を反応させる方法（特公昭６２−６１６８２号公報）、
ＦＣ−１２１６をフッ化水素中電解フッ素化させる方法
（特公昭６２−６１１１５号公報）、三フッ化コバル
ト、三フッ化マンガン及び二フッ化銀から選択された、
少なくとも１種を含む高次金属フッ化物を反応させる方
法（特公昭６２−５４７７７号公報）等が知られてい
る。
は、プロパンを電解フッ素化する方法（米国特許第３８
４００４４５号公報）等が知られているが、装置が極め
て複雑であり、収率が低く、工業的に有利な方法とは言
えない。また、ヘキサフルオロプロペン（以下「ＦＣ−
１２１６」という。）をフッ素化してＦＣ−２１８を製
造する方法が知られている。例えば、不活性ガスと反応
生成ガスによる希釈下で、ＦＣ−１２１６とフッ素ガス
を反応させる方法（特公昭６２−６１６８２号公報）、
ＦＣ−１２１６をフッ化水素中電解フッ素化させる方法
（特公昭６２−６１１１５号公報）、三フッ化コバル
ト、三フッ化マンガン及び二フッ化銀から選択された、
少なくとも１種を含む高次金属フッ化物を反応させる方
法（特公昭６２−５４７７７号公報）等が知られてい
る。
【０００４】ＦＣ−１２１６を製造する方法としては、
ＨＣＦＣ−２２の熱分解により製造する方法が知られて
いる。また、炭素原子数３のパーハロゲン化クロロフル
オロカーボンをフッ素化後、脱ハロゲン化してＦＣ−１
２１６を製造する方法（米国特許第５０５７６３４号公
報）等が知られている。これらの方法も原料として含塩
素化合物を使用することから、ＦＣ−１２１６中には、
含塩素化合物が不純物として含まれることが多く、その
ＦＣ−１２１６を原料として製造されたＦＣ−２１８中
には、未反応のＦＣ−１２１６と共に含塩素不純物が含
まれている場合が多い。表１に含塩素不純物の沸点を示
したが、不純物の多くは蒸留により分離することができ
るが、クロロペンタフルオロエタン（以下「ＣＦＣ−１
１５」という。）とＦＣ−１２１６の沸点はそれぞれＦ
Ｃ−２１８と沸点が近く、蒸留による分離は非常に困難
である。
ＨＣＦＣ−２２の熱分解により製造する方法が知られて
いる。また、炭素原子数３のパーハロゲン化クロロフル
オロカーボンをフッ素化後、脱ハロゲン化してＦＣ−１
２１６を製造する方法（米国特許第５０５７６３４号公
報）等が知られている。これらの方法も原料として含塩
素化合物を使用することから、ＦＣ−１２１６中には、
含塩素化合物が不純物として含まれることが多く、その
ＦＣ−１２１６を原料として製造されたＦＣ−２１８中
には、未反応のＦＣ−１２１６と共に含塩素不純物が含
まれている場合が多い。表１に含塩素不純物の沸点を示
したが、不純物の多くは蒸留により分離することができ
るが、クロロペンタフルオロエタン（以下「ＣＦＣ−１
１５」という。）とＦＣ−１２１６の沸点はそれぞれＦ
Ｃ−２１８と沸点が近く、蒸留による分離は非常に困難
である。
【０００５】
【表１】
【０００６】蒸留分離以外の精製方法としては、抽出蒸
留法、膜分離法、吸着分離法等を挙げることができる。
しかし、抽出蒸留法は設備コストが高く、プロセスが煩
雑である等の問題があり、膜分離法は、ＦＣ−２１８と
不純物を分離するために必要な特性を有する適当な膜が
なく、不純物含有量を１質量ｐｐｍ以下まで精製するこ
とは困難である。また、表２にＦＣ−２１８と不純物化
合物の分子径（安定型構造時における計算値）を示す
が、既存の吸着剤、例えば、活性炭、シリカゲル、ゼオ
ライト（モレキュラーシーブ）、モレキュラーシービン
グカーボン（以下「ＭＳＣ」という。）等を用いた吸着
分離法は、ＦＣ−２１８と不純物の分子径にほとんど差
がないこと、ＦＣ−２１８と不純物の沸点差がないこ
と、さらにはＦＣ−２１８と不純物の構造と物性が相似
しているためと考えられること、等の理由により精製は
困難である。
留法、膜分離法、吸着分離法等を挙げることができる。
しかし、抽出蒸留法は設備コストが高く、プロセスが煩
雑である等の問題があり、膜分離法は、ＦＣ−２１８と
不純物を分離するために必要な特性を有する適当な膜が
なく、不純物含有量を１質量ｐｐｍ以下まで精製するこ
とは困難である。また、表２にＦＣ−２１８と不純物化
合物の分子径（安定型構造時における計算値）を示す
が、既存の吸着剤、例えば、活性炭、シリカゲル、ゼオ
ライト（モレキュラーシーブ）、モレキュラーシービン
グカーボン（以下「ＭＳＣ」という。）等を用いた吸着
分離法は、ＦＣ−２１８と不純物の分子径にほとんど差
がないこと、ＦＣ−２１８と不純物の沸点差がないこ
と、さらにはＦＣ−２１８と不純物の構造と物性が相似
しているためと考えられること、等の理由により精製は
困難である。
【０００７】
【表２】
【０００８】このうち、活性炭は不純物の１つであるＦ
Ｃ−１２１６を吸着除去するには有効であるが、他の全
ての不純物を分離することは困難である。従来の精製法
では、特にＣＦＣ−１１５の濃度が１質量ｐｐｍ以下で
あるＦＣ−２１８を得ることは困難であった。
Ｃ−１２１６を吸着除去するには有効であるが、他の全
ての不純物を分離することは困難である。従来の精製法
では、特にＣＦＣ−１１５の濃度が１質量ｐｐｍ以下で
あるＦＣ−２１８を得ることは困難であった。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】本発明はこのような背
景の下になされたものであって、本発明はＦＣ−２１８
中に含まれる、ＦＣ−１２１６、１Ｈ−ヘプタフルオロ
プロパン（以下「ＨＦＣ−２２７ｃａ」という。）、Ｃ
ＦＣ−１１５等の不純物を除去することができる吸着剤
を用い、高純度のオクタフルオロプロパンを得るための
精製方法及び製造方法、高純度オクタフルオロプロパン
並びにその用途を提供することを課題とする。
景の下になされたものであって、本発明はＦＣ−２１８
中に含まれる、ＦＣ−１２１６、１Ｈ−ヘプタフルオロ
プロパン（以下「ＨＦＣ−２２７ｃａ」という。）、Ｃ
ＦＣ−１１５等の不純物を除去することができる吸着剤
を用い、高純度のオクタフルオロプロパンを得るための
精製方法及び製造方法、高純度オクタフルオロプロパン
並びにその用途を提供することを課題とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記の課
題を解決すべく鋭意検討した結果、原料炭を酸洗浄処理
し、原料炭中の金属、特にアルカリ金属を低減させた
後、一連の賦活処理を行うことにより得られる活性化さ
せた炭が、オクタフルオロプロパン中に含まれる不純物
を吸着する特性に優れた吸着剤であることを見いだし本
発明を完成するに至った。本発明は以下の［１］〜［２
９］に関する。
題を解決すべく鋭意検討した結果、原料炭を酸洗浄処理
し、原料炭中の金属、特にアルカリ金属を低減させた
後、一連の賦活処理を行うことにより得られる活性化さ
せた炭が、オクタフルオロプロパン中に含まれる不純物
を吸着する特性に優れた吸着剤であることを見いだし本
発明を完成するに至った。本発明は以下の［１］〜［２
９］に関する。
【００１１】［１］粗オクタフルオロプロパンを、以下
の４つの工程を含む方法を用いて製造できる吸着剤に接
触させて精製することを特徴とするオクタフルオロプロ
パンの精製方法。 （１）原料炭を酸洗浄処理し水洗浄処理する工程 （２）不活性ガス気流中、５０〜２５０℃の温度範囲
で、工程（１）で得られる原料炭の脱酸素及び／または
脱水を行う工程 （３）不活性ガス気流中、５００〜７００℃の温度範囲
で、工程（２）で得られる原料炭を再炭化処理する工程 （４）不活性ガス、二酸化炭素及び水蒸気を含有する混
合ガス気流中、７００〜９００℃の温度範囲で、工程
（３）で得られる原料炭を賦活処理する工程 ［２］原料炭が、ヤシ殻炭、石炭、木炭、タールピッチ
からなる群から選ばれる少なくとも１種が４００〜６０
０℃の温度範囲で炭化処理されたものである上記［１］
に記載のオクタフルオロプロパンの精製方法。 ［３］工程（１）の酸洗浄処理に用いる酸が鉱酸であ
り、酸の濃度が、１〜１０００ｍｏｌ／ｍ3の範囲であ
る上記［１］または［２］に記載のオクタフルオロプロ
パンの精製方法。 ［４］工程（１）の酸洗浄処理に用いる酸が塩酸及び／
または硫酸である上記［１］〜［３］のいずれかに記載
のオクタフルオロプロパンの精製方法。 ［５］工程（２）の後、不活性ガス気流中で３００〜５
００℃／ｈｒの速度で工程（３）の再炭化処理温度まで
昇温して工程（３）を行う上記［１］〜［４］のいずれ
かに記載のオクタフルオロプロパンの精製方法。
の４つの工程を含む方法を用いて製造できる吸着剤に接
触させて精製することを特徴とするオクタフルオロプロ
パンの精製方法。 （１）原料炭を酸洗浄処理し水洗浄処理する工程 （２）不活性ガス気流中、５０〜２５０℃の温度範囲
で、工程（１）で得られる原料炭の脱酸素及び／または
脱水を行う工程 （３）不活性ガス気流中、５００〜７００℃の温度範囲
で、工程（２）で得られる原料炭を再炭化処理する工程 （４）不活性ガス、二酸化炭素及び水蒸気を含有する混
合ガス気流中、７００〜９００℃の温度範囲で、工程
（３）で得られる原料炭を賦活処理する工程 ［２］原料炭が、ヤシ殻炭、石炭、木炭、タールピッチ
からなる群から選ばれる少なくとも１種が４００〜６０
０℃の温度範囲で炭化処理されたものである上記［１］
に記載のオクタフルオロプロパンの精製方法。 ［３］工程（１）の酸洗浄処理に用いる酸が鉱酸であ
り、酸の濃度が、１〜１０００ｍｏｌ／ｍ3の範囲であ
る上記［１］または［２］に記載のオクタフルオロプロ
パンの精製方法。 ［４］工程（１）の酸洗浄処理に用いる酸が塩酸及び／
または硫酸である上記［１］〜［３］のいずれかに記載
のオクタフルオロプロパンの精製方法。 ［５］工程（２）の後、不活性ガス気流中で３００〜５
００℃／ｈｒの速度で工程（３）の再炭化処理温度まで
昇温して工程（３）を行う上記［１］〜［４］のいずれ
かに記載のオクタフルオロプロパンの精製方法。
【００１２】［６］工程（３）の後、不活性ガス気流中
で１００〜２００℃／ｈｒの速度で工程（４）の賦活処
