JPH0495037A - 1,1,1,2―エトラフルオロエタンの精製法 - Google Patents
1,1,1,2―エトラフルオロエタンの精製法Info
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- JPH0495037A JPH0495037A JP2213835A JP21383590A JPH0495037A JP H0495037 A JPH0495037 A JP H0495037A JP 2213835 A JP2213835 A JP 2213835A JP 21383590 A JP21383590 A JP 21383590A JP H0495037 A JPH0495037 A JP H0495037A
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- LVGUZGTVOIAKKC-UHFFFAOYSA-N 1,1,1,2-tetrafluoroethane Chemical compound FCC(F)(F)F LVGUZGTVOIAKKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 29
- 238000000746 purification Methods 0.000 title description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical class O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 46
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims abstract description 38
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims abstract description 28
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 28
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 27
- 239000012535 impurity Substances 0.000 claims abstract description 27
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 19
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 14
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 14
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical group [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 12
- 238000004821 distillation Methods 0.000 claims description 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 abstract description 15
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 7
- 235000011114 ammonium hydroxide Nutrition 0.000 abstract description 7
- YJVFFLUZDVXJQI-UHFFFAOYSA-L palladium(ii) acetate Chemical compound [Pd+2].CC([O-])=O.CC([O-])=O YJVFFLUZDVXJQI-UHFFFAOYSA-L 0.000 abstract description 5
- NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N Ammonium chloride Substances [NH4+].[Cl-] NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 abstract 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 27
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 17
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 229910000040 hydrogen fluoride Inorganic materials 0.000 description 12
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 9
- 238000004508 fractional distillation Methods 0.000 description 8
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 8
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 7
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 6
- 239000012025 fluorinating agent Substances 0.000 description 6
- 238000005984 hydrogenation reaction Methods 0.000 description 6
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 6
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N ammonia Natural products N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 5
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 5
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 5
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 5
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 4
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 4
- 238000003682 fluorination reaction Methods 0.000 description 4
- UHCBBWUQDAVSMS-UHFFFAOYSA-N fluoroethane Chemical compound CCF UHCBBWUQDAVSMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N fluoromethane Chemical compound FC NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- 150000004812 organic fluorine compounds Chemical class 0.000 description 4
- 239000000047 product Substances 0.000 description 4
- 238000007086 side reaction Methods 0.000 description 4
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 4
