JP2002072457A - 結合剤としてｓｉｓ／ｓｂｓ混合物を含有する、フレキソ印刷板を製造するための光重合性フレキソ印刷素子 - Google Patents
結合剤としてｓｉｓ／ｓｂｓ混合物を含有する、フレキソ印刷板を製造するための光重合性フレキソ印刷素子Info
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- G03F7/004—Photosensitive materials
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 過度の硬度および異方性を有さず、ＳＢＳゴ
ムの有利な特性を有するフレキソ印刷板を得るための、
光重合性組成物、光重合性フレキソ印刷素子、この素子
の使用法を提供する。 【解決手段】 所定の熱可塑性エラストマーＳＩＳ及び
ＳＢＳブロック共重合体の混合物を結合剤として含み、
更にエチレン性不飽和モノマー、可塑剤および光開始剤
を含む光重合性組成物を得た。また、光重合性層に上記
組成物が含まれる光重合性フレキソ印刷素子、およびこ
の種の光重合性フレキソ印刷素子をフレキソ印刷板の製
造に使用する方法を得た。
ムの有利な特性を有するフレキソ印刷板を得るための、
光重合性組成物、光重合性フレキソ印刷素子、この素子
の使用法を提供する。 【解決手段】 所定の熱可塑性エラストマーＳＩＳ及び
ＳＢＳブロック共重合体の混合物を結合剤として含み、
更にエチレン性不飽和モノマー、可塑剤および光開始剤
を含む光重合性組成物を得た。また、光重合性層に上記
組成物が含まれる光重合性フレキソ印刷素子、およびこ
の種の光重合性フレキソ印刷素子をフレキソ印刷板の製
造に使用する方法を得た。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、結合剤としての熱
可塑性エラストマーＳＩＳブロック共重合体とＳＢＳブ
ロック共重合体との混合物、エチレン性不飽和モノマ
ー、可塑剤、および光開始剤を含む、光重合性組成物に
関する。更に、本発明は光重合性層に上記光重合性組成
物を含む光重合性フレキソ印刷素子、およびフレキソ印
刷板を製造するための、光重合性フレキソ印刷素子の使
用法に関する。
可塑性エラストマーＳＩＳブロック共重合体とＳＢＳブ
ロック共重合体との混合物、エチレン性不飽和モノマ
ー、可塑剤、および光開始剤を含む、光重合性組成物に
関する。更に、本発明は光重合性層に上記光重合性組成
物を含む光重合性フレキソ印刷素子、およびフレキソ印
刷板を製造するための、光重合性フレキソ印刷素子の使
用法に関する。
【０００２】
【従来の技術】一時期、熱可塑性エラストマーブロック
共重合体が光重合性フレキソ印刷素子の製造用に用いら
れていた。例えば、ＤＥ２２１５０９０号公報およびＵ
Ｓ４３２３６３６明細書には、結合剤、エチレン性不飽
和モノマーおよび光開始剤から構成され、ここで用いら
れる結合剤が、ポリスチレン−ポリブタジエン−ポリス
チレンブロック共重合体（ＳＢＳ）か、ポリスチレン−
ポリイソプレン−ポリスチレンブロック共重合体（ＳＩ
Ｓ）のいずれかである光開始剤組成物が開示されてい
る。この種のブロック共重合体は、溶融押出により加工
されるのが有利であり、これにより複雑なキャスティン
グ法が回避される。更に、上記共重合体はいずれも安価
であり、容易に入手可能である。他の（共）重合体を結
合剤として使用することもたびたび提案されてきたが、
今日では有機媒体として開発可能な、ほぼ全ての市販の
光重合性フレキソ印刷素子が、熱可塑性エラストマーブ
ロック共重合体をバインダーとして含んでいる。
共重合体が光重合性フレキソ印刷素子の製造用に用いら
れていた。例えば、ＤＥ２２１５０９０号公報およびＵ
Ｓ４３２３６３６明細書には、結合剤、エチレン性不飽
和モノマーおよび光開始剤から構成され、ここで用いら
れる結合剤が、ポリスチレン−ポリブタジエン−ポリス
チレンブロック共重合体（ＳＢＳ）か、ポリスチレン−
ポリイソプレン−ポリスチレンブロック共重合体（ＳＩ
Ｓ）のいずれかである光開始剤組成物が開示されてい
る。この種のブロック共重合体は、溶融押出により加工
されるのが有利であり、これにより複雑なキャスティン
グ法が回避される。更に、上記共重合体はいずれも安価
であり、容易に入手可能である。他の（共）重合体を結
合剤として使用することもたびたび提案されてきたが、
今日では有機媒体として開発可能な、ほぼ全ての市販の
光重合性フレキソ印刷素子が、熱可塑性エラストマーブ
ロック共重合体をバインダーとして含んでいる。
【０００３】市販の光重合性フレキソ印刷素子の製造用
には、これまでＳＢＳ型またはＳＩＳ型のいずれかのブ
ロック共重合体のみが用いられていた。光重合性フレキ
ソ印刷素子の製造に使用可能なＳＩＳおよびＳＢＳブロ
ック共重合体は、一般に相互に相溶性ではなく、分離す
る傾向がある。光重合性混合物は、この種の分離過程に
より曇りを生じ、高品質のフレキソ印刷板の製造用には
不適切である。
には、これまでＳＢＳ型またはＳＩＳ型のいずれかのブ
ロック共重合体のみが用いられていた。光重合性フレキ
ソ印刷素子の製造に使用可能なＳＩＳおよびＳＢＳブロ
ック共重合体は、一般に相互に相溶性ではなく、分離す
る傾向がある。光重合性混合物は、この種の分離過程に
より曇りを生じ、高品質のフレキソ印刷板の製造用には
不適切である。
【０００４】ＳＩＳブロック共重合体またはＳＢＳブロ
ック共重合体を基剤とするフレキソ印刷板は、それぞれ
非常に特徴的な利点と不都合点とを有する。ＳＩＳゴム
は、ＳＢＳゴムに比較してより柔軟かつ可塑性である。
従って、ＳＩＳゴムは比較的軟質のフレキソ印刷板の製
造において、非常に好適に用いられる。
ック共重合体を基剤とするフレキソ印刷板は、それぞれ
非常に特徴的な利点と不都合点とを有する。ＳＩＳゴム
は、ＳＢＳゴムに比較してより柔軟かつ可塑性である。
従って、ＳＩＳゴムは比較的軟質のフレキソ印刷板の製
造において、非常に好適に用いられる。
【０００５】しかしながら、ＳＩＳゴムを基剤とするフ
レキソ印刷板は、オゾンに曝されると亀裂を生ずる傾向
がある。このため、オゾン保護用ワックス、例えば所定
のパラフィンまたはミクロワックスを組成に添加するの
が一般的である。この種のオゾン保護用ワックスから
は、フレキソ印刷板表面の無極性保護フィルムが形成さ
れ、特に水を基剤とする印刷インクを用いた印刷を行う
場合にはインク転移に不都合な影響を与えることがあ
る。更に、ＳＩＳゴムによるフレキソ印刷板はＳＢＳに
対して表面の粘性（べたつき）が大きく摩耗も大きい。
レキソ印刷板は、オゾンに曝されると亀裂を生ずる傾向
がある。このため、オゾン保護用ワックス、例えば所定
のパラフィンまたはミクロワックスを組成に添加するの
が一般的である。この種のオゾン保護用ワックスから
は、フレキソ印刷板表面の無極性保護フィルムが形成さ
れ、特に水を基剤とする印刷インクを用いた印刷を行う
場合にはインク転移に不都合な影響を与えることがあ
る。更に、ＳＩＳゴムによるフレキソ印刷板はＳＢＳに
対して表面の粘性（べたつき）が大きく摩耗も大きい。
【０００６】ＳＢＳゴムはオゾン保護ワックスを添加せ
ずに用いられる。従って、ＳＢＳによるフレキソ印刷板
では、特に水を基剤とする印刷インクを用いると、非常
に良好なインク転写が行われる。ＳＢＳゴムのフレキソ
印刷板の表面は、粘性が低く、高い摩耗抵抗を有し、表
面の粗い材料に印刷を行う場合にはこれが特に明確であ
る。しかしながらＳＢＳゴムを含む印刷板は、硬度が高
いという不都合点を有する。柔軟なフレキソ印刷板を得
るためには、ＳＩＳを基剤とする印刷板の場合よりも大
量の可塑剤が用いられる。しかしながら、組成中の可塑
剤を必要なだけ増加すれば、他の特性に悪影響を与える
ことは当然ながら避けられない。また、ＳＢＳ印刷板が
異方性を有する方向に変化する傾向も有益ではない。こ
れは、溶融押出およびカレンダー処理による慣用の製造
法において、方向依存の、機械特性、光学特性および印
刷特性が得られたことを意味する。印刷板は印刷シリン
ダに常に同じ方向に挟持される訳ではないため、特に多
色印刷の場合に悪影響が生ずる。過度に大きな異方性
は、完全に許容限界を超える。
ずに用いられる。従って、ＳＢＳによるフレキソ印刷板
では、特に水を基剤とする印刷インクを用いると、非常
に良好なインク転写が行われる。ＳＢＳゴムのフレキソ
印刷板の表面は、粘性が低く、高い摩耗抵抗を有し、表
面の粗い材料に印刷を行う場合にはこれが特に明確であ
る。しかしながらＳＢＳゴムを含む印刷板は、硬度が高
いという不都合点を有する。柔軟なフレキソ印刷板を得
るためには、ＳＩＳを基剤とする印刷板の場合よりも大
量の可塑剤が用いられる。しかしながら、組成中の可塑
剤を必要なだけ増加すれば、他の特性に悪影響を与える
