JP2002071922A - 複数の光学素子を基体に連結する方法 - Google Patents

複数の光学素子を基体に連結する方法

Info

Publication number
JP2002071922A
JP2002071922A JP2001181684A JP2001181684A JP2002071922A JP 2002071922 A JP2002071922 A JP 2002071922A JP 2001181684 A JP2001181684 A JP 2001181684A JP 2001181684 A JP2001181684 A JP 2001181684A JP 2002071922 A JP2002071922 A JP 2002071922A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
mirror
substrate
facet mirror
facet
optical
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP2001181684A
Other languages
English (en)
Inventor
Frank Melzer
メルツァー フランク
Ulrich Bingel
ビンゲル ウルリッヒ
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Carl Zeiss AG
Original Assignee
Carl Zeiss AG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Carl Zeiss AG filed Critical Carl Zeiss AG
Publication of JP2002071922A publication Critical patent/JP2002071922A/ja
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G03F7/70808—Construction details, e.g. housing, load-lock, seals or windows for passing light in or out of apparatus
    • G03F7/70825—Mounting of individual elements, e.g. mounts, holders or supports
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
    • B23K26/02—Positioning or observing the workpiece, e.g. with respect to the point of impact; Aligning, aiming or focusing the laser beam
    • B23K26/06—Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing
    • B23K26/064—Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing by means of optical elements, e.g. lenses, mirrors or prisms
    • B23K26/0643—Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing by means of optical elements, e.g. lenses, mirrors or prisms comprising mirrors
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K28/00—Welding or cutting not covered by any of the preceding groups, e.g. electrolytic welding
    • B23K28/006—Welding metals by means of an electrolyte
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D1/00—Electroforming
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D5/00—Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
    • C25D5/02—Electroplating of selected surface areas
    • C25D5/022—Electroplating of selected surface areas using masking means
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/08—Mirrors
    • G02B5/09—Multifaceted or polygonal mirrors, e.g. polygonal scanning mirrors; Fresnel mirrors
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70058—Mask illumination systems
    • G03F7/702—Reflective illumination, i.e. reflective optical elements other than folding mirrors, e.g. extreme ultraviolet [EUV] illumination systems
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S359/00—Optical: systems and elements
    • Y10S359/90—Methods

