JP2002055214A - 反射下地感光性エレメント、これを用いた感光層積層基板の製造法、拡散反射下地層積層基板の製造法及び拡散反射板の製造法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【課題】 耐薬品性、耐熱性、作業性及び生産性が優
れ、金属薄膜の部分的剥離がない拡散反射板を提供す
る。 【解決手段】 （Ａ）凹凸形成層を有する支持フィルム
の凹凸形成層を有する側に（Ｂ）分子内に１つ以上のエ
チレン性不飽和基および１つ以上のウレタン結合を有す
る一般式Ｉの光重合性化合物を含有する感光層、
（Ｂ′）光重合性不飽和基を有するアクリル系ポリマー
を含有する感光層又は（Ｂ″）アリール基を有するアク
リル系ポリマーを含有する感光層を積層した反射下地感
光性エレメント、並びに基板上にＢ感光層が密着するよ
うにして積層した感光層積層基板。 （Ｒ^１は独立に水素又はメチル基、Ｒ^２は独立にＣ２〜
８のアルキレン基、Ｒ^３は独立にヘキサメチレン、トリ
メチルヘキサメチレン、イソホロン、トリレン又はキシ
レン基を示し、ｍは１〜３の、ｎは１０〜２００の整数
である）

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、反射下地感光性エ
レメント、これを用いた感光層積層基板の製造法、拡散
反射下地層積層基板の製造法及び拡散反射板の製造法に
関する。

【０００２】

【従来の技術】液晶カラーテレビ、液晶カラー表示のコ
ンピューターなどが実用化されているが、これらの液晶
表示装置は、透明電極を設けたガラス等の透明な基板間
に１〜１０μｍ程度の間隔を設けて、その間に液晶物質
を封入し、電極間に印加した電圧により液晶物質を配向
しその濃淡により表示する仕組になっている。更に、カ
ラー表示のため、ガラスなどの光学的に透明な基板の表
面に２種以上の色相を異にする極めて微細なストライプ
状又はモザイク状のパターンを一定間隔に開けて、平行
又は交差して並べたカラーフィルターを設置している。

【０００３】上記カラーフィルターは、通常、透明基
板、着色パターン、保護膜、透明電極の順に形成されて
いる。着色パターンは２種以上の色相を異にする極めて
微細なストライプ状又はモザイク状のパターンからなる
ものである。

【０００４】近年、携帯パソコン、携帯電話及び小型ゲ
ーム機などが急速に普及しているが、これら装置は内蔵
電池での使用時間をできるだけ長く保持できることが望
まれている。対策の１つとして、内蔵電池の消費電力を
低減する方法がいくつか考案されている。消費電力を低
減する方法の１つに液晶画面の後面を照らすバックライ
トの点灯を止めて、自然光並びに蛍光灯などの外光を画
面に反射させ、画面を認識する方式が取られている。こ
れらを以下反射液晶と称する。

【０００５】この反射液晶の反射板の作製方法として
は、（１）感光性液状レジストを使用したフォト法、
（２）規定の大きさのビーズを液状レジストに分散、ス
ピンコートで成膜した後、熱硬化などを行う方法、
（３）プリント配線板の製造に頻繁に使用されているド
ライフィルムの形態に類似したフィルム状のレジストを
転写、露光、熱硬化し、反射下地層を形成する方法など
が考案又は実用されている。

【０００６】その後、これら方法で作製した反射下地層
に金属膜をスパッタ等で形成、カラーフィルター及びオ
ーバーコート等を成膜、ＩＴＯ電極形成、液晶封入等を
行うことによって、携帯パソコン、携帯電話及び小型ゲ
ーム機などの製品を製造する。しかしながら、前記反射
板を作製するための反射下地層はアクリル系樹脂を使用
することが主であり、現在、反射下地層形成後の工程
（カラーフィルタ成膜、オーバーコート成膜、ＩＴＯ電
極形成等）で金属膜の剥離などが発生し、これら製品の
歩留りが低下している。

【０００７】これに対して光を拡散反射し得る凹凸面と
なるようにした転写フイルムを使用し、転写フイルムの
薄膜層の被転写基板への接着面を基板表面に貼り合わ
せ、支持体を剥離して基板に薄膜層を転写し、さらに薄
膜層上に金属薄膜を付与することにより拡散反射板を形
成する方法（特開2000-47199公報）が提案されている。
しかしながら、この方法で拡散反射板を作製する際に
は、従来歩留まり良く製造できないという問題点があっ
た。これは、以下の理由により生じていた。

【０００８】液晶表示装置の製造においては、ＩＴＯな
どの透明電極形成やカラーフィルタ−形成やオーバーコ
ート層形成等の工程により、拡散反射板を設けた基板が
２００〜２５０℃程度の高温中に数回暴露されることと
なる。前記の方法では、拡散反射下地層上にスパッタ法
等で金属薄膜を積層して拡散反射板を形成しているが、
高温で暴露されることで拡散反射下地層を構成する有機
成分から分解ガスが発生し、これが拡散反射下地層と金
属薄膜との界面に滞留することにより金属薄膜の部分的
剥離が発生し、これにより歩留まり良く製造できないと
いう不具合を引き起こしていた。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】請求項１、２、３、
４、５、６、７、８及び９記載の発明は、耐薬品性、耐
熱性、作業性及び生産性が優れ、金属薄膜の部分的剥離
がなく、さらに外光をより効率良く利用して明るい表示
を得られ、歩留まりよく拡散反射板を製造するのに好適
な反射下地感光性エレメントを提供するものである。