理温度まで昇温して工程（４）を行う上記［１］〜
［５］のいずれかに記載のオクタフルオロプロパンの精
製方法。 ［７］工程（４）において、不活性ガス、二酸化炭素及
び水蒸気を含有する混合ガスが、不活性ガスを５０〜８
９ｖｏｌ％、二酸化炭素を１０〜３０ｖｏｌ％、水蒸気
を１〜２０ｖｏｌ％含有するものである上記［１］〜
［６］のいずれかに記載のオクタフルオロプロパンの精
製方法。 ［８］工程（４）の後、不活性ガス気流中で２００〜３
００℃／ｈｒの速度で常温まで冷却する上記［１］〜
［７］のいずれかに記載のオクタフルオロプロパンの精
製方法。 ［９］吸着剤のヨウ素吸着量が７００〜１０００ｍｇ／
ｇである上記［１］〜［８］のいずれかに記載のオクタ
フルオロプロパンの精製方法。 ［１０］吸着剤に含まれるアルカリ金属の総含有量が１
０００ｐｐｍ以下である上記［１］〜［９］のいずれか
に記載のオクタフルオロプロパンの精製方法。
で１００〜２００℃／ｈｒの速度で工程（４）の賦活処
理温度まで昇温して工程（４）を行う上記［１］〜
［５］のいずれかに記載のオクタフルオロプロパンの精
製方法。 ［７］工程（４）において、不活性ガス、二酸化炭素及
び水蒸気を含有する混合ガスが、不活性ガスを５０〜８
９ｖｏｌ％、二酸化炭素を１０〜３０ｖｏｌ％、水蒸気
を１〜２０ｖｏｌ％含有するものである上記［１］〜
［６］のいずれかに記載のオクタフルオロプロパンの精
製方法。 ［８］工程（４）の後、不活性ガス気流中で２００〜３
００℃／ｈｒの速度で常温まで冷却する上記［１］〜
［７］のいずれかに記載のオクタフルオロプロパンの精
製方法。 ［９］吸着剤のヨウ素吸着量が７００〜１０００ｍｇ／
ｇである上記［１］〜［８］のいずれかに記載のオクタ
フルオロプロパンの精製方法。 ［１０］吸着剤に含まれるアルカリ金属の総含有量が１
０００ｐｐｍ以下である上記［１］〜［９］のいずれか
に記載のオクタフルオロプロパンの精製方法。
【００１３】［１１］吸着剤に含まれるカリウムの含有
量が５００ｐｐｍ以下である上記［１０］に記載のオク
タフルオロプロパンの精製方法。 ［１２］粗オクタフルオロプロパンが、１０〜１０００
０ｐｐｍの不純物を含むものである上記［１］〜［１
１］のいずれかに記載のオクタフルオロプロパンの精製
方法。 ［１３］不純物が、クロロペンタフルオロエタン、ヘキ
サフルオロプロペン及び１Ｈ−ヘプタフルオロプロパン
からなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物である
上記［１２］に記載のオクタフルオロプロパンの精製方
法。 ［１４］以下の（I）〜（III）の工程を含むことを特徴
とするオクタフルオロプロパンの製造方法。 （I）クロロジフルオロメタンを熱分解してヘキサフル
オロプロペンを得る工程 （II）工程（I）で得られるヘキサフルオロプロペンを
フッ素化して粗オクタフルオロプロパンを得る工程 （III）工程（II）で得られる粗オクタフルオロプロパ
ンを、以下の（１）〜（４）の工程を含む方法を用いて
製造できる吸着剤に接触させて精製する工程 （１）原料炭を酸洗浄処理し水洗浄処理する工程 （２）不活性ガス気流中、５０〜２５０℃の温度範囲
で、工程（１）で得られる原料炭の脱酸素及び／または
脱水を行う工程 （３）不活性ガス気流中、５００〜７００℃の温度範囲
で、工程（２）で得られる原料炭を再炭化処理する工程 （４）不活性ガス、二酸化炭素及び水蒸気を含有する混
合ガス気流中、７００〜９００℃の温度範囲で、工程
（３）で得られる原料炭を賦活処理する工程 ［１５］原料炭が、ヤシ殻炭、石炭、木炭、タールピッ
チからなる群から選ばれる少なくとも１種が４００〜６
００℃の温度範囲で炭化処理されたものである上記［１
４］に記載のオクタフルオロプロパンの製造方法。
量が５００ｐｐｍ以下である上記［１０］に記載のオク
タフルオロプロパンの精製方法。 ［１２］粗オクタフルオロプロパンが、１０〜１０００
０ｐｐｍの不純物を含むものである上記［１］〜［１
１］のいずれかに記載のオクタフルオロプロパンの精製
方法。 ［１３］不純物が、クロロペンタフルオロエタン、ヘキ
サフルオロプロペン及び１Ｈ−ヘプタフルオロプロパン
からなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物である
上記［１２］に記載のオクタフルオロプロパンの精製方
法。 ［１４］以下の（I）〜（III）の工程を含むことを特徴
とするオクタフルオロプロパンの製造方法。 （I）クロロジフルオロメタンを熱分解してヘキサフル
オロプロペンを得る工程 （II）工程（I）で得られるヘキサフルオロプロペンを
フッ素化して粗オクタフルオロプロパンを得る工程 （III）工程（II）で得られる粗オクタフルオロプロパ
ンを、以下の（１）〜（４）の工程を含む方法を用いて
製造できる吸着剤に接触させて精製する工程 （１）原料炭を酸洗浄処理し水洗浄処理する工程 （２）不活性ガス気流中、５０〜２５０℃の温度範囲
で、工程（１）で得られる原料炭の脱酸素及び／または
脱水を行う工程 （３）不活性ガス気流中、５００〜７００℃の温度範囲
で、工程（２）で得られる原料炭を再炭化処理する工程 （４）不活性ガス、二酸化炭素及び水蒸気を含有する混
合ガス気流中、７００〜９００℃の温度範囲で、工程
（３）で得られる原料炭を賦活処理する工程 ［１５］原料炭が、ヤシ殻炭、石炭、木炭、タールピッ
チからなる群から選ばれる少なくとも１種が４００〜６
００℃の温度範囲で炭化処理されたものである上記［１
４］に記載のオクタフルオロプロパンの製造方法。
【００１４】［１６］工程（１）の酸洗浄処理に用いる
酸が鉱酸であり、酸の濃度が、１〜１０００ｍｏｌ／ｍ
3の範囲である上記［１４］または［１５］に記載のオ
クタフルオロプロパンの製造方法。 ［１７］工程（１）の酸洗浄処理に用いる酸が塩酸及び
／または硫酸である上記［１４］〜［１６］のいずれか
に記載のオクタフルオロプロパンの製造方法。 ［１８］工程（２）の後、不活性ガス気流中で３００〜
５００℃／ｈｒの速度で工程（３）の再炭化処理温度ま
で昇温して工程（３）を行う上記［１４］〜［１７］の
いずれかに記載のオクタフルオロプロパンの製造方法。 ［１９］工程（３）の後、不活性ガス気流中で１００〜
２００℃／ｈｒの速度で工程（４）の賦活処理温度まで
昇温して工程（４）を行う上記［１４］〜［１８］のい
ずれかに記載のオクタフルオロプロパンの製造方法。 ［２０］工程（４）において、不活性ガス、二酸化炭素
及び水蒸気を含有する混合ガスが、不活性ガスを５０〜
８９ｖｏｌ％、二酸化炭素を１０〜３０ｖｏｌ％、水蒸
気を１〜２０ｖｏｌ％含有するものである上記［１４］
〜［１９］のいずれかに記載のオクタフルオロプロパン
の製造方法。
酸が鉱酸であり、酸の濃度が、１〜１０００ｍｏｌ／ｍ
3の範囲である上記［１４］または［１５］に記載のオ
クタフルオロプロパンの製造方法。 ［１７］工程（１）の酸洗浄処理に用いる酸が塩酸及び
／または硫酸である上記［１４］〜［１６］のいずれか
に記載のオクタフルオロプロパンの製造方法。 ［１８］工程（２）の後、不活性ガス気流中で３００〜
５００℃／ｈｒの速度で工程（３）の再炭化処理温度ま
で昇温して工程（３）を行う上記［１４］〜［１７］の
いずれかに記載のオクタフルオロプロパンの製造方法。 ［１９］工程（３）の後、不活性ガス気流中で１００〜
２００℃／ｈｒの速度で工程（４）の賦活処理温度まで
昇温して工程（４）を行う上記［１４］〜［１８］のい
ずれかに記載のオクタフルオロプロパンの製造方法。 ［２０］工程（４）において、不活性ガス、二酸化炭素
及び水蒸気を含有する混合ガスが、不活性ガスを５０〜
８９ｖｏｌ％、二酸化炭素を１０〜３０ｖｏｌ％、水蒸
気を１〜２０ｖｏｌ％含有するものである上記［１４］
〜［１９］のいずれかに記載のオクタフルオロプロパン
の製造方法。
【００１５】［２１］工程（４）の後、不活性ガス気流
中で２００〜３００℃／ｈｒの速度で常温まで冷却する
上記［１４］〜［２０］のいずれかに記載のオクタフル
オロプロパンの製造方法。 ［２２］吸着剤のヨウ素吸着量が７００〜１０００ｍｇ
／ｇである上記［１４］〜［２１］のいずれかに記載の
オクタフルオロプロパンの製造方法。 ［２３］吸着剤に含まれるアルカリ金属の総含有量が１
０００ｐｐｍ以下である上記［１４］〜［２２］のいず
れかに記載のオクタフルオロプロパンの製造方法。 ［２４］吸着剤に含まれるカリウムの含有量が５００ｐ
ｐｍ以下である上記［２３］に記載のオクタフルオロプ
ロパンの製造方法。 ［２５］粗オクタフルオロプロパンが、１０〜１０００
０ｐｐｍの不純物を含むものである上記［１４］〜［２
４］のいずれかに記載のオクタフルオロプロパンの製造
方法。
中で２００〜３００℃／ｈｒの速度で常温まで冷却する
上記［１４］〜［２０］のいずれかに記載のオクタフル
オロプロパンの製造方法。 ［２２］吸着剤のヨウ素吸着量が７００〜１０００ｍｇ
／ｇである上記［１４］〜［２１］のいずれかに記載の
オクタフルオロプロパンの製造方法。 ［２３］吸着剤に含まれるアルカリ金属の総含有量が１
０００ｐｐｍ以下である上記［１４］〜［２２］のいず
れかに記載のオクタフルオロプロパンの製造方法。 ［２４］吸着剤に含まれるカリウムの含有量が５００ｐ
ｐｍ以下である上記［２３］に記載のオクタフルオロプ
ロパンの製造方法。 ［２５］粗オクタフルオロプロパンが、１０〜１０００
０ｐｐｍの不純物を含むものである上記［１４］〜［２
４］のいずれかに記載のオクタフルオロプロパンの製造
方法。
【００１６】［２６］不純物が、クロロペンタフルオロ
エタン、ヘキサフルオロプロペン及び１Ｈ−ヘプタフル
オロプロパンからなる群から選ばれる少なくとも１種の
化合物である上記［２５］に記載のオクタフルオロプロ
パンの製造方法。 ［２７］オクタフルオロプロパンの純度が９９．９９９
９質量％以上である上記［１４］〜［２６］のいずれか
に記載のオクタフルオロプロパンの製造方法。 ［２８］純度が９９．９９９９質量％以上のオクタフル