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Epidemiology (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • Public Health (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
  • Laser Beam Processing (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Mounting And Adjusting Of Optical Elements (AREA)
  • Microscoopes, Condenser (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 特にＥＵＶ照明システム用のビームミキシン
グ及びフィールドイメージングのためのファセットミラ
ー１を製造するために複数の光学素子９を基体８に連結
する方法を提供する。 【解決手段】 個別光学素子９は、基体８、１４上に位
置し、次に電型プラスチックプロセスにより互いに連結
される。選択的に、複数の光学素子は、補助構造体１１
上に整列され、次に光学素子９は、電型プラスチックに
よりその裏側面が成長するように製造され、支持構造体
１４を基体として形成する。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、複数の光学素子を
基体に連結する方法、特にファセットミラーを製造する
方法に関する。また、本発明は上記の方法により製造さ
れたファセットミラーに関する。
【０００２】
【従来の技術】米国特許第4,277,141号では、特定の個
別ミラーが第１段階で形成され、次に個別ミラーが固定
及び整列され、接着剤により支持本体に接着されるよう
になる幾つかの段階で多重ファセットミラーが製造され
る方法が開示されている。
【０００３】米国特許第4,195,913号では、複数の個別
ミラーが球形の支持構造体上に接着結合されるか、また
はネジ締めされるファセットミラーが開示されている。
【０００４】米国特許第6,166,868号では、光学コンポ
ーネント用の光学マウントが開示されており、かかる光
学マウントにおいて内部部分は多数の弾性関節式バーに
より外部フレームに連結される。弾性関節式バーは、電
型プラスチックにより製造される。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、上述
した形態の複数の光学素子を連結する方法を提供するこ
とにあり、本発明は、多数の光学素子が特に位置及び角
度に対して高精度に基体上に配列できるようにして、例
えば、ビームミキシング及びフィールドイメージング操
作が高精度に実行できるようにする。
【０００６】本発明の他の目的は、均質の照明分布また
は均質の照明と、極めて正確なビームミキシング及びフ
ィールドイメージングとを生成する複数の個別光学ミラ
ー素子を備えるファセットミラーを形成することにあ
る。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記の目的は、本発明１
の特徴部に開示された方法による本発明により達成され
る。本発明による方法により製造されるファセットミラ
ーは、請求項１２に開示されている。
【０００８】本発明による方法によれば、完全に同一の
形態になり得る複数の個別光学素子は、電型プラスチッ
クプロセスにより、比較的に簡単な方法で、極めて精密
に、互いに且つ基体に連結できる。電型プラスチックプ
ロセスにより正確に再生可能な条件が作られるため、か
かる方法において、例えば、フィールドの均質照明を可
能にするファセットミラーを形成することができ、これ
により、対応的に良好なビームミキシング及び正確なフ
ィールドイメージングを可能にする。
【０００９】本発明による方法は、媒体範囲で不都合の
より高い光線強度を除去するビームミキシングまたは照
明が実現できる。これは、例えば、できる限り大きい均
質の照明領域をレティクル(reticle)(マスク)上に備え
ることが望ましいＥＵＶ照明システムを備える光学リソ
グラフィーに特に好都合である。
【００１０】本発明による方法は、下記の２つの製造原
理により実現可能である。
【００１１】１．光学素子は、電型プラスチック結合技
法により基体に連結でき、前記基体は、またガルバーニ
的に形成できる。
【００１２】基体のガルバーニ形成の場合、基体は、支
持本体上にファセットの位置は考慮するが、表面品質は
考慮しない方法で形成される。次に、求められる表面品
質は、例えば、基体上に位置させた後、共にガルバーニ
的に成長させることにより、基体に連結されるミラー素
