JP2002055204A

JP2002055204A - 反射防止膜付基材

Info

Publication number: JP2002055204A
Application number: JP2000244626A
Authority: JP
Inventors: Chihiro Sakurai; 井千尋桜; Mitsuaki Kumazawa; 沢光章熊; Hiroo Yoshitome; 留博雄吉; Michio Komatsu; 松通郎小
Original assignee: Catalysts and Chemicals Industries Co Ltd
Current assignee: JGC Catalysts and Chemicals Ltd
Priority date: 2000-08-11
Filing date: 2000-08-11
Publication date: 2002-02-20

Abstract

(57)【要約】【課題】基材の種類や性質に制約されることなく、基
材との密着性が良く、基材が硬いガラスなどの場合であ
っても耐擦傷性があり、基材が柔らかいプラスティック
などの場合であっても変形によりクラックが入りにく
く、基材から剥離することもない優れた弾性層付基材を
提供する。【解決手段】基材と、該基材上に形成された弾性層
と、該弾性層上に形成された反射防止膜とからなる反射
防止膜付基材であって、前記弾性層が、平均粒子径が
０.０５〜１０μｍの範囲にある無機酸化物粒子および
／または有機樹脂粒子を含んでなることを特徴とする反
射防止膜付基材。前記弾性層の屈折率（ｎ_H）と基材の
屈折率（ｎ_F）が下記式で表される関係にあることが望
ましい。０.８５ｎ_F ≦ ｎ_H ≦１.１０ｎ

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の技術分野】本発明は、弾性層が設けられた反射
防止膜付基材に関する。さらに詳しくは、前記弾性層が
特定の範囲の粒子径を有する粒子を含んでなるために、
基材を損傷したり、基材の透明性を阻害することが無
く、弾性層の屈折率が基材の屈折率と同じか同程度であ
るためにヘーズが小さく、このような弾性層上に形成さ
れた反射防止層あるいは必要に応じて設けられる導電層
は弾性層との密着性にも優れ、反射防止性能と必要に応
じて帯電防止性能あるいは電磁波遮蔽性能を有する反射
防止膜付基材に関する。

【０００２】

【発明の技術的背景】従来、各種表示装置、例えばＣＲ
Ｔ画面、ＬＣＤ画面、ＰＤＰ画面などのディスプレーの
表面やこれらの全面に設けられたガラスやプラスチック
などの基材の表面に、帯電防止あるいは電磁波遮蔽とと
もに反射防止を目的として導電層と低屈折率膜を設ける
ことが行われている。

【０００３】しかしながら、基材によっては、例えばガ
ラス等の硬い基材上に低屈折率膜や導電層を設けた場合
は傷が着きやすく、プラスチック等の柔らかい基材上に
設けた場合は低屈折率膜や導電層にクラックが入りやす
いなどの問題があった。このためフレキシブル性に富む
反射防止膜付基材の出現が望まれていた。そこで、特開
平１１−１３８６７７号公報には、プラスチックフィル
ムからなる透明基材と反射防止膜との間に硬さが２Ｈ以
上のハードコート層を設けた導電性反射防止フィルムが
提案されている。この特開平１１−１３８６７７号公報
には、この導電性反射防止フィルムをＣＲＴ画面、ＬＣ
Ｄ画面、ＰＤＰが面などのディスプレーなどに貼り付け
て使用される旨も開示されている。

【０００４】また、特開平９−６１６０４号公報には、
ポリエステルやポリカーボネートなどの基材フィルムと
多層反射防止膜との間にハードコート層を設けることが
開示されており、ハードコート層として、ポリオルガノ
シロキサン、シリカ、アルミナまたは有機多官能アクリ
ル樹脂などからなるものが提案されている。しかしなが
ら、上記したような従来のハードコート層は、形成する
際にクラックが入ったり、基材との密着性に劣ったり、
ハードコート層上に設けられる反射防止層との密着性に
劣ることがあり、特に基材が柔らかいプラスティックな
どの場合は、基材よりハードコート層が硬いために耐擦
傷性は向上しているものの、可撓性が低下するためにハ
ードコート層付基材の製造時あるいは装着時や使用時の
変形によりクラックが入り易いなどの欠点があった。

【０００５】

【発明の目的】本発明は、上記の問題点を解決するため
になされたものであり、基材の種類や性質に制約される
ことなく、基材との密着性が良く、基材が硬いガラスな
どの場合であっても耐擦傷性があり、基材が柔らかいプ
ラスティックなどの場合であっても変形によりクラック
が入りにくく、基材から剥離することもない優れた弾性
層付基材を提供することを目的としている。

【０００６】

【発明の概要】本発明の反射防止膜付基材は、基材と、
該基材上に形成された弾性層と、該弾性層上に形成され
た反射防止膜とからなる反射防止膜付基材であって、前
記弾性層が、平均粒子径が０.０５〜１０μｍの範囲に
ある無機酸化物粒子および／または有機樹脂粒子を含ん
でなることを特徴としている。

【０００７】前記弾性層の屈折率（ｎ_H）と基材の屈折
率（ｎ_F）は、下記式（１）で表される関係にあること
が好ましい。０.８５ｎ_F ≦ ｎ_H ≦１.１ｎ_F （１）前記弾性層の平均膜厚は、１〜２０μｍの範囲にあるこ
とが好ましい。前記弾性層と反射防止膜の間に導電層が
設けられていてもよい。

【０００８】前記弾性層は、無機酸化物粒子および／ま
たは有機樹脂粒子とマトリックス成分前駆体とが水およ
び／または有機溶媒に分散されてなる弾性層形成用塗布
液を、基材上に塗布・乾燥し、加熱硬化処理および／ま
たは紫外線硬化処理して得られたものが好ましい。

【０００９】

【発明の具体的説明】本発明に係る反射防止膜付基材
は、基材と、該基材上に形成された弾性層と、該弾性層
上に形成された反射防止膜とから構成されている。この
ような本発明に係る反射防止膜付基材の一実施例を図１
に示す。図１は本発明に係る反射防止膜付基材の模式断
面図を示すものであり、図中、添字１は基材、２は弾性
層、３は導電層、４は反射防止膜を示す。

【００１０】[基材]基材としては、硬質のものであって
も、軟質のものであってもよく、ガラスや、ポリカーボ
ネート、アクリル樹脂、ＰＥＴ、ＴＡＣ等のプラスティ
ックシート、プラスティックフィルム、プラスティック
パネル、その他成形体等を用いることができ、用途によ
って適宜選択することができる。

【００１１】[弾性層]この基材表面に弾性層が形成され
ている。本発明では、弾性層が、平均粒子径が０.０５
〜１０μｍの範囲にある無機酸化物粒子および／または
有機樹脂粒子を含んでいる。無機酸化物粒子無機酸化物粒子としては、平均粒子径が上記範囲にあれ
ば特に限定されるものではなく従来公知の粒子を用いる
ことができ、例えば、シリカ、アルミナ、チタニア、ジ
ルコニア、セリア、イットリア、マグネシア等の酸化物
粒子の他これらの２種以上の酸化物からなる複合酸化物
粒子を用いることができる。またこれら粒子を混合して
用いることもできる。

【００１２】このような無機酸化物粒子としては、例え
ば本願出願人の出願によるシリカ粒子（特開昭６３−６
４９１１号公報、特開昭６１−２７０２０１号公報、特
開平３−２７９９２３号公報）、チタニア粒子（特開昭
６１−１６８５２８号公報）、複合粒子（特開昭６１−
１６８５０３号公報）、ポリシロキサン粒子（特開平９
−５９３８４号公報、特開平１０−８３８０３７号公
報）等は単分散で真球状の粒子であるので好適に用いる
ことができる。

【００１３】有機樹脂粒子有機樹脂粒子としては、平均粒子径が上記範囲にあれば
特に限定されるものではなく従来公知の粒子を用いるこ
とができ、例えば、乳化重合、懸濁重合、あらかじめ重
合したポリマーを乳化分散する方法、両親媒性ポリマー
を分散剤として使用する沈殿重合法等によって得られる
有機樹脂粒子を用いることができる。