オロプロパンを含有することを特徴とするエッチングガ
ス。 ［２９］純度が９９．９９９９質量％以上のオクタフル
オロプロパンを含有することを特徴とするクリーニング
ガス。
エタン、ヘキサフルオロプロペン及び１Ｈ−ヘプタフル
オロプロパンからなる群から選ばれる少なくとも１種の
化合物である上記［２５］に記載のオクタフルオロプロ
パンの製造方法。 ［２７］オクタフルオロプロパンの純度が９９．９９９
９質量％以上である上記［１４］〜［２６］のいずれか
に記載のオクタフルオロプロパンの製造方法。 ［２８］純度が９９．９９９９質量％以上のオクタフル
オロプロパンを含有することを特徴とするエッチングガ
ス。 ［２９］純度が９９．９９９９質量％以上のオクタフル
オロプロパンを含有することを特徴とするクリーニング
ガス。
【００１７】
【発明の実施の形態】以下本発明について詳しく説明す
る。本発明のオクタフルオロプロパンの精製方法は、粗
オクタフルオロプロパンを、以下の４つの工程を含む方
法を用いて製造できる吸着剤に接触させて精製すること
を特徴とする。 （１）原料炭を酸洗浄処理し水洗浄処理する工程 （２）不活性ガス気流中、５０〜２５０℃の温度範囲
で、工程（１）で得られる原料炭の脱酸素及び／または
脱水を行う工程 （３）不活性ガス気流中、５００〜７００℃の温度範囲
で、工程（２）で得られる原料炭を再炭化処理する工程 （４）不活性ガス、二酸化炭素及び水蒸気を含有する混
合ガス気流中、７００〜９００℃の温度範囲で、工程
（３）で得られる原料炭を賦活処理する工程 本発明のオクタフルオロプロパンの精製方法に用いる吸
着剤は、上記の処理工程を行うことにより、細孔（ミク
ロポア）径が制御された吸着剤として得ることができ
る。
る。本発明のオクタフルオロプロパンの精製方法は、粗
オクタフルオロプロパンを、以下の４つの工程を含む方
法を用いて製造できる吸着剤に接触させて精製すること
を特徴とする。 （１）原料炭を酸洗浄処理し水洗浄処理する工程 （２）不活性ガス気流中、５０〜２５０℃の温度範囲
で、工程（１）で得られる原料炭の脱酸素及び／または
脱水を行う工程 （３）不活性ガス気流中、５００〜７００℃の温度範囲
で、工程（２）で得られる原料炭を再炭化処理する工程 （４）不活性ガス、二酸化炭素及び水蒸気を含有する混
合ガス気流中、７００〜９００℃の温度範囲で、工程
（３）で得られる原料炭を賦活処理する工程 本発明のオクタフルオロプロパンの精製方法に用いる吸
着剤は、上記の処理工程を行うことにより、細孔（ミク
ロポア）径が制御された吸着剤として得ることができ
る。
【００１８】オクタフルオロプロパンを精製する吸着剤
の製造に使用される原料炭としては、ヤシ殻炭、石炭、
木炭及びタールピッチからなる群から選ばれる少なくと
も１種を用いることができる。細孔発達に必要な炭の緻
密性、吸着剤としての硬度等を考慮すると、ヤシ殻炭を
用いることが好ましい。また、原料炭の炭化温度は特に
制限はないが、ほとんど細孔の発達していない、４００
〜６００℃の範囲で炭化処理されたものを用いることが
でき、好ましくは４００〜５００℃の範囲で炭化処理さ
れたものがよい。
の製造に使用される原料炭としては、ヤシ殻炭、石炭、
木炭及びタールピッチからなる群から選ばれる少なくと
も１種を用いることができる。細孔発達に必要な炭の緻
密性、吸着剤としての硬度等を考慮すると、ヤシ殻炭を
用いることが好ましい。また、原料炭の炭化温度は特に
制限はないが、ほとんど細孔の発達していない、４００
〜６００℃の範囲で炭化処理されたものを用いることが
でき、好ましくは４００〜５００℃の範囲で炭化処理さ
れたものがよい。
【００１９】次に、選ばれた原料炭を酸洗浄処理し水洗
浄処理する工程（１）から、脱酸素及び／または脱水を
行う工程（２）、再炭化処理を行う工程（３）、賦活処
理する工程（４）までの処理工程について説明する。工
程（１）である、酸洗浄処理し水洗浄処理する工程は、
原料炭中に含まれる金属分、特にアルカリ金属を除去す
るために行う工程である。原料炭中の金属分、特にアル
カリ金属は、賦活処理工程（４）において触媒として作
用し、賦活ガス（水蒸気、二酸化炭素）と原料炭中の炭
素原子の反応を促進し、結果として細孔径の制御が困難
になる。従って、金属分、特にアルカリ金属を除去する
ために、酸及び水による洗浄工程（１）が行われる。
浄処理する工程（１）から、脱酸素及び／または脱水を
行う工程（２）、再炭化処理を行う工程（３）、賦活処
理する工程（４）までの処理工程について説明する。工
程（１）である、酸洗浄処理し水洗浄処理する工程は、
原料炭中に含まれる金属分、特にアルカリ金属を除去す
るために行う工程である。原料炭中の金属分、特にアル
カリ金属は、賦活処理工程（４）において触媒として作
用し、賦活ガス（水蒸気、二酸化炭素）と原料炭中の炭
素原子の反応を促進し、結果として細孔径の制御が困難
になる。従って、金属分、特にアルカリ金属を除去する
ために、酸及び水による洗浄工程（１）が行われる。
【００２０】工程（１）の酸洗浄に用いられる酸として
は、塩酸、硫酸、硝酸、リン酸等の鉱酸、酢酸、トリフ
ルオロ酢酸等の有機酸を用いることができる。好ましく
は鉱酸を用いるのがよく、さらに好ましくは塩酸及び／
または硫酸を用いることがよく、生成する金属塩を考慮
すると、塩酸を用いることが特に好ましい。酸の濃度と
しては薄すぎると金属除去効果が小さくなり、濃すぎる
とその効果は飽和になるため、１〜１０００ｍｏｌ／ｍ
3であるのがよく、好ましくは２００〜５００ｍｏｌ／
ｍ3であるのがよい。また、酸洗浄に用いる酸溶液の原
料炭に対する割合は、酸の濃度と同様、小さすぎると効
果がなく、大きすぎると飽和になるため、その容積比で
１：１〜５：１の範囲であるのがよく、好ましくは１：
１〜２：１の範囲であるのがよい。
は、塩酸、硫酸、硝酸、リン酸等の鉱酸、酢酸、トリフ
ルオロ酢酸等の有機酸を用いることができる。好ましく
は鉱酸を用いるのがよく、さらに好ましくは塩酸及び／
または硫酸を用いることがよく、生成する金属塩を考慮
すると、塩酸を用いることが特に好ましい。酸の濃度と
しては薄すぎると金属除去効果が小さくなり、濃すぎる
とその効果は飽和になるため、１〜１０００ｍｏｌ／ｍ
3であるのがよく、好ましくは２００〜５００ｍｏｌ／
ｍ3であるのがよい。また、酸洗浄に用いる酸溶液の原
料炭に対する割合は、酸の濃度と同様、小さすぎると効
果がなく、大きすぎると飽和になるため、その容積比で
１：１〜５：１の範囲であるのがよく、好ましくは１：
１〜２：１の範囲であるのがよい。
【００２１】洗浄時間は洗浄温度が高ければ数時間程度
でよく、常温程度に低い温度であっても一昼夜程度放置
すればよく、原料炭に含まれる金属分を十分に洗浄する
ことができる。また、酸洗浄後に行われる水洗浄処理
は、原料炭から溶解した金属塩を原料炭に残さないため
の洗浄であり、その洗浄方法は特に制限はない。例え
ば、上水等の金属塩の少ない水を使用し、連続あるいは
回分式のどちらでも十分に洗浄することができ、洗浄終
了は洗浄後の洗浄液のｐＨ（ｐＨ３〜５）で知ることが
できる。
でよく、常温程度に低い温度であっても一昼夜程度放置
すればよく、原料炭に含まれる金属分を十分に洗浄する
ことができる。また、酸洗浄後に行われる水洗浄処理
は、原料炭から溶解した金属塩を原料炭に残さないため
の洗浄であり、その洗浄方法は特に制限はない。例え
ば、上水等の金属塩の少ない水を使用し、連続あるいは
回分式のどちらでも十分に洗浄することができ、洗浄終
了は洗浄後の洗浄液のｐＨ（ｐＨ３〜５）で知ることが
できる。
【００２２】水洗浄を行った原料炭を乾燥する操作は工
程（２）の前に単独で行ってもよく、脱酸素及び／また
は脱水を行う工程（２）で行ってもよい。工程（２）
は、再炭化処理を行う工程（３）における酸素源の影響
を少なくするための酸素ガス及び水分のパージ工程であ
り、パージガスとしては各種不活性ガスを用いることが
でき、好ましくは窒素ガスを用いるのがよい。パージガ
スの流量と処理時間は特に制限はなく、原料炭から放出
される酸素ガス及び水分を系外にスムースに排気できる
ガス流量と処理時間を適宜選択することができる。工程
（２）の温度は、工程（３）での炭化温度に速やかに昇
温させる目的もあり、再炭化処理工程（３）の温度より
低く、かつ一定温度であり、かつ再炭化しない温度であ
る、５０〜２５０℃の温度範囲がよく、好ましくは、１
００〜２５０℃の温度範囲がよい。また、オクタフルオ
ロプロパンの精製に用いられる吸着剤は、少なくとも工
程（１）の方法を用いて洗浄した前記の原料炭を出発原
料とする場合は、工程（２）から工程（４）を含む方法
を用いて製造することができる。
程（２）の前に単独で行ってもよく、脱酸素及び／また
は脱水を行う工程（２）で行ってもよい。工程（２）
は、再炭化処理を行う工程（３）における酸素源の影響
を少なくするための酸素ガス及び水分のパージ工程であ
り、パージガスとしては各種不活性ガスを用いることが
でき、好ましくは窒素ガスを用いるのがよい。パージガ
スの流量と処理時間は特に制限はなく、原料炭から放出
される酸素ガス及び水分を系外にスムースに排気できる
ガス流量と処理時間を適宜選択することができる。工程
（２）の温度は、工程（３）での炭化温度に速やかに昇
温させる目的もあり、再炭化処理工程（３）の温度より
低く、かつ一定温度であり、かつ再炭化しない温度であ
る、５０〜２５０℃の温度範囲がよく、好ましくは、１
００〜２５０℃の温度範囲がよい。また、オクタフルオ
ロプロパンの精製に用いられる吸着剤は、少なくとも工
程（１）の方法を用いて洗浄した前記の原料炭を出発原
料とする場合は、工程（２）から工程（４）を含む方法
を用いて製造することができる。
【００２３】再炭化処理を行う工程（３）は、工程
（１）で金属除去された原料炭を加熱乾留することによ
り、タール分の分解、炭化マクロ孔の発現・発達及びタ
ール分の炭化を目的とするものであり、賦活処理工程
（４）における細孔の発現・発達に大きく関係する工程