子である光学素子により実現される。ガルバーニ結合
は、精密に、全体面積に、結果的に極めて正確な位置及
び結合を実現するだけでなく、ミラー素子から基体に迅
速に熱を除去する極めて良好な熱伝導性を実現する。
【００１３】２．製造される光学部分、例えば、ファセ
ットミラーのネガティブ形態を示す補助構造体におい
て、光学素子は、例えば、ミラー素子からファセットミ
ラーを製造するとき、そのミラー側面が補助構造体に向
かうように接着剤または樹脂により固定される。かかる
場合、光学素子の正確な位置及び整列は、補助構造体に
より規定される。かかる形態の固定により、補助構造体
を向かう光学表面、例えば、ミラー表面は、また次の電
型プラスチックプロセスの間に汚染物から保護される。
【００１４】全素子が元の位置に位置するや否や、完全
なユニットは、槽で陰極的に結合され、光学素子は、成
形または成長される本体に接着される。
【００１５】レンズが光学素子として使用される場合、
これらのレンズは光学表面のいずれかに固定される。次
に、この場合、第２光学表面は汚染物から別個に保護さ
れなければならない。レンズまたは非伝導性ミラー素子
は、対応するコーティングにより予め電気的に伝導性を
有するように製造されなければならない。
【００１６】本発明の有利な開発において、冷却及び/
又は補強ディバイスは、電型プラスチックプロセスの間
に成長する本体に合体されて提供できる。
【００１７】本発明による方法は、個別光学素子の良好
な熱伝達により、光学素子の効率的な冷却を可能にする
モノリシック本体を実質的に形成する。
【００１８】
【発明の実施の形態】本発明の他の利点規定及び開発
は、従属項と、図面を参照して後述する例示的な実施例
により明らかになる。
【００１９】以下、ファセットミラー(a faceted mirro
r)を製造する方法と、この方法により製造されたファセ
ットミラーについて、実施例を参照して説明する。しか
しながら、原則的として本発明の方法は、例えば、レン
ズ及びレンズアレイのような他の光学素子を共に連結ま
たは結合するにも適当である。図１で、一般にＥＵＶリ
ソグラフィー用の照明システムでは、ファセットミラー
１を使用する。例えば、レーザ光源２の光線は、収集器
ミラー３を介してファセットミラー１上に投射され、前
記光線は、偏向ミラー４を介してレティクル(マスク)５
に所望の均一照明で供給される。レティクル５のパター
ンは、レティクル５のイメージングのために、詳細に図
示しないプロジェクションレンズシステム６を介してウ
ェハ７に通過される。
【００２０】対応的に高精度、及び均質または所望の照
明を生成するファセットミラー１の製造は、基体８上で
図２により行なわれる。基体８は、例えば、ガルバーニ
手段により、最終ファセットミラー１に符合する要求条
件に対する局率及び位置に対して対応する機能的な表面
を形成することができる。表面品質のみが未だ足りな
い。次に、表面品質は、光学素子である個別ミラー素子
９により実現される。
【００２１】本発明の場合において、通常のガルバノ形
成の変形例として、例えば、２００〜３００個の素子で
ある複数のミラー素子は、例えば、ミリング、研磨及び
ポリシングのような従来の製造プロセスにより予め製造
される。その後、複数の同一のミラー素子は、基体８上
に位置及び整列され、その後下記の電型プラスチックプ
ロセスにより互いに連結される。かかる方法で、ファセ
ットミラーは、実質的に極めて精密な形態の単一モノリ
シック部分として最終的に製造される。
【００２２】たくさんの同一のミラー素子を製造するこ
とにより、ファセットミラーの製造は、また容易で、簡
単であり、そして費用が低減される。悪い品質のミラー
素子は、予め分離できるか、または特にその光学特性に
対して同一であるか、または実質的に同一であるミラー
素子９が選択される可能性がある。
【００２３】電型プラスチックプロセスは一般的に公知
されているため、かかるプロセスは、本明細書では詳細
に言及しない。原則的として、電型プラスチックプロセ
スは、基体８上の位置にミラー素子９を移動し、その後
全体のユニットを電解槽で陰極的に連結し、Ｃｕまたは
Ｎｉのような求められる材料をアノードとして使用し
て、部分等が共に成長して１つのユニットを形成せしめ
ることにより、行なわれる。かかる方法において、例え
ば、ある所望の厚さの銅層の成長が実現できる。
【００２４】原則的として、全ての伝導性材料、または
コーティングにより伝導性を有する材料は、ミラー用の
材料として考慮できる。ＥＵＶ照明システムにおいて、
求められる表面品質(０.２〜０.３ｎｍ ＲＭＳ)でポリ
シングすることが可能であるように保証される必要があ
る。更に、上記材料は良好な熱伝導性を有していなけれ
ばならない。上述した理由で、ニッケルでコーティング
された銅は、概してファセット材料として使用される。