- BOUGCJDAQLKBQH-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-1,2,2,2-tetrafluoroethane Chemical compound FC(Cl)C(F)(F)F BOUGCJDAQLKBQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CYXIKYKBLDZZNW-UHFFFAOYSA-N 2-Chloro-1,1,1-trifluoroethane Chemical compound FC(F)(F)CCl CYXIKYKBLDZZNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 3
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 3
- AFYPFACVUDMOHA-UHFFFAOYSA-N chlorotrifluoromethane Chemical compound FC(F)(F)Cl AFYPFACVUDMOHA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PXBRQCKWGAHEHS-UHFFFAOYSA-N dichlorodifluoromethane Chemical compound FC(F)(Cl)Cl PXBRQCKWGAHEHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 235000019404 dichlorodifluoromethane Nutrition 0.000 description 3
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 3
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- BAMUEXIPKSRTBS-UHFFFAOYSA-N 1,1-dichloro-1,2,2,2-tetrafluoroethane Chemical compound FC(F)(F)C(F)(Cl)Cl BAMUEXIPKSRTBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VOPWNXZWBYDODV-UHFFFAOYSA-N Chlorodifluoromethane Chemical compound FC(F)Cl VOPWNXZWBYDODV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004338 Dichlorodifluoromethane Substances 0.000 description 2
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 2
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 2
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 238000005695 dehalogenation reaction Methods 0.000 description 2
- UMNKXPULIDJLSU-UHFFFAOYSA-N dichlorofluoromethane Chemical compound FC(Cl)Cl UMNKXPULIDJLSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940099364 dichlorofluoromethane Drugs 0.000 description 2
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 2
- VUWZPRWSIVNGKG-UHFFFAOYSA-N fluoromethane Chemical compound F[CH2] VUWZPRWSIVNGKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 2
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 2
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 2
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N hydrogen chloride Substances Cl.Cl IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000041 hydrogen chloride Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910001026 inconel Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002808 molecular sieve Substances 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000003507 refrigerant Substances 0.000 description 2
- URGAHOPLAPQHLN-UHFFFAOYSA-N sodium aluminosilicate Chemical compound [Na+].[Al+3].[O-][Si]([O-])=O.[O-][Si]([O-])=O URGAHOPLAPQHLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- CYRMSUTZVYGINF-UHFFFAOYSA-N trichlorofluoromethane Chemical compound FC(Cl)(Cl)Cl CYRMSUTZVYGINF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940029284 trichlorofluoromethane Drugs 0.000 description 2
- UJPMYEOUBPIPHQ-UHFFFAOYSA-N 1,1,1-trifluoroethane Chemical compound CC(F)(F)F UJPMYEOUBPIPHQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AJDIZQLSFPQPEY-UHFFFAOYSA-N 1,1,2-Trichlorotrifluoroethane Chemical compound FC(F)(Cl)C(F)(Cl)Cl AJDIZQLSFPQPEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MIZLGWKEZAPEFJ-UHFFFAOYSA-N 1,1,2-trifluoroethene Chemical group FC=C(F)F MIZLGWKEZAPEFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DDMOUSALMHHKOS-UHFFFAOYSA-N 1,2-dichloro-1,1,2,2-tetrafluoroethane Chemical compound FC(F)(Cl)C(F)(F)Cl DDMOUSALMHHKOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YACLCMMBHTUQON-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-1-fluoroethane Chemical compound CC(F)Cl YACLCMMBHTUQON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OHMHBGPWCHTMQE-UHFFFAOYSA-N 2,2-dichloro-1,1,1-trifluoroethane Chemical compound