である。そのため工程（３）では温度条件に留意する必
要がある。先ず、工程（２）から工程（３）に移行する
際の昇温速度は、昇温速度が遅いと、乾留揮発物として
タール分が除去されず、マクロ孔が発達しない傾向があ
る。昇温速度は速い程よいが、３００〜５００℃／ｈｒ
の範囲から選択することができる。また、昇温中は不活
性ガス気流下で行うことが好ましい。
（１）で金属除去された原料炭を加熱乾留することによ
り、タール分の分解、炭化マクロ孔の発現・発達及びタ
ール分の炭化を目的とするものであり、賦活処理工程
（４）における細孔の発現・発達に大きく関係する工程
である。そのため工程（３）では温度条件に留意する必
要がある。先ず、工程（２）から工程（３）に移行する
際の昇温速度は、昇温速度が遅いと、乾留揮発物として
タール分が除去されず、マクロ孔が発達しない傾向があ
る。昇温速度は速い程よいが、３００〜５００℃／ｈｒ
の範囲から選択することができる。また、昇温中は不活
性ガス気流下で行うことが好ましい。
【００２４】再炭化処理を行う工程（３）の温度は、温
度が低いと揮発分を十分に除去できず、細孔分布の幅が
広くなり、温度が高いと炭素基質が収縮し、ミクロ孔の
収縮が起こる。そのため再炭化処理は５００〜７００℃
の温度範囲で行うことがよく、好ましくは６００〜７０
０℃の温度範囲であるのがよい。再炭化処理を行う処理
時間としては、前記の目的のためには１〜２時間でよ
い。また、再炭化処理は不活性ガス気流中で行われ、不
活性ガスとしては各種不活性ガスを用いることができ、
窒素ガスが好ましく用いられる。不活性ガスの流量は、
処理原料炭１Ｌ当たり２〜１０Ｌ／ｍｉｎがよく、好ま
しくは３〜５Ｌ／ｍｉｎがよい。
度が低いと揮発分を十分に除去できず、細孔分布の幅が
広くなり、温度が高いと炭素基質が収縮し、ミクロ孔の
収縮が起こる。そのため再炭化処理は５００〜７００℃
の温度範囲で行うことがよく、好ましくは６００〜７０
０℃の温度範囲であるのがよい。再炭化処理を行う処理
時間としては、前記の目的のためには１〜２時間でよ
い。また、再炭化処理は不活性ガス気流中で行われ、不
活性ガスとしては各種不活性ガスを用いることができ、
窒素ガスが好ましく用いられる。不活性ガスの流量は、
処理原料炭１Ｌ当たり２〜１０Ｌ／ｍｉｎがよく、好ま
しくは３〜５Ｌ／ｍｉｎがよい。
【００２５】賦活処理する工程（４）は、工程（３）で
再炭化した原料炭とガスを反応させ、細孔を発達させる
工程であり、結晶体内の閉鎖された細孔を開放する第一
段階と、隣接する細孔間の壁が完全に消失して、径が大
きい細孔が形成されていく第二段階で進行する。
再炭化した原料炭とガスを反応させ、細孔を発達させる
工程であり、結晶体内の閉鎖された細孔を開放する第一
段階と、隣接する細孔間の壁が完全に消失して、径が大
きい細孔が形成されていく第二段階で進行する。
【００２６】工程（４）では、処理するガスの組成、温
度、時間等の条件に留意する必要がある。先ず、賦活処
理工程（４）における処理ガスの種類であるが、空気
（酸素）は好ましくない。その理由としては、原料炭の
炭素との反応が、発熱の大きな反応のため、炉内の温度
調節が難しく、部分的に過熱してしまい均一な賦活がで
きにくいことが挙げられる。また水蒸気も炭素との反応
は比較的激しいため、単独で使用すると賦活処理工程で
の細孔径制御が難しくなる。そのため、炭素との反応が
水蒸気より比較的緩やかな二酸化炭素や、不活性ガスで
ある窒素などを混合させて、緩やかな反応にする必要が
あり、窒素等の不活性ガス、二酸化炭素及び水蒸気を含
有する混合ガスを用いることができる。
度、時間等の条件に留意する必要がある。先ず、賦活処
理工程（４）における処理ガスの種類であるが、空気
（酸素）は好ましくない。その理由としては、原料炭の
炭素との反応が、発熱の大きな反応のため、炉内の温度
調節が難しく、部分的に過熱してしまい均一な賦活がで
きにくいことが挙げられる。また水蒸気も炭素との反応
は比較的激しいため、単独で使用すると賦活処理工程で
の細孔径制御が難しくなる。そのため、炭素との反応が
水蒸気より比較的緩やかな二酸化炭素や、不活性ガスで
ある窒素などを混合させて、緩やかな反応にする必要が
あり、窒素等の不活性ガス、二酸化炭素及び水蒸気を含
有する混合ガスを用いることができる。
【００２７】混合ガスの各成分の比率としては、炭素と
激しく反応する水蒸気は低い方がよく、好ましくは不活
性ガス、二酸化炭素及び水蒸気からなる混合ガスで、不
活性ガスを５０〜８９ｖｏｌ％、二酸化炭素を１０〜３
０ｖｏｌ％、水蒸気を１〜２０ｖｏｌ％含むものを用い
るのがよい。さらに好ましくは、窒素ガスを７０〜８０
ｖｏｌ％、二酸化炭素を１５〜２５ｖｏｌ％、水蒸気を
２〜１０ｖｏｌ％含むものがよい。混合ガスの流量は、
処理原料炭１Ｌ当たり０．５〜３Ｌ／ｍｉｎがよく、好
ましくは１〜２Ｌ／ｍｉｎがよい。
激しく反応する水蒸気は低い方がよく、好ましくは不活
性ガス、二酸化炭素及び水蒸気からなる混合ガスで、不
活性ガスを５０〜８９ｖｏｌ％、二酸化炭素を１０〜３
０ｖｏｌ％、水蒸気を１〜２０ｖｏｌ％含むものを用い
るのがよい。さらに好ましくは、窒素ガスを７０〜８０
ｖｏｌ％、二酸化炭素を１５〜２５ｖｏｌ％、水蒸気を
２〜１０ｖｏｌ％含むものがよい。混合ガスの流量は、
処理原料炭１Ｌ当たり０．５〜３Ｌ／ｍｉｎがよく、好
ましくは１〜２Ｌ／ｍｉｎがよい。
【００２８】工程（２）〜工程（４）の各工程はそれぞ
れ加熱下で行うため、連続的に行うことが好ましく、特
により高温下での処理工程である工程（３）と工程
（４）は連続的に行うことが好ましい。工程（３）から
工程（４）に移行する際の昇温速度は、昇温速度が遅い
と、炭素結晶体内の閉鎖された細孔が開放せず、表面積
が増大しない。逆に昇温速度が速いと、比表面積、細孔
径が大きくなりすぎる傾向がある。そのため工程（３）
から工程（４）への昇温速度は１００〜２００℃／ｈｒ
であることが好ましい。
れ加熱下で行うため、連続的に行うことが好ましく、特
により高温下での処理工程である工程（３）と工程
（４）は連続的に行うことが好ましい。工程（３）から
工程（４）に移行する際の昇温速度は、昇温速度が遅い
と、炭素結晶体内の閉鎖された細孔が開放せず、表面積
が増大しない。逆に昇温速度が速いと、比表面積、細孔
径が大きくなりすぎる傾向がある。そのため工程（３）
から工程（４）への昇温速度は１００〜２００℃／ｈｒ
であることが好ましい。
【００２９】賦活処理工程（４）の温度は、温度が低い
と、細孔の開放、拡大が十分に進行せず、温度が高いと
その制御が難しい。そのため賦活処理工程の温度は７０
０〜９００℃の温度範囲がよく、好ましくは８００〜９
００℃がよい。処理時間は、処理時間を長くすると、賦
活の進行により活性炭の細孔径が大きくなる傾向がある
ため、処理時間は、吸着除去の対象となる不純物の大き
さにより決定することができる。ＦＣ−２１８中に含ま
れる不純物を吸着するためには、処理時間は１〜２０時
間の範囲から選択することができる。好ましくは、処理
時間は５〜１８時間がよい。
と、細孔の開放、拡大が十分に進行せず、温度が高いと
その制御が難しい。そのため賦活処理工程の温度は７０
０〜９００℃の温度範囲がよく、好ましくは８００〜９
００℃がよい。処理時間は、処理時間を長くすると、賦
活の進行により活性炭の細孔径が大きくなる傾向がある
ため、処理時間は、吸着除去の対象となる不純物の大き
さにより決定することができる。ＦＣ−２１８中に含ま
れる不純物を吸着するためには、処理時間は１〜２０時
間の範囲から選択することができる。好ましくは、処理
時間は５〜１８時間がよい。
【００３０】工程（４）を行った後、不活性ガス気流下
で原料炭を常温まで冷却させるが、その降温速度は速い
程よい。降温速度は２００〜３００℃／ｈｒの範囲から
選択することができ、速度が遅いと、降温に時間を要す
るため、細孔径を制御した吸着剤に細孔の変化が起こる
傾向があるので好ましくない。不活性ガスの流量は吸着
剤の持つ熱量を系外へ円滑に除去するためには大きい方
がよいが、処理炭１Ｌ当たり１．５〜３Ｌ／ｍｉｎの範
囲から選択することができる。
で原料炭を常温まで冷却させるが、その降温速度は速い
程よい。降温速度は２００〜３００℃／ｈｒの範囲から
選択することができ、速度が遅いと、降温に時間を要す
るため、細孔径を制御した吸着剤に細孔の変化が起こる
傾向があるので好ましくない。不活性ガスの流量は吸着
剤の持つ熱量を系外へ円滑に除去するためには大きい方
がよいが、処理炭１Ｌ当たり１．５〜３Ｌ／ｍｉｎの範
囲から選択することができる。
【００３１】以上説明した方法を用いることにより、オ
クタフルオロプロパンを高純度に精製することができる
吸着剤を製造することができ、得られる吸着剤は、原料
炭を酸洗浄処理及び水洗浄処理しているので、特にアル
カリ金属の含有量が少ないことを特徴とする。吸着剤に
含まれるアルカリ金属の総含有量は１０００ｐｐｍ以下
であり、特にカリウムの含有量は５００ｐｐｍ以下であ
り、好ましくは２００ｐｐｍ以下である。吸着剤に含ま
れるアルカリ金属の含有量を測定する方法としては、例
えば吸着剤を灰化後、酸に溶解してＩＣＰ測定すること
により求めることができる。また、吸着剤のヨウ素吸着
量は７００〜１０００ｍｇ／ｇであり、ヨウ素吸着量の
測定方法としてはＪＩＳ Ｋ １４７４に基づいて求め
ることができる。
クタフルオロプロパンを高純度に精製することができる
吸着剤を製造することができ、得られる吸着剤は、原料
炭を酸洗浄処理及び水洗浄処理しているので、特にアル
カリ金属の含有量が少ないことを特徴とする。吸着剤に
含まれるアルカリ金属の総含有量は１０００ｐｐｍ以下
であり、特にカリウムの含有量は５００ｐｐｍ以下であ
り、好ましくは２００ｐｐｍ以下である。吸着剤に含ま
れるアルカリ金属の含有量を測定する方法としては、例
えば吸着剤を灰化後、酸に溶解してＩＣＰ測定すること
により求めることができる。また、吸着剤のヨウ素吸着
量は７００〜１０００ｍｇ／ｇであり、ヨウ素吸着量の