【００２５】基体８上に位置するミラー素子９は、ミラ
ー素子９と基体８との間に中間層１０として示されてい
るように、電型プラスチック結合技法により基体８に連
結される。
【００２６】変形例として、図３によると、補助構造体
１１は、ミラー素子９の位置設定のために提供され得
る。より正確な適合性のために、補助構造体は、複数の
個別ダイ１２ａ、１２ｂ、１２ｃ、・・・に製造される
ことができ、前記複数の個別ダイ１２ａ、１２ｂ、１２
ｃ、・・・は、製造されるファセットミラーのためのネ
ガティブ形態で表面を共に形成し、球状の表面の場合
は、互いに距離を置いて対応的に置かれるか、または空
間のために中間キャップを提供する。
【００２７】ミラー素子は、例えば、接着剤または樹脂
１３により、補助構造体１１上でそのミラー側面と固定
される。かかる形態で整列及び固定することにより、ミ
ラー素子９のミラー表面は、次の電型プラスチックプロ
セスの間に汚染物から保護される。一旦、全ミラー素子
９が元の位置に位置すると、完全なディバイスが電解槽
で陰極的に連結され、上記素子等は成長本体で互いに連
結され、結果的にこれらは個別ミラー素子９のための支
持構造体１４を形成するか、または製造された本体に接
着される。
【００２８】レンズアレイを形成する場合、個別レンズ
は、同様に補助構造体１１上の光学表面のいずれかにそ
れぞれ固定される。次に、第２光学表面は、汚染物から
別々に保護されなければならない。レンズまたは非伝導
ミラー素子は、対応するコーティングにより、予め電気
的に伝導性を有するように製造されなければならない。
【００２９】十分に強い支持構造体１４を完成した後、
補強構造体は、成長が行なわれた後、または成長が行な
われると同時に、ガルバーニ手段により合体できるか、
またはこれらは対応的に成長するように製造できる。図
４では、支持構造体１４を補強するためのハニカム構造
体１５(ミラー素子はない)が示されている。
【００３０】また、図４に示すように、支持構造体１４
は、冷却チャンネル１６の形態の冷却システムを備える
ことができる。
【００３１】冷却チャンネル１６は、電型プラスチック
プロセスの間に形成できる。かかる目的のために、蛇行
状の対応するワックスインサートのみを提供すればよ
く、次にこれらのインサートは溶融除去される。
【００３２】更なる解決策は、銅チューブを蛇行状に位
置させ、次に電型プラスチックプロセスの間にこれを成
長せしめることである。かかる方法において、極めて良
好な熱伝達は、金属接着により得られる。
【００３３】また、本発明において、組合せが可能であ
ることは勿論である。この組合せは、冷却チャンネル１
６がその構造体内に形成できるか、またはハニカム自体
が冷却機能をすることのできるハニカム構造体１５を備
える支持構造体１４を形成するにも適用される。
【００３４】上記において、本発明の好適な実施の形態
について説明したが、本発明の請求範囲を逸脱すること
なく、当業者は種々の改変をなし得るであろう。
【００３５】
【発明の効果】従って、本発明によれば、フィールドの
均質照明を可能にするファセットミラーを形成すること
ができるため、良好なビームミキシング及び正確なフィ
ールドイメージングを可能にする。
【図面の簡単な説明】
【図１】マイクロリソグラフィーのためにＥＵＶ照明シ
ステムに配列された本発明によるファセットミラーの基
本構成図である。
【図２】ファセットミラーの第１製造方法を示す図であ
る。
【図３】ファセットミラーの第２製造方法を示す図であ
る。
【図４】ハニカム構造の補強体と冷却チャンネルを備え
るファセットミラー用の基体を示す図である。
【符号の説明】
１ ファセットミラー ２ 光源 ３ 収集器ミラー ４ 偏向ミラー ５ レティクル(マスク) ６ プロジェクションレンズシステム ７ ウェハ ８ 基体 ９ ミラー素子 １１ 補助構造体 １４ 支持構造体 １５ ハニカム構造体 １６ 冷却チャンネル
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｈ０１Ｌ 21/027 Ｈ０１Ｌ 21/30 ５２７ (71)出願人 500545919 Ｄ−89518 Ｈｅｉｄｅｎｈｅｉｍ ／ Ｇｅｒｍａｎｙ (72)発明者 フランク メルツァー ドイツ国 ディー−73469 ウツメミンゲ ン、 ノエルドリンゲル シュトラーセ 27 (72)発明者 ウルリッヒ ビンゲル ドイツ国 ディー−73457 ラウターバー グ、 ヒルテンテイヒシュトラーセ ３ Ｆターム(参考） 2H042 DA01 DA07 DA10 DA13 DA20 DA22 DB13 DC05 DC09 DC11 DD04 DD10 DE04 2H043 CA02 CB02 CB03 CD01 CE00 2H052 BA03 BA09 BA12 5F046 CA03 CA08 CB02 CB23