【００１４】このような樹脂粒子としては、例えば、ポ
リウレタン、スチレン−ブタジエン共重合体、アクリロ
ニトリル−ブタジエン共重合体、ナイロン系、ポリエス
テル系、ポリオレフィン系、シリコーン系のエラストマ
ー等のゴム状弾性を示すもの、ナイロン、ポリエステ
ル、ポリオレフィン、ポリメチルメタクリレート（ＰＭ
ＭＡ）、酢酸ビニル／アクリル酸エステル共重合体、エ
チレン／酢酸ビニル共重合体、アクリル酸エステル、ポ
リビニルアルコール、ポリスチレン等の合成高分子（樹
脂）、セルロース及びその誘導体、グアーガム等天然高
分子などから選択される樹脂粒子が挙げられる。

【００１５】またこれら粒子を２種以上混合して使用し
ても良い。特に、弾性層により柔軟性を付与したい場合
には、上記した有機樹脂粒子のなかでも、ポリウレタ
ン、スチレン−ブタジエン共重合体、アクリロニトリル
−ブタジエン共重合体、ナイロン系、ポリエステル系、
ポリオレフィン系、シリコーン系のエラストマー等のゴ
ム状弾性を示すものを使用することが望ましい。

【００１６】さらに、上記した無機酸化物粒子と有機樹
脂粒子を混合して用いることもできる。混合して用いる
ことにより、弾性層の硬度や可撓性を調節したり、後述
する弾性層の屈折率を調節することもできる。前記無機
酸化物粒子および／または有機樹脂粒子は、平均粒子径
が０.０５〜１０μｍ、好ましくは０.１〜３μｍの範囲
にある。なお、平均粒子径が０.０５μｍ未満の場合
は、粒子が小さすぎて粒子間隙による空隙が生成しにく
いために弾性が不充分であり、また粒子が小さすぎて、
弾性層表面が平坦になり、弾性層上に形成される導電層
や反射防止膜との密着性が低下することがある。また平
均粒子径が１０μｍを越えると、粒子が大きすぎて弾性
層にクラックが入りやすくなる傾向があり、得られる弾
性層の透明性が低下する傾向にあり、さらには、粒子間
隙による空隙が多くなりすぎて弾性層の屈折率が低くな
り、０.８５ｎＦ ≦ｎＨ ≦１.１ｎＦの条件を満たさ
ない場合が生じることがある。

【００１７】平均粒子径が上記の範囲にあると、弾性層
には粒子間隙による適度な空隙が生成し、形成される層
が弾性を発現するとともに、得られる弾性層の上部表面
が微小な凹凸を有するため、弾性層の上に設けられる導
電層または反射防止膜あるいは必要に応じて設けられる
撥水層、保護層、接着層等との密着性を向上させること
もできる。

【００１８】なお、上記のような粒子を含んでいない弾
性層（すなわちマトリックス成分のみからなる弾性層）
は、空隙が生成しないために硬度は高いものの、弾性、
可撓性が小さいためにクラックが入りやすい。これに対
して、上記粒子が入っていると弾性、可撓性があるため
に応力を吸収することができるので、傷が付きにくくな
り、見かけ上硬度が高い被膜付基材を得ることができ
る。

【００１９】マトリックス成分弾性層には、上記した粒子とともに、マトリックス成分
が含まれている。マトリックス成分とは、基材の表面に
被膜を形成しうる成分をいい、基材との密着性や硬度、
塗工性などの条件に適合する樹脂や酸化物等から選択し
て用いることができる。

【００２０】このようなマトリックス成分としては、通
常のハードコート層形成に用いられるマトリックス成分
が用いられる。具体的には、加水分解性有機ケイ素化合
物に由来するシリカ、アルカリ金属ケイ酸塩水溶液を脱
アルカリして得られるケイ酸液に由来するシリカなどが
挙げられる。また、アクリル樹脂、メラミン樹脂、ポリ
ビニルアルコール樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹
脂、ウレタン樹脂、塩化ビニル樹脂、フッ素樹脂、シリ
コン樹脂、ブチラール樹脂、フェノール樹脂、酢酸ビニ
ル樹脂、紫外線硬化樹脂、電子線硬化樹脂、エマルジョ
ン樹脂、水溶性樹脂、親水性樹脂等の樹脂、これらの混
合物なども好適に用いることができる。

【００２１】前記加水分解性有機ケイ素化合物としては
下記一般式［１］で表される加水分解性有機ケイ素化合
物が好適である。Ｒ_aＳi(ＯＲ')_4-a ［１］（式中、Ｒはビニル基、アリール基、アクリル基、炭素
数１〜８のアルキル基、水素原子またはハロゲン原子で
あり、Ｒ'はビニル基、アリール基、アクリル基、炭系
数１〜８のアルキル基、−Ｃ₂Ｈ₄ＯＣ_nＨ_2n+1（ｎ＝１
〜４）または水素原子であり、ａは０〜３の整数であ
る。）このような有機ケイ素化合物としては、テトラメトキシ
シラン、テトラエトキシシラン、テトライソプロポキシ
シラン、テトラブトキシシラン、テトラオクチルシラ
ン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシ
ラン、エチルトリエトキシシラン、メチルトリイソプロ
ポキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、フェニルト
リメトキシシラン、ジメチルジメトキシシランなどが挙
げられる。これらの加水分解性有機ケイ素化合物は混合
して用いることもできる。

【００２２】このような弾性層中の無機酸化物粒子およ
び／または有機樹脂粒子の含有量は酸化物または樹脂と
して１０〜９０重量％、好ましくは２０〜５０重量％の
範囲にあることが好ましい。無機酸化物粒子および／ま
たは有機樹脂粒子の含有量が１０重量％未満の場合は、
粒子の量が少ないために粒子間隙による空隙が充分生成
せず、このため弾性、可撓性が充分発現しないために応
力の吸収が不充分となり、耐擦傷性が向上せず、見かけ
上の膜の硬度が向上することもない。また、基材および
基材上に設けられる導電層または反射防止膜との密着性
が不充分となることがある。

【００２３】無機酸化物粒子および／または有機樹脂粒
子の含有量が９０重量％を越えると、さらに空隙が増加
して弾性、可撓性が増すこともなく、バインダーとして
のマトリックスが少なすぎてクラックが入りやすく、ま
た基材との密着性が不充分となることがある。このよう
な弾性層の屈折率（ｎ_H）と基材の屈折率（ｎ_F）が下記
式（１）で表される関係にあることが好ましい。

【００２４】０.８５ｎ_F ≦ ｎ_H ≦ １.１０ｎ_F （１）さらに好ましくは、０.９０ｎ_F ≦ ｎ_H ≦ １.０５ｎ_F （１’）ハードコート層の屈折率（ｎ_H）が上記範囲にあればヘ
ーズに優れた反射防止膜付基材を得ることができる。ま
た、上記範囲の弾性層の屈折率（ｎ_H）を得るために
は、必要に応じて、前述したように、屈折率の異なる粒
子を、後述するマトリックス成分（バインダー成分）の
屈折率、および粒子との混合割合などを考慮して混合し
て用いることができる。

【００２５】基材表面に形成される弾性層の平均膜厚は
１〜２０μｍ、好ましくは２〜１０μｍの範囲にあるこ
とが望ましい。弾性層の平均膜厚が１μｍ未満の場合
は、弾性層が薄すぎて応力を充分吸収することができな
いために耐擦傷性の向上が不充分となる。弾性層の平均
膜厚が２０μｍを越えると、弾性層が厚すぎて製膜時に
クラックを生じたり、密着性が不充分となって剥離を伴
うことがある。

【００２６】弾性層形成用塗布液このような弾性層は、弾性層形成用塗布液を基材表面に
塗布・乾燥することによって形成される。本発明に用い
る弾性層形成用塗布液は、前記した無機酸化物粒子およ
び／または有機樹脂粒子とマトリックス成分前駆体が水
および／または有機溶媒に分散あるいは溶解されてな
る。

【００２７】無機酸化物粒子および／または有機樹脂粒
子としては前記したと同様の粒子を用いることができ
る。マトリックス成分前駆体マトリックス成分前駆体としては、前記した有機ケイ素
化合物を水および／または有機溶媒中で酸または塩基触
媒の存在下、部分加水分解して得られるシリカ前駆体が
好ましい。また前記した樹脂も好適に用いることができ
る。