測定方法としてはＪＩＳ Ｋ １４７４に基づいて求め
ることができる。
【００３２】次に前記の方法を用いて製造した吸着剤を
用いて、ＦＣ−２１８を精製する方法について説明す
る。粗ＦＣ−２１８中には、ＣＦＣ−１１５、ＦＣ−１
２１６及びＨＦＣ２２７ｃａからなる群から選ばれる少
なくとも１種の化合物が不純物として含まれており、不
純物の含有量は通常、１０〜１００００ｐｐｍの範囲で
ある。本発明のＦＣ−２１８を精製する方法としては、
公知の方法、例えば固定床による流通法が利用できる。
流通法を用いる接触方法は、連続的処理が可能であるこ
とから好ましく用いられる。接触させる相は気相、液相
どちらでもよく、ＦＣ−２１８から効果的に不純物を除
去することができる。
用いて、ＦＣ−２１８を精製する方法について説明す
る。粗ＦＣ−２１８中には、ＣＦＣ−１１５、ＦＣ−１
２１６及びＨＦＣ２２７ｃａからなる群から選ばれる少
なくとも１種の化合物が不純物として含まれており、不
純物の含有量は通常、１０〜１００００ｐｐｍの範囲で
ある。本発明のＦＣ−２１８を精製する方法としては、
公知の方法、例えば固定床による流通法が利用できる。
流通法を用いる接触方法は、連続的処理が可能であるこ
とから好ましく用いられる。接触させる相は気相、液相
どちらでもよく、ＦＣ−２１８から効果的に不純物を除
去することができる。
【００３３】吸着剤に対する、ＦＣ−２１８の線速度
は、気相接触法では１〜１０ｍ／ｍｉｎであり、好まし
くは２〜５ｍ／ｍｉｎであるのがよい。液相接触法では
０．２〜５ｍ／ｈｒであり、好ましくは０．５〜２ｍ／
ｈｒであるのがよい。気相、液相共に線速度が上記より
大きくなると、吸着帯が長くなり、破過までの時間が短
くなってしまうため、吸着能力が低下する傾向がある。
また小さい場合でも、特に吸着能力の向上は見られず、
かえって処理時間が長くかかるため好ましくない。ま
た、精製する処理温度は室温程度でよく、特に冷却、加
温を行わなくてもよい。圧力については、ゲージ圧力で
０〜３ＭＰａでよく、通常の取り扱い易い圧力で処理可
能であり、加圧等の操作は行わなくてもよい。
は、気相接触法では１〜１０ｍ／ｍｉｎであり、好まし
くは２〜５ｍ／ｍｉｎであるのがよい。液相接触法では
０．２〜５ｍ／ｈｒであり、好ましくは０．５〜２ｍ／
ｈｒであるのがよい。気相、液相共に線速度が上記より
大きくなると、吸着帯が長くなり、破過までの時間が短
くなってしまうため、吸着能力が低下する傾向がある。
また小さい場合でも、特に吸着能力の向上は見られず、
かえって処理時間が長くかかるため好ましくない。ま
た、精製する処理温度は室温程度でよく、特に冷却、加
温を行わなくてもよい。圧力については、ゲージ圧力で
０〜３ＭＰａでよく、通常の取り扱い易い圧力で処理可
能であり、加圧等の操作は行わなくてもよい。
【００３４】吸着剤は、吸着能力が満たされてしまった
場合には、再生して使用することが可能である。吸着剤
を再生する場合は、不活性ガスを高められた温度で吸着
剤に通すことにより、ＦＣ−２１８を含む不純物を脱着
することができ、不活性ガスとしては窒素を用いること
ができる。再生温度は１００〜４００℃の範囲の温度が
よく、好ましくは１００〜２００℃の範囲で再生するの
がよい。
場合には、再生して使用することが可能である。吸着剤
を再生する場合は、不活性ガスを高められた温度で吸着
剤に通すことにより、ＦＣ−２１８を含む不純物を脱着
することができ、不活性ガスとしては窒素を用いること
ができる。再生温度は１００〜４００℃の範囲の温度が
よく、好ましくは１００〜２００℃の範囲で再生するの
がよい。
【００３５】以上説明したように、本発明の精製方法を
用いれば、高純度のＦＣ−２１８を得ることができる。
従って、例えば工程（I）において、クロロジフルオロ
メタンを熱分解してヘキサフルオロプロペンを得る工程
を行い、工程（II）において、工程（I）で得られるヘ
キサフルオロプロペンをフッ素化して粗オクタフルオロ
プロパンを得る工程を行い、さらに工程（III）におい
て、工程（II）で得られる粗オクタフルオロプロパン
を、前記の方法を用いて製造できる吸着剤に接触させて
精製する工程、を行うことにより、高純度のＦＣ−２１
８を製造することができる。
用いれば、高純度のＦＣ−２１８を得ることができる。
従って、例えば工程（I）において、クロロジフルオロ
メタンを熱分解してヘキサフルオロプロペンを得る工程
を行い、工程（II）において、工程（I）で得られるヘ
キサフルオロプロペンをフッ素化して粗オクタフルオロ
プロパンを得る工程を行い、さらに工程（III）におい
て、工程（II）で得られる粗オクタフルオロプロパン
を、前記の方法を用いて製造できる吸着剤に接触させて
精製する工程、を行うことにより、高純度のＦＣ−２１
８を製造することができる。
【００３６】粗ＦＣ−２１８中に含まれる不純物の含有
量は通常、１０〜１００００ｐｐｍの範囲であるが、本
発明の製造方法を用いて得られるＦＣ−２１８の純度は
９９．９９９９質量％以上である。ここで、ＦＣ−２１
８の純度は、ＦＣ−２１８以外のハロカーボン分を１０
０質量％から差し引いた値として定義され、純度が９
９．９９９９質量％以上であるＦＣ−２１８の分析方法
としては、（１）ガスクロマトグラフィ−（ＧＣ）のＴ
ＣＤ法、ＦＩＤ法（いずれもプレカット法を含む）、Ｅ
ＣＤ法、（２）ガスクロマトグラフィ−質量分析計（Ｇ
Ｃ−ＭＳ）等の分析機器を用いることができる。
量は通常、１０〜１００００ｐｐｍの範囲であるが、本
発明の製造方法を用いて得られるＦＣ−２１８の純度は
９９．９９９９質量％以上である。ここで、ＦＣ−２１
８の純度は、ＦＣ−２１８以外のハロカーボン分を１０
０質量％から差し引いた値として定義され、純度が９
９．９９９９質量％以上であるＦＣ−２１８の分析方法
としては、（１）ガスクロマトグラフィ−（ＧＣ）のＴ
ＣＤ法、ＦＩＤ法（いずれもプレカット法を含む）、Ｅ
ＣＤ法、（２）ガスクロマトグラフィ−質量分析計（Ｇ
Ｃ−ＭＳ）等の分析機器を用いることができる。
【００３７】また、高純度のＦＣ−２１８は、半導体デ
バイス製造工程の中のエッチング工程におけるエッチン
グガスとして用いることができる。また、半導体デバイ
ス製造工程の中のクリーニング工程におけるクリーニン
グガスとしても用いることができる。LSIやTFTなどの半
導体デバイスの製造プロセスでは、CVD法、スパッタリ
ング法あるいは蒸着法などを用いて薄膜や厚膜を形成
し、回路パターンを形成するためにエッチングを行う。
また、薄膜や厚膜を形成する装置においては、装置内
壁、冶具等に堆積した不要な堆積物を除去するためのク
リーニングが行われる。これは不要な堆積物が生成する
とパーティクル発生の原因となるためであり、良質な膜
を製造するために随時除去する必要がある。
バイス製造工程の中のエッチング工程におけるエッチン
グガスとして用いることができる。また、半導体デバイ
ス製造工程の中のクリーニング工程におけるクリーニン
グガスとしても用いることができる。LSIやTFTなどの半
導体デバイスの製造プロセスでは、CVD法、スパッタリ
ング法あるいは蒸着法などを用いて薄膜や厚膜を形成
し、回路パターンを形成するためにエッチングを行う。
また、薄膜や厚膜を形成する装置においては、装置内
壁、冶具等に堆積した不要な堆積物を除去するためのク
リーニングが行われる。これは不要な堆積物が生成する
とパーティクル発生の原因となるためであり、良質な膜
を製造するために随時除去する必要がある。
【００３８】ここで、ＦＣ−２１８を用いるエッチング
方法は、プラズマエッチング、マイクロ波エッチング等
の各種ドライエッチング条件で行うことができ、ＦＣ−
２１８とＨｅ、Ｎ2、Ａｒなどの不活性ガスあるいはＨ
Ｃｌ、Ｏ2、Ｈ2などのガスと適切な割合で混合して使用
してもよい。
方法は、プラズマエッチング、マイクロ波エッチング等
の各種ドライエッチング条件で行うことができ、ＦＣ−
２１８とＨｅ、Ｎ2、Ａｒなどの不活性ガスあるいはＨ
Ｃｌ、Ｏ2、Ｈ2などのガスと適切な割合で混合して使用
してもよい。
【００３９】
【実施例】以下、実施例及び比較例により本発明をより
詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定され
るものではない。 （実施例１）原料炭である、ヤシ殻炭（フィリピン産）
７５Ｌを３００ｍｏｌ／ｍ3の濃度の塩酸で洗浄し、そ
の後水洗浄操作を３回繰り返した。３００ｍｏｌ／ｍ3
の濃度の塩酸の使用量は、洗浄する原料炭と同体積量で
あり、塩酸を原料炭に加えた後、１５時間静置した後に
液抜きをした。水洗時の水の量は、原料炭の５倍体積量
であり、洗浄の完了は、洗浄後の洗浄液のｐＨが４とな
ったことにより確認した。
詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定され
るものではない。 （実施例１）原料炭である、ヤシ殻炭（フィリピン産）
７５Ｌを３００ｍｏｌ／ｍ3の濃度の塩酸で洗浄し、そ
の後水洗浄操作を３回繰り返した。３００ｍｏｌ／ｍ3
の濃度の塩酸の使用量は、洗浄する原料炭と同体積量で
あり、塩酸を原料炭に加えた後、１５時間静置した後に
液抜きをした。水洗時の水の量は、原料炭の５倍体積量
であり、洗浄の完了は、洗浄後の洗浄液のｐＨが４とな
ったことにより確認した。
【００４０】表３に酸洗浄前後の原料炭中の金属濃度の
分析結果を示した。
分析結果を示した。
【表３】 表３に示した金属含有量の測定結果から明らかなよう
に、酸洗浄を行うことにより原料炭中の金属含有量を低
減することができ、特に細孔径の制御の妨害物質である
アルカリ金属のうち、カリウムの含有量を著しく低減で
きることが分かった。
に、酸洗浄を行うことにより原料炭中の金属含有量を低
減することができ、特に細孔径の制御の妨害物質である
アルカリ金属のうち、カリウムの含有量を著しく低減で
きることが分かった。
【００４１】その後原料炭を焼成炉（電気外熱式金属ロ
ータリーキルン：回転数８ｒｐｍ設定、炉内径９５０ｍ