Claims (21)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 複数の光学素子を基体上で共に結合する
    方法であって、前記個別光学素子は、前記基体上に位置
    され、次に電型プラスチック結合技法により前記基体に
    結合されることを特徴とする結合方法。
  2. 【請求項２】 前記基体は、ガルバーニ的に形成される
    ことを特徴とする請求項１に記載の結合方法。
  3. 【請求項３】 前記光学素子は、ファセットミラー(fac
    eted mirror)であることを特徴とする請求項１に記載の
    結合方法。
  4. 【請求項４】 前記ファセットミラーは、ＥＵＶ照明シ
    ステム用のビームミキシング及びフィールドイメージン
    グ(beam mixing and field imaging)に利用されること
    を特徴とする請求項３に記載の結合方法。
  5. 【請求項５】 複数の光学素子を基体に結合する方法
    で、特に、例えば、ＥＵＶ照明システム用のビームミキ
    シング及びフィールドイメージングのためのファセット
    ミラーを製造する方法であって、前記複数の光学素子が
    補助構造体上に整列され、次に前記光学素子がその裏側
    上で電型プラスチックにより共に成長するように製造さ
    れ、前記基体として支持構造体を形成することを特徴と
    する方法。
  6. 【請求項６】 前記基体は、補強体を備えることを特徴
    とする請求項５に記載の方法。
  7. 【請求項７】 前記補強体は、ガルバーニ的に一体にな
    ることを特徴とする請求項６に記載の方法。
  8. 【請求項８】 前記基体は、ハニカム構造体の形態で形
    成されることを特徴とする請求項７に記載の方法。
  9. 【請求項９】 前記基体は、冷却チャンネルを含むこと
    を特徴とする請求項５に記載の方法。
  10. 【請求項１０】 前記冷却チャンネルは、後に除去され
    るコアにより、電型プラスチックプロセスで形成される
    ことを特徴とする請求項９に記載の方法。
  11. 【請求項１１】 前記冷却チャンネルは、電型プラスチ
    ックプロセスの間に成長する内蔵チューブにより形成さ
    れることを特徴とする請求項９に記載の方法。
  12. 【請求項１２】 前記補助構造体は、複数の部分により
    形成されており、スペーサまたは位置設定器がその複数
    の部分の間に置かれていることを特徴とする請求項５に
    記載の方法。
  13. 【請求項１３】 前記基体上の前記光学素子は、ファセ
    ットミラーに組合されることを特徴とする請求項５に記
    載の方法。
  14. 【請求項１４】 前記ファセットミラーは、ＥＵＶ照明
    システム用のビームミキシング及びフィールドイメージ
    ングに利用されることを特徴とする請求項１３に記載の
    方法。
  15. 【請求項１５】 複数のミラー素子が基体上に配列され
    ており、照明システム用のビームミキシング及びフィー
    ルドイメージングのためのファセットミラーであって、
    上記ミラー素子は、ガルバーニ結合技法により、前記基
    体に結合されることを特徴とするファセットミラー。
  16. 【請求項１６】 前記基体は、ガルバーニ的に形成され
    る請求項１５に記載のファセットミラー。
  17. 【請求項１７】 前記ミラー素子は、その裏側に基体で
    ある支持構造体を含み、前記ミラー素子が電型プラスチ
    ックにより前記支持構造体と結合されることを特徴とす
    る請求項１５に記載のファセットミラー。
  18. 【請求項１８】 前記基体は、補強体を含むことを特徴
    とする請求項１７に記載のファセットミラー。
  19. 【請求項１９】 前記補強体は、電型プラスチックによ
    り製造されることを特徴とする請求項１８に記載のファ
    セットミラー。
  20. 【請求項２０】 前記補強体は、ハニカム構造体の形態
    で製造されることを特徴とする請求項１９に記載のファ
    セットミラー。
  21. 【請求項２１】 前記基体は、冷却チャンネルを含むこ
    とを特徴とする請求項１７に記載のファセットミラー。
JP2001181684A 2000-06-21 2001-06-15 複数の光学素子を基体に連結する方法 Withdrawn JP2002071922A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE10030495A DE10030495A1 (de) 2000-06-21 2000-06-21 Verfahren zum Verbinden einer Vielzahl von optischen Elementen mit einem Grundkörper
DE10030495.8 2000-06-21

