JP2002081982A - 赤外線ガス検出器用フローセンサおよびフローセンサの製造方法 - Google Patents
赤外線ガス検出器用フローセンサおよびフローセンサの製造方法Info
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Abstract
サ部に用いられ、一度に大量生産できる工程で精度良く
生産可能で、ばらつきの少ない安定した測定を可能とす
る赤外線ガス検出器用フローセンサおよびフローセンサ
の製造方法を提供する。 【解決手段】 赤外線ガス分析計の検出器用のフローセ
ンサ1であって、それぞれシリコン基板2上にパターン
成形されたヒータ4aと、このヒータ4aが位置する部
分のシリコン基板2を異方性エッチングによって取り除
いて形成した貫通孔5とを有する2枚の金属薄膜ヒータ
基板3を互いの貫通孔5が連通するように重ねてなり、
各金属薄膜ヒータ基板3の貫通孔5を通って流れる気体
の流量を測定可能とした。
Description
用フローセンサおよびフローセンサの製造方法に関する
ものであり、より詳細には非分散型赤外線ガス分析計
(NDIR)の検出器として用いられる赤外線ガス検出
器用フローセンサおよびフローセンサの製造方法に関す
るものである。
充填されると共に、測定セルに対して互いに直列的また
は並列的に配置される2つのガス室と、両ガス室を連通
させるガス通路と、当該ガス通路にガス通路を遮るよう
に設けられたフローセンサとを備えた赤外線ガス分析計
は、例えば、実公昭59−26278号公報、実公昭5
9−24993号公報、実開昭56−99462号公報
等に開示された熱式のフローセンサを用いたものがあ
る。
例を示す分解斜視図である。図6において、11,12
は上下方向に配置された2段のヒータであって、それぞ
れニッケル等の金属箔で形成した蛇行状の加熱部11
a,12aと、これらの加熱部11a,12aの両端に
リード線を取り付けるための引出し電極11b,12b
とを有している。
んだ状態で保持するガラス板であって、各ガラス板13
〜15のほゞ中央に設けられた貫通孔13a〜15aと
前記引出し電極11b,11c,12b,12cの上部
に位置する角部を切り欠いてなる切欠部14b,14
c,15b,15cを有している。そして、貫通孔13
a,14a,15aおよび切欠部14b,14c,15
b,15cはエッチングなどの手法で形成されている。
また、前記各引出し電極11b,11c,12b,12
cにはそれぞれ、リード線a,b,c,dが取り付けら
れている。
いて形成される流量の検出回路である。図7において、
9は直流電源、R1 ,R2 は外部抵抗である。すなわ
ち、前記ヒータ11,12と外部抵抗R1 ,R2 によっ
てブリッジ回路を形成する。したがって、前記直流電源
9からの電圧がブリッジ回路に印加されることにより、
ヒータ11,12の抵抗値の変化に従って出力O1 ,O
2 間に信号が出力されるように構成している。
来のフローセンサ10では3枚のガラス板13〜15を
用いてヒータ11,12を挟み込んでいるので、2段の
ヒータ11,12のそれぞれから引出し電極を取り出す
ために、3枚のガラス板13〜15の切欠部14b,1
4c,15b,15cの位置をずらしてその形状を変え
る必要があった。また、ヒータ11,12の形状につい
ても同様に引出し電極11b,11c,12b,12c
の位置をずらすためにヒータ11,12の形状をそれぞ
れ変える必要があった。
多くなり、ガラス板13〜15を3種類準備する必要が
あり、、部品点数の増加や工数の増加が問題になってい
た。さらに、ヒータ11,12の形状が異なるので、そ
の形の些細な違いによって抵抗値に違いが生じたり、放
熱性に違いが生じることにより測定誤差を招くことも懸
念される。
おいて貫通孔13a〜15aが精度良く形成されている
ことは、ヒータ11,12から発生した熱を用いて正確