FC(F)(F)C(Cl)Cl OHMHBGPWCHTMQE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DASQIKOOFDJYKA-UHFFFAOYSA-N CCIF Chemical compound CCIF DASQIKOOFDJYKA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N Ethane Chemical compound CC OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RHQDFWAXVIIEBN-UHFFFAOYSA-N Trifluoroethanol Chemical compound OCC(F)(F)F RHQDFWAXVIIEBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003463 adsorbent Substances 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 238000006298 dechlorination reaction Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- BAPZCSMFCUVUHW-UHFFFAOYSA-N dichloro(fluoro)methane Chemical compound F[C](Cl)Cl BAPZCSMFCUVUHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 description 1
- YUCFVHQCAFKDQG-UHFFFAOYSA-N fluoromethane Chemical group F[CH] YUCFVHQCAFKDQG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004088 foaming agent Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 1
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 1
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical compound [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- KBJMLQFLOWQJNF-UHFFFAOYSA-N nickel(ii) nitrate Chemical compound [Ni+2].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O KBJMLQFLOWQJNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052762 osmium Inorganic materials 0.000 description 1
- SYQBFIAQOQZEGI-UHFFFAOYSA-N osmium atom Chemical compound [Os] SYQBFIAQOQZEGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GTLACDSXYULKMZ-UHFFFAOYSA-N pentafluoroethane Chemical compound FC(F)C(F)(F)F GTLACDSXYULKMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003057 platinum Chemical class 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- CLSUSRZJUQMOHH-UHFFFAOYSA-L platinum dichloride Chemical compound Cl[Pt]Cl CLSUSRZJUQMOHH-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- -1 platinum group metal compound Chemical class 0.000 description 1
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 1
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 1
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
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- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(1)産業上の利用分野
本発明は、1.1,1.2−テトラフルオロエタン中の
微量不純物を水素と反応させて、1.1.1.2−テト
ラフルオロエタンを精製することに関する。
微量不純物を水素と反応させて、1.1.1.2−テト
ラフルオロエタンを精製することに関する。
近時、オゾン層破壊等で問題となっているカーエアコン
、冷蔵庫等の冷媒として広く用いられているフロン−1
2の代替冷媒として、或いは発泡剤として注目されてい
る1、1.l、2−テトラフルオロエタン(CF3CH
2F)の精製法に関する。
、冷蔵庫等の冷媒として広く用いられているフロン−1
2の代替冷媒として、或いは発泡剤として注目されてい
る1、1.l、2−テトラフルオロエタン(CF3CH
2F)の精製法に関する。
(2)従来の技術
CF3CH2Fの製造法としては、既にトリフルオロエ
タノールの原料として工業的に生産されている2−クロ
ロ−1,1,1トリフルオロエタン(CF3CH2CN
)を、クロム系触媒を用いてフッ素化する方法(特公昭
43−10601公報、特公昭53−105404号公
報)、トリフルオロエチレン(F2C−CHF)にフッ
化水素を付加する方法(特公昭62−23728号公報
) 、2.2−ジクロロ−1,1,1,2−テトラフル
オロエタン(CF30FC12)または2−クロロ−1
,1,1,2−テトラフルオロエタン(CF3CHFC
N)をパラジウム触媒の存在下、水素と反応させる方法
(特公昭56−38181号公報)等が知られている。
タノールの原料として工業的に生産されている2−クロ
ロ−1,1,1トリフルオロエタン(CF3CH2CN
)を、クロム系触媒を用いてフッ素化する方法(特公昭
43−10601公報、特公昭53−105404号公
報)、トリフルオロエチレン(F2C−CHF)にフッ
化水素を付加する方法(特公昭62−23728号公報
) 、2.2−ジクロロ−1,1,1,2−テトラフル
オロエタン(CF30FC12)または2−クロロ−1
,1,1,2−テトラフルオロエタン(CF3CHFC
N)をパラジウム触媒の存在下、水素と反応させる方法
(特公昭56−38181号公報)等が知られている。
上記方法によってCF3CH2Fを製造する場合、触媒
、反応条件等によって、様々な不純物が副生ずる。
、反応条件等によって、様々な不純物が副生ずる。
副生ずる不純物としては、例えばフルオロアルケン類と
して、CF2−CFCI 、CFCI! −CHCl)
、CF2剛CHCl、CF2−CHF。
して、CF2−CFCI 、CFCI! −CHCl)
、CF2剛CHCl、CF2−CHF。
CHF−CHF等、クロロフルオロカーボン類としてC
F20g2.CH2FCII。
F20g2.CH2FCII。
CF CFCF C1)、CF3CHC1I2゜C
F CF C1l 、CFa c CHCj! 2
。
F CF C1l 、CFa c CHCj! 2
。
CF CHFCN、CF3CH2C1)等、ハイド0
フルオロカーボン類としてCF3CHF2゜CHF C
HF2.CF3CH3等があげられる。
フルオロカーボン類としてCF3CHF2゜CHF C
HF2.CF3CH3等があげられる。
これらの不純物のうち、ハイドロフルオロカーボン類は
、少量であれば含有されていても差し支えないが、特に
フルオロアルケン類およびクロロフルオロカーボン類は
、含有量が微量であっても、更に減少させることが望ま
れており、分別蒸留等によって除去されている。しかし
、CF3CH2Fと沸点が近似している不純物、または
共沸組成を有する不純物を分別蒸留によって除去するこ
とは極めて困難で、フルオロアルケン類およびクロロフ
ルオロアルケン類は、分別蒸留しても微量不純物として
含有される。
、少量であれば含有されていても差し支えないが、特に
フルオロアルケン類およびクロロフルオロカーボン類は
、含有量が微量であっても、更に減少させることが望ま
れており、分別蒸留等によって除去されている。しかし
、CF3CH2Fと沸点が近似している不純物、または
共沸組成を有する不純物を分別蒸留によって除去するこ
とは極めて困難で、フルオロアルケン類およびクロロフ
ルオロアルケン類は、分別蒸留しても微量不純物として
含有される。
そのため例えば、CF2−CHCIJを不純物として含
むCF3CH2Fの精製法として、過マンガン酸塩また
は過マンガン酸塩の水溶液き接触させる方法(特開昭5
3−105404号公報)、或いは、本出願人が先に提
案したCF3CH2F中に含まれる不純物を第■族白金
族金属触媒の存在下で水素と反応させる方法(特願平1
−94930)、或いは、本出願人が先に提案したCF
3CH2F中に含まれる不純物を吸着除去する方法(特
願平1−207497号)等が提案されている。
むCF3CH2Fの精製法として、過マンガン酸塩また
は過マンガン酸塩の水溶液き接触させる方法(特開昭5
3−105404号公報)、或いは、本出願人が先に提
案したCF3CH2F中に含まれる不純物を第■族白金
族金属触媒の存在下で水素と反応させる方法(特願平1
−94930)、或いは、本出願人が先に提案したCF
3CH2F中に含まれる不純物を吸着除去する方法(特
願平1−207497号)等が提案されている。
(3)発明が解決しようとする課題
しかしながら、過マンガン酸塩を使用する方法は、操作
が煩雑であり、また、吸着除去する方法は、吸着物質お
よび吸着能力に限界がある。
が煩雑であり、また、吸着除去する方法は、吸着物質お
よび吸着能力に限界がある。
また、触媒の存在下で水素と反応させる方法は、CF
CHFが還元されてCH3CF3(RF C−143
a)を生成させる。この CF3CH3は、フッ化水素
(HF)形成の原因となり、触媒寿命に悪影響を及ぼす
ため、工業的には実用性の乏しいものであった。本発明
者らは、上記の事情に鑑み、工業的に実用可能なCF3
CH2Fの精製法を開発すべく鋭意検討した結果、CF
3CH2F中の微量不純物、特にフルオロアルケン類お
よびクロロフルオロカーボン類を水素と反応させること
により、CF s CH2Fは反応することなく、フル
オロアルケン類およびクロロフルオロカーボン類を同時
に除去し、クロロ化合物を含有しない高純度なCF3C
H2Fを収率よく精製する方法を見出し本発明を完成し
た。
CHFが還元されてCH3CF3(RF C−143
a)を生成させる。この CF3CH3は、フッ化水素
(HF)形成の原因となり、触媒寿命に悪影響を及ぼす
ため、工業的には実用性の乏しいものであった。本発明
者らは、上記の事情に鑑み、工業的に実用可能なCF3
CH2Fの精製法を開発すべく鋭意検討した結果、CF
3CH2F中の微量不純物、特にフルオロアルケン類お
よびクロロフルオロカーボン類を水素と反応させること
により、CF s CH2Fは反応することなく、フル
オロアルケン類およびクロロフルオロカーボン類を同時
に除去し、クロロ化合物を含有しない高純度なCF3C
H2Fを収率よく精製する方法を見出し本発明を完成し
た。
(4) 課題を解決するための手段
CF3CH2Fの製造方法として、例えば2−クロロ−
1,1,1−)リフルオロエタンを気相でフッ化水素と
反応させることにより製造されるが、触媒、反応条件等
により前記のような種々の副生成物が生成する。これら
の副生成物は、従来、慣用法、例えば分別蒸留により分
離除去されていたが目的物であるCF3CH2Fと沸点
が近似している不純物、または共沸組成を有する不純物
の分別蒸留による分離除去は極めて困難であり、特にフ
ルオロアルケン類およびクロロフルオロカーボン類が分
離除去できず0 、3vt%以下の濃度で含有されてい
た。本出願人が先に提案したCF3CH2F中に含まれ
る不純物を第■族白金族金属触媒の存在下で水素と反応
させる方法(特願平1−94930号)は、CF3CH
2Fが水素で還元されてCF3CH3(RFC−143
a)を生成させる。このCF3CH3は、フッ化水素(
HF)形成の原因となり、 CF3CH2F十H2→CF3CH3+HFこのHFが
触媒寿命に悪影響を及ぼすため、CF3CH3を生成さ
せないことが望まれていた。
1,1,1−)リフルオロエタンを気相でフッ化水素と
反応させることにより製造されるが、触媒、反応条件等
により前記のような種々の副生成物が生成する。これら
の副生成物は、従来、慣用法、例えば分別蒸留により分
離除去されていたが目的物であるCF3CH2Fと沸点
が近似している不純物、または共沸組成を有する不純物
の分別蒸留による分離除去は極めて困難であり、特にフ
ルオロアルケン類およびクロロフルオロカーボン類が分
離除去できず0 、3vt%以下の濃度で含有されてい
た。本出願人が先に提案したCF3CH2F中に含まれ
る不純物を第■族白金族金属触媒の存在下で水素と反応
させる方法(特願平1−94930号)は、CF3CH
2Fが水素で還元されてCF3CH3(RFC−143
a)を生成させる。このCF3CH3は、フッ化水素(
HF)形成の原因となり、 CF3CH2F十H2→CF3CH3+HFこのHFが
触媒寿命に悪影響を及ぼすため、CF3CH3を生成さ
せないことが望まれていた。
本発明者らは、上記の事情に鑑み、工業的に実用可能な
CF3CH2Fの精製法を開発すべく鋭意検討した結果
、弗素化されたシリカ担体に担持された第■族白金族金
属からなる触媒の存在下でCF3CH2F中の微量不純
物、特にフルオロアルケン類およびクロロフルオロカー
ボン類を水素と反応させ、水添反応と脱ハロゲン水添反
応によりできるが、好ましくは担体中の不純物が少なく
、細孔径の分布幅の狭いものが望ましい。シリカの形状
は、打錠品、破砕品でも使用できるが、粒状のものが望
ましい。
CF3CH2Fの精製法を開発すべく鋭意検討した結果
、弗素化されたシリカ担体に担持された第■族白金族金
属からなる触媒の存在下でCF3CH2F中の微量不純
物、特にフルオロアルケン類およびクロロフルオロカー
ボン類を水素と反応させ、水添反応と脱ハロゲン水添反
応によりできるが、好ましくは担体中の不純物が少なく
、細孔径の分布幅の狭いものが望ましい。シリカの形状
は、打錠品、破砕品でも使用できるが、粒状のものが望
ましい。
フッ素化されたシリカ担体は、適当なフッ素化剤をシリ
カ担体と接触させることにより調整することができる。
カ担体と接触させることにより調整することができる。
シリカのフッ素化剤としては、フッ化水素や、フルオロ
メタン、フルオロエタンなどの有機フ、ン素化合物等が
使用できる。有機フッ素化合物の具体的な例としては、
クロロトリフルオロメタン、ジクロロジフルオロメタン
、トリクロロフルオロメタン、クロロジフルオロメタン
、ジクロロフルオロメタン、1,2.2−トリクロロ−
1,1,2−トリフルオロエタン、2.2.2−)リク
ロロー1.1.1− トリフルオロエタン、1.2−ジ
クロロ−1,1,2,2−テトラフルオロエタン、2.
2−ジクロロ〜1.1,1.2−テトラフルオロエタン
、2.2−ジクロロ−1,1,1−トリフルオロエタン
、2−クロロ−1,1,1,2−テトラフルオロエタン
、ペンタフルオロエタン、2クロロ−1,1,1−)リ
フルオロエタン、1.1.1.2−テトラフルオロエタ
ン等が挙げられるがその限りではない。
メタン、フルオロエタンなどの有機フ、ン素化合物等が
使用できる。有機フッ素化合物の具体的な例としては、
クロロトリフルオロメタン、ジクロロジフルオロメタン
、トリクロロフルオロメタン、クロロジフルオロメタン
、ジクロロフルオロメタン、1,2.2−トリクロロ−
1,1,2−トリフルオロエタン、2.2.2−)リク
ロロー1.1.1− トリフルオロエタン、1.2−ジ
クロロ−1,1,2,2−テトラフルオロエタン、2.
2−ジクロロ〜1.1,1.2−テトラフルオロエタン
、2.2−ジクロロ−1,1,1−トリフルオロエタン
、2−クロロ−1,1,1,2−テトラフルオロエタン
、ペンタフルオロエタン、2クロロ−1,1,1−)リ
フルオロエタン、1.1.1.2−テトラフルオロエタ
ン等が挙げられるがその限りではない。
シリカ担体のフッ素化は、フッ素化剤を、窒素、アルゴ
ン等の不活性ガスで希釈し、あるいは、希釈せずに、シ
リカと接触させる。反応温度は、100℃ないし950
℃の範囲にとることができるが、好ましくは400℃な
いし600℃である。
ン等の不活性ガスで希釈し、あるいは、希釈せずに、シ
リカと接触させる。反応温度は、100℃ないし950
℃の範囲にとることができるが、好ましくは400℃な
いし600℃である。
このようにしてフッ素化されたシリカ担体は、担体中に
フッ素を、0.1ないし46wt%禽有し、フッ素化し
ていないシリカ担体にくらべて耐酸性が強い。また、溌
酸性がよく、酸性物質の吸着能か低いため、反応により
生成する塩化水素や、副反応により生成するフッ化水素
を、効率よく反応点から除去するので、副反応が進行し
にくい。すなわち、フッ素化されたシリカ担体は、クロ
ロフルオロエタンの脱塩素水素化反応によりフルオロエ
タンを製造する方法において、選択性が高いという利点
を持つ。また、活性が高いため、反応CF3CH2Fは
反応することなく、フルオロアルケン類およびクロロフ
ルオロカーボン類を同時に除去し、しかも触媒寿命が著
しく向上するというCF3CH2Fを高純度に精製する
方法を提供することを目的とする。
フッ素を、0.1ないし46wt%禽有し、フッ素化し
ていないシリカ担体にくらべて耐酸性が強い。また、溌
酸性がよく、酸性物質の吸着能か低いため、反応により
生成する塩化水素や、副反応により生成するフッ化水素
を、効率よく反応点から除去するので、副反応が進行し
にくい。すなわち、フッ素化されたシリカ担体は、クロ
ロフルオロエタンの脱塩素水素化反応によりフルオロエ
タンを製造する方法において、選択性が高いという利点
を持つ。また、活性が高いため、反応CF3CH2Fは
反応することなく、フルオロアルケン類およびクロロフ
ルオロカーボン類を同時に除去し、しかも触媒寿命が著
しく向上するというCF3CH2Fを高純度に精製する
方法を提供することを目的とする。
本発明は、弗素化されたシリカ担体に担持された第■族
白金族金属からなる触媒の存在下で反応を行うことを必
須の要件とする。第■族白金族金属触媒としては、パラ
ジウム、白金、ロジウム、イリジウム、ルテニウムおよ
びオスミウムを使用することができ、原料としてはこれ
らの金属、金属酸化物または塩である。
白金族金属からなる触媒の存在下で反応を行うことを必
須の要件とする。第■族白金族金属触媒としては、パラ
ジウム、白金、ロジウム、イリジウム、ルテニウムおよ
びオスミウムを使用することができ、原料としてはこれ
らの金属、金属酸化物または塩である。
本発明に用いられる弗素化されたシリカ担体は、弗素化
剤をシリカ担体と接触させることにより調整することが
できる。
剤をシリカ担体と接触させることにより調整することが
できる。
シリカ担体の弗素化剤としては、フッ化水素やフルオロ
メタン、フルオロエタンなどの有機弗素イビ合物等が使
用できる。有機弗素化合物の具体的な例としては、クロ
ロトリフルオロメタン、ジクロロジフルオロメタン、ト
リクロロフルオロメタン、クロロジフルオロメタン、ジ
クロロフルオロメタン、1.2.2− トリクロロ−1
,1,2−トリフルオロエタン、2,2.2− トリク
ロロ−1,1,i )リフルオロエタン、1,2−ジク
ロロ−1,1,2,2−テトラフルオロエタン、2,2
−ジクロロ−1,1,1,2テトラフルオロエタン、2
.2−ジクロロ−1,1,1−トリフルオロエタン、2
−クロロ−1,1,1,2−テトラフルオロエタン、ペ
ンタフルオロエタン、2−クロロ−1,1,1−トリフ
ルオロエタン、1.1.1.2−テトラフルオロエタン
等が挙げられるがその限りではない。
メタン、フルオロエタンなどの有機弗素イビ合物等が使
用できる。有機弗素化合物の具体的な例としては、クロ
ロトリフルオロメタン、ジクロロジフルオロメタン、ト
リクロロフルオロメタン、クロロジフルオロメタン、ジ
クロロフルオロメタン、1.2.2− トリクロロ−1
,1,2−トリフルオロエタン、2,2.2− トリク
ロロ−1,1,i )リフルオロエタン、1,2−ジク
ロロ−1,1,2,2−テトラフルオロエタン、2,2
−ジクロロ−1,1,1,2テトラフルオロエタン、2
.2−ジクロロ−1,1,1−トリフルオロエタン、2
−クロロ−1,1,1,2−テトラフルオロエタン、ペ
ンタフルオロエタン、2−クロロ−1,1,1−トリフ
ルオロエタン、1.1.1.2−テトラフルオロエタン
等が挙げられるがその限りではない。
シリカ担体の弗素化は、弗素化剤を窒素、アルゴン等の
不活性ガスで希釈し、あるいは希釈せずにシリカと接触
させる。
不活性ガスで希釈し、あるいは希釈せずにシリカと接触
させる。
反応温度は、100℃ないし950℃の範囲にとること
かできるが、好ましくは400℃ないし600℃である
。
かできるが、好ましくは400℃ないし600℃である
。
このようにして弗素化されたシリカ担体は、担体中に弗
素を0.1ないし48wt%含有し、弗素化しないシリ
カ担体に比べて耐酸性が強い。また、溌酸性がよく酸性
物質の吸着能が低いため、反応により生成する塩化水素
や、副反応により生成するフッ化水素を効率よく反応点
から除去するので、副反応が進行しにくい。
素を0.1ないし48wt%含有し、弗素化しないシリ
カ担体に比べて耐酸性が強い。また、溌酸性がよく酸性
物質の吸着能が低いため、反応により生成する塩化水素
や、副反応により生成するフッ化水素を効率よく反応点
から除去するので、副反応が進行しにくい。
本発明の触媒は、第■族白金族金属化合物の溶液を弗素
化されたシリカ担体に含浸させることにより製造するこ
とができる。例えば、酢酸パラジウムをアンモニア溶液
に溶かし、弗素化されたシリカ担体を浸漬、吸着させ、
次いで溶媒留去処理を行い、更に水素で加熱還元処理す
ることにより調製することかできる。担体上の第■族白
金族金属の量は0.1ないし10重量%の範囲で、好ま
しくは2ないし5重量%の範囲である。
化されたシリカ担体に含浸させることにより製造するこ
とができる。例えば、酢酸パラジウムをアンモニア溶液
に溶かし、弗素化されたシリカ担体を浸漬、吸着させ、
次いで溶媒留去処理を行い、更に水素で加熱還元処理す
ることにより調製することかできる。担体上の第■族白
金族金属の量は0.1ないし10重量%の範囲で、好ま
しくは2ないし5重量%の範囲である。
本発明に用いられる弗素化されたシリカ担体は、炭素ベ
ースの担体と異なり、通常の方法で再生できるという利
点を有する。
ースの担体と異なり、通常の方法で再生できるという利
点を有する。
以上のごとくして得られた触媒は、以下に述べる条件下
に使用するものである。
に使用するものである。
本発明は、前記記載の方法で調製された触媒の存在下で
CF3CH2F中の不純物、特にフルオロアルケン類お
よびクロロフルオロカーボン類を水素と反応させ、水添
反応と脱ハロゲン水添反応によりCF3CH2Fは反応
することなく、フルオロアルケン類およびクロロフルオ
ロカーボン類を同時に除去することによ・す、CF 3
CH2Fを収率よく高純度に精製することができる。
CF3CH2F中の不純物、特にフルオロアルケン類お
よびクロロフルオロカーボン類を水素と反応させ、水添
反応と脱ハロゲン水添反応によりCF3CH2Fは反応
することなく、フルオロアルケン類およびクロロフルオ
ロカーボン類を同時に除去することによ・す、CF 3
CH2Fを収率よく高純度に精製することができる。
原料の導入にあたっては、CF3CH2F中の不純物、
特にフルオロアルケン類およびクロロフルオロカーボン
類と水素とのモル比は1:1から1:50までの間で変
動させ得るが、通常、化学量論量の水素を使用するのが
好ましい。
特にフルオロアルケン類およびクロロフルオロカーボン
類と水素とのモル比は1:1から1:50までの間で変
動させ得るが、通常、化学量論量の水素を使用するのが
好ましい。
また、水素は窒素、ヘリウム、アルゴン等の不活性気体
を希釈剤として使用することもできる。
を希釈剤として使用することもできる。
触媒に対する原料の空間速度(SVo)は50から50
00Hrの範囲を選択することができる。
00Hrの範囲を選択することができる。
反応温度は使用する触媒の活性、また
CF3CH2F中の不純物、特にフルオロアルケン類お
よびクロロフルオロカーボン類の濃度、また空間速度(
SVo)に依存して適宜状められるが通常は100から
300℃の範囲で円滑に反応が進行する。
よびクロロフルオロカーボン類の濃度、また空間速度(
SVo)に依存して適宜状められるが通常は100から
300℃の範囲で円滑に反応が進行する。
次に本発明を実施例により更に詳細に説明する。
(5)実施例
原料例 1
2−クロロ−1,1,1−トリフルオロエタンを原料と
して用いて気相でフッ化水素と反応させることにより製
造された反応粗精製物を従来の慣用法、分別蒸留により
精製したところ、次のような組成物が得られた。
して用いて気相でフッ化水素と反応させることにより製
造された反応粗精製物を従来の慣用法、分別蒸留により
精製したところ、次のような組成物が得られた。
このように従来の分別蒸留ではCF3CH2F中に微量
不純物として、フルオロアルケン類およびクロロフルオ
ロカーボン類が含有される。
不純物として、フルオロアルケン類およびクロロフルオ
ロカーボン類が含有される。
実施例 1
塩化白金をアンモニア水に溶解し、これに8〜12メツ
シユの球状のシリカ担体(富士ダビソン社製、CARI
ACT−15)をCCI)F3 (CFC−13)を用
いて550℃で10時間弗素化処理した担体を浸漬し、
上記の白金塩を吸着させた。これを取り出し、110℃
の温度で溶媒を蒸発除去し、さらに200℃の温度でN
2処理した後、350℃の温度で水素還元を行ない触媒
を調製した。この触媒の白金金属の担持率は、3νt%
であった。この触媒を電気炉に挿入された内径1インチ
、長さ50cmのインコネル製反応管に40m1充填し
た。反応条件として反応温度230℃、原料として原料
例1を使用しガス量として3ONL/ h、水素は5%
水素/ヘリウム希釈品を使用しガス量として5 NL/
hでそれぞれ供給し、排出ガスをアルカリ水溶液で洗
浄し副生HCfiを除去し、モレキュラシーブスで乾燥
した後、ガスクロマトグラフィーによって分析した。
シユの球状のシリカ担体(富士ダビソン社製、CARI