【００２８】有機溶媒有機溶媒としては、メタノール、エタノール、プロパノ
ール、ブタノール、ジアセトンアルコール、フルフリル
アルコール、テトラヒドロフルフリルアルコール、エチ
レングリコール、ヘキシレングリコールなどのアルコー
ル類；酢酸メチルエステル、酢酸エチルエステルなどの
エステル類；ジエチルエーテル、エチレングリコールモ
ノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエー
テル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチ
レングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコ
ールモノエチルエーテルなどのエーテル類；アセトン、
メチルエチルケトン、アセチルアセトン、アセト酢酸エ
ステルなどのケトン類、メチルセロソルブ、エチルセロ
ソルブなどのセロソルブ類、ジクロルエタンなどのハロ
ゲン化炭化水素、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化
水素、N,N-ジメチルホルムアミドなどのアミド類、フレ
オンなどが挙げられる。これらは単独で使用してもよ
く、また２種以上混合して使用してもよい。

【００２９】なお有機溶媒は、使用される粒子、マトリ
ックス前駆体の種類に応じて、分散性、溶解性を考慮に
いれて適宜選択される。弾性層形成用塗布液の調製方法たとえばマトリックスがシリカの場合、弾性層形成用塗
布液は、マトリックス成分前駆体として上記の有機ケイ
素化合物の１種または２種以上を、水および／または有
機溶媒中で酸または塩基触媒の存在下、加水分解して得
たシリカ前駆体分散液に、必要に応じて有機溶媒で希釈
し、これに前記無機酸化物粒子および／または有機樹脂
粒子を混合して得ることができる。

【００３０】またマトリックスが樹脂マトリックスの場
合は、弾性層形成用塗布液は、マトリックス成分前駆体
として前記樹脂を水および／または有機溶媒に溶解また
は分散させ、これに前記無機酸化物粒子および／または
有機樹脂粒子を混合して得ることができる。弾性層形成
用塗布液中の粒子とマトリックス成分前駆体の重量割合
は、酸化物または樹脂として、粒子／マトリックス＝１
／９〜９／１の範囲にあることが好ましい。さらに好ま
しくは２／８〜５／５の範囲である。

【００３１】重量比が１／９未満の場合は粒子が少な
く、得られる弾性層中に空隙が充分生成せず応力吸収が
不充分となり、弾性層の見かけの硬度が向上しないこと
がある。重量比が９／１を越えると得られる弾性層中の
空隙が多く多孔質になりすぎて屈折率が低下しすぎて膜
にヘーズが生じたり、膜の強度が低下することがある。
また、マトリックス成分が少なすぎて粒子同士の結合
（バインディング）が不充分となり、弾性層の強度およ
び可撓性が不充分となるとともに基材との密着性が不充
分となる。

【００３２】なお、このときの弾性層中の空隙の割合
は、粒子の種類や粒子径およびマトリックス成分の種類
などによって異なるが１〜３０容積％の範囲にあること
が好ましい。また空隙の割合は、基材から弾性層を剥離
し、剥離した弾性層の面積（Ａ）、重量（Ｗ）を測定す
るとともに厚さを触針式表面粗さ測定機（東京精密
（株）製：サーフコム−５７０Ａ）で弾性層の厚さ
（ｄ）を求め、下記計算式によって求めることができ
る。

【００３３】空隙率（容積％）＝［１−Ｗ／｛Ａ×ｄ×
(ａ×ρ１＋ｂ×ρ２)｝］×１００Ｗ：弾性層の重量ｄ：弾性層の厚さＡ：弾性層の面積ａ：マトリックス成分の割合（重量％） ρ１：マトリックス成分の密度ｂ：無機酸化物粒子成分の割合 ρ２：無機酸化物粒子成分の密度このような弾性層形成用塗布液中の無機酸化物粒子およ
び／または有機樹脂粒子とマトリックス形成成分前駆体
の酸化物または樹脂としての合計濃度（固形分濃度とい
うこともある）は１０〜７０重量％、好ましくは３０〜
６０重量％の範囲にあることが望ましい。

【００３４】上記合計濃度が１０重量％未満の場合は濃
度が低すぎて１回の塗布で所望の膜厚の弾性層を得られ
ないことがあり、このため塗布を繰り返して行った場合
は均一な膜厚の弾性層が得られないことがある。また、
合計濃度が７０重量％を越えると、塗布液の安定性が低
下したり、得られる膜にクラックが生じたりヘーズが生
じ、弾性層の強度が低下することがあり、さらには弾性
層が厚くなり過ぎたり、不均一な膜厚の弾性層となるこ
とがある。

【００３５】なお、上記において、塗布液中の無機酸化
物粒子および／または有機樹脂粒子の濃度は、酸化物お
よび／または樹脂として概ね５〜６０重量％、好ましく
は２０〜５０重量％の範囲にあることが望ましい。ま
た、塗布液中に含まれるマトリックス形成成分前駆体の
濃度は、酸化物または樹脂として概ね５〜４０重量％、
好ましくは１０〜２０重量％の範囲にあることが望まし
い。

【００３６】さらにまた、本発明で使用される弾性層形
成用塗布液には、被膜の透明性や硬度、基材との密着性
を阻害しない程度に少量の導電性物質などの機能性材料
が含まれていてもよい。このようにしておくと、たとえ
ば、後述する導電層をもうけない場合であっても、反射
防止膜付基材に帯電防止性能などを付与することができ
る。

【００３７】弾性層の形成弾性層の形成方法としては、前記した塗布液を、基材等
の材質に応じて、ディッピング法、スピナー法、スプレ
ー法、ロールコーター法、フレキソ印刷法など方法で塗
布した後、乾燥する湿式薄膜形成方法が好ましい。本発
明では、前記した弾性層形成用塗布液を塗布した後、乾
燥時、または乾燥後に、１００℃以上で加熱するか、未
硬化の被膜に可視光線よりも波長の短い紫外線、電子
線、Ｘ線、γ線などの電磁波を照射するか、あるいはシ
リカ系マトリックスを用いた場合はさらにアンモニアな
どの活性ガス雰囲気中に晒してもよい。このようにする
と、被膜形成成分の硬化が促進され、得られる透明被膜
の硬度が高くなる。

【００３８】得られる弾性層の平均膜厚は１〜２０μｍ
の範囲にあることが好ましい。さらに好ましくは２〜１
０μｍの範囲である。弾性層の平均膜厚が１μｍ未満の
場合は、弾性層が薄すぎて応力を充分吸収することがで
きないために耐擦傷性の向上が不充分となる。弾性層の
平均膜厚が２０μｍを越えると、弾性層が厚すぎて製膜
時にクラックを生じたり、密着性が不充分となって剥離
を伴うことがある。さらに弾性層が厚すぎて透明性が低
下しヘーズが大きくなることがある。

【００３９】［反射防止膜］本発明では、前記弾性層上
に反射防止膜が形成されている。この反射防止膜は弾性
層よりも屈折率が低いことが好ましい。具体的には、弾
性層の屈折率にもよるが反射防止膜の屈折率は１.６０
以下、さらに好ましくは１.５０以下である。前記反射
防止膜は、通常、無機酸化物マトリックスからなる。

【００４０】無機酸化物マトリックスとしては、シリ
カ、シリカ・ジルコニア、シリカ・チタニアなどのシリ
カあるいはシリカ系複合酸化物が挙げられる。これらの
内でも特にシリカが好ましく、通常アルコキシシラン化
合物の加水分解・縮重合物が使用される。さらに、この
ような無機酸化物マトリックスに低屈折率の無機酸化物
微粒子を配合して用いることができる。このような無機
酸化物微粒子としては、屈折率が１.６０以下、好まし
くは１.５０以下で、平均粒子径が５〜３００ｎｍの範
囲にある酸化物微粒子、複合酸化物微粒子を好適に用い
ることができる。

【００４１】特に、複合酸化物微粒子の中でも、シリカ
とシリカ以外の無機酸化物からなり、多孔質の核粒子ま
たは空洞と、厚さが１〜５０ｎｍの範囲にあるシリカ被
覆層からなり、シリカをＳiＯ₂で表し、シリカ以外の無
機酸化物をＭＯ_xで表したときのモル比ＭＯ_x／ＳiＯ₂が
０.０００１〜０.３の範囲にあり、平均粒子径が５〜３
００ｎｍの範囲にあるような複合酸化物微粒子は、屈折
率が通常１.４０以下と低く、このような複合酸化物微
粒子を含んでなる反射防止膜は屈折率が１.４３以下と
なり、優れた反射防止性能を有している。