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2002071922A true JP2002071922A (ja) 2002-03-12

Family

ID=7646455

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001181684A Withdrawn JP2002071922A (ja) 2000-06-21 2001-06-15 複数の光学素子を基体に連結する方法

Country Status (4)

Country Link
US (1) US7034998B2 (ja)
EP (1) EP1168006B1 (ja)
JP (1) JP2002071922A (ja)
DE (2) DE10030495A1 (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7034998B2 (en) 2000-06-21 2006-04-25 Carl Zeiss Smt Ag Method of connecting a multiplicity of optical elements to a basic body
JP2006523944A (ja) * 2003-04-17 2006-10-19 カール・ツァイス・エスエムティー・アーゲー 照明装置のための光学素子
JP2010519725A (ja) * 2007-02-19 2010-06-03 カール・ツァイス・エスエムティー・アーゲー ファセットミラー及び投影露光装置の製造方法

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7246909B2 (en) * 2003-01-24 2007-07-24 Carl Zeiss Smt Ag Method for the production of a facetted mirror
DE10302664A1 (de) * 2003-01-24 2004-07-29 Carl Zeiss Smt Ag Verfahren zur Herstellung eines Facettenspiegels
EP1642173A1 (en) * 2003-07-09 2006-04-05 Carl Zeiss SMT AG Facet mirrors and a method for producing mirror facets
DE102005057325A1 (de) * 2005-12-01 2007-06-06 Carl Zeiss Smt Ag Vorrichtung zur Variation der Abbildungseigenschaften eines Spiegels
DE102006031654A1 (de) * 2006-04-24 2007-10-25 Carl Zeiss Smt Ag Facettenspiegel mit einer Vielzahl von Spiegelsegmenten
US8441747B2 (en) 2006-09-14 2013-05-14 Carl Zeiss Smt Gmbh Optical module with minimized overrun of the optical element
CN107976793A (zh) * 2017-12-13 2018-05-01 东方宏海新能源科技发展有限公司 聚光镜片的制作工艺