【００１０】請求項１０記載の発明は、特に耐熱性に優
れることで、金属薄膜の部分的剥離がなく、さらに外光
をより効率良く利用して明るい表示を得られ、歩留まり
よく拡散反射板を製造するのに好適な感光層積層基板の
製造法を提供するものである。

【００１１】請求項１１記載の発明は、特に耐熱性に優
れることで、金属薄膜の部分的剥離がなく、さらに外光
をより効率良く利用して明るい表示を得られ、歩留まり
よく拡散反射板を製造するのに好適な拡散反射下地層積
層基板の製造法を提供するものである。

【００１２】請求項１２記載の発明は、特に耐熱性に優
れることで、金属薄膜の部分的剥離がなく、さらに外光
をより効率良く利用して明るい表示を得られ、歩留まり
よく反射型液晶表示装置用拡散反射板を製造するのに好
適な拡散反射板の製造法を提供するものである。

【００１３】

【課題を解決するための手段】本発明は、（Ａ）凹凸形
成層を有する支持フィルムの凹凸形成層を有する側に
（Ｂ）分子内に少なくとも１つのエチレン性不飽和基を
有し、かつ少なくとも１つのウレタン結合を有する光重
合性化合物を含有する感光層を積層した反射下地感光性
エレメントに関する。

【００１４】また、本発明は、凹凸形成層を有する支持
フィルムの凹凸形成層を有する側に（Ｂ′）光重合性不
飽和基を有するアクリル系ポリマーを含有する感光層を
積層した反射下地感光性エレメントに関する。また、本
発明は、凹凸形成層を有する支持フィルムの凹凸形成層
を有する側に（Ｂ″）アリール基を有するアクリル系ポ
リマーを含有する感光層を積層した反射下地感光性エレ
メントに関する。

【００１５】また、本発明は、さらに感光層が分子内に
少なくとも１つのエチレン性不飽和基を有し、かつ少な
くとも１つのウレタン結合を有する光重合性化合物を含
有する前記反射下地感光性エレメントに関する。また、
本発明は、さらに感光層が光重合性不飽和基を有するア
クリル系ポリマーを含有する前記反射下地感光性エレメ
ントに関する。また、本発明は、さらに感光層がアリー
ル基を有するアクリル系ポリマーを含有する前記反射下
地感光性エレメントに関する。また、本発明は、（Ａ）
光重合性不飽和基を有するアクリル系ポリマーがさらに
アリール基を有する前記反射下地感光性エレメントに関
する。

【００１６】また、本発明は、分子内に少なくとも１つ
のエチレン性不飽和基を有し、かつ少なくとも１つのウ
レタン結合を有する光重合性化合物が一般式（Ｉ）

【化２】 （式中、Ｒ¹は各々独立に水素原子又はメチル基を示
し、Ｒ²は各々独立に炭素数が２〜８のアルキレン基を
示し、Ｒ³は各々独立にヘキサメチレン基、トリメチル
ヘキサメチレン基、イソホロン基、トリレン基又はキシ
レン基を示し、ｍは１〜３の整数であり、ｎは１０〜２
００の整数である）で表される前記反射下地感光性エレ
メントに関する。

【００１７】また、本発明は、さらに（Ｂ）感光層がベ
ンゾイミダゾール又はベンゾイミダゾール誘導体を含有
する前記反射下地感光性エレメントに関する。

【００１８】また、本発明は、前記反射下地感光性エレ
メントを、基板上に（Ｂ）感光層が密着するようにして
積層することを特徴とする感光層積層基板の製造法に関
する。

【００１９】また、本発明は、前記感光層積層基板の製
造法により製造された感光層積層基板に活性光線を照射
し、露光部を光硬化させ、支持体を剥離することを特徴
とする拡散反射下地層積層基板の製造法に関する。

【００２０】また、本発明は、前記拡散反射下地層積層
基板の製造法により製造された拡散反射下地層積層基板
にさらに反射膜を形成することを特徴とする拡散反射板
の製造法に関する。

【００２１】

【発明の実施の形態】以下、本発明について詳細に説明
する。なお、本発明における（メタ）アクリル酸とはア
クリル酸及びそれに対応するメタクリル酸を意味し、
（メタ）アクリレートとはアクリレート及びそれに対応
するメタクリレートを意味し、（メタ）アクリロイル基
とはアクリロイル基及びそれに対応するメタクリロイル
基を意味する。

【００２２】本発明の反射下地感光性エレメントは、独
立した三つの特徴を有する。一つ目の特徴は、凹凸形成
層を有する支持フィルムの凹凸形成層を有する側に
（Ｂ）分子内に少なくとも１つのエチレン性不飽和基を
有し、かつ少なくとも１つのウレタン結合を有する光重
合性化合物を含有する感光層を積層してなることであ
る。二つ目の特徴は、凹凸形成層を有する支持フィルム
の凹凸形成層を有する側に（Ｂ′）光重合性不飽和基を
有するアクリル系ポリマーを含有する感光層を積層して
なることである。三つ目の特徴は、凹凸形成層を有する
支持フィルムの凹凸形成層を有する側に（Ｂ″）アリー
ルを有するアクリル系ポリマーを含有する感光層を積層
してなることである。

【００２３】前記支持フィルムは紫外線を透過できるも
のであれば特に制限はなく、例えば、厚さが２〜１００
μｍ程度のポリエステルフィルム（ポリエチレンテレフ
タレートフィルム等）、ポリプロピレンフィルムなどの
重合体フィルムが好ましい。このようなポリエステルフ
ィルムとしては、例えば、帝人(株)製テトロンフィル
ム、デュポン社製マイラーフィルム等のポリエステルフ
ィルム等が挙げられる。また、感光層を積層（ラミネー
ト）する際の基板が紫外線を透過できるものであれば、
感光層の光硬化は基板側から行なうことができるため、
前記支持フィルムは紫外線を透過できなくても良い。