ことは当然ながら避けられない。また、ＳＢＳ印刷板が
異方性を有する方向に変化する傾向も有益ではない。こ
れは、溶融押出およびカレンダー処理による慣用の製造
法において、方向依存の、機械特性、光学特性および印
刷特性が得られたことを意味する。印刷板は印刷シリン
ダに常に同じ方向に挟持される訳ではないため、特に多
色印刷の場合に悪影響が生ずる。過度に大きな異方性
は、完全に許容限界を超える。
【０００７】従って、過度の硬度及び異方性といった不
都合点を有さず、ＳＢＳゴムの利点を有するフレキソ印
刷板を得ることが望ましい。
都合点を有さず、ＳＢＳゴムの利点を有するフレキソ印
刷板を得ることが望ましい。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】しかるに、本発明はこ
の種のフレキソ印刷板の製造に用いられる光重合性フレ
キソ印刷素子を提供することをその課題とする。
の種のフレキソ印刷板の製造に用いられる光重合性フレ
キソ印刷素子を提供することをその課題とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明者等は、本発明の
上記課題が、ＳＩＳを含む混合物において所定のＳＢＳ
ゴムを使用することにより達成されることを見出した。
ＳＩＳゴムとＳＢＳゴムとは一般に非相溶性であるた
め、このことは極めて驚くべきことである。
上記課題が、ＳＩＳを含む混合物において所定のＳＢＳ
ゴムを使用することにより達成されることを見出した。
ＳＩＳゴムとＳＢＳゴムとは一般に非相溶性であるた
め、このことは極めて驚くべきことである。
【００１０】すなわち、本発明は所定の熱可塑性エラス
トマーＳＩＳ及びＳＢＳブロック共重合体の混合物を結
合剤として、更に、エチレン性不飽和モノマー、可塑剤
および光開始剤を含む光重合性組成物を提供するもので
ある。更に本発明は、光重合性層に上記組成物が含まれ
る光重合性フレキソ印刷素子、およびこの種の光重合性
フレキソ印刷素子をフレキソ印刷板の製造に使用する方
法を提供するものである。
トマーＳＩＳ及びＳＢＳブロック共重合体の混合物を結
合剤として、更に、エチレン性不飽和モノマー、可塑剤
および光開始剤を含む光重合性組成物を提供するもので
ある。更に本発明は、光重合性層に上記組成物が含まれ
る光重合性フレキソ印刷素子、およびこの種の光重合性
フレキソ印刷素子をフレキソ印刷板の製造に使用する方
法を提供するものである。
【００１１】
【発明の実施の形態】使用されるＳＩＳ成分は、光重合
性フレキソ印刷素子の製造に好適に用いられる慣用の熱
可塑性エラストマーＳＩＳブロック共重合体である。こ
の重合体のポリスチレン含有率は、一般に４０質量％未
満である。ポリスチレン含有率１０〜３５質量％のブロ
ック共重合体が好ましく用いられ、ポリスチレン含有率
１０〜２０質量％のブロック共重合体が特に好ましく用
いられる。ＳＩＳブロック共重合体の見かけの分子量は
一般に８００００〜３０００００、好ましくは１０００
００〜２５００００である。本願で使用する、「見かけ
の分子量」という用語は、ポリスチレン標準を用いたゲ
ル透過クロマトグラフィー（ＧＰＣ）により測定された
平均分子量Ｍｗを意味するものとする。ＳＩＳブロック
共重合体は、直鎖状ブロック共重合体と放射状のブロッ
ク共重合体のいずれであってもよい。これには通常、Ａ
−Ｂ−Ａ型の三元ブロック共重合体を用いるが、Ａ−Ｂ
型の二元ブロック共重合体、または複数のエラストマー
または熱可塑性ブロックを交互に有する、Ａ−Ｂ−Ａ−
Ｂ−Ａ等の共重合体であってもよい。２種類以上の異な
るＳＩＳブロック共重合体の混合物を用いることも可能
である。市販のＳＩＳブロック共重合体はＳＩ−２ブロ
ック成分を有することが多い。このＳＩ−２ブロック成
分は、０〜４０質量％であるのが好ましく、１０〜３０
質量％であるのが特に好ましい。
性フレキソ印刷素子の製造に好適に用いられる慣用の熱
可塑性エラストマーＳＩＳブロック共重合体である。こ
の重合体のポリスチレン含有率は、一般に４０質量％未
満である。ポリスチレン含有率１０〜３５質量％のブロ
ック共重合体が好ましく用いられ、ポリスチレン含有率
１０〜２０質量％のブロック共重合体が特に好ましく用
いられる。ＳＩＳブロック共重合体の見かけの分子量は
一般に８００００〜３０００００、好ましくは１０００
００〜２５００００である。本願で使用する、「見かけ
の分子量」という用語は、ポリスチレン標準を用いたゲ
ル透過クロマトグラフィー（ＧＰＣ）により測定された
平均分子量Ｍｗを意味するものとする。ＳＩＳブロック
共重合体は、直鎖状ブロック共重合体と放射状のブロッ
ク共重合体のいずれであってもよい。これには通常、Ａ
−Ｂ−Ａ型の三元ブロック共重合体を用いるが、Ａ−Ｂ
型の二元ブロック共重合体、または複数のエラストマー
または熱可塑性ブロックを交互に有する、Ａ−Ｂ−Ａ−
Ｂ−Ａ等の共重合体であってもよい。２種類以上の異な
るＳＩＳブロック共重合体の混合物を用いることも可能
である。市販のＳＩＳブロック共重合体はＳＩ−２ブロ
ック成分を有することが多い。このＳＩ−２ブロック成
分は、０〜４０質量％であるのが好ましく、１０〜３０
質量％であるのが特に好ましい。
【００１２】ＳＩＳブロック共重合体として直鎖状ブロ
ック共重合体を用いることが好ましい。本発明による光
重合性組成物において、ＳＩＳブロック共重合体を１種
類以上の熱可塑性エラストマーＳＢＳブロック共重合体
を含む混合物として、ＳＩＳブロック共重合体と相溶性
を有する形態で用いる。本発明において、相溶性とは光
重合性混合物がＳＢＳおよびＳＩＳブロック共重合体、
および他の成分を含みつつ、化学線を散乱しない、透明
かつ曇りのない混合物とされることを意味するものであ
る。光重合性層における曇りや縞等は光重合工程に悪影
響を及ぼす。これにより、フレキソ印刷板が全く得られ
ないこと、または低品質品のみが得られることになる。
ック共重合体を用いることが好ましい。本発明による光
重合性組成物において、ＳＩＳブロック共重合体を１種
類以上の熱可塑性エラストマーＳＢＳブロック共重合体
を含む混合物として、ＳＩＳブロック共重合体と相溶性
を有する形態で用いる。本発明において、相溶性とは光
重合性混合物がＳＢＳおよびＳＩＳブロック共重合体、
および他の成分を含みつつ、化学線を散乱しない、透明
かつ曇りのない混合物とされることを意味するものであ
る。光重合性層における曇りや縞等は光重合工程に悪影
響を及ぼす。これにより、フレキソ印刷板が全く得られ
ないこと、または低品質品のみが得られることになる。
【００１３】ＳＢＳブロック共重合体は、鎖状の三元ブ
ロック共重合体、二元ブロック共重合体、複数のエラス
トマーと熱可塑性の各ブロックを有する重合体、放射状
または疑似放射状ブロック共重合体、またはこれらの混
合物とされる。ＳＢＳブロック共重合体のポリスチレン
含有率は５〜２５質量％とされ、これにより高いポリス
チレン含有率では、上述のようなＳＩＳブロック共重合
体を含む透明の混合物は得られない。ＳＢＳブロック共
重合体のポリスチレン含有率は、１０〜２５質量％であ
ると好ましく、１５〜２０質量％であると非常に好まし
い。ＳＢＳブロック共重合体の見かけの分子量は、一般
に５００００〜３０００００である。ＳＢＳブロック共
重合体の見かけの分子量が１０００００〜３０００００
であると好ましく、ＳＢＳブロック共重合体の見かけの
分子量が２０００００〜２５００００であると特に好ま
しい。ポリスチレンブロックは、５０００〜５００００
の見かけの分子量を有する。ここで用いられるポリスチ
レンブロックの見かけの分子量は７０００〜３５０００
の範囲であり、７０００〜３５０００であると好まし
く、９０００〜１７０００であると特に好ましい。ポリ
スチレンブロックの見かけの分子量は、上記のＳＩＳブ
ロック共重合体のポリスチレンブロックにほぼ対応する
ように選択されることが好ましい。ポリブタジエンブロ
ックにおけるブタジエン単位は、１，４−結合であって
も、１，２−結合であってもよい。本発明のＳＢＳブロ
ック共重合体のビニル結合含有率は、５〜７０質量％、
好ましくは３５〜６５質量％、特に好ましくは５０〜６
０質量％である。適するＳＢＳブロック共重合体は、例
えばＥＰ−Ａ６９６７６１号公報に記載されている。
ロック共重合体、二元ブロック共重合体、複数のエラス
トマーと熱可塑性の各ブロックを有する重合体、放射状
または疑似放射状ブロック共重合体、またはこれらの混
合物とされる。ＳＢＳブロック共重合体のポリスチレン
含有率は５〜２５質量％とされ、これにより高いポリス
チレン含有率では、上述のようなＳＩＳブロック共重合
体を含む透明の混合物は得られない。ＳＢＳブロック共
重合体のポリスチレン含有率は、１０〜２５質量％であ