なガスの流れを測定する点で肝要であるが、厚みのある
ガラス板13〜15をエッチングによって精度良く形成
することは困難であった。
する方法としてエッチングが知られているが、従来のよ
うにガラス板13〜15をエッチングする場合には、等
方性エッチングしか行うことができなかった。そして、
等方性エッチングでは、エッチング液の流れなどの僅か
な差によって、貫通孔13a〜15aや切欠部14b,
14c,15b,15cに幾らかの凹凸が生じることは
避けられなかった。そのような背景で、赤外線ガス分析
計の検出器用のフローセンサのように微細なガスの流れ
を検出できる程度に小さなフローセンサを製造するため
には歩留りが悪くなることを避けられなかった。
を組み合わせてフローセンサを形成することは、組み付
けに多大の手間がかかるだけでなく、組み付け精度も問
題となるので、この点でも製造コストを引き上げる原因
となっていた。
されたものであって、赤外線ガス分析計における検出器
のセンサ部に用いられ、一度に大量生産できる工程で精
度良く生産可能で、ばらつきの少ない安定した測定を可
能とする赤外線ガス検出器用フローセンサおよびフロー
センサの製造方法を提供することを目的としている。
決するための手段を以下のように構成している。すなわ
ち、第1発明の赤外線ガス分析計の検出器用のフローセ
ンサは、赤外線ガス分析計の検出器用のフローセンサで
あって、それぞれシリコン基板上にパターン成形された
ヒータと、このヒータが位置する部分のシリコン基板を
異方性エッチングによって取り除いて形成した貫通孔と
を有する2枚の金属薄膜ヒータ基板を互いの貫通孔が連
通するように重ねてなり、各金属薄膜ヒータ基板の貫通
孔を通って流れる気体の流量を測定可能としたことを特
徴としている。
を用いたエッチング)および異方性エッチング(マイク
ロマシニング技術を用いたエッチング)によって形成さ
れた金属薄膜ヒータ基板は大量生産できるだけでなく、
極めて精度良く形成できる。したがって、この金属薄膜
ヒータ基板を2枚重ねて形成される赤外線ガス検出器用
フローセンサの特性もばらつきが少なくなり、形成され
たヒータの中から特性の優れたものを選択する工程がな
くなるので、精度の良い赤外線ガス検出器用フローセン
サをより安価にて形成することができる。
加工されるものであるから、量産性に優れており、その
厚さや形状などの特性が非常に揃ったバラツキの少ない
フローセンサを形成できる。したがって、フローセンサ
の特性を個々に補正する必要がなく、個々のフローセン
サの検査工程の必要がなくなる。
厚みは2つのヒータの間の距離を定めるものとなり、2
枚の金属薄膜ヒータ基板を重ね合わせただけで、極めて
精度の高い微小な構造物を極めて容易に作成できる。つ
まり、工数を削減することによって、微小流量を測定可
能とする赤外線ガス検出器を安価にて作成することがで
きる。
ンサは前記貫通孔を、赤外線吸収ガスが封入された2つ
のガス室の間に形成されたガス通路に連通連結するよう
に取り付けられるものであり、これらのガス室間を流れ
るガスの微小流量を精度良く測定することにより、測定
ガスの測定対象成分の濃度を正確に測定することができ
る。
えて重ねた場合には、金属薄膜ヒータ基板を2段重ねた
状態で使用するときに、ヒータに電力を供給する部分
(引出し電極)を上下に重なることなく配置できるの
で、全く同じパターンのヒータが成形された2枚の金属
薄膜ヒータ基板を重ねた時にも各ヒータのそれぞれに確
実に配線することができる。すなわち、それだけ安価な
赤外線ガス検出器用フローセンサを供給することができ
る。
方形の場合には、金属薄膜ヒータ基板を約45°回転さ
せて、その回転位相を約45°変えるしたように設置す
ることにより、金属薄膜ヒータ基板の各角部を上下に重
ならないように配置することが可能となる。
取り付けられて、赤外線ガス分析計のセンサ取付け部に
対する熱の伝達を遮断する断熱材を有する場合には、フ
ローセンサとこのフローセンサを取り付けるためのセン