ｍ、直胴部６２０ｍｍ、５０ｋｗ、１５０Ａ（ｍａ
ｘ））に入れ、９０℃で２時間窒素乾燥した。窒素は純
度９９％以上のものを用い、その流量は５０Ｌ／ｍｉｎ
とした。さらに、乾燥した原料炭は前述の焼成炉におい
て、表４に示す条件で工程（２）〜工程（４）の処理を
行った。
ータリーキルン：回転数８ｒｐｍ設定、炉内径９５０ｍ
ｍ、直胴部６２０ｍｍ、５０ｋｗ、１５０Ａ（ｍａ
ｘ））に入れ、９０℃で２時間窒素乾燥した。窒素は純
度９９％以上のものを用い、その流量は５０Ｌ／ｍｉｎ
とした。さらに、乾燥した原料炭は前述の焼成炉におい
て、表４に示す条件で工程（２）〜工程（４）の処理を
行った。
【００４２】
【表４】
【００４３】（実施例２）内径１１ｍｍ×塔長１００ｃ
ｍの吸着塔に、実施例１と同様の方法で賦活処理まで行
うことにより得られた５５ｇの吸着剤を充填し、ＦＣ−
２１８中に含まれる不純物の吸着を行った。吸着剤中の
水分及び揮発分の除去のため、予め吸着剤は６０℃で１
時間、１６０℃で７時間、計８時間窒素気流中（＞１Ｌ
／ｍｉｎ）で処理した後使用した。この吸着剤を用い
て、ＣＦＣ−１１５を４００質量ｐｐｍ、ＦＣ−１２１
６を６００質量ｐｐｍ含むＦＣ−２１８を、室温、０．
７ＭＰａの加圧、１ｍ／ｍｉｎの線速度で、気相で吸着
剤中に流通し、不純物を吸着させた。吸着剤で処理する
前と後の不純物の量は、ガスクロマトグラフィーで定量
した。ガスクロマトグラフィ−分析における分析条件は
次の通りである。
ｍの吸着塔に、実施例１と同様の方法で賦活処理まで行
うことにより得られた５５ｇの吸着剤を充填し、ＦＣ−
２１８中に含まれる不純物の吸着を行った。吸着剤中の
水分及び揮発分の除去のため、予め吸着剤は６０℃で１
時間、１６０℃で７時間、計８時間窒素気流中（＞１Ｌ
／ｍｉｎ）で処理した後使用した。この吸着剤を用い
て、ＣＦＣ−１１５を４００質量ｐｐｍ、ＦＣ−１２１
６を６００質量ｐｐｍ含むＦＣ−２１８を、室温、０．
７ＭＰａの加圧、１ｍ／ｍｉｎの線速度で、気相で吸着
剤中に流通し、不純物を吸着させた。吸着剤で処理する
前と後の不純物の量は、ガスクロマトグラフィーで定量
した。ガスクロマトグラフィ−分析における分析条件は
次の通りである。
【００４４】 機器本体： ＧＣ−１４Ｂ （（株）島津製作所製） キャリアー： Ｈｅガス 検出器： 水素炎イオン化検出器（ＦＩＤ） 試料量： ０．２ｍｌ 定量法： 絶対検量線
【００４５】表５にＦＣ−２１８を流通し始めてから、
５０、１００、１５０、２００分経過後の、吸着塔出口
でのＦＣ−２１８中のＣＦＣ−１１５、ＦＣ−１２１６
の分析結果を示す。吸着塔出口での不純物濃度は、どち
らの物質の濃度も、２００分経過後において１質量ｐｐ
ｍ以下であることが分かる。この結果から、一連の賦活
処理した吸着剤を、上記の不純物を含むＦＣ−２１８と
接触させることにより、不純物を効果的に吸着分離で
き、ＦＣ−２１８を高純度に精製できることが分かっ
た。
５０、１００、１５０、２００分経過後の、吸着塔出口
でのＦＣ−２１８中のＣＦＣ−１１５、ＦＣ−１２１６
の分析結果を示す。吸着塔出口での不純物濃度は、どち
らの物質の濃度も、２００分経過後において１質量ｐｐ
ｍ以下であることが分かる。この結果から、一連の賦活
処理した吸着剤を、上記の不純物を含むＦＣ−２１８と
接触させることにより、不純物を効果的に吸着分離で
き、ＦＣ−２１８を高純度に精製できることが分かっ
た。
【００４６】（比較例１）実施例１で用いた原料炭のヤ
シ殻炭の酸洗浄及び水洗浄工程を行わない以外は、実施
例１と同様の賦活処理を行い、得られた吸着剤を用いて
実施例２と同様にＦＣ−２１８中の不純物の吸着処理を
行った。吸着剤で処理する前と後の不純物の量を、同様
にガスクロマトグラフィーで定量した。表５には、ＦＣ
−２１８を流通し始めてから、５０、１００分経過後
の、吸着塔出口でのＦＣ−２１８中のＣＦＣ−１１５及
びＦＣ−１２１６の分析結果を示す。ＦＣ−１２１６に
ついては、実施例２と同様に吸着分離されているが、Ｃ
ＦＣ−１１５は、５０分経過後、すでに破過が見られて
いる。この結果から、原料炭を処理する工程のうち、酸
洗浄処理及び水洗浄処理を行う工程を省くと、活性炭の
細孔径が制御されず、ＣＦＣ−１１５が吸着分離されな
くなることが分かった。
シ殻炭の酸洗浄及び水洗浄工程を行わない以外は、実施
例１と同様の賦活処理を行い、得られた吸着剤を用いて
実施例２と同様にＦＣ−２１８中の不純物の吸着処理を
行った。吸着剤で処理する前と後の不純物の量を、同様
にガスクロマトグラフィーで定量した。表５には、ＦＣ
−２１８を流通し始めてから、５０、１００分経過後
の、吸着塔出口でのＦＣ−２１８中のＣＦＣ−１１５及
びＦＣ−１２１６の分析結果を示す。ＦＣ−１２１６に
ついては、実施例２と同様に吸着分離されているが、Ｃ
ＦＣ−１１５は、５０分経過後、すでに破過が見られて
いる。この結果から、原料炭を処理する工程のうち、酸
洗浄処理及び水洗浄処理を行う工程を省くと、活性炭の
細孔径が制御されず、ＣＦＣ−１１５が吸着分離されな
くなることが分かった。
【００４７】（比較例２、３）武田薬品工業（株）製の
モルシーボンＸ２Ｍ／６を４６ｇ（通称ＭＳＣ−５Ａ）
（比較例２）、味の素ファインテクノ（株）製のヤシ殻
活性炭Ｙ−１０を５７ｇ（比較例３）を吸着剤として、
比較例１の吸着剤の代わりに用いた以外は、実施例２と
同様にＦＣ−２１８中の不純物の吸着を行った。上記活
性炭で処理する前と後の不純物の量を、同様にガスクロ
マトグラフィーで定量した。表５には、ＦＣ−２１８を
流通し始めてから、５０、１００分経過後の、吸着塔出
口でのＦＣ−２１８中のＣＦＣ−１１５及びＦＣ−１２
１６の分析結果を示す。ＦＣ−１２１６については、実
施例２と同様に吸着分離されているが、ＣＦＣ−１１５
は、５０分経過後、すでに破過が見られている。実施例
１の方法で得られた吸着剤と比べて、ＣＦＣ−１１５の
吸着能が劣ることが分かった。
モルシーボンＸ２Ｍ／６を４６ｇ（通称ＭＳＣ−５Ａ）
（比較例２）、味の素ファインテクノ（株）製のヤシ殻
活性炭Ｙ−１０を５７ｇ（比較例３）を吸着剤として、
比較例１の吸着剤の代わりに用いた以外は、実施例２と
同様にＦＣ−２１８中の不純物の吸着を行った。上記活
性炭で処理する前と後の不純物の量を、同様にガスクロ
マトグラフィーで定量した。表５には、ＦＣ−２１８を
流通し始めてから、５０、１００分経過後の、吸着塔出
口でのＦＣ−２１８中のＣＦＣ−１１５及びＦＣ−１２
１６の分析結果を示す。ＦＣ−１２１６については、実
施例２と同様に吸着分離されているが、ＣＦＣ−１１５
は、５０分経過後、すでに破過が見られている。実施例
１の方法で得られた吸着剤と比べて、ＣＦＣ−１１５の
吸着能が劣ることが分かった。
【００４８】
【表５】
【００４９】また、実施例２及び比較例１〜３で用いた
吸着剤に対する各不純物の吸着容量を表６に示した。不
純物の吸着容量は、吸着塔出口のガス中の不純物濃度
が、１質量ｐｐｍを超えるところを破過点とし、そこに
至るまでの各不純物の吸着容量を求め、その値を、用い
た吸着剤の重量で除することにより算出した。実施例２
と比較例１〜３の吸着剤を比較すると、実施例２で用い
た吸着剤は、不純物の吸着容量が比較例のものより向上
することが分かった。
吸着剤に対する各不純物の吸着容量を表６に示した。不
純物の吸着容量は、吸着塔出口のガス中の不純物濃度
が、１質量ｐｐｍを超えるところを破過点とし、そこに
至るまでの各不純物の吸着容量を求め、その値を、用い
た吸着剤の重量で除することにより算出した。実施例２
と比較例１〜３の吸着剤を比較すると、実施例２で用い
た吸着剤は、不純物の吸着容量が比較例のものより向上
することが分かった。
【００５０】
【表６】
【００５１】（実施例３）実施例２で用いたものと同様
の吸着剤１０１ｇを、内径２２ｍｍ×塔長６０ｃｍの吸
着塔に充填し、１２０℃２時間、１５０℃４時間、ヘリ
ウム気流中で処理した後使用した。この吸着剤を用い
て、ＦＣ−１２１６のみを６００質量ｐｐｍ含むＦＣ−
２１８を、吸着剤中に室温、０．７ＭＰａの加圧、５ｍ
／ｍｉｎの線速度で気相で流通し、不純物を吸着させ
た。吸着剤で処理する前と後の不純物の量を、同様にガ
スクロマトグラフィーで定量した。実施例２と同様に破
過点を求め、ＦＣ−１２１６の吸着容量を算出した。そ
の結果を表７に示す。
の吸着剤１０１ｇを、内径２２ｍｍ×塔長６０ｃｍの吸
着塔に充填し、１２０℃２時間、１５０℃４時間、ヘリ
ウム気流中で処理した後使用した。この吸着剤を用い
て、ＦＣ−１２１６のみを６００質量ｐｐｍ含むＦＣ−
２１８を、吸着剤中に室温、０．７ＭＰａの加圧、５ｍ
／ｍｉｎの線速度で気相で流通し、不純物を吸着させ
た。吸着剤で処理する前と後の不純物の量を、同様にガ
スクロマトグラフィーで定量した。実施例２と同様に破
過点を求め、ＦＣ−１２１６の吸着容量を算出した。そ
の結果を表７に示す。
【００５２】（比較例４〜６）ヤシ殻活性炭Ｙ−１０を
１０４ｇ（比較例４）、粒状石炭系活性炭ＣＬ−Ｈを９
４ｇ（味の素ファインテクノ（株）製）（比較例５）、
ＭＳＣ−５Ａを９１ｇ（比較例６）を吸着剤として、実
施例３の吸着剤の代わりに用いた以外は、実施例３と同
様にＦＣ−１２１６の吸着を行った。吸着剤で処理する
前と後の不純物の量を、同様にガスクロマトグラフィー
で定量した。このとき実施例２と同様に、ＦＣ−１２１
６の吸着容量を算出した。その結果を表７に示した。
１０４ｇ（比較例４）、粒状石炭系活性炭ＣＬ−Ｈを９
４ｇ（味の素ファインテクノ（株）製）（比較例５）、
ＭＳＣ−５Ａを９１ｇ（比較例６）を吸着剤として、実
施例３の吸着剤の代わりに用いた以外は、実施例３と同
様にＦＣ−１２１６の吸着を行った。吸着剤で処理する
前と後の不純物の量を、同様にガスクロマトグラフィー
で定量した。このとき実施例２と同様に、ＦＣ−１２１
６の吸着容量を算出した。その結果を表７に示した。
【００５３】
【表７】 実施例３と比較例４〜６の結果によると、不純物として
ＦＣ−１２１６単独での吸着は、従来の活性炭系では確