ると好ましく、１５〜２０質量％であると非常に好まし
い。ＳＢＳブロック共重合体の見かけの分子量は、一般
に５００００〜３０００００である。ＳＢＳブロック共
重合体の見かけの分子量が１０００００〜３０００００
であると好ましく、ＳＢＳブロック共重合体の見かけの
分子量が２０００００〜２５００００であると特に好ま
しい。ポリスチレンブロックは、５０００〜５００００
の見かけの分子量を有する。ここで用いられるポリスチ
レンブロックの見かけの分子量は７０００〜３５０００
の範囲であり、７０００〜３５０００であると好まし
く、９０００〜１７０００であると特に好ましい。ポリ
スチレンブロックの見かけの分子量は、上記のＳＩＳブ
ロック共重合体のポリスチレンブロックにほぼ対応する
ように選択されることが好ましい。ポリブタジエンブロ
ックにおけるブタジエン単位は、１，４−結合であって
も、１，２−結合であってもよい。本発明のＳＢＳブロ
ック共重合体のビニル結合含有率は、５〜７０質量％、
好ましくは３５〜６５質量％、特に好ましくは５０〜６
０質量％である。適するＳＢＳブロック共重合体は、例
えばＥＰ−Ａ６９６７６１号公報に記載されている。
【００１４】本発明で使用されるＳＢＳブロックは、一
般式（ＳＢ）ｘ（Ｂ）ｙＺで示される放射状または分岐
状のブロック共重合体であると好ましく、式中ＳとＢは
通常のようにスチレンブロックおよびブタジエンブロッ
クを示し、Ｚは数個のブロックを相互に結合する多官能
性カップリング剤を示す。（ＳＢ）単位は通常、ブタジ
エンブロックを介してカップリング剤Ｚに結合する。式
中のＸは１〜２０の整数を意味する。適する放射状のＳ
ＢＳブロック共重合体はｙ＝０の対称の放射状ブロック
共重合体、例えば（ＳＢ）４Ｚまたは（Ｂ）２Ｚの重合
体である。しかしながら、（ＳＢ）及び（Ｂ）アームの
双方を有する放射状のブロック共重合体が好ましく用い
られる。特に好ましくは、一般式（ＳＢ）２（Ｂ）２Ｚ
の重合体が用いられる。放射状ブロック共重合体につい
ては、例えばＥＰ−Ａ６９６７６１号公報に開示されて
おり、これらは購入可能である。
般式（ＳＢ）ｘ（Ｂ）ｙＺで示される放射状または分岐
状のブロック共重合体であると好ましく、式中ＳとＢは
通常のようにスチレンブロックおよびブタジエンブロッ
クを示し、Ｚは数個のブロックを相互に結合する多官能
性カップリング剤を示す。（ＳＢ）単位は通常、ブタジ
エンブロックを介してカップリング剤Ｚに結合する。式
中のＸは１〜２０の整数を意味する。適する放射状のＳ
ＢＳブロック共重合体はｙ＝０の対称の放射状ブロック
共重合体、例えば（ＳＢ）４Ｚまたは（Ｂ）２Ｚの重合
体である。しかしながら、（ＳＢ）及び（Ｂ）アームの
双方を有する放射状のブロック共重合体が好ましく用い
られる。特に好ましくは、一般式（ＳＢ）２（Ｂ）２Ｚ
の重合体が用いられる。放射状ブロック共重合体につい
ては、例えばＥＰ−Ａ６９６７６１号公報に開示されて
おり、これらは購入可能である。
【００１５】ＳＢＳ／ＳＩＳブロック共重合体の質量比
は７０／３０〜１０／９０である。上記ブロック共重合
体の割合が７０／３０を超過する場合、過度に硬く、脆
性のフレキソ印刷板が得られ、これは屈曲に際して破断
することがある。ブロック共重合体の割合が１０／９０
を下回る場合には、印刷板表面がべたつき、オゾン保護
ワックスの使用が必要となる。ＳＢＳ／ＳＩＳ割合は、
６０／４０〜４０／６０であるのが好ましい。
は７０／３０〜１０／９０である。上記ブロック共重合
体の割合が７０／３０を超過する場合、過度に硬く、脆
性のフレキソ印刷板が得られ、これは屈曲に際して破断
することがある。ブロック共重合体の割合が１０／９０
を下回る場合には、印刷板表面がべたつき、オゾン保護
ワックスの使用が必要となる。ＳＢＳ／ＳＩＳ割合は、
６０／４０〜４０／６０であるのが好ましい。
【００１６】更に、本発明の組成物は公知の形態で重合
性化合物またはモノマーを含む。このモノマーは本発明
のバインダーと相溶性を有さなければならず、少なくと
も１種類の重合性のエチレン性不飽和二重結合を有する
ものである。適するモノマーは大気圧における沸点が１
００℃を超過し、分子量が３０００ｇ／ｍｏｌ以下、好
ましくは２０００ｇ／ｍｏｌ以下である。アクリル酸ま
たはメタアクリル酸と、単官能性または多官能性アルコ
ールとのエステルまたはアミド、アミン、アミノアルコ
ール、ヒドロキシエーテル、ヒドロキシエステル、スチ
レンまたは置換スチレン、フマル酸またはマレイン酸の
エステルまたはアリル化合物が、特に好ましいことがわ
かっている。適するモノマーの例は、アクリル酸ブチ
ル、アクリル酸２−エチルヘキシル、アクリル酸ラウリ
ル、１，４−ブタンジオールジアクリラート、１，６−
ヘキサンジオールジアクリラート、１，６−ヘキサンジ
オールジメタクリラート、１，９−ノナンジオールジア
クリラート、トリアクリル酸トリメチロールプロパン、
フマル酸ジオクチルおよびＮ−ドデシルマレイミドであ
る。
性化合物またはモノマーを含む。このモノマーは本発明
のバインダーと相溶性を有さなければならず、少なくと
も１種類の重合性のエチレン性不飽和二重結合を有する
ものである。適するモノマーは大気圧における沸点が１
００℃を超過し、分子量が３０００ｇ／ｍｏｌ以下、好
ましくは２０００ｇ／ｍｏｌ以下である。アクリル酸ま
たはメタアクリル酸と、単官能性または多官能性アルコ
ールとのエステルまたはアミド、アミン、アミノアルコ
ール、ヒドロキシエーテル、ヒドロキシエステル、スチ
レンまたは置換スチレン、フマル酸またはマレイン酸の
エステルまたはアリル化合物が、特に好ましいことがわ
かっている。適するモノマーの例は、アクリル酸ブチ
ル、アクリル酸２−エチルヘキシル、アクリル酸ラウリ
ル、１，４−ブタンジオールジアクリラート、１，６−
ヘキサンジオールジアクリラート、１，６−ヘキサンジ
オールジメタクリラート、１，９−ノナンジオールジア
クリラート、トリアクリル酸トリメチロールプロパン、
フマル酸ジオクチルおよびＮ−ドデシルマレイミドであ
る。
【００１７】適する光重合開始剤としては、特にベンゾ
インまたはベンゾイン誘導体、例えばα−メチルベンゾ
インまたはベンゾインエーテル、ベンジル誘導体、例え
ばベンジルケタール、酸化アシルアリールホスフィン、
アシルアリールホスフィン酸エステル、多核キノリンま
たはベンゾフェノンである。
インまたはベンゾイン誘導体、例えばα−メチルベンゾ
インまたはベンゾインエーテル、ベンジル誘導体、例え
ばベンジルケタール、酸化アシルアリールホスフィン、
アシルアリールホスフィン酸エステル、多核キノリンま
たはベンゾフェノンである。
【００１８】本発明の光重合性組成物は、一般に、ＳＩ
Ｓブロック共重合体とＳＢＳブロック共重合体とから構
成された、全成分の合計に対して通常５０〜９０質量％
の結合剤混合物を含む。６０〜８５質量％のバインダー
が好ましく使用される。重合性モノマーの使用量は、
４．９〜３０質量％、好ましくは４．９〜２０質量％で
ある。光開始剤の使用量は、０．１〜５質量％である。
Ｓブロック共重合体とＳＢＳブロック共重合体とから構
成された、全成分の合計に対して通常５０〜９０質量％
の結合剤混合物を含む。６０〜８５質量％のバインダー
が好ましく使用される。重合性モノマーの使用量は、
４．９〜３０質量％、好ましくは４．９〜２０質量％で
ある。光開始剤の使用量は、０．１〜５質量％である。
【００１９】更に、本発明で用される光重合性混合物
は、１種類以上の可塑剤を含むものである。異なる種類
の可塑剤の混合物を用いてもよい。可塑剤は所望の硬度
範囲を得るための実際の作用の他に、ＳＩＳとＳＢＳゴ
ムの相溶性を最適にするために有利に作用する。適する
可塑剤の例は、変性または非変性天然油及び樹脂、パラ
フィン性鉱油、並びにアルカン酸またはアリールカルボ
ン酸等の酸のアルキル、アルケニル、アリールアルキル
またはアリールアルケニルエステルである。更に、合成
オリゴマーまたは樹脂、例えばオリゴスチレン、オリゴ
マースチレン−ブタジエン共重合体、オリゴマー性α−
メチルスチレン−ｐ−メチルスチレン共重合体、液体オ
リゴブタジエン、液体オリゴイソプレンまたは液体オリ
ゴマーアクリロニトリル−ブタジエン共重合体が好まし
く用いられる。この種のオリゴマーは、通常５００〜５
０００ｇ／モルの分子量を有する。
は、１種類以上の可塑剤を含むものである。異なる種類
の可塑剤の混合物を用いてもよい。可塑剤は所望の硬度
範囲を得るための実際の作用の他に、ＳＩＳとＳＢＳゴ
ムの相溶性を最適にするために有利に作用する。適する
可塑剤の例は、変性または非変性天然油及び樹脂、パラ
フィン性鉱油、並びにアルカン酸またはアリールカルボ
ン酸等の酸のアルキル、アルケニル、アリールアルキル
またはアリールアルケニルエステルである。更に、合成