【００２４】前記凹凸形成層を支持フィルムに形成する
方法としては、例えば、支持フィルムに光硬化性樹脂又
は熱硬化性樹脂を塗布し、金型を押し当てて凹凸面を形
成する方法、支持フィルムにサンドブラスト、レーザー
加工等の処理を施し、表面に凹凸を形成する方法、規定
の直径のビーズ又は滑剤を混練したものをフィルム化
し、支持フィルム上に積層する方法、支持フィルム製造
時に規定の直径のビーズ又は滑剤を混練し、フィルム化
する方法などが挙げられる。

【００２５】前記支持フィルムに存在する凹凸形成層の
表面の凹凸の最大高さ（Ｒ_y）は０．５〜５．０μｍで
あることが好ましく、０．５〜４．５μｍであることが
より好ましく、１．０〜４．０μｍであることが特に好
ましい。この最大高さ（Ｒ_y）が０．５〜５．０μｍの
範囲外では十分な反射特性が得られない傾向がある。な
お、上記最大高さ（Ｒ_y）はＪＩＳ Ｂ ０６０１に準
拠し、カットオフ値λ_c＝０．８mm、評価長さｌ_n＝４mm
としたときの値である。

【００２６】上記最大高さ（Ｒ_y）は、例えば、接触型
表面粗さ測定器、表面形状記憶顕微鏡（(株)キーエンス
製ＶＦ−７５００等）、超深度形状測定顕微鏡（(株)キ
ーエンス製ＶＫ−８５００等）などにより測定すること
ができるが、非接触測定が可能な表面形状記憶顕微鏡、
超深度形状測定顕微鏡等を使用することが好ましい。

【００２７】前記凹凸の形状については、例えば、外光
をより効率良く利用して明るい表示を得るために、垂直
な方向に散乱する光の強度を増加させることができるよ
うな構造を有するものであることが好ましい。

【００２８】前記感光層は、紫外線等の活性光線により
露光され、熱硬化により硬化が可能であることが好まし
く、（ａ）カルボキシル基を有する有機高分子化合物、
（ｂ）光重合開始剤及び（ｃ）分子内に少なくとも１つ
のエチレン性不飽和基を有する光重合性化合物を含有し
てなる感光性樹脂組成物を有することが好ましい。

【００２９】前記（ａ）カルボキシル基を有する有機高
分子化合物としては、特に制限はないが、架橋密度を高
める見地から感光性樹脂であることが好ましい。

【００３０】上記有機高分子化合物としては、例えば
（メタ）アクリル酸アルキルエステルと（メタ）アクリ
ル酸との共重合体、（メタ）アクリル酸アルキルエステ
ルと（メタ）アクリル酸とこれらと共重合し得るビニル
モノマーとの共重合体、（メタ）アクリル酸を共重合成
分として含むテレフタル酸、イソフタル酸、セバシン酸
等のポリエステル、ブタジエンとアクリロニトリルの共
重合体、セルロースアセテート、セルロースアセテート
ブチレート、メチルセルロース、エチルセルロース等が
挙げられる。また、例えば、上記共重合体にグリシジル
（メタ）アクリレート等を反応させ、感光性樹脂とする
ことができ、光重合性不飽和基又はアリール基を有する
アクリル系ポリマーであることが好ましい。これらは単
独で又は２種類以上を組み合わせて使用される。

【００３１】上記（メタ）アクリル酸アルキルエステル
としては、例えば（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）
アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸ブチル、（メ
タ）アクリル酸２−エチルヘキシル等が挙げられる。

【００３２】上記ビニルモノマーとしては、（メタ）ア
クリル酸ジメチルエチル、（メタ）アクリル酸テトラヒ
ドロフルフリル、２，２，２−トリフルオロエチル（メ
タ）アクリレート、２，２，３，３−テトラフルオロプ
ロピル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリ
レート、グリシジル（メタ）アクリレート、アクリルア
ミド、ジアセトンアクリルアミド、スチレン、ビニルト
ルエン等が挙げられる。

【００３３】前記光重合性不飽和基としては、例えば、
アリル基、（メタ）アクリロイル基、シンナモイル基等
の炭素−炭素二重結合を有する基などが挙げられる。こ
れらは単独で又は２種類以上を組み合わせて使用され
る。前記アリール基としては、例えば、フェニル基、ナ
フチル基、アントリル基などが挙げられ、これらの基は
炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ
ル基、ヒドロキシル基などで置換されていてもよい。こ
れらは単独で又は２種類以上を組み合わせて使用され
る。

【００３４】また、本発明におけるアクリル系ポリマー
は、光重合性不飽和基及びアリール基をともに有してい
ることが好ましい。また、合成容易性、耐熱性、現像性
等の点から、側鎖に光重合性不飽和基を有するスチレン
／アクリル共重合ポリマを用いることが好ましい。

【００３５】上記側鎖に光重合性不飽和基を有するスチ
レン／アクリル共重合ポリマーは、例えば、（ｉ）スチ
レン系単量体と（ii）アクリル系単量体と（iii）グリ
シジル基、カルボキシル基、ヒドロキシル基、イソシア
ナト基等の官能基を有する単量体とを共重合してなるス
チレン／アクリル共重合プレポリマーに、（iv）前記官
能基と反応可能な官能基及び光重合性不飽和基を有する
単量体を反応させて側鎖に光重合性不飽和基を導入する
ことにより得ることができる。