かに有効であったが、本発明の吸着剤の吸着容量は約１
０倍量を示すなど顕著に向上しており、従来の吸着剤よ
り、さらに有効であることが分かった。
ＦＣ−１２１６単独での吸着は、従来の活性炭系では確
かに有効であったが、本発明の吸着剤の吸着容量は約１
０倍量を示すなど顕著に向上しており、従来の吸着剤よ
り、さらに有効であることが分かった。
【００５４】
【発明の効果】以上説明したように、本発明のＦＣ−２
１８の製造方法を用いれば、高純度のＦＣ−２１８を得
ることができ、本発明を用いて製造された、高純度のＦ
Ｃ−２１８は、半導体デバイスの製造工程でエッチング
ガスあるいはクリーニングガスとして用いることができ
る。
１８の製造方法を用いれば、高純度のＦＣ−２１８を得
ることができ、本発明を用いて製造された、高純度のＦ
Ｃ−２１８は、半導体デバイスの製造工程でエッチング
ガスあるいはクリーニングガスとして用いることができ
る。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｃ０７Ｃ 19/08 Ｃ０７Ｃ 19/08 Ｈ０１Ｌ 21/3065 Ｈ０１Ｌ 21/304 ６４５Ｚ 21/304 ６４５ Ｂ０１Ｊ 20/20 Ｂ // Ｂ０１Ｊ 20/20 Ｈ０１Ｌ 21/302 Ｆ Ｆターム(参考） 4D012 BA04 4G066 AA04A AA80A AB29A BA36 CA32 CA33 DA05 EA20 FA11 FA17 FA18 FA21 FA23 FA33 FA34 FA37 4H006 AA02 AC29 AC30 AD17 BD70 EA02 5F004 AA13 AA16 BB13 BB14 DA00 DA22 DA23 DA24 DA25 DA26 DA29
Claims (29)
- 【請求項１】 粗オクタフルオロプロパンを、以下の４
つの工程を含む方法を用いて製造できる吸着剤に接触さ
せて精製することを特徴とするオクタフルオロプロパン
の精製方法。 （１）原料炭を酸洗浄処理し水洗浄処理する工程 （２）不活性ガス気流中、５０〜２５０℃の温度範囲
で、工程（１）で得られる原料炭の脱酸素及び／または
脱水を行う工程 （３）不活性ガス気流中、５００〜７００℃の温度範囲
で、工程（２）で得られる原料炭を再炭化処理する工程 （４）不活性ガス、二酸化炭素及び水蒸気を含有する混
合ガス気流中、７００〜９００℃の温度範囲で、工程
（３）で得られる原料炭を賦活処理する工程 - 【請求項２】 原料炭が、ヤシ殻炭、石炭、木炭、ター
ルピッチからなる群から選ばれる少なくとも１種が４０
０〜６００℃の温度範囲で炭化処理されたものである請
求項１に記載のオクタフルオロプロパンの精製方法。 - 【請求項３】 工程（１）の酸洗浄処理に用いる酸が鉱
酸であり、酸の濃度が、１〜１０００ｍｏｌ／ｍ3の範
囲である請求項１または２に記載のオクタフルオロプロ
パンの精製方法。 - 【請求項４】 工程（１）の酸洗浄処理に用いる酸が塩
酸及び／または硫酸である請求項１〜３のいずれかに記
載のオクタフルオロプロパンの精製方法。 - 【請求項５】 工程（２）の後、不活性ガス気流中で３
００〜５００℃／ｈｒの速度で工程（３）の再炭化処理
温度まで昇温して工程（３）を行う請求項１〜４のいず
れかに記載のオクタフルオロプロパンの精製方法。 - 【請求項６】 工程（３）の後、不活性ガス気流中で１
００〜２００℃／ｈｒの速度で工程（４）の賦活処理温
度まで昇温して工程（４）を行う請求項１〜５のいずれ
かに記載のオクタフルオロプロパンの精製方法。 - 【請求項７】 工程（４）において、不活性ガス、二酸
化炭素及び水蒸気を含有する混合ガスが、不活性ガスを
５０〜８９ｖｏｌ％、二酸化炭素を１０〜３０ｖｏｌ
％、水蒸気を１〜２０ｖｏｌ％含有するものである請求
項１〜６のいずれかに記載のオクタフルオロプロパンの
精製方法。 - 【請求項８】 工程（４）の後、不活性ガス気流中で２
００〜３００℃／ｈｒの速度で常温まで冷却する請求項
１〜７のいずれかに記載のオクタフルオロプロパンの精
製方法。 - 【請求項９】 吸着剤のヨウ素吸着量が７００〜１００
０ｍｇ／ｇである請求項１〜８のいずれかに記載のオク
タフルオロプロパンの精製方法。 - 【請求項１０】 吸着剤に含まれるアルカリ金属の総含
有量が１０００ｐｐｍ以下である請求項１〜９のいずれ
かに記載のオクタフルオロプロパンの精製方法。 - 【請求項１１】 吸着剤に含まれるカリウムの含有量が
５００ｐｐｍ以下である請求項１０に記載のオクタフル
オロプロパンの精製方法。 - 【請求項１２】 粗オクタフルオロプロパンが、１０〜
１００００ｐｐｍの不純物を含むものである請求項１〜
１１のいずれかに記載のオクタフルオロプロパンの精製
方法。 - 【請求項１３】 不純物が、クロロペンタフルオロエタ
ン、ヘキサフルオロプロペン及び１Ｈ−ヘプタフルオロ
プロパンからなる群から選ばれる少なくとも１種の化合
物である請求項１２に記載のオクタフルオロプロパンの
精製方法。 - 【請求項１４】 以下の（I）〜（III）の工程を含むこ
とを特徴とするオクタフルオロプロパンの製造方法。 （I）クロロジフルオロメタンを熱分解してヘキサフル
オロプロペンを得る工程 （II）工程（I）で得られるヘキサフルオロプロペンを
フッ素化して粗オクタフルオロプロパンを得る工程 （III）工程（II）で得られる粗オクタフルオロプロパ
ンを、以下の（１）〜（４）の工程を含む方法を用いて
製造できる吸着剤に接触させて精製する工程 （１）原料炭を酸洗浄処理し水洗浄処理する工程 （２）不活性ガス気流中、５０〜２５０℃の温度範囲
で、工程（１）で得られる原料炭の脱酸素及び／または
脱水を行う工程 （３）不活性ガス気流中、５００〜７００℃の温度範囲
で、工程（２）で得られる原料炭を再炭化処理する工程 （４）不活性ガス、二酸化炭素及び水蒸気を含有する混
合ガス気流中、７００〜９００℃の温度範囲で、工程
（３）で得られる原料炭を賦活処理する工程 - 【請求項１５】 原料炭が、ヤシ殻炭、石炭、木炭、タ
ールピッチからなる群から選ばれる少なくとも１種が４
００〜６００℃の温度範囲で炭化処理されたものである
請求項１４に記載のオクタフルオロプロパンの製造方
法。 - 【請求項１６】 工程（１）の酸洗浄処理に用いる酸が
鉱酸であり、酸の濃度が、１〜１０００ｍｏｌ／ｍ3の
範囲である請求項１４または１５に記載のオクタフルオ
ロプロパンの製造方法。 - 【請求項１７】 工程（１）の酸洗浄処理に用いる酸が
塩酸及び／または硫酸である請求項１４〜１６のいずれ
かに記載のオクタフルオロプロパンの製造方法。 - 【請求項１８】 工程（２）の後、不活性ガス気流中で
３００〜５００℃／ｈｒの速度で工程（３）の再炭化処
理温度まで昇温して工程（３）を行う請求項１４〜１７
のいずれかに記載のオクタフルオロプロパンの製造方
法。 - 【請求項１９】 工程（３）の後、不活性ガス気流中で
１００〜２００℃／ｈｒの速度で工程（４）の賦活処理
温度まで昇温して工程（４）を行う請求項１４〜１８の
いずれかに記載のオクタフルオロプロパンの製造方法。 - 【請求項２０】 工程（４）において、不活性ガス、二
酸化炭素及び水蒸気を含有する混合ガスが、不活性ガス
を５０〜８９ｖｏｌ％、二酸化炭素を１０〜３０ｖｏｌ
％、水蒸気を１〜２０ｖｏｌ％含有するものである請求
項１４〜１９のいずれかに記載のオクタフルオロプロパ
ンの製造方法。 - 【請求項２１】 工程（４）の後、不活性ガス気流中で
２００〜３００℃／ｈｒの速度で常温まで冷却する請求
項１４〜２０のいずれかに記載のオクタフルオロプロパ
ンの製造方法。 - 【請求項２２】 吸着剤のヨウ素吸着量が７００〜１０
００ｍｇ／ｇである請求項１４〜２１のいずれかに記載
のオクタフルオロプロパンの製造方法。 - 【請求項２３】 吸着剤に含まれるアルカリ金属の総含
有量が１０００ｐｐｍ以下である請求項１４〜２２のい
ずれかに記載のオクタフルオロプロパンの製造方法。 - 【請求項２４】 吸着剤に含まれるカリウムの含有量が
５００ｐｐｍ以下である請求項２３に記載のオクタフル
オロプロパンの製造方法。 - 【請求項２５】 粗オクタフルオロプロパンが、１０〜
１００００ｐｐｍの不純物を含むものである請求項１４
〜２４のいずれかに記載のオクタフルオロプロパンの製
造方法。 - 【請求項２６】 不純物が、クロロペンタフルオロエタ
ン、ヘキサフルオロプロペン及び１Ｈ−ヘプタフルオロ
プロパンからなる群から選ばれる少なくとも１種の化合
物である請求項２５に記載のオクタフルオロプロパンの
製造方法。 - 【請求項２７】 オクタフルオロプロパンの純度が９
９．９９９９質量％以上である請求項１４〜２６のいず
れかに記載のオクタフルオロプロパンの製造方法。 - 【請求項２８】 純度が９９．９９９９質量％以上のオ
クタフルオロプロパンを含有することを特徴とするエッ
チングガス。 - 【請求項２９】 純度が９９．９９９９質量％以上のオ
クタフルオロプロパンを含有することを特徴とするクリ
ーニングガス。
Priority Applications (10)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000279315A JP3894714B2 (ja) | 2000-09-14 | 2000-09-14 | オクタフルオロプロパンの精製方法及び製造方法、高純度オクタフルオロプロパン並びにその用途 |
| TW090122279A TWI288025B (en) | 2000-09-14 | 2001-09-07 | Adsorbent for purifying perfluorocarbon, process for producing same, high purity octafluoropropane and octafluorocyclobutane, and use thereof |