オリゴマーまたは樹脂、例えばオリゴスチレン、オリゴ
マースチレン−ブタジエン共重合体、オリゴマー性α−
メチルスチレン−ｐ−メチルスチレン共重合体、液体オ
リゴブタジエン、液体オリゴイソプレンまたは液体オリ
ゴマーアクリロニトリル−ブタジエン共重合体が好まし
く用いられる。この種のオリゴマーは、通常５００〜５
０００ｇ／モルの分子量を有する。
【００２０】非常に好ましく用いられる可塑剤はブタジ
エン油である。可塑剤の使用量は、光重合性混合物の全
成分合計に対して、一般に５〜４０質量％とされ、８〜
３５％であると好ましく、１０〜３０％であると特に好
ましい。
エン油である。可塑剤の使用量は、光重合性混合物の全
成分合計に対して、一般に５〜４０質量％とされ、８〜
３５％であると好ましく、１０〜３０％であると特に好
ましい。
【００２１】光重合性混合物は、更に慣用の助剤、特に
熱的に開始される重合を阻害する薬剤、染料、顔料、光
互変性添加剤、酸化防止剤または押出助剤を更に含んで
もよい。これらの使用量は、通常、光重合性組成物の全
成分の合計に対して１０質量％未満とされる。
熱的に開始される重合を阻害する薬剤、染料、顔料、光
互変性添加剤、酸化防止剤または押出助剤を更に含んで
もよい。これらの使用量は、通常、光重合性組成物の全
成分の合計に対して１０質量％未満とされる。
【００２２】本発明の光重合性組成物は、光重合性フレ
キソ印刷素子の製造に用いられる。この種の光重合性フ
レキソ印刷素子は、寸法安定性基板上に設けられる光重
合性のレリーフ形成層と、更に必要に応じて接着層とを
含む。
キソ印刷素子の製造に用いられる。この種の光重合性フ
レキソ印刷素子は、寸法安定性基板上に設けられる光重
合性のレリーフ形成層と、更に必要に応じて接着層とを
含む。
【００２３】本発明の光重合性フレキソ印刷素子はプレ
ートである。このために用いられる適当な寸法安定性基
板は、特に寸法安定性の基板フィルム、例えばポリエス
テルフィルム、特にポリエチレンテレフタラートフィル
ムまたはポリエチレンなフタラートフィルムである。こ
れらの基板フィルムの膜厚は、通常５０〜５００μｍ、
好ましくは７５〜４００μｍであり、例えば約１２５μ
で用いられる。この基板層の下部に、軟質のエラストマ
ー下敷層を有してもよい。また、これらはフレキソスリ
ーブであってもよく、この場合に使用される基板は金属
またはプラスチック製の円錐形または円筒形の管とされ
る。
ートである。このために用いられる適当な寸法安定性基
板は、特に寸法安定性の基板フィルム、例えばポリエス
テルフィルム、特にポリエチレンテレフタラートフィル
ムまたはポリエチレンなフタラートフィルムである。こ
れらの基板フィルムの膜厚は、通常５０〜５００μｍ、
好ましくは７５〜４００μｍであり、例えば約１２５μ
で用いられる。この基板層の下部に、軟質のエラストマ
ー下敷層を有してもよい。また、これらはフレキソスリ
ーブであってもよく、この場合に使用される基板は金属
またはプラスチック製の円錐形または円筒形の管とされ
る。
【００２４】光重合性レリーフ形成層の厚さは、主に印
刷板の使用目的により決定される。従って、この厚さ
は、通常０．１〜７ｍｍ、好ましくは０．７〜６．５ｍ
ｍとされる。同層の膜厚は、各場合の所望の適用におけ
る必要性に応じて当業者により選択される。
刷板の使用目的により決定される。従って、この厚さ
は、通常０．１〜７ｍｍ、好ましくは０．７〜６．５ｍ
ｍとされる。同層の膜厚は、各場合の所望の適用におけ
る必要性に応じて当業者により選択される。
【００２５】光重合性層は、同層に用いられる結合剤と
他の成分とを、適当な溶媒または溶媒混合物に公知方法
で溶解し、得られた溶液を基板上にキャストし、溶媒を
蒸発させることにより製造される。光重合性フレキソ印
刷素子は、公知形態での、高温下の溶融押出とカレンダ
リングにより製造されるのが好ましく、これにより、本
発明の特別の有用性が発揮される。すなわち、慣用のＳ
ＢＳゴム含有組成を用いた場合には、上記方法によると
通常は異方性を有する生成物が得られるが、本発明のＳ
ＩＳ／ＳＢＳ混合物を用いた場合、異方性を全く示さな
いか、または実質的に示さない生成物が得られる。
他の成分とを、適当な溶媒または溶媒混合物に公知方法
で溶解し、得られた溶液を基板上にキャストし、溶媒を
蒸発させることにより製造される。光重合性フレキソ印
刷素子は、公知形態での、高温下の溶融押出とカレンダ
リングにより製造されるのが好ましく、これにより、本
発明の特別の有用性が発揮される。すなわち、慣用のＳ
ＢＳゴム含有組成を用いた場合には、上記方法によると
通常は異方性を有する生成物が得られるが、本発明のＳ
ＩＳ／ＳＢＳ混合物を用いた場合、異方性を全く示さな
いか、または実質的に示さない生成物が得られる。
【００２６】光重合性層は、複数の部分層から構成され
てもよい。これらの部分層は、同一、ほぼ同一、または
異なる材料の組成から構成可能である。部分層から構成
される光重合性層の製造は、例えばＥＰ−Ａ０３６２６
４１号公報に示された方法により行われる。
てもよい。これらの部分層は、同一、ほぼ同一、または
異なる材料の組成から構成可能である。部分層から構成
される光重合性層の製造は、例えばＥＰ−Ａ０３６２６
４１号公報に示された方法により行われる。
【００２７】光重合性フレキソ印刷素子は、一般に、光
重合性層の上に施される保護フィルムにより、公知方法
で機械的損傷から保護されている。応用目的によって
は、必要に応じて、更に他の層を設けてもよい。
重合性層の上に施される保護フィルムにより、公知方法
で機械的損傷から保護されている。応用目的によって
は、必要に応じて、更に他の層を設けてもよい。
【００２８】他の層の例は、光重合性層と保護フィルム
との間に設けられる被覆層（剥離層としても公知であ
る）である。この被覆層は、適当なポリアミドから構成
されることが多く、光重合性用の現像剤に可溶であり、
印刷板の使用前の保護層の剥離、およびイメージングの
ための写真原板の配置を単純化するものである。
との間に設けられる被覆層（剥離層としても公知であ
る）である。この被覆層は、適当なポリアミドから構成
されることが多く、光重合性用の現像剤に可溶であり、
印刷板の使用前の保護層の剥離、およびイメージングの
ための写真原板の配置を単純化するものである。
【００２９】他の例は、光重合性層上に施される、比較
的薄い、同様の光重合性上部層である（トップ層としも
公知である）。この種のトップ層は、例えばＥＰ−Ａ０
８４８５１号公報に記載されている。この様な二層構造
を用いることにより、印刷板のフレキソ技術に典型的な
特性、例えば硬度または弾性に影響を与えずに、印刷板
表面のインク転写等の特性が改善される。このように、
表面特性と層特性とが相互に独立に改善され、最適な印
刷結果が得られる。
的薄い、同様の光重合性上部層である（トップ層としも
公知である）。この種のトップ層は、例えばＥＰ−Ａ０
８４８５１号公報に記載されている。この様な二層構造
を用いることにより、印刷板のフレキソ技術に典型的な
特性、例えば硬度または弾性に影響を与えずに、印刷板
表面のインク転写等の特性が改善される。このように、
表面特性と層特性とが相互に独立に改善され、最適な印
刷結果が得られる。
【００３０】更に、ＩＲ融蝕性層について述べる。この
層は光重合性層上に、またはトップ層を用いる場合には
この上に施される。この様な層は通常、結合剤と、カー
ボンブラックを含む。これらは、ＩＲレーザーを用いた
光重合性フレキソ印刷素子の直接的なデジタルイメージ
ングに作用する。この様な層の例はＥＰ−Ａ７６７４０
７号またはＥＰ−Ａ６５４１５０号各公報に記載されて
いる。
層は光重合性層上に、またはトップ層を用いる場合には
この上に施される。この様な層は通常、結合剤と、カー
ボンブラックを含む。これらは、ＩＲレーザーを用いた
光重合性フレキソ印刷素子の直接的なデジタルイメージ
ングに作用する。この様な層の例はＥＰ−Ａ７６７４０
７号またはＥＰ−Ａ６５４１５０号各公報に記載されて
いる。
【００３１】本発明の光重合性フレキソ印刷素子は、フ
レキソ印刷板の製造に公知の形態で用いられる。フレキ
ソ印刷板の製造は、予備露光、用いる全ての保護層の剥
離、写真ネガを施すこと、化学線によるイメージ状の露
光、現像、乾燥、および必要に応じて後処理を含む古典
的方法によっても行うことができる。また、この方法を
ディジタルイメージングにより行ってもよい。このた
め、ＩＲ融蝕層を有する本発明の光重合性フレキソ印刷
素子が用いられる。このフレキソ印刷板の製造は、予備
露光、保護フィルムの剥離、ＩＲ融蝕層のイメージ状の
書き込み、化学線によるイメージ状の露光、現像、乾燥
及び必要に応じて後処理の各工程含む方法により行われ