【００３６】上記スチレン／アクリル共重合ポリマーの
好ましい形態としては、例えば、（ｉ）スチレン系単量
体５〜４０重量％、（ii）アクリル系単量体１０〜７０
重量％、（iii）官能基を有するアクリル系単量体２５
〜４５重量％を共重合してなるスチレン／アクリル共重
合プレポリマー１００重量部に（iv）プレポリマーの官
能基と反応可能な官能基及び光重合性不飽和基を有する
単量体５〜４５重量部を反応させて側鎖に光重合性不飽
和基を導入したポリマーなどが挙げられる。

【００３７】上記（ｉ）スチレン系単量体としては、例
えば、α−メチルスチレン、スチレン、ｐ−メチルスチ
レン、ｐ−クロロスチレン等が挙げられ、入手容易性の
点から、スチレン及びｐ−メチルスチレンが好ましい。
これらは単独で又は２種類以上を組み合わせて使用され
る。

【００３８】前記（ii）アクリル系単量体としては、例
えば、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）ア
クリレート、ｎ−プロピル（メタ）アクリレート、iso
−プロピル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）
アクリレート、sec−ブチル（メタ）アクリレート、ｔ
−ブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル
（メタ）アクリレート等の炭素数１〜８のアルキル基を
有する（メタ）アクリレート等が挙げられ、入手容易
性、廉価性などの点から、メチルメタクリレート、エチ
ルアクリレートが好ましい。これらは単独で又は２種類
以上を組み合わせて使用される。

【００３９】前記（iii）グリシジル基、カルボキシル
基、ヒドロキシル基、イソシアナト基等の官能基を有す
る単量体としては、例えば、グリシジル（メタ）アクリ
レート、（メタ）アクリル酸、２−ヒドロキシエチル
（メタ）アクリレート、２−イソシアナトエチル（メ
タ）アクリレート等が挙げられ、入手容易性、廉価性の
点から、アクリル酸、メタクリル酸が好ましい。これら
は単独で又は２種類以上を組み合わせて使用される。

【００４０】前記（iv）プレポリマの官能基と反応可能
な官能基及び光重合性不飽和基を有する単量体において
光重合性不飽和基としては、例えば、アリル基、（メ
タ）アクリロイル基等が挙げられる。上記（iv）プレポ
リマの官能基と反応可能な官能基及び光重合性不飽和基
を有する単量体としては、例えば、前記（iii）グリシ
ジル基、カルボキシル基、ヒドロキシル基、イソシアナ
ト基等の官能基を有するアクリル系単量体で例示した化
合物と同じものが挙げられ、入手容易性、廉価性の点か
ら、グリシジル（メタ）アクリレートが好ましい。

【００４１】前記感光層に必要に応じて付与するアルカ
リ現像性という点から、前記有機高分子化合物の酸価を
７０〜１４０mgKOH/gとすることが好ましい。また、耐
熱性の点から前記有機高分子化合物の側鎖光重合性不飽
和基濃度は、０．５〜３．０ミリモル／ｇとすることが
好ましい。

【００４２】前記重量平均分子量は２０，０００〜３０
０，０００であることが好ましく、２５，０００〜１０
０，０００であることがより好ましい。この重量平均分
子量が２０，０００未満では感光層の流動性及び粘着力
が顕著に増大し、凹凸形成層との密着力が強くなりすぎ
るため凹凸形成層と感光層の界面で剥離性が悪化する傾
向があり、３００，０００を超えると感光層の流動性及
び粘着力が顕著に低下し、ラミネート時にガラス基板へ
張り付かず、また、フィルムを基板サイズに切断する
際、感光層の微小な切断くずが出やすくなり、周辺装置
の汚れの原因になる傾向がある。なお、本発明における
重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラ
フィーにより測定し、標準ポリスチレン換算したもので
ある。

【００４３】前記（ｂ）光重合開始剤としては、例え
ば、ベンゾフェノン、４，４′−ジメチルアミノベンゾ
フェノン（ミヒラーケトン）、４，４′−ジエチルアミ
ノベンゾフェノン、４−メトキシ−４′−ジメチルアミ
ノベンゾフェノン、２−エチルアントラキノン、フェナ
ントレンキノン等の芳香族ケトン、ベンゾインメチルエ
ーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインフェニ
ルエーテル等のベンゾイン、２−（ｏ−クロロフェニ
ル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２−
（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジ（ｍ−メトキシフ
ェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２
−（ｏ−フルオロフェニル）−４，５−ジフェニルイミ
ダゾール二量体、２−（ｏ−メトキシフェニル）−４，
５−ジフェニルイミダゾール二量体、２−（ｐ−メトキ
シフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量
体、２，４−ジ（ｐ−メトキシフェニル）−５−フェニ
ルイミダゾール二量体、２−（ｐ−メトキシフェニル）
−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２−（ｐ−
メチルメルカプトフェニル）−４，５−ジフェニルイミ
ダゾール二量体等の２，４，５−トリアリールイミダゾ
ール二量体、２−メチル−［４−（メチルチオ）フェニ
ル］−２−モルフォリノ）−１−プロパノン、１、７−
ビス（９−アクリジニル）ヘプタン等が用いられる。こ
れらは単独で又は２種類以上を組み合わせて使用され
る。

【００４４】前記（ｂ）分子内に少なくとも１つのエチ
レン性不飽和基を有する光重合性化合物としては、例え
ば、分子内に少なくとも１つのウレタン結合を有する光
重合性化合物、多価アルコールにα，β−不飽和カルボ
ン酸を付加して得られる化合物（トリメチロールプロパ
ンジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパント
リ（メタ）アクリレート、テトラメチロールメタントリ
（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ
（メタ）アクリレート等）、グリシジル基含有化合物に
α，β−不飽和カルボン酸を付加して得られる化合物
（トリメチロールプロパントリグリシジルエーテルトリ
（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡジグリシジル
エーテルジ（メタ）アクリレート等）、多価カルボン酸
（無水フタル酸等）と水酸基及びエチレン性不飽和基を
有する化合物（β−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレ
ート等）とのエステル化合物、（メタ）アクリル酸のア
ルキルエステル（（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）
アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸ブチル、（メ
タ）アクリル酸２−エチルヘキシル等）、２，２−ビス
（４−メタクリロキシポリエトキシフェニル）プロパン
等が等が挙げられ、分子内に少なくとも１つのウレタン
結合を有する光重合性化合物であることが好ましい。こ
れらは単独で又は２種類以上を組み合わせて使用され
る。

【００４５】前記分子内に少なくとも１つのエチレン性
不飽和基を有し、かつ少なくとも１つのウレタン結合を
有する光重合性化合物としては、例えば、前記一般式
（Ｉ）で表される化合物、新中村化学工業(株)製商品名
ＵＡ−１１、ＵＡ−１３、ＵＡ−２１等が挙げられ、耐
薬品性の見地からは前記一般式（Ｉ）で表される化合物
であることが好ましい。これらは単独で又は２種類以上
を組み合わせて使用される。

【００４６】上記ウレタン結合は分子内に少なくとも１
つであることが好ましく、少なくとも２つであることが
より好ましく、少なくとも４つであることが特に好まし
い。

【００４７】前記一般式（Ｉ）中、Ｒ¹は各々独立に水
素原子又はメチル基を示し、Ｒ²は各々独立に炭素数が
２〜８のアルキレン基を示し、Ｒ³は各々独立にヘキサ
メチレン基、トリメチルヘキサメチレン基、イソホロン
基、トリレン基又はキシレン基を示し、ｍは１〜３の整
数であり、ｎは１０〜２００の整数である。なお、一般
式（Ｉ）において、複数個のＲ¹、複数個のＲ²及び複数
個のＲ³は、各々独立に同一であってもよく、相違して
いてもよい。

【００４８】上記炭素数２〜８のアルキレン基として
は、例えば、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、
ペンチレン基、ヘキシレン基、ヘプチレン基、オクチレ
ン基、これらの構造異性体等が挙げられる。

【００４９】前記一般式（Ｉ）で表される化合物として
は、例えば、共栄社油脂(株)製商品名ＵＦ−８００３
（Ｒ¹＝水素原子、Ｒ²＝エチレン基及びヘキシレン基の
混合、Ｒ³＝イソホロン基、ｍ＝１、ｎ＝１００）等が
挙げられる。

【００５０】前記分子内に少なくとも１つのエチレン性
不飽和基を有し、かつ少なくとも１つのウレタン結合を
有する光重合性化合物の配合量は、（Ｂ）感光層の全固
形分重量に対して、８〜５５重量％であることが好まし
く、１０〜５５重量％であることがより好ましい。この
配合量が８重量％未満では光硬化及び後工程での熱硬化
が不充分となり、耐薬品性が極めて低下する傾向があ
り、５５重量％を超えるとフィルム状態に成膜した際の
感光層の硬度が低過ぎるため、フィルム端部からの樹脂
の染み出し（エッジフュージョン）が発生し、不良とな
る傾向がある。

【００５１】また、前記感光層は、前記ベンゾイミダゾ
ール又はベンゾイミダゾール誘導体を感光層の全固形分
重量に対して、０．０１〜５重量％含有することが好ま
しい。この配合量が０．０１重量％未満では耐薬品性が
不充分となる傾向があり、５重量％を超えると感光性樹
脂組成物の安定性が悪化する傾向がある。

【００５２】上記ベンゾイミダゾール又はベンゾイミダ
ゾール誘導体としては、例えば、２−メルカプトベンゾ
イミダゾール、２−メルカプト−５−カルボキシベンゾ
イミダゾール、２−メルカプト−４−アミノベンゾイミ
ダゾール、２−メルカプト−４−メチルベンゾイミダゾ
ール等が挙げられ、耐薬品性の見地から２−メルカプト
ベンゾイミダゾールであることが好ましい。これらは単
独で又は２種類以上を組み合わせて使用される。

【００５３】また、本発明の感光層には、熱重合性成分
安定剤、ヘキサメトキシメラミン等のメラミン樹脂など
の熱硬化性樹脂、顔料、染料等を含有させることができ
る。

【００５４】前記（ａ）成分の配合量は、感光層の全固
形分重量に対して、５０〜９０重量％であることが好ま
しい。この配合量が５０重量％未満では塗膜性が不充分
となる傾向があり、９０重量％を超えると硬化物の膜特
性及び耐熱性が低下する傾向がある。

【００５５】前記（ｂ）成分の配合量は、感光層の全固
形分重量に対して、０．１〜１０重量％であることが好
ましい。この配合量が０．１重量％未満では光感度が不
充分となる傾向があり、１０重量％を超えると露光の際
感光性樹脂層の表面での光吸収が増大し、内部の光硬化
が不充分となり、また、感光層内部で光重合開始剤が結
晶化し、製品として使用できなくなる傾向がある。