【００４２】このような反射防止膜の膜厚は、５０〜３
００ｎｍ、好ましくは８０〜２００ｎｍの範囲にあるこ
とが好ましい。反射防止膜の膜厚が５０ｎｍ未満の場合
は、下層に金属微粒子を含む透明導電層を設けた場合な
どに低反射を実現しようとすると透明導電層を薄くする
必要があり、導電性が不充分となることがある。

【００４３】反射防止膜の膜厚が３００ｎｍを越える場
合は、反射防止膜が厚すぎて光透過率が低下して透明性
が悪化したり外観も悪くなる。このような反射防止膜は
反射防止層形成用塗布液を用いて形成される。本発明に
用いる反射防止膜形成用塗布液は、無機酸化物マトリッ
クス前駆体を含んでなる反射防止膜形成用塗布液であっ
て、必要に応じて、前記した無機化合物微粒子を含んで
いる。

【００４４】無機酸化物マトリックス前駆体としては、
得られる被膜が透明性を有し、弾性層より屈折率の低い
反射防止膜が得られれば特に制限はないが、シリカ、シ
リカ・チタニア、シリカ・ジルコニアなどの無機酸化物
の前駆体、複合酸化物の前駆体が挙げられる。このと
き、前駆体とは、ケイ素化合物、チタン化合物、ジルコ
ニウム化合物の塩またはこれらの加水分解物から選ばれ
る１種または２種以上を意味している。

【００４５】中でも、加水分解性有機ケイ素化合物の部
分加水分解物、加水分解重縮合物、またはアルカリ金属
ケイ酸塩水溶液を脱アルカリして得られるケイ酸液、特
に下記一般式［１］で表されるアルコキシシランの加水
分解重縮合物であるシリカ前駆体が好ましい。Ｒ_aＳi(ＯＲ')_4-a ［１］（式中、Ｒはビニル基、アリール基、アクリル基、炭素
数１〜８のアルキル基、水素原子またはハロゲン原子で
あり、Ｒ'はビニル基、アリール基、アクリル基、炭系
数１〜８のアルキル基、−Ｃ₂Ｈ₄ＯＣ_nＨ_2n+1（ｎ＝１
〜４）または水素原子であり、ａは０〜３の整数であ
る。）このようなアルコキシランとしては、テトラメト
キシシラン、テトラエトキシシラン、テトライソプロポ
キシシラン、テトラブトキシシラン、テトラオクチルシ
ラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシ
シラン、エチルトリエトキシシラン、メチルトリイソプ
ロポキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、フェニル
トリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシランなどが
挙げられる。

【００４６】さらに、前記シリカ前駆体の分子量はポリ
スチレン換算の分子量で５００〜１０,０００の範囲に
あることが好ましく、特に好ましい範囲は７００〜２,
５００である。ポリスチレン換算の分子量で５００未満
の場合は、塗布液中に未加水分解物が存在することがあ
り、下層（弾性層）に均一に塗布できないことがある。
また仮に塗布したとしても下層（弾性層）との密着性に
劣ることがある。

【００４７】ポリスチレン換算の分子量で１０,０００
を越えると被膜の強度が低下する傾向にある。このよう
な無機酸化物マトリックス前駆体を含む塗布液から形成
される反射防止膜は、基材上に形成された弾性層よりも
屈折率が小さく、得られる反射防止層付基材は反射防止
性能に優れている。

【００４８】反射防止膜形成用塗布液の調製方法上記のケイ素化合物、チタニウム化合物、ジルコニウム
化合物の塩の１種または２種以上を、水および／または
有機溶媒中で酸または塩基触媒の存在下、加水分解する
と無機酸化物マトリックス前駆体分散液が得られる。こ
の無機酸化物マトリックス前駆体分散液に必要に応じて
前記無機酸化物微粒子（前記酸化物微粒子や複合酸化物
微粒子）を混合して本発明に用いる反射防止膜形成用塗
布液を得ることができる。

【００４９】また、上記のアルコキシシランの１種また
は２種以上を、たとえば水−アルコール混合溶媒中で酸
触媒の存在下、加水分解してアルコキシシランの加水分
解重縮合物からなる無機酸化物マトリックス前駆体分散
液を調製したのち、必要に応じて前記無機酸化物微粒子
（前記酸化物微粒子や複合酸化物微粒子）を混合しても
本発明に用いる反射防止膜形成用塗布液を得ることがで
きる。

【００５０】このようにして得られる塗布液中に含まれ
る無機酸化物マトリックス前駆体の濃度は、酸化物換算
で０.０５〜１０重量％、好ましくは０.２〜５.０重量
％の範囲にあることが望ましい。塗布液中に含まれる無
機酸化物マトリックス前駆体の濃度が０.０５重量％未
満の場合は、得られる膜の膜厚が薄くなり、耐薬品性や
反射防止性能に劣ることがある。また１回の塗布で充分
な膜厚の膜を得られないことがあり、このため塗布を繰
り返して行った場合は均一な膜厚の膜が得られないこと
がある。

【００５１】無機酸化物マトリックス前駆体の濃度が１
０重量％を越えると得られる膜にクラックが生じたり、
膜の強度が低下することがある。また膜が厚過ぎて反射
防止性能が不充分となることがある。また、塗布液中に
含まれる無機酸化物微粒子の濃度は、酸化物換算で０.
０５〜３重量％の範囲にあることが好ましい。特に好ま
しくは０.２〜２重量％の範囲である。

【００５２】塗布液に含まれる無機酸化物微粒子の濃度
が０.０５重量％未満の場合は、無機酸化物微粒子の量
が少なすぎて形成される反射防止膜の反射防止性能が劣
ることがあり、無機酸化物微粒子の濃度が３重量％を越
えると得られる反射防止膜にクラックが生じたり、強度
が低下することがある。このような本発明で使用される
反射防止膜形成用塗布液には、フッ化マグネシウムなど
の低屈折率材料で構成された微微粒子、反射防止膜の透
明度および反射防止性能を阻害しない程度に少量の導電
性微微粒子および／または染料または顔料などの添加剤
が含まれていてもよい。

【００５３】反射防止膜の形成反射防止膜の形成方法としては、特に制限はなく、前記
した塗布液を、基材等の材質や形状に応じて、ディッピ
ング法、スピナー法、スプレー法、ロールコーター法、
フレキソ印刷法など方法で塗布した後、乾燥する湿式薄
膜形成方法を採用することができる。

【００５４】また、形成する反射防止膜の膜厚は、５０
〜３００nm、好ましくは８０〜２００nmの範囲であるこ
とが好ましく、このような範囲の膜厚であると優れた耐
久性を発揮するとともにボトム反射率および視感反射率
が低く優れた反射防止性能を発揮する。ここでボトム反
射率とは、可視光域（波長域：４００〜７００ｎｍ）で
の最も低い反射率を言い、視感反射率とは可視光全域に
わたる反射率の平均値を言うが、厳密には視感立体角反
射率を百分率で表した値を言う。

【００５５】反射防止膜の膜厚が５０ｎｍ未満の場合
は、膜の強度、耐久性、反射防止性能等が劣ることがあ
る。反射防止膜の膜厚が３００ｎｍを越えると、膜にク
ラックが発生したり膜の強度が低下することがあり、ま
た膜が厚過ぎて反射防止性能が不充分となることがあ
る。

【００５６】本発明では、このような反射防止膜形成用
塗布液を塗布して形成した被膜を、乾燥時、または乾燥
後に、１００℃以上で加熱するか、未硬化の被膜に可視
光線よりも波長の短い紫外線、電子線、Ｘ線、γ線など
の電磁波を照射するか、あるいはアンモニアなどの活性
ガス雰囲気中に晒してもよい。このようにすると、被膜
形成成分の硬化が促進され、得られる透明被膜の硬度が
高くなる。

【００５７】さらに、反射防止膜形成用塗布液を塗布し
て被膜を形成する際に、下層（弾性層）が設けられた基
材を約４０〜９０℃に保持しながら反射防止膜形成用塗
布液をスプレー法で塗布して、前記のような処理を行う
と、反射防止膜の表面にリング状の凹凸が形成され、ギ
ラツキの少ないアンチグレアの反射防止膜付基材が得ら
れる。