る。これら２種類の方法の更なる詳細は当業者に公知で
あり、例えばＥＰ−Ａ９９２８４９号公報に開示されて
いる。
レキソ印刷板の製造に公知の形態で用いられる。フレキ
ソ印刷板の製造は、予備露光、用いる全ての保護層の剥
離、写真ネガを施すこと、化学線によるイメージ状の露
光、現像、乾燥、および必要に応じて後処理を含む古典
的方法によっても行うことができる。また、この方法を
ディジタルイメージングにより行ってもよい。このた
め、ＩＲ融蝕層を有する本発明の光重合性フレキソ印刷
素子が用いられる。このフレキソ印刷板の製造は、予備
露光、保護フィルムの剥離、ＩＲ融蝕層のイメージ状の
書き込み、化学線によるイメージ状の露光、現像、乾燥
及び必要に応じて後処理の各工程含む方法により行われ
る。これら２種類の方法の更なる詳細は当業者に公知で
あり、例えばＥＰ−Ａ９９２８４９号公報に開示されて
いる。
【００３２】本発明の光重合性フレキソ印刷素子を用い
て得られるフレキソ印刷板は、ＳＢＳゴムを含むフレキ
ソ印刷板の典型的な利点、すなわちオゾン亀裂に対する
高い耐性、および高い耐摩耗性を有する。本発明の印刷
板は保護ワックスを用いずに使用可能である。更に、本
発明のフレキソ印刷板は、同量の可塑剤を用いた場合の
硬度が低い上、更に異方性を有さないため有効である。
て得られるフレキソ印刷板は、ＳＢＳゴムを含むフレキ
ソ印刷板の典型的な利点、すなわちオゾン亀裂に対する
高い耐性、および高い耐摩耗性を有する。本発明の印刷
板は保護ワックスを用いずに使用可能である。更に、本
発明のフレキソ印刷板は、同量の可塑剤を用いた場合の
硬度が低い上、更に異方性を有さないため有効である。
【００３３】以下に実施例を記載し、本発明を更に詳細
に説明するが、これらの実施例に本発明が限定されるも
のではない。
に説明するが、これらの実施例に本発明が限定されるも
のではない。
【００３４】
【実施例】以下に用いる測定値を下表のように定義す
る。
る。
【００３５】実施例と比較例において、以下に記載の通
常の実験操作を行った。
常の実験操作を行った。
【００３６】Ａ）光重合性混合物の調製 結合剤、エチレン性不飽和単量体、光開始剤、可塑剤及
び染料の混合物を、処理量３０ｋｇ／時間の二軸押出器
（Werner & Pfleiderer ZSK 53）に、材料温度１６０〜
１７０℃で押出し、スロットダイから放出した。ダイか
ら放出された溶融体を２ロールカレンダーのロール間隙
に導入した。２つのロールを８０℃に加熱した。
び染料の混合物を、処理量３０ｋｇ／時間の二軸押出器
（Werner & Pfleiderer ZSK 53）に、材料温度１６０〜
１７０℃で押出し、スロットダイから放出した。ダイか
ら放出された溶融体を２ロールカレンダーのロール間隙
に導入した。２つのロールを８０℃に加熱した。
【００３７】接着層で被覆された、１２５μｍのポリエ
チレンテレフタラートフィルム（Ｍｙｌａｒ（登録商
標））を、上方カレンダーロール上に給送し、ポリアミ
ドから構成された剥離層で被覆された、１２５μｍのポ
リエチレンテレフタラートフィルム（Ｍｙｌａｒ（登録
商標））を下方カレンダーロール上に給送した。 Ｂ）印刷クラッチ版の製造 一週間の保存時間の後、原料板をクラッチ版に加工し
た。以下の処理工程を実施した。
チレンテレフタラートフィルム（Ｍｙｌａｒ（登録商
標））を、上方カレンダーロール上に給送し、ポリアミ
ドから構成された剥離層で被覆された、１２５μｍのポ
リエチレンテレフタラートフィルム（Ｍｙｌａｒ（登録
商標））を下方カレンダーロール上に給送した。 Ｂ）印刷クラッチ版の製造 一週間の保存時間の後、原料板をクラッチ版に加工し
た。以下の処理工程を実施した。
【００３８】ａ．ＵＶ光を反転印刷物上に全面露光する
（ＦＩＩＩ露光装置、ＢＡＳＦ，３５ｓ）、 ｂ．保護フィルムの剥離 ｃ．ｎｙｌｏｆｌｅｘ（登録商標）ＦＡＲＩＩ試験フィ
ルム（ＢＡＳＦ）の積層、 ｄ．真空フィルムの存在下での主露光（ＦＩＩＩ露光装
置、ＢＡＳＦ、２分の工程を４〜１８分）、 ｅ．プレートのウォッシュアウト（ＣｏｍｂｉＦＦＩス
ロー−フロー洗浄機、ＢＡＳＦ、洗浄速度１５０ｍｍ／
分、洗浄液：ｎｙｌｏｓｏｌｖ（登録商標）ＩＩ、ＢＡ
ＳＦ、３０℃、レリーフ深度１０００μｍ）、 ｆ．６５℃にて３時間乾燥、 ｇ．第二露光（ＵＶＡ、ＦＩＩＩ露光装置、ＢＡＳＦ、
１５分）、 ｈ．ＵＶＣ光による処理（ＦＩＩＩ第二処理装置、ＢＡ
ＳＦ、１５分）。
（ＦＩＩＩ露光装置、ＢＡＳＦ，３５ｓ）、 ｂ．保護フィルムの剥離 ｃ．ｎｙｌｏｆｌｅｘ（登録商標）ＦＡＲＩＩ試験フィ
ルム（ＢＡＳＦ）の積層、 ｄ．真空フィルムの存在下での主露光（ＦＩＩＩ露光装
置、ＢＡＳＦ、２分の工程を４〜１８分）、 ｅ．プレートのウォッシュアウト（ＣｏｍｂｉＦＦＩス
ロー−フロー洗浄機、ＢＡＳＦ、洗浄速度１５０ｍｍ／
分、洗浄液：ｎｙｌｏｓｏｌｖ（登録商標）ＩＩ、ＢＡ
ＳＦ、３０℃、レリーフ深度１０００μｍ）、 ｆ．６５℃にて３時間乾燥、 ｇ．第二露光（ＵＶＡ、ＦＩＩＩ露光装置、ＢＡＳＦ、
１５分）、 ｈ．ＵＶＣ光による処理（ＦＩＩＩ第二処理装置、ＢＡ
ＳＦ、１５分）。
【００３９】被検用クラッチ版を評価した。ポジティブ
試験素子（独立ドット：２００μｍ、グリッド：５５μ
ｍ、２％濃度のスクリーンフィールド（６０Ｌ／分））
がクラッチ版上に正しく形成される露光時間を評価し
た。全ポジティブ素子を正しく形成するまでの時間は、
露光下限（LEL: lower exposure limit)、すなわち正し
いイメージングのための最低露光継続時間として公知で
ある。
試験素子（独立ドット：２００μｍ、グリッド：５５μ
ｍ、２％濃度のスクリーンフィールド（６０Ｌ／分））
がクラッチ版上に正しく形成される露光時間を評価し
た。全ポジティブ素子を正しく形成するまでの時間は、
露光下限（LEL: lower exposure limit)、すなわち正し
いイメージングのための最低露光継続時間として公知で
ある。
【００４０】更に、ネガティブ素子、例えば４００μｍ
ネガティブドットと２００μの溝 (trench) を有する素
子を評価した。ネガティブドットの深さが７０μｍ未満
であるか、溝の深さが５００μｍ未満であると、正確な
インク転写が行われないことがある。これらのネガティ
ブ素子の少なくともいずれかがそれぞれ上述の限界を下
回る時間が露光上限（UEL: upper exposure limit)とし
て公知である。ＵＥＬとＬＥＬとの差はいわゆる露光寛
容度（EL: exposure latitude)である。実際にフレキソ
印刷板を使用するためには、上記の露光寛容度が正でな
ければならない。負の露光寛容度では、微細なネガティ
ブ素子が結合してしまい、一方のポジティブ素子は重合
を完了しないままとされる。
ネガティブドットと２００μの溝 (trench) を有する素
子を評価した。ネガティブドットの深さが７０μｍ未満
であるか、溝の深さが５００μｍ未満であると、正確な
インク転写が行われないことがある。これらのネガティ
ブ素子の少なくともいずれかがそれぞれ上述の限界を下
回る時間が露光上限（UEL: upper exposure limit)とし
て公知である。ＵＥＬとＬＥＬとの差はいわゆる露光寛
容度（EL: exposure latitude)である。実際にフレキソ
印刷板を使用するためには、上記の露光寛容度が正でな
ければならない。負の露光寛容度では、微細なネガティ
ブ素子が結合してしまい、一方のポジティブ素子は重合
を完了しないままとされる。
【００４１】以下の測定量、すなわちクラッチ硬度、異
方性因子及びオゾン亀裂に対する耐性も、被検クラッチ
版上で測定したものである。
方性因子及びオゾン亀裂に対する耐性も、被検クラッチ
版上で測定したものである。
【００４２】［実施例１］感光性混合物を調製するため
に、表１に記載の成分を記載の使用量で用い、上述の一
般的な処理方法により、光重合性フレキソ印刷板を得
た。
に、表１に記載の成分を記載の使用量で用い、上述の一
般的な処理方法により、光重合性フレキソ印刷板を得
た。
【００４３】
【表１】
【００４４】極めて透明な光重合性フレキソ印刷素子を
製造した。この素子は、非常に良好にフレキソ印刷クラ
ッチに加工された。
製造した。この素子は、非常に良好にフレキソ印刷クラ
ッチに加工された。
【００４５】測定値を表３に示す。
【００４６】［実施例２］可塑剤のｐｏｌｙｏｉｌ １
３０を、医療用ホワイトオイルに変更し、実施例１と同
様の操作を行った。
３０を、医療用ホワイトオイルに変更し、実施例１と同
様の操作を行った。
【００４７】測定値を表３に示す。
【００４８】［比較例１］Ｋｒａｔｏｎ Ｄ−ＫＸ２２
２を、Ｋｒａｔｏｎ Ｄ−ＫＸ２２５（鎖状ＳＢＳブロ
ック共重合体、ポリスチレン３０質量％）に変更し、実