【００５６】前記（ｃ）成分の配合量は、感光層の全固
形分重量に対して、１０〜５０重量％であることが好ま
しい。この配合量が１０重量％未満では光感度が不充分
で硬化物の膜特性が低下する傾向があり、５０重量％を
超えると塗膜性が不充分となる傾向がある。上記（ｃ）
成分の総量中、前記ウレタン結合を有する光重合性化合
物は５０〜１００重量％であることが好ましい。

【００５７】また、前記感光性樹脂組成物には、必要に
応じて、シランカップリング剤などの密着性付与剤、レ
ベリング剤、剥離促進剤、可塑剤、充填剤、消泡剤、難
燃剤、熱重合成分安定剤、酸化防止剤、香料、熱架橋剤
などを（ａ）成分及び（ｂ）成分の総量１００重量部に
対して各々０．０１〜２０重量部程度含有することがで
きる。これらは、単独で又は２種類以上を組み合わせて
使用される。

【００５８】さらに、前記感光性樹脂組成物は、必要に
応じて、メタノール、エタノール、アセトン、メチルエ
チルケトン、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ト
ルエン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、プロピレング
リコールモノメチルエーテル等の溶剤又はこれらの混合
溶剤に溶解して固形分３０〜６０重量％程度の溶液とし
て塗布することができる。

【００５９】また、本発明の反射下地感光性エレメント
には、必要に応じて、感光層の支持フィルムとは反対側
に（Ｃ）保護フィルムを積層することができる。上記
（Ｃ）保護フィルムとしては、例えば、ポリエチレンフ
ィルム、２軸延伸ポリプロピレンフィルム、無延伸ポリ
プロピレンフィルム、ポリエステルフィルム並びに離形
処理を施したポリエステルフィルム等が挙げられる。

【００６０】上記（Ｃ）保護フィルムの厚さは５〜１２
０μｍであることが好ましく、１０〜４０μｍであるこ
とがより好ましい。この厚さが５μｍ未満では保護フィ
ルムが切れ、不良になり易い傾向があり、１２０μｍを
超えると後工程で保護フィルムを巻き取る際にしわにな
り、作業性が低下する傾向がある。

【００６１】本発明の反射下地感光性エレメントは、例
えば、前記したいずれかの方法で支持フィルム上に凹凸
形成層を形成し、その後、メチルエチルケトン、プロピ
レングリコールモノメチルエーテル等の溶液で希釈した
感光層の溶液をロールコータ、コンマコータ、グラビア
コータ、エアーナイフコータ、ダイコータ、バーコー
タ、スライドダイコータなどを使用し、ドクターブレー
ドコーティング法、マイヤーバーコーティング法、ロー
ルコーティング法、スクリーンコーティング法、スピナ
ーコーティング法、インクジェットコーティング法、ス
プレーコーティング法、ディップコーティング法、グラ
ビアコーティング法、カーテンコーティング法などの公
知の方法で塗布、乾燥後、保護フィルムを積層して得る
ことができる。

【００６２】また、本発明の反射下地感光性エレメント
の支持フィルムと感光層との間に反射膜を有していても
よい。

【００６３】本発明の反射下地感光性エレメントは、例
えば、基板上に必要に応じて加熱（１００〜２００℃程
度、３〜３０分間程度）した後、必要に応じて存在する
保護フィルムを剥がしながら感光層をラミネート（貼合
わせ）することができる。次いで、感光層の表面の凹凸
転写層を有する支持フィルムを剥離した後、露光、必要
に応じて、２５０〜２８０℃で１５分〜６０分熱硬化す
る。その後、必要に応じて基板上の感光層表面にアルミ
ニウム、金、銀等の金属を真空蒸着、スパッタリング等
をすることにより、反射板を作製することができる。

【００６４】上記基板は、透明であることが好ましく、
例えば、ガラス、プラスチック等が挙げられる。上記ラ
ミネート工程は、例えば、ホットロール（加熱可能なロ
ール）又はヒートシュー（加熱用のジャケット）とラミ
ネートロールにより、感光層を加熱し軟化しながら行う
ことができる。

【００６５】上記露光工程は、例えば、接触又は非接触
型の露光機等を用いて行うことができる。露光機のラン
プとしては、例えば、カーボンアーク灯、高圧水銀灯、
超高圧水銀灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ
等の紫外線を有効に放射するものを用いることができ
る。また、反射下地感光性エレメントは、例えば、特開
2000-47199号公報記載の反射板、装飾板、すりガラス、
白色板、光学フィルタ、集光板、減光板等に使用するこ
とができる。

【００６６】

【実施例】次に、本発明を実施例により詳細に説明す
る。

【００６７】実施例１〜７ ポリエステルフィルム（５０μｍ厚）上に表１記載の凹
凸転写用の感光性樹脂組成物を塗布し、金型を用いて凹
凸を転写、光硬化し、凹凸形成層を有する支持フィルム
（Ａ）を作製した。

【００６８】

【表１】

【００６９】その後、表２記載の反射下地用の感光性樹
脂組成物の溶液を凹凸転写面上に均一に塗布し、１００
℃の熱風対流式乾燥機で１０分間乾燥して乾燥後の膜厚
が３．５μｍ厚の反射下地用の感光層を形成し、その
後、２３μｍ厚のポリエチレンフィルムを保護フィルム
として積層し反射下地感光性エレメントを得た。