サのホルダ部分(以下、センサホルダという)との間に
断熱材が介在するので、センサホルダの温度は検出器周
囲の温度によって変化するが、下部に位置するヒータか
らの熱がセンサホルダに奪われることを防止でき、信号
出力の周囲温度による影響を小さくすることができる。
コン基板上にヒータのパターンをエッチングによって形
成し、このヒータが位置する部分のシリコン基板を異方
性エッチングによって取り除いて貫通孔を形成すること
により2枚の金属薄膜ヒータ基板を作成し、前記貫通孔
が連通するように2枚の金属薄膜ヒータ基板を重ねて形
成したことを特徴としている。
用フローセンサ1の製造方法の一例を示す図であって、
図1(A)〜図1(H)はシリコン基板2をベースとし
た金属薄膜ヒータ基板3を作成する工程を示す図であ
る。また、図2は2枚の金属薄膜ヒータ基板3を用いて
形成される赤外線ガス検出器用フローセンサ1(以下の
説明においては単にフローセンサ1とする)の構成を示
す側面図である。
2の表裏両面に形成されたシリコン酸化膜(SiO2 :
以下、単に酸化膜という)である。すなわち、Si基板
を水蒸気雰囲気の条件で約1時間、約1000℃に加熱
することにより、酸化膜2aを形成する。なお、この酸
化膜2aの膜厚は500nmである。
の表面側の表面に形成されたNi金属膜である。このN
i金属膜4は例えば金属のニッケルを酸化膜2aの表面
に、スパッタ法などにより成膜し、その膜厚は約2μm
である。しかしながら前記膜4はニッケルによって形成
されることに限定されるものではなく、電子の流れによ
って熱を発生すると共に、温度によって導電率が変化す
る金属や半導体など任意の材料を用いることができる。
覆い、フォトリソ技術を用いてNi金属膜4をパターン
成形することによって、図1(C),(D)に示す蛇行
状のヒータ4aと、このヒータ4aの両端に接続された
引出し電極4bとを形成する。なお、図1(C)は図1
(D)に示す平面図のI−I断面図である。また、Ni
金属膜4のパターン成形のためのエッチングは、例えば
塩化鉄(FeCl3 )の水溶液またはHNO3 水溶液を
用いて行うことができる。
酸化膜2aの中央部分に形成された開口であり、この開
口2bは、裏面側の酸化膜2aをレジストによって覆
い、フォトリソ技術を用いてエッチングすることにより
パターン成形されるものである。なお、酸化膜2aのエ
ッチングは、例えば、フッ化水素(HF)の水溶液を用
いることができる。
例えば、約80℃に加熱した濃度15%のテトラメチル
アンモニウムヒドロキシド(TMAH)を用いて前記シ
リコン基板2を異方性エッチングする。この異方性エッ
チングを行うことにより、シリコン基板2は前記開口2
bの端から定まった角度αの面を形成するようにエッチ
ングが進行する。
チングによって作成された貫通孔である。この貫通孔5
は異方性エッチングによって形成されるので、前記開口
2bの形に従って常に所定の形に形成される。したがっ
て、貫通孔5の形状はたとえシリコン基板2にある程度
の厚みがあったとしても、常に所定の形状に形成される
ので、そのバラツキを少なくすることができる。
を用いたエッチングによって形成されており、開口2b
の形状を極めて高精度に形成することができるので、極
めて繊細な構造を正確に形成することができる。
水素(HF)の水溶液に入れて、酸化膜2aを除去して
金属薄膜ヒータ基板3を完成する。図1(G),図1
(H)は酸化膜2aを除去した金属薄膜ヒータ基板3の
断面図と平面図である。
記貫通孔5は酸化膜2aを除去することにより上下方向
に貫通し、ニッケル膜によってパターン成形されたヒー
タ4aが形成された貫通孔5によってちょうど中空に浮
いた状態となる。すなわち、貫通孔5を介してガスを連
通させると共に、このガスをヒータ4aによって加熱
し、ヒータ4aは貫通孔5を連通するガスによって冷却
されるように構成している。
基板3は図2に示すように、2枚重ねた状態で、前記フ