【００５８】また、図１に示されるように弾性層と反射
防止膜との間に、後述する導電層を設ける場合、反射防
止膜と弾性層との屈折率の差は概ね０.３以上、好まし
くは０.６以上あることが望ましい。屈折率の差が０.３
未満の場合は反射防止性能が不充分となることがある。 [透明導電層]本発明の反射防止膜付基材は、さらに前記
弾性層と反射防止膜の間に導電層が設けられていてもよ
い。

【００５９】導電層は透明性を有する透明導電層である
ことが好ましい。透明導電層としては、１０¹²Ω／□以
下の表面抵抗を有するものであれば、とくに、制限され
るものではなく、公知の導電材料を使用することができ
る。なお、帯電防止機能を有する透明導電層の場合、概
ね１０⁷〜１０¹²Ω／□程度の表面抵抗を有し、電磁遮
蔽用の透明導電層では１０²〜１０⁴Ω／□のような低い
表面抵抗を有している。

【００６０】透明導電材料としては、金属、導電性無機
酸化物、導電性カーボンなどの無機系導電材料、ポリア
セチレン、ポリピロール、ポリチオフェン、ポリアニリ
ン、ポリイソチアナフテン、ポリアズレン、ポリフェニ
レン、ポリ-p-フェニレン、ポリ-p-フェニレンビニレ
ン、ポリ-2,5-チエニレンビニレン、ポリアセチレン、
ポリアセン、ポリペリナフタレンなどの導電性高分子が
使用される。

【００６１】上記導電性高分子には、必要に応じてこれ
らにドーパントイオンをドーピングされていてもよい。
本発明では、導電材料としては、金属、導電性無機酸化
物、導電性カーボンなどの無機系導電材料が望ましい。
透明導電層は、通常、金属微粒子または導電性無機微粒
子（本明細書では、これらを単に導電性微粒子というこ
ともある）から構成される。

【００６２】金属微粒子としては、従来公知の金属微粒
子を用いることができ、この金属微粒子は単一成分から
なる金属微粒子であってもよく、２種以上の金属成分を
含む複合金属微粒子であってもよい。前記複合金属微粒
子を構成する２種以上の金属は、固溶状態にある合金で
あっても、固溶状態にない共晶体であってもよく、合金
と共晶体が共存していてもよい。このような複合金属微
粒子は、金属の酸化やイオン化が抑制されるため、複合
金属微粒子の粒子成長等が抑制され、複合金属微粒子の
耐腐食性が高く、導電性、光透過率の低下が小さいなど
信頼性に優れている。

【００６３】このような金属微粒子としては、Ａu、Ａ
g、Ｐd、Ｐt、Ｒh、Ｒu、Ｃu、Ｆe、Ｎi、Ｃo、Ｓn、Ｔ
i、Ｉn、Ａl、Ｔa、Ｓbなどからなる群から選ばれる少
なくとも１種の金属の微粒子が挙げられる。また、複合
金属微粒子としては、Ａu、Ａg、Ｐd、Ｐt、Ｒh、Ｒu、
Ｃu、Ｆe、Ｎi、Ｃo、Ｓn、Ｔi、Ｉn、Ａl、Ｔa、Ｓbな
どからなる群から選ばれる少なくとも２種以上の金属か
らなる複合金属微粒子が挙げられる。複合金属微粒子の
好ましい２種以上の金属の組合せとしては、Ａu-Ｃu、
Ａg-Ｐt、Ａg-Ｐd、Ａu-Ｐd、Ａu-Ｒh、Ｐt-Ｐd、Ｐt-
Ｒh、Ｆe-Ｎi、Ｎi-Ｐd、Ｆe-Ｃo、Ｃu-Ｃo、Ｒu-Ａg、
Ａu-Ｃu-Ａg、Ａg-Ｃu-Ｐt、Ａg-Ｃu-Ｐd、Ａg-Ａu-Ｐ
d、Ａu-Ｒh-Ｐd、Ａg-Ｐt-Ｐd、Ａg-Ｐt-Ｒh、Ｆe-Ｎi-
Ｐd、Ｆe-Ｃo-Ｐd、Ｃu-Ｃo-Ｐd などが挙げられる。

【００６４】また、Ａu、Ａg、Ｐd、Ｐt、Ｒh、Ｃu、Ｃ
o、Ｓn、Ｉn、Ｔaなどの金属からなる金属微粒子を用い
る場合は、その一部が酸化状態にあってもよく、該金属
の酸化物を含んでいてもよい。さらに、ＰやＢ原子が結
合して含有していてもよい。このような金属微粒子は、
たとえば以下のような公知の方法（特開平１０−１８８
６８１号公報）によって得ることができる。

【００６５】また、導電性無機微粒子としては、公知の
透明導電性無機酸化物微粒子あるいは微粒子カーボンな
どを用いることができる。透明導電性無機酸化物微粒子
としては、たとえば酸化錫、Ｓb、ＦまたはＰがドーピ
ングざれた酸化錫、酸化インジウム、ＳnまたはＦがド
ーピングされた酸化インジウム、酸化アンチモン、低次
酸化チタンなどが挙げられる。

【００６６】これらの導電性無機微粒子の平均粒径は、
１〜２００nm、好ましくは２〜１５０nmの範囲にあるこ
とが好ましい。このような透明導電層は、透明導電性被
膜形成用塗布液を使用して作製することができる。透明
導電性被膜形成用塗布液は、上記導電性微粒子と極性溶
媒とを含んでいる。

【００６７】透明導電性被膜形成用塗布液に用いられる
極性溶媒としては、水；メタノール、エタノール、プロ
パノール、ブタノール、ジアセトンアルコール、フルフ
リルアルコール、テトラヒドロフルフリルアルコール、
エチレングリコール、ヘキシレングリコールなどのアル
コール類；酢酸メチルエステル、酢酸エチルエステルな
どのエステル類；ジエチルエーテル、エチレングリコー
ルモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチル
エーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジ
エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレング
リコールモノエチルエーテルなどのエーテル類；アセト
ン、メチルエチルケトン、アセチルアセトン、アセト酢
酸エステルなどのケトン類などが挙げられる。これらは
単独で使用してもよく、また２種以上混合して使用して
もよい。

【００６８】なお、金属微粒子を含む塗布液を使用する
と、電磁波遮蔽効果が発現される１０²〜１０⁴Ω／□程
度の表面抵抗を有する透明導電性被膜を形成することが
できる。金属微粒子を使用して電磁波遮蔽用の透明導電
層を形成する場合、金属微粒子は、透明導電性被膜形成
用塗布液中の金属微粒子の濃度が０.０５〜５重量％、
好ましくは０.１〜２重量％の量で含まれていることが
望ましい。

【００６９】透明導電性被膜形成用塗布液中の金属微粒
子の量が、０.０５重量％未満の場合は、得られる被膜
の膜厚が薄くなり、このため充分な導電性が得られない
ことがある。また、金属微粒子が５重量％を越えると、
膜厚が厚くなり、光透過率が低下して透明性が悪化する
とともに外観も悪くなる。また、透明導電性被膜形成用
塗布液には、金属微粒子とともに、前記した導電性無機
微粒子が含まれていてもよく、電磁波遮蔽効果が得られ
る１０²〜１０⁴Ω／□程度の表面抵抗を有する透明導電
性被膜を得ようとする場合は、前記金属微粒子１重量部
当たり、前記した導電性無機微粒子は４重量部以下の量
で含まれていればよい。導電性無機微粒子が４重量部を
超える場合は、導電性が低下し電磁波遮蔽効果が低下す
ることがあるので好ましくない。