【００７０】

【表２】

【００７１】得られた反射下地感光性エレメントの保護
フィルムを剥がしながら、反射下地用の感光層を常温
（２３℃）のガラス基板上にロール温度１４０℃、ロー
ル圧６×１０⁵Pa、速度３．０ｍ／分でラミネートし
た。次いで、ポリエステルフィルムと凹凸形成層を除去
し、露光機ＨＭＷ−２０１Ｂ（３KW、超高圧水銀灯、
(株)オーク製作所製）で露光した後、２６０℃で３０分
熱硬化した。この際の露光量は、１２０mJ/cm²とした。
得られた膜を下記耐薬品性、保存安定性、歩留まりの評
価をし、その結果を表３及び表４に示した。

【００７２】＜耐薬品性（５重量％水酸化ナトリウム水
溶液）＞上記方法で作成したサンプルを３cm角にカット
し、２５℃、５重量％水酸化ナトリウム水溶液に５分浸
漬浸漬する。その後、水洗・乾燥後、アルミニウム金属
をスパッタリングし、１００倍の光学顕微鏡で表面観察
をした。 ○：金属はがれなし ×：金属はがれあり

【００７３】＜耐薬品性（６Ｎ塩酸）＞上記方法で作成
したサンプルを３cm角にカットし、２５℃、６Ｎ塩酸、
３分浸漬浸漬する。その後、水洗・乾燥後、アルミニウ
ム金属をスパッタリングし、１００倍の光学顕微鏡で表
面観察をした。 ○：金属はがれなし ×：金属はがれあり

【００７４】＜保存安定性＞上記製造方法で作成した反
射下地感光性エレメントを３５０mm幅にスリットし、直
径７６．２mmの支管に１００ｍ巻き取り、反射下地感光
性エレメントのロールを得た。このロールを温度：３０
℃、湿度：９０％ＲＨの条件で１５日保存し、ロール端
面からの感光層の染み出しの目視観察及び巻きほぐし試
験を行った。 ＯＫ：反射下地感光性樹脂層の染み出しなし、巻きほぐ
し可能 ＮＧ：反射下地感光性樹脂層の染み出しあり、かつ巻き
ほぐし時に樹脂はがれあり

【００７５】＜歩留り＞３６０×４６０mm角のガラス板
に３cm×３cmの角型パターンを１ガラス板当たり８０個
作成したものを１パネルとした。このパネルを１００パ
ネル作成し、角型パターンの良率を持って歩留りとし
た。

【００７６】

【表３】

【００７７】

【表４】

【００７８】実施例８ ８−Ｃ５（重量平均分子量４０，０００、側鎖光重合性
不飽和基濃度０．７ミリモル／ｇ、）５０重量部、ペン
タエリスリトールトリアクリレート４０重量部、イルガ
キュアー３６９（チバガイギー社製光重合開始剤製品
名）１．５重量部、Ｎ，Ｎ−テトラエチル−４，４′−
ジアミノベンゾフェノン０．５重量部、メチルエチルケ
トン６０重量部及びトルエン２０重量部を混合させ感光
性樹脂組成物の溶液を得た。

【００７９】凹凸形状を有する支持体としてサンドブラ
スト処理を施したポリエチレンテレフタレートフィルム
を使用し、上記感光性樹脂組成物を、この支持体上にコ
ンマコーターで乾燥５μｍの厚さに塗布し、１１０℃の
熱風対流式乾燥機で３分間乾燥した後ポリエチレンフィ
ルムを被覆することで、反射下地感光性エレメントを作
製した。

【００８０】次いで、得られた反射下地感光性エレメン
トのポリエチレンフィルムをはがしながら、厚さ１mmの
ソーダガラス基板の上に感光層を、ロール温度１２０
℃、ロール圧０．４Pa、速度０．５ｍ／分の条件でラミ
ネートして、ガラス基板、感光層、支持体が積層した基
板を得た。これに、支持体側から、３KW超高圧水銀灯
（ＨＭＷ−５９０、(株)オーク製作所製）で２００mJ/c
m²の紫外線を照射してから、支持体を引きはがしたとこ
ろ、感光層の表面はサンドブラスト加工された凹凸が転
写されており、拡散反射特性に優れた凹凸形状であっ
た。

【００８１】さらに、耐熱性を得るために、２３０℃の
熱風対流式乾燥機で３０分間熱硬化した後、反射膜とし
てアルミニウム膜をスパッタリング法により０．１μｍ
の厚さとなるように積層して、拡散反射板を作製した。
このようにして得られた拡散反射膜を、２５０℃で６０
分間加熱した後、拡散反射下地層とアルミニウム膜との
界面を観察したところ、拡散反射下地層からの分解ガス
によるアルミニウム膜の剥離は全く発生しておらず、良
好な拡散反射板としての形態を保持していた。

【００８２】また、実施例１〜７で得られた反射下地感
光性エレメントを用いて同様に拡散反射板を作製し、ア
ルミニウム膜の剥離性を評価したところ、いずれも良好
であった。

【００８３】比較例１ ８−Ｃ５の代わりにアクリル酸／アクリル酸エチル／メ
タクリル酸メチル共重合体（重量比で１７．５／３０／
５２．５）（プロピレングリコールモノメチルエーテル
溶媒で固形分４５重量％、重量平均分子量は４０，００
０、固形分酸価は１１０mgKOH/g、側鎖光重合性不飽和
基濃度は０ミリモル／ｇ）を用いた以外はすべて実施例
８と同様にして感光性樹脂組成物を調整し、これを用い
て実施例１と同様の方法により、ガラス基板、凹凸形状
を有する拡散反射下地層、アルミニウム膜が設けられた
拡散反射板を作製した。