施例１と同様の操作を行った。
２を、Ｋｒａｔｏｎ Ｄ−ＫＸ２２５（鎖状ＳＢＳブロ
ック共重合体、ポリスチレン３０質量％）に変更し、実
施例１と同様の操作を行った。
【００４９】得られた光重合性フレキソ印刷素子は完全
に透明ではなく、負の露光寛容度を示した。
に透明ではなく、負の露光寛容度を示した。
【００５０】測定値を表３に示す。
【００５１】［比較例２］Ｋｒａｔｏｎ Ｄ−ＫＸ２２
２を、Ｋｒａｔｏｎ Ｄ−ＫＸ２２５（鎖状ＳＢＳブロ
ック共重合体、ポリスチレン３０質量％）に、可塑剤の
ｐｏｌｙｏｉｌ１３０を医療用ホワイトオイルに変更
し、実施例１と同様の操作を行った。
２を、Ｋｒａｔｏｎ Ｄ−ＫＸ２２５（鎖状ＳＢＳブロ
ック共重合体、ポリスチレン３０質量％）に、可塑剤の
ｐｏｌｙｏｉｌ１３０を医療用ホワイトオイルに変更
し、実施例１と同様の操作を行った。
【００５２】光重合性フレキソ印刷素子は縞を有した。
得られたクラッチ版は濁りを有し、非常に形の悪い印刷
素子が得られたため、評価を行うことができなかった。
得られたクラッチ版は濁りを有し、非常に形の悪い印刷
素子が得られたため、評価を行うことができなかった。
【００５３】［比較例３］結合剤の使用をＫｒａｔｏｎ
Ｄ−ＫＸ２２２（ＳＢＳブロック共重合体）のみと
し、実施例１の操作を行った。
Ｄ−ＫＸ２２２（ＳＢＳブロック共重合体）のみと
し、実施例１の操作を行った。
【００５４】大きな異方性を有し、屈曲により破断す
る、比較的硬いクラッチ版が得られた。
る、比較的硬いクラッチ版が得られた。
【００５５】［比較例４］ＳＢＳ／ＳＩＳゴム混合割合
を８０／２０とし、実施例１に記載の操作を行った。
を８０／２０とし、実施例１に記載の操作を行った。
【００５６】異方性は比較例３よりも非常に低下したも
のの、なおも観察された。亀裂形成割合は大幅に低減し
たが、プレートは依然、破断を生じた。
のの、なおも観察された。亀裂形成割合は大幅に低減し
たが、プレートは依然、破断を生じた。
【００５７】［実施例３］ＳＢＳ／ＳＩＳ混合割合を７
０／３０とし、実施例１に記載の操作を行った。
０／３０とし、実施例１に記載の操作を行った。
【００５８】プレートはもはや異方性を全く有さず、柔
軟であり、破断することはなかった。
軟であり、破断することはなかった。
【００５９】［実施例４］ＳＢＳ／ＳＩＳ混合割合を１
０／９０とし、実施例１に記載の操作を行った。
０／９０とし、実施例１に記載の操作を行った。
【００６０】［比較例５］結合剤の使用をＳＩＳゴムの
みとし、実施例１に記載の操作を行った。
みとし、実施例１に記載の操作を行った。
【００６１】得られたプレートは、顕著なべたつきを有
し、長時間印刷に使用した後にはオゾン亀裂を示した。
し、長時間印刷に使用した後にはオゾン亀裂を示した。
【００６２】
【表２】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｇ０３Ｆ 7/032 Ｇ０３Ｆ 7/032 Ｆターム(参考） 2H025 AA12 AA13 AB02 AC01 AD01 BC12 CB16 CB59 CC05 FA17 2H096 AA02 BA05 GA08 2H114 AA01 AA14 AA23 AA27 AA30 BA01 DA46 DA47 DA64 EA01 EA02 FA12 FA16 4J026 AA17 AA68 AA69 AC16 AC32 BA27 BA28 BA36 BA38 BB08 BB10 DB06 DB36 FA08 GA07 GA08
Claims (7)
- 【請求項１】 結合剤としての少なくとも１種類の、ス
チレン含有率５〜２５質量％の熱可塑性エラストマーＳ
ＩＳブロック共重合体、４．９〜３０質量％の少なくと
も１種類のエチレン性不飽和モノマー、５〜４０質量％
の少なくとも１種類の可塑剤、および０．１〜５質量％
の少なくとも１種類の光開始剤または光開始剤組成物を
少なくとも含む光重合性組成物であって、 この混合物が更に、スチレン含有率が５〜２５質量％、
ビニル結合含有率が３５〜６５％の、少なくとも１種類
の熱可塑性エラストマーＳＢＳブロック共重合体を含
み、 ＳＢＳブロック共重合体／ＳＩＳブロック共重合体質量
割合が７０／３０〜１０／９０であり、 ５０〜９０質量％の結合剤混合物がＳＩＳブロック共重
合体とＳＢＳブロック共重合体から構成されていること
を特徴とする光重合性組成物。 - 【請求項２】 ビニル結合含有率が５０〜６０％であ
る、請求項１に記載の光重合性組成物。 - 【請求項３】 ＳＢＳブロック共重合体／ＳＩＳブロッ
ク共重合体の質量割合が６０／４０〜４０／６０であ
る、請求項１に記載の光重合性組成物。 - 【請求項４】 可塑剤がポリブタジエン油である、請求
項１または２に記載の光重合性組成物。 - 【請求項５】 ＳＩＳブロック共重合体が鎖状であり、
ＳＢＳブロック共重合体が放射状の構造を有する、請求
項１〜４のいずれかに記載の光重合性組成物。 - 【請求項６】 寸法安定な層基板と、この上に施された
光重合性層とを少なくとも有し、前記光重合性層が請求
項１〜３のいずれかに記載の光重合性組成物を含有す
る、光重合性フレキソ印刷素子。 - 【請求項７】 フレキソ印刷板の製造のための、請求項
６に記載の光重合性フレキソ印刷素子の使用法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE10021196 | 2000-05-03 | ||
| DE10021196.8 | 2000-05-03 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002072457A true JP2002072457A (ja) | 2002-03-12 |
Family
ID=7640433
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001132579A Pending JP2002072457A (ja) | 2000-05-03 | 2001-04-27 | 結合剤としてｓｉｓ／ｓｂｓ混合物を含有する、フレキソ印刷板を製造するための光重合性フレキソ印刷素子 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6531263B2 (ja) |
| EP (1) | EP1158364A3 (ja) |
| JP (1) | JP2002072457A (ja) |
Cited By (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2005031459A1 (ja) * | 2003-09-25 | 2005-04-07 | Zeon Corporation | 感光性フレキソ版用ブロック共重合体組成物 |
| JP2007140269A (ja) * | 2005-11-21 | 2007-06-07 | Asahi Kasei Chemicals Corp | フレキソ印刷用感光性樹脂組成物 |
| JPWO2007058163A1 (ja) * | 2005-11-21 | 2009-04-30 | 旭化成ケミカルズ株式会社 | フレキソ印刷版 |
| WO2010098356A1 (ja) | 2009-02-27 | 2010-09-02 | 日本ゼオン株式会社 | フレキソ版用ブロック共重合体組成物 |
| JP2011523716A (ja) * | 2008-05-19 | 2011-08-18 | フリント グループ ジャーマニー ゲーエムベーハー | Ｕｖインキで印刷するための光重合性フレキソ印刷エレメント |
| US8470929B2 (en) | 2009-03-31 | 2013-06-25 | Zeon Corporation | Composition for stretchable film |
| US8492480B2 (en) | 2008-03-31 | 2013-07-23 | Zeon Corporation | Block copolymer composition, method for producing the same, and film of the same |
| US8501869B2 (en) | 2008-12-26 | 2013-08-06 | Zeon Corporation | Block copolymer composition and hot-melt adhesive composition |
| US8598271B2 (en) | 2008-12-26 | 2013-12-03 | Zeon Corporation | Block copolymer composition, film, and method for producing block copolymer composition |