| PCT/JP2001/007988 WO2002022254A2 (en) | 2000-09-14 | 2001-09-14 | Adsorbent for purifying perfluorocarbon, process for producing same, high purity octafluoropropane and octafluorocyclobutane, and use thereof |
| CNB018155731A CN1220548C (zh) | 2000-09-14 | 2001-09-14 | 用于纯化全氟化碳的吸附剂、其生产方法、高纯八氟丙烷和八氟环丁烷、和其用途 |
| US10/363,215 US7094935B2 (en) | 2000-09-14 | 2001-09-14 | Adsorbent for purifying perfluorocarbon, process for producing same, high purity octafluoropropane and octafluorocyclobutane, and use thereof |
| RU2003109438/15A RU2251448C2 (ru) | 2000-09-14 | 2001-09-14 | Адсорбент для очистки перфторуглерода, способ получения адсорбента, октафторпропан высокой чистоты и его применение |
| EP01965642A EP1320414A2 (en) | 2000-09-14 | 2001-09-14 | Adsorbent for purifying perfluorocarbon, process for producing same, high purity octafluoropropane and octafluorocyclobutane, and use thereof |
| AU2001286240A AU2001286240A1 (en) | 2000-09-14 | 2001-09-14 | Adsorbent for purifying perfluorocarbon, process for producing same, high purity octafluoropropane and octafluorocyclobutane, and use thereof |
| KR1020037003650A KR100573447B1 (ko) | 2000-09-14 | 2003-03-12 | 퍼플루오로카본의 정제용 흡착제, 그 제조 방법, 고순도옥타플루오로프로판 및 옥타플루오로시클로부탄 및 그 용도 |
| HK03105402.8A HK1053621A1 (zh) | 2000-09-14 | 2003-07-25 | 淨化全氟化碳的吸附劑，生產該吸附劑、高純度的八氟丙烷及八氟環丁烷之程序，及其用途。 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000279315A JP3894714B2 (ja) | 2000-09-14 | 2000-09-14 | オクタフルオロプロパンの精製方法及び製造方法、高純度オクタフルオロプロパン並びにその用途 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002087998A true JP2002087998A (ja) | 2002-03-27 |
| JP3894714B2 JP3894714B2 (ja) | 2007-03-22 |
Family
ID=18764333
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000279315A Expired - Fee Related JP3894714B2 (ja) | 2000-09-14 | 2000-09-14 | オクタフルオロプロパンの精製方法及び製造方法、高純度オクタフルオロプロパン並びにその用途 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3894714B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN114367254A (zh) * | 2022-01-20 | 2022-04-19 | 中船(邯郸)派瑞特种气体股份有限公司 | 一种六氟环丙烷制备八氟丙烷的装置及方法 |
-
2000
- 2000-09-14 JP JP2000279315A patent/JP3894714B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN114367254A (zh) * | 2022-01-20 | 2022-04-19 | 中船(邯郸)派瑞特种气体股份有限公司 | 一种六氟环丙烷制备八氟丙烷的装置及方法 |
| CN114367254B (zh) * | 2022-01-20 | 2023-05-23 | 中船(邯郸)派瑞特种气体股份有限公司 | 一种六氟环丙烷制备八氟丙烷的装置及方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3894714B2 (ja) | 2007-03-22 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR100573447B1 (ko) | 퍼플루오로카본의 정제용 흡착제, 그 제조 방법, 고순도옥타플루오로프로판 및 옥타플루오로시클로부탄 및 그 용도 | |
| KR920003923B1 (ko) | 1, 1, 1, 2-테트라플루오로에탄의 정제방법 | |
| US6815568B2 (en) | Process for purifying octafluorocyclobutane, process for preparing the same, and use thereof | |
| EP0630362B1 (en) | Purification of hexafluoroethane products | |
| KR100516683B1 (ko) | 옥타플루오로프로판의 정제방법, 그 제조방법, 및 그것의 용도 | |
| JP4246266B2 (ja) | ホスゲンの製造方法 | |
| JP2002087808A (ja) | パーフルオロカーボンの精製用吸着剤、その製造方法、高純度オクタフルオロシクロブタン、その精製方法及び製造方法並びにその用途 | |
| JP4767423B2 (ja) | オクタフルオロシクロブタンの精製方法および製造方法並びにその用途 | |
| JP3894714B2 (ja) | オクタフルオロプロパンの精製方法及び製造方法、高純度オクタフルオロプロパン並びにその用途 | |
| KR930003664B1 (ko) | 1,1-디클로로-1-플루오로에탄및/또는비닐리덴클로라이드로부터디클로로아세틸렌의제거방법 | |
| JP4057103B2 (ja) | ハロゲン化炭化水素流からパーフルオロイソブチレンを選択的に除去する方法 | |
| JP3675907B2 (ja) | ジフルオロメタンの精製法 | |
| KR20060086411A (ko) | 1,1-디플루오로에탄의 정제방법 | |
| JP2924660B2 (ja) | テトラフルオロメタンの精製方法 | |
| KR100543253B1 (ko) | 헥사플루오로에탄의 제조 방법 및 용도 | |
| RU2245317C2 (ru) | Способ очистки октафторпропана | |
| JP5025052B2 (ja) | ヘキサフルオロエタンの製造方法およびその用途 | |
| JP5105672B2 (ja) | テトラクロロエチレンの精製方法および該方法を用いるペンタフルオロエタンの製造方法 | |
| JPH10120603A (ja) | ペンタフルオロエタンの精製方法 | |
| JPH01190676A (ja) | ２，２，３，３−テトラフルオロオキセタンの精製方法 | |
| JPS62237942A (ja) | 一酸化炭素吸着剤の製造方法 | |
| JPH0495037A (ja) | １，１，１，２―エトラフルオロエタンの精製法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20060725 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20060921 |
|
| RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20060921 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20061114 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20061212 |
|
| R150 | Certificate of patent (=grant) or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091222 Year of fee payment: 3 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121222 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121222 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20151222 Year of fee payment: 9 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |