JP3876951B2 - フルオロシクロペンテン類の製造方法 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、洗浄剤、発泡剤、エッチングガスなどの用途に対する代替フロンまたはその製造中間体として有用な1−ハロゲノ−3,3,4,4,5,5−ヘキサフルオロシクロペンテンと3,3,4,4,5,5−ヘキサフルオロシクロペンテンの製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
1−クロロ−3,3,4,4,5,5−ヘキサフルオロシクロペンテンや3,3,4,4,5,5−ヘキサフルオロシクロペンテンの製造方法としては、対応する化合物の水素がハロゲンで置換されたパーハロゲン化シクロペンテンを有機金属化合物や水素化金属化合物で還元する方法が知られている。
【0003】
例えば、1−クロロヘプタフルオロシクロペンテンまたは1,2−ジクロロヘキサフルオロシクロペンテンをジグライム中で水素化ホウ素ナトリウムと反応させそれを加水分解する方法が J.Am.Chem.Soc.,86(23) 5361-2(1964)に開示されている。
【0004】
また、1−クロロ−2−ヨードヘキサフルオロシクロプロペンをテトラヒドロフラン中でトリメトキシ水素化ホウ素ナトリウムで還元する方法も知られている(J. Fluorine Chem. Soc. (1981), 17(5), 447-51)。
【0005】
一方、1−クロロ−2−ハロゲノ−ヘキサフルオロシクロペンテンの還元方法としては、米国特許第5084199号明細書に、1,2−ジクロロヘキサフルオロシクロペンテンを5%パラジウム/カーボン触媒と酢酸ナトリウムの存在下100℃、500psig水素圧のもとで処理することで、1,1,2,2,3,3−ヘキサフルオロシクロペンタンの得られることが記載されている。
【0006】
また、1,1,2,2−テトラクロロヘキサフルオロシクロペンタンを銅のひきくずの存在下460℃で水素ガスにより還元すると定量的に1,2−ジクロロヘキサフルオロシクロペンテンの得られることが米国特許第2615925号明細書に記載されているが、1−クロロ−3,3,4,4,5,5−ヘキサフルオロシクロペンテンと3,3,4,4,5,5−ヘキサフルオロシクロペンテンについてはなにも記載されていない。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】
1,2−ジハロゲノ−ヘキサフルオロシクロペンテンを水素ガスで還元して1−ハロゲノ−3,3,4,4,5,5−ヘキサフルオロシクロペンテンまたは3,3,4,4,5,5−ヘキサフルオロシクロペンテンを製造する方法は知られておらず、従来知られている当モル量の高価な還元剤を使用する方法は工業的な大量生産には適さない。
【0008】
【課題を解決するための具体的手段】
本発明者らは、水素を還元剤として1,2−ジハロゲノ−3,3,4,4,5,5−ヘキサフルオロシクロペンテンの二重結合を残したまま還元する方法について検討したところ、特定の触媒を使用することで1−ハロゲノ−3,3,4,4,5,5−ヘキサフルオロシクロペンテンまたは3,3,4,4,5,5−ヘキサフルオロシクロペンテンが製造できることを見いだし発明を完成させた。
【0009】
すなわち、本発明は 一般式(1)
【0010】
【化3】
【0011】
(式中、Xはそれぞれ独立にハロゲン(フッ素、塩素、臭素またはヨードをいう)または水素を表す)で表される化合物と水素ガスを気相において銅またはニッケルを含む触媒と接触させて、一般式(2)
【0012】
【化4】
【0013】
(式中、Yは(1)式中のXと同じハロゲンであるかまたは水素を表す)で表される1−ハロゲノ−3,3,4,4,5,5−ヘキサフルオロシクロペンテンおよび/または3,3,4,4,5,5−ヘキサフルオロシクロペンテンを製造する方法である。
本発明に使用する一般式(1)で表される化合物は、1,2−ジハロゲノ−3,3,4,4,5,5−ヘキサフルオロシクロペンテンまたは1−ハロゲノ−3,3,4,4,5,5−ヘキサフルオロシクロペンテンである。1,2−ジハロゲノ−3,3,4,4,5,5−ヘキサフルオロシクロペンテンとしては、1−クロロ−2,3,3,4,4,5,5−ヘプタフルオロシクロペンテン1,2−ジクロロ−3,3,4,4,5,5−ヘキサフルオロシクロペンテン、1−クロロ−2−ブロモ−3,3,4,4,5,5−ヘキサフルオロシクロペンテン、1−クロロ−2−ヨード−3,3,4,4,5,5−ヘキサフルオロシクロペンテンなどが例示できるが、1,2−ジクロロ−3,3,4,4,5,5−ヘキサフルオロシクロペンテンが好ましい。1−ハロゲノ−3,3,4,4,5,5−ヘキサフルオロシクロペンテンとしては、1−クロロ−3,3,4,4,5,5−ヘキサフルオロシクロペンテン、1−ブロモ−3,3,4,4,5,5−ヘキサフルオロシクロペンテン、1−フルオロ−3,3,4,4,5,5−ヘキサフルオロシクロペンテンなどが挙げられる。これらの化合物は、公知の方法で製造できるが、例えば1,2−ジクロロ−3,3,4,4,5,5−ヘキサフルオロシクロペンテンは米国特許第2449233号明細書に記載されたヘキサクロロシクロペンタジエンと五フッ化アンチモンを反応させる方法で得ることができる。また、1−クロロ−3,3,4,4,5,5−ヘキサフルオロシクロペンテンは従来技術において述べた方法や1,2−ジハロゲノ−3,3,4,4,5,5−ヘキサフルオロシクロペンテンに本発明の方法を適用して得ることができる。
【0014】
本発明の製造方法で得られる一般式(2)で表される化合物は、3,3,4,4,5,5−ヘキサフルオロシクロペンテン(1H,2H−3,3,4,4,5,5−ヘキサフルオロシクロペンテンとも表示する)および1−ハロゲノ−3,3,4,4,5,5−ヘキサフルオロシクロペンテンとして、1,3,3,4,4,5,5−ヘプタフルオロシクロペンテン、1−クロロ−3,3,4,4,5,5−ヘキサフルオロシクロペンテン、1−ブロモ−3,3,4,4,5,5−ヘキサフルオロシクロペンテンなどが挙げられる。
【0015】
本発明に使用する触媒は銅またはニッケルの何れかまたは二種を含むことを特徴とする。銅またはニッケルは金属単体・合金であっても化合物であってもよく、何れの場合も担体に担持されていてもよい。単体金属・合金として用いる場合は、微粒子状、粉末、繊維状などのものが好適である。合金としては、モネル、ニクロム、キュプロニッケルなどが例示できる。
【0016】
担体としては特に限定されないが、活性炭、アルミニウムの酸化物(アルミナ)、フッ化物(フッ化アルミ)、塩化物、フッ化塩化物、オキシフッ化物、オキシ塩化物、オキシフッ化塩化物等、シリカゲル、磁器などを用いることができる。
【0017】
本発明にかかるフッ素化触媒の担体となる活性炭は、特に限定されない。本発明にかかる活性炭は、木材、のこくず、木炭、椰子殻炭、パーム核炭、素灰などを原料とする植物質系、泥炭、亜炭、褐炭、瀝青炭、無煙炭などを原料とする石炭系、石油残渣、硫酸スラッジ、オイルカーボンなどを原料とする石油系あるいは合成樹脂を原料とするものなどがある。このような活性炭は、各種のものが市販されているのでそれらのうちから選んで使用すればよい。例えば、瀝青炭から製造された活性炭(例えば、カルゴン粒状活性炭CAL(東洋カルゴン(株)製)、椰子殻炭(例えば、武田薬品工業(株)製)などを挙げることができるが、当然これらの種類、製造業者に限られることはない。また、これらの活性炭は通常粒状で使用するが、その形状、大きさは特に限定されず、通常の知識をもって反応器の大きさを基準に決定することができる。
【0018】
本発明で使用する担体となるアルミナは特に限定されないが、普通アルミニウム塩水溶液からアンモニアなどの塩基性物質を用いて生じさせた沈殿を成型・脱水させて得られるアルミナであり、通常、触媒担体用あるいは乾燥用として市販されているγ−アルミナを好ましく採用できる。アルミナは本発明の方法において部分的にフッ素化されることがあるので、予め常温または加熱状態でフッ化水素により部分的にフッ素化しておくか、または加熱状態でフッ素含有化合物、例えば、四フッ化炭素、三フッ化炭素、クロロジフルオロメタン、クロロフルオロメタン、ヘキサフルオロエタン、1,1,2−トリクロロトリフルオロエタン、2,2−ジクロロ−1,1,1−トリフルオロエタン、1,1,1,2−テトラフルオロエタン、1,1,1,3,3−ペンタフルオロプロパン、2,2−ジクロロ−1,1,1,3,3−ペンタフルオロプロパンなどにより部分的にフッ素化しておくことが好ましい。
【0019】
金属を担体に担持して用いる場合、担持金属は担体100重量部に対し0.1〜50重量部が用いられ、0.5〜50重量部が好ましく、2〜50重量部がより好ましく、5〜50重量部がさらに好ましい。金属の担持量は多い方が活性が高くなるので好ましいが、余り多い場合には触媒の粉化などが起こるので取り扱いを慎重にしなければならない。
【0020】
これらの触媒を調製する方法は限定されないが、担持触媒として使用する場合、前記の活性炭、アルミニウム酸化物などの担体を銅またはニッケルの可溶性化合物を溶解した溶液を含浸させるか、スプレーし、次いで300℃程度以下の温度で乾燥する。
【0021】
銅の可溶性化合物としては、水、エタノール、アセトンなどの溶媒または鉱酸に溶解する銅の硝酸塩、塩化物、酸化物などが挙げられる。具体的には、硝酸銅、塩化銅、酢酸銅、硫酸銅、酸化銅などを用いることができる。
【0022】
ニッケルの可溶性化合物としては、水、エタノール、アセトンなどの溶媒または鉱酸に溶解するニッケルの硝酸塩、塩化物、酸化物などが挙げられる。具体的には、硝酸ニッケル、塩化ニッケル、酢酸ニッケル、硫酸ニッケル、酸化ニッケルなどを用いることができる。
【0023】
何れの方法で調製した触媒も、使用の前に所定の反応温度以上の温度で予め水素ガスなどの還元剤で処理するのが好ましい。
【0024】
本発明の水素化反応の温度は150〜800℃であり、好ましくは200〜750℃、より好ましくは250〜700℃である。反応温度が150℃より低ければ反応は遅く実用的ではない。反応温度を高くすれば、反応は速く進行するがフッ素化シクロペンタン類が得られ1−ハロゲノ−3,3,4,4,5,5−ヘキサクロロシクロペンテンおよび/または3,3,4,4,5,5−ヘキサフルオロシクロペンテンの収率が低下するので好ましくない。
【0025】
本発明の方法において、反応領域へ供給する一般式(1)で表される出発原料/水素のモル比は、1/6〜1/60であり、1/8〜1/50が好ましく、1/10〜1/40がより好ましい。水素が過剰であると、単位時間当たりの生産量の減少をきたす。一方、水素が少ないと反応率は低下し、目的生成物の収率も低下する。
【0026】
反応圧力は特に限定されないが、装置の面から9.8×104〜9.8×105Pa(1〜10kg/cm2)で行うのが好ましい。系内に存在する原料有機物が反応系内で液化しないような条件を選ぶことが望ましい。接触時間は、通常0.1〜300秒、好ましくは1〜100秒、さらに好ましくは5〜50秒である。
【0027】
反応器は、耐熱性と耐食性を有する材質で作られれば良く、ステンレス鋼、ハステロイ、モネル、ニッケル、白金などが好ましい。また、これらの金属でライニングされた材料で作ることもできる。
【0028】
上記の様にして製造された1−ハロゲノ−3,3,4,4,5,5−ヘキサフロオロシクロペンテンと3,3,4,4,5,5−ヘキサフロオロシクロペンテンは公知の方法を適用して精製される。例えば、塩化水素とともに反応器から気体状態で取り出された後、水または塩基性水溶液により洗浄して塩化水素を除去し、水素ガスを除いた後、精製蒸留により目的とする高純度の1−ハロゲノ−3,3,4,4,5,5−ヘキサフロオロシクロペンテンおよび/または3,3,4,4,5,5−ヘキサフロオロシクロペンテンを得ることができる。
【0029】
【実施例】
以下に実施例をもって本発明をより詳細に説明するが、実施態様はこれらに限られない。
[触媒調製例1]
206gのCu(NO3)2・3H2O(和光純薬)を194mlのイオン交換水に溶解させた。この溶液に粒状活性炭(武田薬品工業(株)、粒状白鷺GX、椰子殻活性炭、円柱状炭・4〜6メッシュ)250mlを5日間浸漬した後、濾過して活性炭を溶液から取り出した。この活性炭を1Lのナス型フラスコに移し、50〜150℃まで徐々に温度を上げながらエバポレ−タ−にて減圧乾燥を行った。
【0030】
得られた触媒200mlを電気炉を備えた円筒形反応管からなる気相反応装置(SUS304製、内径25mm、長さ400mm)に充填し、窒素を50ml/分で導入しながら150〜260℃まで徐々に昇温し乾燥した。
[実施例1]
触媒調製例1で調製した触媒200mlを充填した電気炉を備えた円筒形反応管からなる気相反応装置(SUS304製、内径25mm、長さ400mm)に20ml/分の流量で窒素ガスを流しながら徐々に昇温し反応管の温度が、260℃に達したところで、気化器で気化させた1,2−ジクロロ−3,3,4,4,5,5−ヘキサフルオロシクロペンテンを21.7g/60分、水素ガスを50ml/分で供給した。反応器から流出する生成ガスを氷−水トラップ中に回収し、得られた13.1gの有機物をガスクロマトグラフィ−で分析したところ、1−クロロ−2,3,3,4,4,5,5−ヘプタフルオロシクロペンテン0.3%(面積%、以下同じ)、3,3,4,4,5,5−ヘキサフルオロシクロペンテン13.3%、1−クロロ−3,3,4,4,5,5−ヘキサフルオロシクロペンテン49.1%、1,2−ジクロロ−3,3,4,4,5,5−ヘキサフルオロシクロペンテン35.5%であった。
[触媒調製例2]
74.3gのNi(NO3)3・6H2O(和光純薬)を300mlのイオン交換水に溶解させた。1Lのなす型フラスコに粒状活性炭(武田薬品工業(株)、粒状白鷺GX、椰子殻活性炭、円柱状炭・4〜6メッシュ)150gと全体が浸漬する量のイオン交換水を入れ、そこへ先に調製した硝酸ニッケル溶液を添加し、撹拌した。その後2日間浸漬し、活性炭を溶液から取り出した。この活性炭を1Lのナス型フラスコに移し、50〜150℃まで徐々に温度を上げながらエバポレ−タ−にて減圧乾燥を行った。
【0031】
得られた触媒180mlを電気炉を備えた円筒形反応管からなる気相反応装置(SUS304製、内径25mm、長さ400mm)に充填し、窒素を50ml/分で導入しながら450℃で4時間焼成した。
[実施例2]
触媒調製例2で調製した触媒180mlを充填した電気炉を備えた円筒形反応管からなる気相反応装置(SUS304製、内径25mm、長さ400mm)に50ml/分の流量で水素ガスを流しながら徐々に昇温し反応管の温度が、450℃に達したところで、温度を360℃に下げ、水素を440ml/分とし、気化器で気化させた1,2−ジクロロ−3,3,4,4,5,5−ヘキサフルオロシクロペンテンを0.4g/分で供給した。反応が安定してから6時間後に反応器から流出する生成ガスを氷−水トラップ中に回収し、得られた有機物をガスクロマトグラフィ−で分析したところ、1−クロロ−3,3,4,4,5,5−ヘプタフルオロシクロペンテン6.2%、3,3,4,4,5,5−ヘキサフルオロシクロペンテン86.9%、1,1,2,2,3,3−ヘキサフルオロシクロペンタン3.1%、1,2−ジクロロ−3,3,4,4,5,5−ヘキサフルオロシクロペンテン1.2%であった。
【0032】
【発明の効果】
本発明の1−ハロゲノ−3,3,4,4,5,5−ヘキサフルオロシクロペンテンまたは3,3,4,4,5,5−ヘキサフルオロシクロペンテンの製造方法は水素ガスを還元剤とするため工業的な大規模生産に適するという効果がある。
Claims (5)
- 一般式(1)で表される化合物のXがそれぞれ独立に塩素またはフッ素である請求項1記載の製造方法。
- 一般式(1)で表される化合物が1,2−ジクロロ−3,3,4,4,5,5−ヘキサフルオロシクロペンテンである請求項1または2に記載の製造方法。
- 一般式(2)で表される化合物が1−クロロ−3,3,4,4,5,5−ヘキサフルオロシクロペンテンまたは3,3,4,4,5,5−ヘキサフルオロシクロペンテンである請求項1乃至3のいずれかに記載の製造方法。
- 触媒が、担体に担持された銅またはニッケルである請求項1乃至4のいずれかに記載の1−ハロゲノ−3,3,4,4,5,5−ヘキサフルオロシクロペンテンおよび/または3,3,4,4,5,5−ヘキサフルオロシクロペンテンの製造方法。
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