【００８４】得られた拡散反射膜を、実施例１と同様
に、２５０℃で６０分間加熱した後、拡散反射下地層と
アルミニウム膜との界面を観察したところ、直径１〜１
０mmの円形状を有したアルミニウム膜剥離数が１０個／
１００cm²発生していた。

【００８５】

【発明の効果】請求項１、２、３、４、５、６、７、８
及び９記載の反射下地感光性エレメントは、耐薬品性、
耐熱性、作業性及び生産性が優れ、金属薄膜の部分的剥
離がなく、さらに外光をより効率良く利用して明るい表
示を得られ、歩留まりよく拡散反射板を製造するのに好
適である。

【００８６】請求項１０記載の感光層積層基板の製造法
は、特に耐熱性に優れることで、金属薄膜の部分的剥離
がなく、さらに外光をより効率良く利用して明るい表示
を得られ、歩留まりよく拡散反射板を製造するのに好適
である。

【００８７】請求項１１記載の拡散反射下地層積層基板
の製造法は、特に耐熱性に優れることで、金属薄膜の部
分的剥離がなく、さらに外光をより効率良く利用して明
るい表示を得られ、歩留まりよく拡散反射板を製造する
のに好適である。

【００８８】請求項１２記載の拡散反射板の製造法は、
特に耐熱性に優れることで、金属薄膜の部分的剥離がな
く、さらに外光をより効率良く利用して明るい表示を得
られ、歩留まりよく反射型液晶表示装置用拡散反射板を
製造するのに好適である。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） // Ｇ０３Ｆ 7/004 ５１２ Ｇ０３Ｆ 7/004 ５１２ ５２４ ５２４ 7/027 ５０２ 7/027 ５０２ 7/033 7/033 7/09 ５０１ 7/09 ５０１ Ｆターム(参考） 2H025 AA14 AB11 AB20 AC01 AD01 BC13 BC83 CB14 CB41 CC06 DA20 FA24 2H042 BA03 BA12 BA15 BA20 2H091 FA16Y FB04 FC01 FC23 FD15 FD16 LA04 LA12 4F100 AB10C AB24C AG00 AH07B AK03B AK25B AK41 AK51B AT00A BA02 BA03 BA07 BA10A BA10C CA30B DD07B EH66C GB41 JB01 JB14B JJ02 JK06 JL01 JL02 JN01A JN06C JN17B

Claims (12)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 （Ａ）凹凸形成層を有する支持フィルム
   の凹凸形成層を有する側に（Ｂ）分子内に少なくとも１
   つのエチレン性不飽和基を有し、かつ少なくとも１つの
   ウレタン結合を有する光重合性化合物を含有する感光層
   を積層した反射下地感光性エレメント。
2. 【請求項２】 凹凸形成層を有する支持フィルムの凹凸
   形成層を有する側に（Ｂ′）光重合性不飽和基を有する
   アクリル系ポリマーを含有する感光層を積層した反射下
   地感光性エレメント。
3. 【請求項３】 凹凸形成層を有する支持フィルムの凹凸
   形成層を有する側に（Ｂ″）アリール基を有するアクリ
   ル系ポリマーを含有する感光層を積層した反射下地感光
   性エレメント。
4. 【請求項４】 さらに感光層が分子内に少なくとも１つ
   のエチレン性不飽和基を有し、かつ少なくとも１つのウ
   レタン結合を有する光重合性化合物を含有する請求項２
   又は３記載の反射下地感光性エレメント。
5. 【請求項５】 さらに感光層が光重合性不飽和基を有す
   るアクリル系ポリマーを含有する請求項１記載の反射下
   地感光性エレメント。
6. 【請求項６】 さらに感光層がアリール基を有するアク
   リル系ポリマーを含有する請求項１記載の反射下地感光
   性エレメント。
7. 【請求項７】 （Ａ）光重合性不飽和基を有するアクリ
   ル系ポリマーがさらにアリール基を有する請求項２又は
   ５記載の反射下地感光性エレメント。
8. 【請求項８】 分子内に少なくとも１つのエチレン性不
   飽和基を有し、かつ少なくとも１つのウレタン結合を有
   する光重合性化合物が一般式（Ｉ） 【化１】 （式中、Ｒ¹は各々独立に水素原子又はメチル基を示
   し、Ｒ²は各々独立に炭素数が２〜８のアルキレン基を
   示し、Ｒ³は各々独立にヘキサメチレン基、トリメチル
   ヘキサメチレン基、イソホロン基、トリレン基又はキシ
   レン基を示し、ｍは１〜３の整数であり、ｎは１０〜２
   ００の整数である）で表される請求項１又は４記載の反
   射下地感光性エレメント。
9. 【請求項９】 さらに感光層がベンゾイミダゾール又は
   ベンゾイミダゾール誘導体を含有する請求項１、２、
   ３、４、５、６、７又は８記載の反射下地感光性エレメ
   ント。
10. 【請求項１０】 請求項１、２、３、４、５、６、７、
    ８又は９記載の反射下地感光性エレメントを、基板上に
    （Ｂ）感光層が密着するようにして積層することを特徴
    とする感光層積層基板の製造法。
11. 【請求項１１】 請求項１０記載の感光層積層基板の製
    造法により製造された感光層積層基板に活性光線を照射
    し、露光部を光硬化させ、支持体を剥離することを特徴
    とする拡散反射下地層積層基板の製造法。
12. 【請求項１２】 請求項１１記載の拡散反射下地層積層
    基板の製造法により製造された拡散反射下地層積層基板
    にさらに反射膜を形成することを特徴とする拡散反射板
    の製造法。