Family Cites Families (55)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1146667B (de) * 1957-07-02 1963-04-04 Hensoldt & Soehne M Polygonspiegel
CH371906A (de) 1958-08-11 1963-09-15 Optische Ind De Oude Delft Nv Halterung für optische Elemente
US3378469A (en) * 1964-04-03 1968-04-16 Electro Optical Systems Inc Electroforming technique and structure for reflecting mirrors
US3837125A (en) * 1973-09-04 1974-09-24 Celestron Pacific Method and system for making schmidt corrector lenses
US3917385A (en) * 1973-09-19 1975-11-04 Rockwell International Corp Simplified micropositioner
FI52440C (fi) 1975-09-04 1977-09-12 Pekema Oy Menetelmä ja laite sulan termoplastisen päällystysaineen pursottamisek si perusaineradalle siten, että päällysteaine on tietyiltä kohdin irti perusaineesta.
US4038971A (en) * 1975-10-22 1977-08-02 Bezborodko Joseph A I B Concave, mirrored solar collector
DE2637735C3 (de) * 1976-08-21 1979-12-13 Hughes Aircraft Co., Culver City, Calif. (V.St.A.) Vorrichtung zum Abtasten eines Blickfeldes
DD128439A1 (de) * 1976-10-13 1977-11-16 Wolfgang Schaefer Verfahren zur herstellung optischer bauelemente aus kunststoffen
GB2010523A (en) * 1977-10-12 1979-06-27 Crosfield Electronics Ltd Production of Reflective Surfaces
US4195913A (en) * 1977-11-09 1980-04-01 Spawr Optical Research, Inc. Optical integration with screw supports
US4236296A (en) * 1978-10-13 1980-12-02 Exxon Research & Engineering Co. Etch method of cleaving semiconductor diode laser wafers
US4338165A (en) * 1978-11-13 1982-07-06 National Association Of Theatre Owners, Inc. Method of making a high-gain projection screen
US4277141A (en) * 1979-03-28 1981-07-07 Tropel, Inc. Multifaceted mirror and assembly fixture and method of making such mirror
DE3030549C2 (de) * 1980-08-13 1983-01-20 Fa. Carl Zeiss, 7920 Heidenheim Vorrichtung zur Verstellung zweier spielfrei im Gewindeeingriff befindlicher Teile
JPS5790607A (en) 1980-11-28 1982-06-05 Fujitsu Ltd Optical glass fitting device
US4389115A (en) 1981-08-06 1983-06-21 Richter Thomas A Optical system
DD204320A1 (de) * 1981-10-30 1983-11-23 Volker Eberhardt Anordnung optischer bauelemente in mechanischen fuehrungen
DD215407A1 (de) 1983-04-04 1984-11-07 Zeiss Jena Veb Carl Ringfoermige linsenfassung fuer optische systeme hoher leistung
FR2552554A1 (fr) * 1983-09-23 1985-03-29 Leteurtre Jean Miroir pour faisceau lumineux, notamment laser de puissance
DE3544429A1 (de) 1985-12-16 1987-06-19 Juwedor Gmbh Verfahren zur galvanoplastischen herstellung von schmuckwaren
US4733945A (en) 1986-01-15 1988-03-29 The Perkin-Elmer Corporation Precision lens mounting
US4740276A (en) * 1987-05-08 1988-04-26 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force Fabrication of cooled faceplate segmented aperture mirrors (SAM) by electroforming
US5428482A (en) 1991-11-04 1995-06-27 General Signal Corporation Decoupled mount for optical element and stacked annuli assembly
DE4136580A1 (de) 1991-11-07 1993-05-13 Zeiss Carl Fa Objektivverstelleinrichtung und schraubengetriebe
DE4237775C1 (de) 1992-11-09 1994-01-20 Rodenstock Optik G Optisches System mit einem Linsensystem und einer Lichtquelle
FR2706630B1 (fr) * 1993-05-10 1995-09-08 Aerospatiale Procédé de fabrication d'un réflecteur à support en composite à matrice métallique, et réflecteur ainsi obtenu.
US5537262A (en) * 1993-10-19 1996-07-16 Asahi Kogaku Kogyo Kabushiki Kaisha Rotational torque setting apparatus for screw mechanism
US5482482A (en) * 1994-06-21 1996-01-09 Davis; Grover W. Air encircling marine propeller apparatus
DE19537137A1 (de) 1995-10-05 1997-04-10 Zeiss Carl Fa Metallmatrix-Hohlkugel-Kompositwerkstoff
DE19649993A1 (de) * 1996-11-22 1998-05-28 Berliner Inst Fuer Optik Gmbh Verfahren zur Herstellung eines ultraleichten Präzisions-Polygonspiegels mit hohem Reflexionsvermögen und danach hergestellter Polygonspiegel
US5891317A (en) * 1997-02-04 1999-04-06 Avon Products, Inc. Electroformed hollow jewelry
DE19735831A1 (de) * 1997-08-18 1999-02-25 Zeiss Carl Fa Galvanoplastische Optik-Fassung
DE19807120A1 (de) * 1998-02-20 1999-08-26 Zeiss Carl Fa Optisches System mit Polarisationskompensator
DE19825716A1 (de) 1998-06-09 1999-12-16 Zeiss Carl Fa Baugruppe aus optischem Element und Fassung
US6118577A (en) * 1998-08-06 2000-09-12 Euv, L.L.C Diffractive element in extreme-UV lithography condenser
DE19859634A1 (de) * 1998-12-23 2000-06-29 Zeiss Carl Fa Optisches System, insbesondere Projektionsbelichtungsanlage der Mikrolithographie
US6373552B1 (en) * 1999-01-20 2002-04-16 Asm Lithography B.V. Optical correction plate, and its application in a lithographic projection apparatus
DE19908554A1 (de) 1999-02-27 2000-08-31 Zeiss Carl Fa Verstellbare Baugruppe
DE19910947A1 (de) * 1999-03-12 2000-09-14 Zeiss Carl Fa Vorrichtung zum Verschieben eines optischen Elementes entlang der optischen Achse
DE19930643C2 (de) * 1999-07-02 2002-01-24 Zeiss Carl Baugruppe aus einem optischen Element und einer Fassung
US6155868A (en) * 1999-08-24 2000-12-05 Hon Hai Precision Ind. Co., Ltd. Electrical connector
DE10026541A1 (de) * 2000-05-27 2001-11-29 Zeiss Carl Vorrichtung zur präzisen Positionierung eines Bauteils, insbesondere eines optischen Bauteiles
DE10030005A1 (de) * 2000-06-17 2001-12-20 Zeiss Carl Objektiv, insbesondere Projektionsobjektiv in der Halbleiter-Lithographie
DE10030495A1 (de) 2000-06-21 2002-01-03 Zeiss Carl Verfahren zum Verbinden einer Vielzahl von optischen Elementen mit einem Grundkörper
DE10051706A1 (de) * 2000-10-18 2002-05-02 Zeiss Carl Vorrichtung zur Lagerung eines optischen Elementes
DE10053899A1 (de) * 2000-10-31 2002-05-08 Zeiss Carl Vorrichtung zur Lagerung eines optischen Elementes
DE10107674C2 (de) 2001-02-19 2003-04-30 Fraunhofer Ges Forschung Gekapselter, mehrstufiger Prozeßreaktor in der Galvanotechnik
DE10109031A1 (de) * 2001-02-24 2002-09-05 Zeiss Carl Optisches Strahlführungssystem und Verfahren zur Kontaminationsverhinderung optischer Komponenten hiervon
DE10123585C1 (de) 2001-05-15 2002-12-05 Fraunhofer Ges Forschung Verfahren zur Herstellung von aufschäumbaren Metallen oder Metallschäumen
DE10132408C2 (de) 2001-07-04 2003-08-21 Fraunhofer Ges Forschung Elektrode mit veränderbarer Form
DE10134559B4 (de) 2001-07-16 2008-10-30 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Verfahren zur Beschichtung von Bauteilen, mit dem Verfahren herstellbare Dispersionsschichten und Verwendung
DE10153542B4 (de) 2001-10-30 2006-11-23 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Verfahren zur Herstellung von Adaptern für Blutgefäße
DE10153541B4 (de) 2001-10-30 2008-05-08 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Blutgefäßadapter
DE10302771B4 (de) 2003-01-24 2006-07-27 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. System und Verfahren zur Herstellung von Mikrobauteilen