ACT−15)をCCI)F3 (CFC−13)を用
いて550℃で10時間弗素化処理した担体を浸漬し、
上記の白金塩を吸着させた。これを取り出し、110℃
の温度で溶媒を蒸発除去し、さらに200℃の温度でN
2処理した後、350℃の温度で水素還元を行ない触媒
を調製した。この触媒の白金金属の担持率は、3νt%
であった。この触媒を電気炉に挿入された内径1インチ
、長さ50cmのインコネル製反応管に40m1充填し
た。反応条件として反応温度230℃、原料として原料
例1を使用しガス量として3ONL/ h、水素は5%
水素/ヘリウム希釈品を使用しガス量として5 NL/
hでそれぞれ供給し、排出ガスをアルカリ水溶液で洗
浄し副生HCfiを除去し、モレキュラシーブスで乾燥
した後、ガスクロマトグラフィーによって分析した。
結果を第1表に示す。
第
表
1000時間後に於いても活性の変化は認められず、更
にCF3CH3の増加も認められない。
にCF3CH3の増加も認められない。
更にこの除去された回収品を従来の慣用法、分別蒸留に
より精製し分析した。結果を第3表に示す。
より精製し分析した。結果を第3表に示す。
CF3CH2F中の微量不純物、フルオロアルケン類お
よびクロロフルオロカーボン類は水素と反応させること
により同時に除去された。
よびクロロフルオロカーボン類は水素と反応させること
により同時に除去された。
この反応条件下で連続反応を行い1000時間後の結果
を第2表に示す。
を第2表に示す。
第 2 表
第 3 表
実施例 2
酢酸パラジウムをアンモニア水に溶解し、これに実施例
1と同様な弗素化処理を行ったシリカ担体を浸漬し、吸
着させた。これを取り出し、110℃の温度で溶媒を蒸
発除去し、さらに200℃の温度でN2処理した後、3
50℃の温度で水素還元を行ない触媒を調製した。この
触媒のパラジウム金属の担持率は3wt%であった。こ
の触媒を用いて原料として原料例1を用いて実施例1と
同様な条件で反応を行なった。結果を第4表に示す。
1と同様な弗素化処理を行ったシリカ担体を浸漬し、吸
着させた。これを取り出し、110℃の温度で溶媒を蒸
発除去し、さらに200℃の温度でN2処理した後、3
50℃の温度で水素還元を行ない触媒を調製した。この
触媒のパラジウム金属の担持率は3wt%であった。こ
の触媒を用いて原料として原料例1を用いて実施例1と
同様な条件で反応を行なった。結果を第4表に示す。
第 4 表
CF3CH2F中の微量不純物、フルオロアルケン類お
よびクロロフルオロカーボン類は水素と反応させること
により同時に除去された。
よびクロロフルオロカーボン類は水素と反応させること
により同時に除去された。
比較例 1
硝酸ニッケルをアンモニア水に溶解しこれに実施例1と
同様の弗素化処理を行ったシリカ担体を浸漬、吸着させ
、110℃の温度で溶媒を蒸発除去し、さらに200℃
の温度でN2処理した後、450℃にて水素還元を行な
い触媒を調製した。ニッケル担持率としては10%であ
った。ニッケルは水素化触媒として工業的に広範な用途
を持っている。
同様の弗素化処理を行ったシリカ担体を浸漬、吸着させ
、110℃の温度で溶媒を蒸発除去し、さらに200℃
の温度でN2処理した後、450℃にて水素還元を行な
い触媒を調製した。ニッケル担持率としては10%であ
った。ニッケルは水素化触媒として工業的に広範な用途
を持っている。
この触媒を用いて原料として原料例1を用いて、実施例
1と同様な条件で反応を行なったが、反応は進行せず入
口組成と同様であった。
1と同様な条件で反応を行なったが、反応は進行せず入
口組成と同様であった。
比較例 2
酢酸パラジウムをアンモニア水に溶解し、これに8〜1
2メツシユの球状シリカ担体(富士ダビソン社製、CA
RIACT−15)を浸漬し、110℃の温度で溶媒を
蒸発除去し、さらに200℃の温度でN2処理した後、
350℃の温度で水素還元を行ない触媒を調製した。こ
の触媒のパラジウム金属の担持率は、3vt%であった
。この触媒を用いて原料として原料例1を用いて、実施
例1と同様な条件で反応を行なった。結果を第5表に示
す。
2メツシユの球状シリカ担体(富士ダビソン社製、CA
RIACT−15)を浸漬し、110℃の温度で溶媒を
蒸発除去し、さらに200℃の温度でN2処理した後、
350℃の温度で水素還元を行ない触媒を調製した。こ
の触媒のパラジウム金属の担持率は、3vt%であった
。この触媒を用いて原料として原料例1を用いて、実施
例1と同様な条件で反応を行なった。結果を第5表に示
す。
第
表
CF3CH2F中の微量不純物、フルオロアルケン類お
よびクロロフルオロカーボン類は水素と反応させること
により除去された。
よびクロロフルオロカーボン類は水素と反応させること
により除去された。
この反応条件下で連続反応を行ない1000時間後の結
果を第6表に示す。
果を第6表に示す。
実施例 3
酢酸パラジウムをアンモニア水に溶解し、これにフッ素
化剤としてCCIF CCl2F(CF C−113
)を用いて400℃で処理したことを除き実施例1と同
様な弗素化処理を行ったシリカ担体を浸漬し、吸着させ
た。これを110℃の温度で溶媒を蒸発除去し、さらに
200℃の温度でN2処理した後、350℃の温度で水
素還元を行ない触媒を調製した。この触媒のパラジウム
金属の担持率は5%とした。この触媒を電気炉に挿入さ
れた内径1インチ、長さ50cmのインコネル製反応器