【００７０】このような金属微粒子とともに導電性無機
微粒子を含有していると、金属微粒子のみで透明導電性
微粒子層を形成した場合と比較して、より透明性に優れ
た透明導電層を形成することができる。また導電性無機
微粒子を含有することによって、安価に透明導電層を形
成することもできる。さらに、透明導電層が、帯電防止
機能を有する１０⁷〜１０¹²Ω／□程度の表面抵抗を有
するものの場合は、通常、導電性無機微粒子のみが透明
導電性被膜形成用塗布液に含まれていればよい。透明導
電性被膜形成用塗布液中には、導電性無機微粒子が、
０.１〜１０重量％、好ましくは０.５〜５重量％の量で
含まれていることが望ましい。透明導電性被膜形成用塗
布液中の導電性無機微粒子の量が０.１重量％未満の場
合は、得られる被膜の膜厚が薄く、必要な導電性が得ら
れないために充分な帯電防止性能が得られないことがあ
る。また、透明導電性被膜形成用塗布液中の導電性微粒
子の量が１０重量％を越えると、膜厚が厚くなり、光透
過率が低下して透明性が悪化するとともに外観も悪くな
る。

【００７１】さらに、これらの透明導電性被膜形成用塗
布液には、可視光の広い波長領域において可視光の透過
率が一定になるように、染料、顔料などが添加されてい
てもよい。本発明で用いられる透明導電性被膜形成用塗
布液中の固形分濃度（金属微粒子および／または金属微
粒子以外の導電性微粒子と、必要に応じて添加される染
料、顔料などの添加剤の総量）は、液の流動性、塗布液
中の金属微粒子などの粒状成分の分散性の点から、１５
重量％以下、好ましくは０.１５〜５重量％であること
が好ましい。

【００７２】本発明に用いる透明導電性被膜形成用塗布
液には、被膜形成後の金属微粒子、金属微粒子以外の導
電性微粒子のバインダーとして作用するマトリックス形
成成分が含まれていてもよい。このようなマトリックス
形成成分としては、従来公知のものを用いることがで
き、例えばシリカ、シリカ系複合酸化物などの酸化物の
前駆体からなるものが挙げられる。特に、アルコキシシ
ランなどの有機ケイ素化合物の加水分解重縮合物または
アルカリ金属ケイ酸塩水溶液を脱アルカリして得られる
ケイ酸等のシリカ系マトリックス形成成分が好ましく用
いられる。この他、塗料用樹脂などを用いることもでき
る。

【００７３】このようなマトリックス形成成分は、酸化
物としてあるいは樹脂として、前記金属微粒子１重量部
当たり、０.０１〜０.５重量部、好ましくは０.０３〜
０.３重量部の量で含まれていればよい。また、前記導
電性微粒子の分散性を向上させるため、透明導電性被膜
形成用塗布液中に有機系安定剤が含まれていてもよい。
このような有機系安定剤として具体的には、ゼラチン、
ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、シュウ
酸、マロン酸、コハク酸、グルタール酸、アジピン酸、
セバシン酸、マレイン酸、フマル酸、フタル酸、クエン
酸などの多価カルボン酸およびその塩、スルホン酸塩、
有機スルホン酸塩、リン酸塩、有機リン酸塩、複素環化
合物あるいはこれらの混合物などが挙げられる。

【００７４】このような有機系安定剤は、有機系安定剤
の種類、導電性微粒子の粒子径等によっても異なるが、
微粒子１重量部に対し、０.００５〜０.５重量部、好ま
しくは０.０１〜０.２重量部の量で含まれていればよ
い。有機系安定剤の量が０.００５重量部未満の場合は
充分な分散性が得られず、０.５重量部を超えて高い場
合は導電性が阻害されることがある。

【００７５】透明導電層の形成透明導電層は、前記透明導電性被膜形成用塗布液を前記
弾性層上に塗布し、乾燥して形成される。具体的には、
たとえば、前記透明導電性被膜形成用塗布液をディッピ
ング法、スピナー法、スプレー法、ロールコーター法、
フレキソ印刷法などの方法で、基材上に塗布したのち、
常温〜約９０℃の範囲の温度で乾燥する。

【００７６】透明導電性被膜形成用塗布液中に上記のよ
うなマトリックス形成成分が含まれている場合には、マ
トリックス形成成分の硬化処理を行ってもよい。

【００７７】

【発明の効果】本発明によれば、基材の種類や性質に制
約されることなく、基材との密着性が良く、たとえば基
材が硬いガラスなどの場合であっても耐擦傷性があり、
また基材が柔らかいプラスティックなどの場合であって
も変形によりクラックが入りにくく、基材から剥離する
こともない優れた弾性層付基材を提供できる。

【００７８】このような弾性層付基材は、前記弾性層が
特定の範囲の粒子径を有する粒子を含んでなるために、
基材を損傷したり、基材の透明性を阻害することが無
く、弾性層の屈折率が基材の屈折率と同じか同程度であ
るためにヘーズが小さく、このような弾性層上に形成さ
れた反射防止層あるいは必要に応じて設けられる導電層
は弾性層との密着性にも優れている。

【００７９】

【実施例】以下、本願発明を実施例によって説明する
が、本発明はこれら実施例によって限定されるものでは
ない。

【００８０】

【実施例１】弾性層形成用塗布液の調製無機酸化物粒子としてシリカ粒子分散液（触媒化成工業
（株）製：スフェリカスラリー１００、固形分濃度２０
重量％、平均粒子径１００ｎｍ）１００ｇを紫外線硬化
性樹脂塗料（大日本インキ（株）製：ユニリックＶ−
５５０２）６０ｇに分散して弾性層形成用塗布液（Ａ）
を調製した。

【００８１】弾性層の形成弾性層形成用塗布液（Ａ）を、厚さ１００μｍのＰＥＴ
フィルム（屈折率１.６５）表面上にバーコーター法に
て塗布し、ついで８０Ｗ／ｃｍ²の高圧水銀灯で３０秒
間紫外線を照射して弾性層を形成した。弾性層の厚さは
１０μｍであった。また弾性層の屈折率はエリプソメー
ター（ＵＬＶＡＣ社製：ＥＭＳ−１、波長６３３ｎｍ）
で測定した。

【００８２】結果を表１に示す。反射防止膜の形成正珪酸エチル（ＴＥＯＳ：ＳiＯ₂濃度２８重量％）のエ
タノール溶液に硝酸を加えて加水分解してＳiＯ₂濃度５
重量％の加水分解物分散液５００ｇを調製し、これをエ
タノール／ブタノール／ジアセトンアルコール／イソプ
ロピルアルコール（２：１：１：５重量混合比）の混合
溶媒を加えてＳiＯ₂濃度０.８重量％の反射防止層形成
用塗布液とし、これを前記弾性層上にバーコーター法で
塗布し、ついで１４０℃で３０分間乾燥して反射防止膜
を形成し、反射防止膜付基材（Ａ）を得た。このとき、
反射防止膜の厚さは８０ｎｍであった。

【００８３】上記で得た反射防止膜付基材（Ａ）のヘー
ズをへーズコンピューター（日本電色(株)製:3000A）で
測定した。反射率は反射率計（大塚電子(株)製:MCPD-20
00、光源：Ｄ６５）を用いて測定した。透過率はＵＶ／
ＶＩＳ分光光度計（日本分光（株）製：Ｖ−５６０）に
より測定した。結果を表１に示す。

【００８４】なお、評価は以下のようにして行った。鉛筆硬度の評価ＪＩＳ−Ｋ−５４００に準じて鉛筆硬度試験機により評
価した。耐変形性（可撓性とクラック）半径（Ｒｍｍ）の異なる円筒に、半径の大きな円筒から
純に、得られた反射防止膜付基材（Ａ）を密着して巻き
付け、クラックの有無を目視により観察し、クラックが
生じる前の半径をもとめた。

【００８５】評価：この半径が小さい程、耐変形性（可
撓性）が高い。

【００８６】

【実施例２】弾性層形成用塗布液の調製無機酸化物粒子としてシリカ粒子分散液（触媒化成工業
（株）製：カタロイドＳＩ−４５Ｐ、固形分濃度４０重
量％、平均粒子径４５ｎｍ）３５０ｇを紫外線硬化性樹
脂塗料（大日本インキ（株）製：ユニリックＶ−５５
０２）５００ｇに分散して弾性層形成用塗布液（Ｂ）を
調製した。

【００８７】弾性層の形成弾性層形成用塗布液（Ｂ）を、厚さ３ｍｍのアクリル板
（屈折率１.４９）表面上にバーコーター法にて塗布
し、ついで８０Ｗ／ｃｍ²の高圧水銀灯で２０秒間紫外
線を照射して弾性層を形成した。弾性層の厚さは７μｍ
であった。また弾性層の屈折率はエリプソメーターで測
定した。

【００８８】結果を表１に示す。反射防止層の形成次いで、弾性層の上に実施例１と同様にして反射防止膜
を形成して反射防止膜付基材（Ｂ）を得た。得られた反
射防止膜付基材（Ｂ）について、実施例１と同様の評価
を行った。

【００８９】結果を表１に示す。

【００９０】

【実施例３】弾性層形成用塗布液の調製無機酸化物粒子としてシリカ粒子分散液（触媒化成工業
（株）製：カタロイドＳＩ−４５Ｐ、固形分濃度４０重
量％、平均粒子径４５ｎｍ）５０ｇを熱硬化性アクリル
ウレタン樹脂塗料（大日本インキ（株）製：アクリディ
ックＡ−４０５、樹脂濃度５０重量％）４０ｇに分散し
て弾性層形成用塗布液（Ｃ）を調製した。

【００９１】弾性層の形成弾性層形成用塗布液（Ｃ）を、厚さ１８８μｍのＰＥＴ
フィルム（屈折率１.６５）表面上にバーコーター法に
て塗布し、ついで１２０℃で３０分間加熱して弾性層を
形成した。弾性層の厚さは１５μｍであった。また弾性
層の屈折率はエリプソメーターで測定した。

【００９２】結果を表１に示す。反射防止層の形成次いで、弾性層の上に実施例１と同様にして反射防止膜
を形成して反射防止膜付基材（Ｃ）を得た。得られた反
射防止膜付基材（Ｃ）について、実施例１と同様の評価
を行った。

【００９３】結果を表１に示す。

【００９４】

【実施例４】弾性層形成用塗布液の調製エチルトリエトキシシラン（ＳiＯ₂換算濃度２８重量
％）のエタノール溶液に硝酸を加えて加水分解してＳi
Ｏ₂換算濃度５重量％の加水分解物分散液１０００ｇを
調製し、これに無機酸化物粒子としてシリカ粒子分散液
（触媒化成工業（株）製：スフェリカスラリー１００、
固形分濃度２０重量％、平均粒子径１００ｎｍ）７５ｇ
を加えて弾性層形成用塗布液（Ｄ）を調製した。

【００９５】弾性層の形成弾性層形成用塗布液（Ｄ）を、厚さ１００μｍのＰＥＴ
フィルム（屈折率１.６５）表面上にバーコーター法に
て塗布し、ついで１２０℃で３０分間加熱して弾性層を
形成した。弾性層の厚さは０.１μｍであった。また弾
性層の屈折率はエリプソメーターで測定した。

【００９６】結果を表１に示す。反射防止層の形成次いで、弾性層の上に実施例１と同様にして反射防止膜
を形成して反射防止膜付基材（Ｄ）を得た。得られた反
射防止膜付基材（Ｄ）について、実施例１と同様の評価
を行った。

【００９７】結果を表１に示す。

【００９８】

【実施例５】弾性層形成用塗布液の調製エチルトリエトキシシラン（ＳiＯ₂換算濃度２８重量
％）のエタノール溶液に硝酸を加えて加水分解してＳi
Ｏ₂換算濃度５重量％の加水分解物分散液１０００ｇを
調製し、これに有機樹脂粒子としてポリスチレン樹脂粒
子分散液（積水化学（株）製：エスレンビーズ、固形分
濃度３０重量％、平均粒子径１００ｎｍ）１００ｇを加
えて弾性層形成用塗布液（Ｅ）を調製した。

【００９９】弾性層の形成弾性層形成用塗布液（Ｅ）を、厚さ３.５μｍのガラス
基材（屈折率１.４５）表面上にバーコーター法にて塗
布し、ついで１２０℃で３０分間加熱して弾性層を形成
した。弾性層の厚さは１０μｍであった。また弾性層の
屈折率はエリプソメーターで測定した。

【０１００】結果を表１に示す。反射防止層の形成次いで、弾性層の上に実施例１と同様にして反射防止膜
を形成して反射防止膜付基材（Ｅ）を得た。得られた反
射防止膜付基材（Ｅ）について、耐変形性を除いて、実
施例１と同様の評価を行った。

【０１０１】結果を表１に示す。

【０１０２】

【実施例６】弾性層形成用塗布液の調製エチルトリエトキシシラン（ＳiＯ₂換算濃度２８重量
％）のエタノール溶液に硝酸を加えて加水分解してＳi
Ｏ₂換算濃度５重量％の加水分解物分散液１５００ｇを
調製し、これに無機酸化物粒子としてシリカ粒子分散液
（触媒化成工業（株）製：スフェリカスラリー１００、
固形分濃度２０重量％、平均粒子径１００ｎｍ）１００
ｇと有機樹脂粒子としてポリスチレン樹脂粒子（積水化
学（株）製：エスレンビーズ、固形分濃度３０重量％、
平均粒子径１００ｎｍ）１００ｇを加えて弾性層形成用
塗布液（Ｆ）を調製した。

【０１０３】弾性層の形成弾性層形成用塗布液（Ｆ）を、厚さ３.５ｍｍのガラス
基材（屈折率１．４５）表面上にバーコーター法にて塗
布し、ついで１２０℃で３０分間加熱して弾性層を形成
した。弾性層の厚さは５μｍであった。また弾性層の屈
折率はエリプソメーターで測定した。

【０１０４】結果を表１に示す。反射防止層の形成次いで、弾性層の上に実施例１と同様にして反射防止膜
を形成して反射防止膜付基材（Ｆ）を得た。得られた反
射防止膜付基材（Ｆ）について、耐変形性を除いて、実
施例１と同様の評価を行った。

【０１０５】結果を表１に示す。

【０１０６】

【実施例７】弾性層形成用塗布液の調製エチルトリエトキシシラン（ＳiＯ₂換算濃度２８重量
％）のエタノール溶液に硝酸を加えて加水分解してＳi
Ｏ₂換算濃度５重量％の加水分解物分散液１０００ｇを
調製し、これに紫外線硬化性樹脂塗料（大日本インキ
（株）製：ユニリックＶ−５５０２）２５ｇを混合し
た。ついで、これに無機酸化物粒子としてシリカ粒子分
散液（触媒化成工業（株）製：スフェリカスラリー１０
０、固形分濃度２０重量％、平均粒子径１００ｎｍ）１
００ｇを加えて弾性層形成用塗布液（Ｇ）を調製した。

【０１０７】弾性層の形成弾性層形成用塗布液（Ｇ）を、厚さ１８８μｍのＰＥＴ
フィルム（屈折率１.６５）表面上にバーコーター法に
て塗布し、ついで１２０℃で３０分間加熱して弾性層を
形成した。弾性層の厚さは５μｍであった。また弾性層
の屈折率はエリプソメーターで測定した。

【０１０８】結果を表１に示す。反射防止層の形成次いで、弾性層の上に実施例１と同様にして反射防止膜
を形成して反射防止膜付基材（Ｇ）を得た。得られた反
射防止膜付基材（Ｇ）について、実施例１と同様の評価
を行った。

【０１０９】結果を表１に示す。

【０１１０】

【実施例８】導電性微粒子分散液(S-1)の調製純水１００ｇに、あらかじめクエン酸３ナトリウムを金
属微粒子１重量部当たり０.０１重量部となるように加
え、これに金属換算で濃度が１０重量％となり、銀とパ
ラジウムの重量比が８／２となるように硝酸銀および硝
酸パラジウム水溶液を加え、さらに硝酸銀および硝酸パ
ラジウムの合計モル数と等モル数の硫酸第一鉄の水溶液
を添加し、窒素雰囲気下で１時間攪拌して金属微粒子の
分散液を得た。得られた分散液は遠心分離器により水洗
して不純物を除去した後、水に分散させ、ついで表１に
示した溶媒（１−エトキシ−２プロパノール）を混合し
た後ロータリーエバポレーターにて水分を除去するとと
もに濃縮して固形分濃度１０重量％の導電性微粒子分散
液（S-1）を調製した。導電性微粒子の平均粒子径は１
０ｎｍであった。