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7034998B2 (en) 2000-06-21 2006-04-25 Carl Zeiss Smt Ag Method of connecting a multiplicity of optical elements to a basic body
JP2006523944A (ja) * 2003-04-17 2006-10-19 カール・ツァイス・エスエムティー・アーゲー 照明装置のための光学素子
JP2010519725A (ja) * 2007-02-19 2010-06-03 カール・ツァイス・エスエムティー・アーゲー ファセットミラー及び投影露光装置の製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
DE10030495A1 (de) 2002-01-03
EP1168006B1 (de) 2006-07-05
DE50110380D1 (de) 2006-08-17
US7034998B2 (en) 2006-04-25
EP1168006A3 (de) 2004-03-10
US20020021507A1 (en) 2002-02-21
EP1168006A2 (de) 2002-01-02

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US9149964B2 (en) Method of molding, process for producing lens, molding apparatus, process for producing stamper, master production apparatus, stamper production system, and stamper production apparatus
US6487355B1 (en) Mounting and alignment structures for optical components providing optical axis direction deformation
US6541852B2 (en) Framed sheets
AU2008214228B2 (en) Metal trace fabrication for optical element
EP1785746B1 (en) Wafer level manufacturing of optical elements
JP2002071922A (ja) 複数の光学素子を基体に連結する方法
KR100431676B1 (ko) 마이크로 구조체 어레이와, 마이크로 구조체 어레이 및마이크로 구조체 어레이 성형용 금형 그리고 마이크로렌즈 어레이의 제조 방법
JP2001066403A (ja) 光学アセンブリ及びレンズ系を製造する方法
EP1865377A2 (en) Method of manufacturing high sag micro-lens and high sag micro-lens manufactured thereby
JPH11153734A (ja) 電鋳光学系マウント部
EP1041406B1 (en) Microstructure array, and methods of fabricating a microstructure array, a mold for forming a microstructure array, and a microlens array
US6898014B2 (en) Micro lens molding piece, micro lens molding piece producing method, micro lens stamper, micro lens stamper producing method, micro lens mold member, plastic lens array sheet, and projector
US7128474B2 (en) Optical device, enclosure and method of fabricating
US4528446A (en) Optoelectronic lens array with an integrated circuit
US5861637A (en) Surface-mounted module which permits the light output of an optical semiconductor device mounted thereon to be increased, and a method of producing the surface-mounted module
US6861720B1 (en) Placement template and method for placing optical dies
JPH07174992A (ja) アクチュエーチドミラーアレーの製造方法
US6856474B2 (en) Assembled multi-surface optical component and method for fabricating
JP4219677B2 (ja) 光学装置の製造方法
JPS62215908A (ja) 光学要素のマウントの構造および調整方法
JP2003195009A (ja) マイクロレンズアレイの製造方法
JP3955204B2 (ja) フェルールおよびフェルールの製造方法
JP2997085B2 (ja) 情報記録媒体形成用ロール状スタンパー
JP2004325595A (ja) 光学素子の固定構造及び固定方法
JP2003344719A (ja) レーザ集光機用保持具、及びレーザ集光機

Legal Events

Date Code Title Description
A711 Notification of change in applicant

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711

Effective date: 20040730

A300 Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300

Effective date: 20080902