| US8722800B2 (en) | 2009-06-30 | 2014-05-13 | Zeon Corporation | Composition for stretchable film |
| US8791196B2 (en) | 2009-03-31 | 2014-07-29 | Zeon Corporation | Adhesive composition for labels |
| WO2019188604A1 (ja) | 2018-03-28 | 2019-10-03 | 日本ゼオン株式会社 | フレキソ版用ブロック共重合体組成物 |
Families Citing this family (17)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4230085B2 (ja) * | 2000-03-16 | 2009-02-25 | 旭化成ケミカルズ株式会社 | 改良されたフレキソ印刷版用感光性構成体 |
| RU2295145C9 (ru) * | 2001-08-03 | 2008-04-10 | XSYS Принт Солюшенс Дойчланд ГмбХ | Фоточувствительный флексографский элемент и способ изготовления формных пластин флексографской печати для печатания газет |
| US7012118B2 (en) * | 2002-02-07 | 2006-03-14 | Kraton Polymers U.S. Llc | Photopolymerizable compositions and flexographic plates prepared from controlled distribution block copolymers |
| US20040014877A1 (en) * | 2002-07-19 | 2004-01-22 | Null Volker Klaus | White oil as plasticizer in a polystyrene composition and process to prepare said oil |
| DE10258668A1 (de) * | 2002-12-13 | 2004-06-24 | Basf Ag | Verfahren zur Herstellung von Flexodruckformen mittels Lasergravur unter Verwendung von fotopolymeren Flexodruckelementen und fotopolymerisierbares Flexodruckelementen |
| EP1473595A1 (en) * | 2003-04-29 | 2004-11-03 | KRATON Polymers Research B.V. | Photopolymerizable compositions and flexographic printing plates derived therefrom |
| US20050005285A1 (en) * | 2003-07-03 | 2005-01-06 | General Electric Company | Method of protecting light sensitive optical article |
| US7682775B2 (en) * | 2004-03-05 | 2010-03-23 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Process for preparing a flexographic printing plate |
| US7241540B2 (en) * | 2004-04-27 | 2007-07-10 | Kraton Polymers U.S. Llc | Photocurable compositions and flexographic printing plates comprising the same |
| US7625959B2 (en) | 2004-09-16 | 2009-12-01 | Agfa Graphics, N.V. | Curable jettable liquid for flexography |
| EP1637926B1 (en) * | 2004-09-16 | 2009-04-22 | Agfa Graphics N.V. | Curable jettable liquid for the production of a flexographic printing plate |
| US20060205877A1 (en) * | 2005-03-11 | 2006-09-14 | Kraton Polymers U.S. Llc | Adhesive compositions comprising mixtures of block copolymers |
| US7872065B2 (en) * | 2005-03-11 | 2011-01-18 | Kraton Polymers U.S. Llc | Adhesive compositions comprising mixtures of block copolymers |
| JP5517233B2 (ja) * | 2005-05-20 | 2014-06-11 | シエル・インターナシヨネイル・リサーチ・マーチヤツピイ・ベー・ウイ | フィッシャー・トロプシュ誘導ホワイトオイルを担体油として含有する組成物 |
| US7704676B2 (en) * | 2007-09-04 | 2010-04-27 | Kraton Polymers U.S. Llc | Block copolymers having distinct isoprene and butadiene midblocks, method for making same, and uses for such block copolymers |
| DE102009044771A1 (de) | 2009-12-04 | 2011-06-09 | Bühler, Hans-Joachim, Dr. | Verfahren zum werkstoffähnlichen Recycling von Elastomer enthaltenden Abfällen aus der Flexodruckplattenverarbeitung |
| WO2019089915A1 (en) * | 2017-11-02 | 2019-05-09 | Northwestern University | A process for hierarchical manipulation of self-assembled polymer thin film patterns through in-film polymerization |
Family Cites Families (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4323636A (en) | 1971-04-01 | 1982-04-06 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Photosensitive block copolymer composition and elements |
| CA1099435A (en) | 1971-04-01 | 1981-04-14 | Gwendyline Y. Y. T. Chen | Photosensitive block copolymer composition and elements |
| DE3137416A1 (de) * | 1981-09-19 | 1983-03-31 | Basf Ag, 6700 Ludwigshafen | Fotopolymerisierbare gemische und elemente daraus |
| US4427759A (en) * | 1982-01-21 | 1984-01-24 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Process for preparing an overcoated photopolymer printing plate |