ローセンサ1を構成する。図2において、3a,3bは
それぞれ同一形状の前記金属薄膜ヒータ基板3であっ
て、6はこの2枚の金属薄膜ヒータ基板3a,3bの取
付け端部に取り付けられて熱の伝達を遮断する断熱材、
7は前記フローセンサ1のアルミニウムなどの金属によ
って形成されたセンサ取付け部の一例であるセンサホル
ダ、7aはセンサホルダ7に設けられてガスの流通路と
なるガス流通孔である。
あって、外形約3mm,内径約2mm,厚さ約0.5m
mのガラスからなり、センサホルダ7とフローセンサの
間に介在させるものである。そして、前記ガス流通孔7
a,断熱材6に設けた貫通孔6a,および,前記各金属
薄膜ヒータ基板3の貫通孔5が連通連結するように取り
付けられる。
a,3bの重ね合わせた状態を示す斜視図である。本例
に示す金属薄膜ヒータ基板3a,3bは互いに異なる位
相角度を有するように重ね合わされていおり、例えばそ
の角度は45°である。
薄膜ヒータ基板3a,3bであっても貫通孔5(または
金属薄膜ヒータ基板3a,3b)の中央を中心とした回
転角(回転位相)βを変えることにより、その引出し電
極4bを上下方向に重ねることなく配置することができ
る。そして各引出し電極4bが互いに重なりあっていな
いので、この引出し電極4bに対して極めて容易に金線
8をボンディングすることができる。
3a,3bを重ねるときに回転位相βを45°変えて重
ねるように構成しているが、本発明はこの角度を限定す
るものではない。すなわち、前記引出し電極4bが重な
らないような角度であり、前記ガス流通孔7aに貫通孔
6a,5を連通連結できるのであればどのように重ねら
れていてもよい。
つの金属薄膜ヒータ基板3a,3bが金線8によってボ
ンディングされることにより、図4に示すように、ヒー
タHa,Hbの外部に抵抗R1 ,R2 が取り付けられた
ブリッジ回路Bを形成する。そして、このブリッジ回路
Bによって、両金属薄膜ヒータ基板3a,3bの貫通孔
5を流通する流体の流量を測定することができる。な
お、図4において図7と同じ符号を付した部材は同一ま
たは同等の部材であるからその詳細な説明を省略する。
るとフローセンサのヒータHa,Hbは共に加熱されて
温度が上昇し、両方のヒータHa,Hbの抵抗値も同様
に上昇する。そして、ガスが前記金属薄膜ヒータ基板3
a,3bの貫通孔5を通って流れた場合には、上流側の
ヒータHaまたはHbの温度が下がり、逆に下流側のヒ
ータHbまたはHaの温度が上流側からの熱によって上
昇する。これによって、ヒータHa,Hbの抵抗値が変
化して前記ブリッジ回路Bのバランスが崩れ、出力
O1 ,O2 の間に電圧が出力される。
から金属薄膜ヒータ基板3b側に(下から上に)流れた
場合にはヒータHaの抵抗値がヒータHbの抵抗値より
小さくなるので、出力O1 の方が出力O2 より高い電圧
が出力されて、これを流速信号として得ることができ
る。
ンサ1は図2に明示したように、金属薄膜ヒータ基板3
aとセンサホルダ7との間(2枚の金属薄膜ヒータ基板
の取付け端部)に断熱材6を設けている。すなわち、前
記ブリッジ回路Bを介してフローセンサ1に電圧を加え
て、測定するときに下側(取付け端側)に位置する金属
薄膜ヒータ基板3aの到達温度がセンサホルダの温度の
影響を受けることを防止できる。
の温度は周囲温度によって変化し、検出器の温度が変化
すると、センサホルダ7の温度の影響が下側の金属薄膜
ヒータ基板3aのシリコン基板2を介して、下側のヒー
タHaの温度が変化することにより、出力O1 ,O2 か
ら出力される信号の変化の原因となるが、断熱材6をフ
ローセンサ1とセンサホルダ7との間に介在させること
により、その影響を効果的に抑えることができる。
に断熱材6を取り付けた場合と、そうでない場合の周囲
温度の影響と出力変動の関係を示す図であって、図5に
おいて、縦軸は周囲温度20℃のときの出力を100と
した場合の出力の大きさを示し、横軸は周囲温度を示し