に40m1充填した。反応条件として反応温度250℃
、第 表 1000時間後では、フルオロアルケン類およびクロロ
フルオロカーボン類の反応率が低下し、さらにHF形成
の原因となるCF3CH3が多く生成する。
化剤としてCCIF CCl2F(CF C−113
)を用いて400℃で処理したことを除き実施例1と同
様な弗素化処理を行ったシリカ担体を浸漬し、吸着させ
た。これを110℃の温度で溶媒を蒸発除去し、さらに
200℃の温度でN2処理した後、350℃の温度で水
素還元を行ない触媒を調製した。この触媒のパラジウム
金属の担持率は5%とした。この触媒を電気炉に挿入さ
れた内径1インチ、長さ50cmのインコネル製反応器
に40m1充填した。反応条件として反応温度250℃
、第 表 1000時間後では、フルオロアルケン類およびクロロ
フルオロカーボン類の反応率が低下し、さらにHF形成
の原因となるCF3CH3が多く生成する。
原料例 2
2−クロロ−1,1,l −)リフルオロエタンを原
料として気相でフッ化水素と反応させ、分別蒸留により
精製したところ次のような組成であった。
料として気相でフッ化水素と反応させ、分別蒸留により
精製したところ次のような組成であった。
原料として原料例2を使用しガスj13ONL/ h
、水素はガス量として3 NL/ hでそれぞれ供給し
、排出ガスをアルカリ水溶液で洗浄し副生HCIを除去
し、モレキュラシーブスで乾燥した後、ガスクロマトグ
ラフィーによって分析した。結果を第7表に示す。
、水素はガス量として3 NL/ hでそれぞれ供給し
、排出ガスをアルカリ水溶液で洗浄し副生HCIを除去
し、モレキュラシーブスで乾燥した後、ガスクロマトグ
ラフィーによって分析した。結果を第7表に示す。
第 7 表
CF3CH2F中のクロロフルオロカーボン類は水素と
反応させることにより除去された。
反応させることにより除去された。
(6)効 果
以上述べたように、本発明に係わるCF3CH2Fの精
製法は、含有するフルオロアルケン類およびクロロフル
オロカーボン類等の有害不純物を同時に除去できるので
、今後、フロン−12等の代替品として重要なCF3C
H2Fの製造分野に寄与することが極めて大きい。
製法は、含有するフルオロアルケン類およびクロロフル
オロカーボン類等の有害不純物を同時に除去できるので
、今後、フロン−12等の代替品として重要なCF3C
H2Fの製造分野に寄与することが極めて大きい。
代
理
人
Claims (1)
- 1,1,1,2−テトラフルオロエタン中に含まれる不
純物を、弗素化されたシリカ担体に担持された第VIII族
白金族金属触媒の存在下で水素と反応させた後、蒸留で
分離除去することを特徴とする1,1,1,2−テトラ
フルオロエタンの精製法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2213835A JPH0495037A (ja) | 1990-08-13 | 1990-08-13 | 1,1,1,2―エトラフルオロエタンの精製法 |
EP92117556A EP0592711B1 (en) | 1990-08-13 | 1992-10-14 | Method for the purification of 1,1,1,2-tetrafluoroethane |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2213835A JPH0495037A (ja) | 1990-08-13 | 1990-08-13 | 1,1,1,2―エトラフルオロエタンの精製法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0495037A true JPH0495037A (ja) | 1992-03-27 |
Family
ID=16645817
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2213835A Pending JPH0495037A (ja) | 1990-08-13 | 1990-08-13 | 1,1,1,2―エトラフルオロエタンの精製法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0495037A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1999050209A1 (fr) * | 1998-03-31 | 1999-10-07 | Nippon Zeon Co., Ltd. | Procede de production d'un hydrocarbure fluore sature |
-
1990
- 1990-08-13 JP JP2213835A patent/JPH0495037A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1999050209A1 (fr) * | 1998-03-31 | 1999-10-07 | Nippon Zeon Co., Ltd. | Procede de production d'un hydrocarbure fluore sature |
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