| DE3833650A1 (de) | 1988-10-04 | 1990-04-05 | Basf Ag | Kontinuierliches verfahren zur herstellung eines lichtempfindlichen aufzeichnungselements |
| US5247014A (en) * | 1990-07-27 | 1993-09-21 | Shell Oil Company | Method of chemically crosslinking unsaturated polymers |
| US5262275A (en) | 1992-08-07 | 1993-11-16 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Flexographic printing element having an IR ablatable layer and process for making a flexographic printing plate |
| JPH06202331A (ja) * | 1992-12-28 | 1994-07-22 | Nippon Zeon Co Ltd | 感光性エラストマー組成物及びそれを用いた感光性フレキソ版 |
| US5496684A (en) * | 1993-09-17 | 1996-03-05 | Chase Elastomer Corporation | Photosensitive compositions and elements for flexographic printing |
| JP3510393B2 (ja) | 1994-08-10 | 2004-03-29 | シエル・インターナシヨナル・リサーチ・マートスハツペイ・ベー・ヴエー | 光硬化性エラストマー組成物から得られるフレキソグラフ印刷プレート |
| DE19536805A1 (de) | 1995-10-02 | 1997-04-03 | Basf Lacke & Farben | Zur Herstellung von Flexodruckplatten durch digitale Informationsübertragung geeignetes mehrschichtiges Aufzeichnungselement |
| DE19639767A1 (de) * | 1996-09-27 | 1998-04-02 | Du Pont Deutschland | Flexographische Druckformen für UV härtbare Druckfarben |
| WO2000000546A1 (en) * | 1998-06-29 | 2000-01-06 | Shell Internationale Research Maatschappij B.V. | Photo-curable polymer composition and flexographic printing plates containing the same |
| DE19846529A1 (de) | 1998-10-09 | 2000-04-13 | Basf Drucksysteme Gmbh | Photopolymerisierbare Druckformen zur Herstellung von Reliefdruckplatten für den Druck mit UV-härtbaren Druckfarben |
| JP2000181060A (ja) * | 1998-12-15 | 2000-06-30 | Asahi Chem Ind Co Ltd | フレキソ印刷用感光性エラストマー組成物 |
-
2001
- 2001-04-26 EP EP01110297A patent/EP1158364A3/de not_active Withdrawn
- 2001-04-27 JP JP2001132579A patent/JP2002072457A/ja active Pending
- 2001-05-03 US US09/847,302 patent/US6531263B2/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (16)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7318985B2 (en) | 2003-09-25 | 2008-01-15 | Zeon Corporation | Block copolymer composition for photosensitive flexographic plate |
| WO2005031459A1 (ja) * | 2003-09-25 | 2005-04-07 | Zeon Corporation | 感光性フレキソ版用ブロック共重合体組成物 |
| JP2007140269A (ja) * | 2005-11-21 | 2007-06-07 | Asahi Kasei Chemicals Corp | フレキソ印刷用感光性樹脂組成物 |
| JPWO2007058163A1 (ja) * | 2005-11-21 | 2009-04-30 | 旭化成ケミカルズ株式会社 | フレキソ印刷版 |
| JP4703381B2 (ja) * | 2005-11-21 | 2011-06-15 | 旭化成イーマテリアルズ株式会社 | フレキソ印刷用感光性樹脂組成物 |
| JP4748812B2 (ja) * | 2005-11-21 | 2011-08-17 | 旭化成イーマテリアルズ株式会社 | フレキソ印刷版 |
| US8492480B2 (en) | 2008-03-31 | 2013-07-23 | Zeon Corporation | Block copolymer composition, method for producing the same, and film of the same |
| JP2011523716A (ja) * | 2008-05-19 | 2011-08-18 | フリント グループ ジャーマニー ゲーエムベーハー | Ｕｖインキで印刷するための光重合性フレキソ印刷エレメント |
| US8501869B2 (en) | 2008-12-26 | 2013-08-06 | Zeon Corporation | Block copolymer composition and hot-melt adhesive composition |
| US8598271B2 (en) | 2008-12-26 | 2013-12-03 | Zeon Corporation | Block copolymer composition, film, and method for producing block copolymer composition |
| WO2010098356A1 (ja) | 2009-02-27 | 2010-09-02 | 日本ゼオン株式会社 | フレキソ版用ブロック共重合体組成物 |
| US8578852B2 (en) | 2009-02-27 | 2013-11-12 | Zeon Corporation | Block copolymer composition for flexographic printing plates |
| US8470929B2 (en) | 2009-03-31 | 2013-06-25 | Zeon Corporation | Composition for stretchable film |
| US8791196B2 (en) | 2009-03-31 | 2014-07-29 | Zeon Corporation | Adhesive composition for labels |
| US8722800B2 (en) | 2009-06-30 | 2014-05-13 | Zeon Corporation | Composition for stretchable film |
| WO2019188604A1 (ja) | 2018-03-28 | 2019-10-03 | 日本ゼオン株式会社 | フレキソ版用ブロック共重合体組成物 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP1158364A2 (de) | 2001-11-28 |
| EP1158364A3 (de) | 2003-04-23 |
| US6531263B2 (en) | 2003-03-11 |
| US20020001775A1 (en) | 2002-01-03 |
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