ている。
い場合には、通常の動作温度範囲(例えば0〜50℃)
において−4〜+8%の出力変動が生じているのに対
し、断熱材6を介在させることによって、±1%以内の
出力変動に抑えることができることが分かる。
響を受けてその温度が検出器本体の温度とほゞ同じよう
に変動するが、センサホルダ7とフローセンサ1との間
に断熱材6を介在させることによって取付け端側の金属
薄膜ヒータ基板3のヒータ4a(Ha)の温度が他方の
ヒータ4a(Hb)よりもセンサホルダ7の温度の影響
を受けることを防止できる。そして、これによって、測
定誤差が生じることを効果的に抑えることができる。
えることによって断熱効果を調節可能である。したがっ
て、出力変動をより効果的に抑えるためには断熱材6の
厚みをより厚くすることができる。逆に温度変化の影響
を抑えることができる場合や、図5に示したようなセン
サホルダ7の温度と出力変動の関係から求めた温度補償
回路を形成する場合には断熱材6の厚みを薄くしたり、
省略することも可能である。
ス検出器用フローセンサおよびフローセンサの製造方法
は、マイクロマシニング技術を用いたエッチングによっ
て極めて精度の良い金属薄膜ヒータ基板を大量に生産す
ることが可能となり、この金属薄膜ヒータ基板を2枚重
ねて形成される赤外線ガス検出器用フローセンサの特性
もばらつきが少なくなり、形成されたヒータの中から特
性の優れたものを選択する工程がなくなるので、精度の
良い赤外線ガス検出器用フローセンサをより安価にて形
成することができる。
えて重ねた場合には、金属薄膜ヒータ基板を2段重ねた
状態で使用するときに、ヒータに電力を供給する引出し
電極を上下に重なることなく配置できるので、全く同じ
パターンのヒータが成形された2枚の金属薄膜ヒータ基
板を重ねた時にも各ヒータのそれぞれに確実に配線する
ことができる。すなわち、それだけ安価な赤外線ガス検
出器用フローセンサを供給することができる。
取り付けられて、赤外線ガス分析計のセンサ取付け部に
対する熱の伝達を遮断する断熱材を有する場合には、フ
ローセンサとセンサホルダとの間に断熱材が介在するの
で、センサホルダの温度変化によってヒータの温度が影
響されることを防止して、信号出力の周囲温度による影
響を小さくすることができる。
実施例を示す図である。
を示す図である。
を示す図である。
ある。
の例を示す図である。
板、3(3a,3b)…金属薄膜ヒータ基板、4a(H
a,Hb)…ヒータ、5…貫通孔、6…断熱材、7…セ
ンサ取付け部、β…回転位相。
Claims (4)
- 【請求項1】 赤外線ガス分析計の検出器用のフローセ
ンサであって、それぞれシリコン基板上にパターン成形
されたヒータと、このヒータが位置する部分のシリコン
基板を異方性エッチングによって取り除いて形成した貫
通孔とを有する2枚の金属薄膜ヒータ基板を互いの貫通
孔が連通するように重ねてなり、各金属薄膜ヒータ基板
の貫通孔を通って流れる気体の流量を測定可能としたこ
とを特徴とする赤外線ガス検出器用フローセンサ。 - 【請求項2】 2枚の金属薄膜ヒータ基板を回転位相を
変えて重ねた請求項1に記載の赤外線ガス検出器用フロ
ーセンサ。 - 【請求項3】 2枚の金属薄膜ヒータ基板の取付け端部
に取り付けられて、赤外線ガス分析計のセンサ取付け部
に対する熱の伝達を遮断する断熱材を有することを特徴
とする請求項1または2に記載の赤外線ガス検出器用フ
ローセンサ。 - 【請求項4】 シリコン基板上にヒータのパターンをエ
ッチングによって形成し、このヒータが位置する部分の
シリコン基板を異方性エッチングによって取り除いて貫
通孔を形成することにより2枚の金属薄膜ヒータ基板を
作成し、前記貫通孔が連通するように2枚の金属薄膜ヒ
ータ基板を重ねて形成したことを特徴とするフローセン
サの製造方法。
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