【０１１１】弾性層および透明導電層の形成実施例１と同様にして弾性層を形成した。ついで、前記
分散液（S-1）にエタノールを加えて希釈して透明導電
性被膜形成用塗布液（濃度１重量％）とし、これをバー
コーター法にて塗布した。このとき導電層の膜厚は３０
ｎｍであった。反射防止膜の形成ついで、正珪酸エチル（ＴＥＯＳ：ＳiＯ₂濃度２８重量
％）のエタノール溶液に硝酸を加えて加水分解してＳi
Ｏ₂濃度５重量％の加水分解物分散液を調製し、これを
エタノール／ブタノール／ジアセトンアルコール／イソ
プロピルアルコール（２：１：１：５重量混合比）の混
合溶媒を加えてＳiＯ₂濃度０.８重量％の反射防止層形
成用塗布液とし、これを前記導電性微粒子層上にバーコ
ーター法で塗布し、ついで１６０℃で３０分間乾燥して
透明導電層と反射防止膜を形成して反射防止膜付基材
（Ｈ）を得た。このとき透明導電層の厚さは３０ｎｍ、
反射防止膜の厚さは８０ｎｍであった。

【０１１２】得られた反射防止膜付基材（Ｈ）につい
て、実施例１と同様の評価を行い結果を表に示した。ま
た、表面抵抗を表面抵抗計（三菱油化(株)製:LORESTA）
で測定した。得られた結果を表１に示す。

【０１１３】

【実施例９】導電性微粒子（S-2）分散液の調製硝酸インジウム７９.９ｇを水６８６ｇに溶解して得ら
れた溶液と、錫酸カリウム１２.７ｇを濃度１０重量％
の水酸化カリウム溶液に溶解して得られた溶液とを調製
し、これらの溶液を、５０℃に保持された１０００ｇの
純水に２時間かけて添加した。この間、系内のｐＨを１
１に保持した。得られたＳnドープ酸化インジウム水和
物分散液からＳnドープ酸化インジウム水和物を濾別・
洗浄した後、乾燥し、次いで空気中で３５０℃の温度で
３時間焼成し、さらに空気中で６００℃の温度で２時間
焼成することによりＳnドープ酸化インジウム微粒子を
得た。これを濃度が３０重量％となるように純水に分散
させ、さらに硝酸水溶液でｐＨを３.５に調製した後、
この混合液を３０℃に保持しながらサンドミルで、３時
間粉砕してゾルを調製した。次に、このゾルをイオン
交換樹脂で処理して硝酸イオンを除去し、エタノールを
加えてスズをドープした酸化インジウム（ＩＴＯ）の濃
度が５重量％の導電性微粒子（S-2）分散液を調製し
た。導電性微粒子の平均粒子径は３０ｎｍであった。

【０１１４】弾性層および透明導電層の形成実施例１と同様にして弾性層を形成した。ついで、前記
分散液（S-2）にエタノールを加えて希釈して透明導電
性被膜形成用塗布液（濃度１重量％）とし、これをバー
コーター法にて塗布した。このとき導電層の膜厚は１０
０ｎｍであった。

【０１１５】反射防止膜の形成ついで、正珪酸エチル（ＴＥＯＳ：ＳiＯ₂濃度２８重量
％）のエタノール溶液に硝酸を加えて加水分解してＳi
Ｏ₂濃度５重量％の加水分解物分散液を調製し、これを
エタノール／ブタノール／ジアセトンアルコール／イソ
プロピルアルコール（２：１：１：５重量混合比）の混
合溶媒を加えてＳiＯ₂濃度０.８重量％の反射防止層形
成用塗布液とし、これを前記導電性微粒子層上にバーコ
ーター法で塗布し、ついで１６０℃で３０分間乾燥して
透明導電層と反射防止膜を形成して反射防止膜付基材
（Ｉ）を得た。このとき透明導電層の厚さは３０ｎｍ、
反射防止膜の厚さは８０ｎｍであった。

【０１１６】得られた反射防止膜付基材（Ｉ）につい
て、実施例８と同様の評価を行い結果を表に示した。

【０１１７】

【比較例１】反射防止膜の形成正珪酸エチル（ＴＥＯＳ：ＳiＯ₂濃度２８重量％）のエ
タノール溶液に硝酸を加えて加水分解してＳiＯ₂濃度５
重量％の加水分解物分散液１０００ｇを調製し、これを
エタノール／ブタノール／ジアセトンアルコール／イソ
プロピルアルコール（２：１：１：５重量混合比）の混
合溶媒を加えてＳiＯ₂濃度０.８重量％の反射防止層形
成用塗布液を調製した。これを厚さ１００μｍのＰＥＴ
フィルム（屈折率１.６５）表面上にバーコーター法で
塗布し、ついで１４０℃で３０分間乾燥して反射防止膜
を形成し、反射防止膜付基材（Ｊ）を得た。このとき、
反射防止膜の厚さは８０ｎｍであった。

【０１１８】得られた反射防止膜付基材（Ｊ）につい
て、実施例１と同様の評価を行い結果を表に示した。

【０１１９】

【比較例２】弾性層を設けなかった以外は実施例８と同
様にして、厚さ１００μｍのＰＥＴフィルム（屈折率
１.６５）表面上に透明導電層および反射防止膜を形成
して反射防止膜付基材（Ｋ）を得た。このとき、反射防
止膜の厚さは８０ｎｍであった。

【０１２０】得られた反射防止膜付基材（Ｋ）につい
て、実施例１と同様の評価を行い結果を表に示した。

【０１２１】

【比較例３】厚さ１００μｍのＰＥＴフィルム（屈折率
１.６５）の代わりに厚さ３ｍｍのガラス基材（屈折率
１.４５）を用いた以外は比較例２と同様にして反射防
止膜付基材（Ｌ）を得た。このとき、反射防止膜の厚さ
は８０ｎｍであった。得られた反射防止膜付基材（Ｌ）
について、耐変形性を除いて、実施例１と同様の評価を
行い結果を表に示した。

【０１２２】

【比較例４】弾性層の形成に、無機酸化物粒子としてシ
リカ粒子分散液（触媒化成工業（株）製：カタロイドＳ
Ｉ-５０、固形分濃度４８重量％、平均粒子径３０ｎ
ｍ）を用いた以外は実施例１と同様にして弾性層の形成
および反射防止膜を形成し、反射防止膜付基材（Ｍ）を
得た。このとき、反射防止膜の厚さは８０ｎｍであっ
た。

【０１２３】得られた反射防止膜付基材（Ｍ）につい
て、実施例１と同様の評価を行い結果を表に示した。

【０１２４】

【比較例５】弾性層の形成に、無機酸化物粒子としてシ
リカ粒子（三菱レイヨン（株）製：高純度シリカビーズ
０１５、平均粒子径１００μｍ）を用いた以外は実施例
１と同様にして弾性層の形成および反射防止膜を形成
し、反射防止膜付基材（Ｎ）を得た。このとき、反射防
止膜の厚さは８０ｎｍであった。

【０１２５】得られた反射防止膜付基材（Ｎ）につい
て、実施例１と同様の評価を行い結果を表に示した。

【０１２６】

【比較例６】弾性層形成用塗布液の調製エチルトリエトキシシラン（ＳiＯ₂換算濃度２８重量
％）のエタノール溶液に硝酸を加えて加水分解してＳi
Ｏ₂換算濃度５重量％の加水分解物分散液５００ｇを調
製して弾性層形成用塗布液（Ｏ）とした。

【０１２７】弾性層の形成弾性層形成用塗布液（Ｏ）を、厚さ１００μｍのＰＥＴ
フィルム（屈折率１.６５）表面上にバーコーター法に
て塗布し、ついで１２０℃で３０分間加熱して弾性層を
形成した。弾性層の厚さは１０μｍであった。また弾性
層の屈折率はエリプソメーターで測定した。

【０１２８】結果を表１に示す。反射防止層の形成次いで、弾性層の上に実施例１と同様にして反射防止膜
を形成して反射防止膜付基材（Ｏ）を得た。得られた反
射防止膜付基材（Ｏ）について、実施例１と同様の評価
を行い結果を表に示す。

【０１２９】

【表１】

【０１３０】表１から明らかなように、特定の弾性層を
設けることで、耐擦傷性にすぐれるとともに、変形しに
くい反射防止膜付基板が得られる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る弾性層付基材の一実施例を示す
模式断面図を示す。

【符号の説明】

１………基材２………弾性層３………導電層４………反射防止膜

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号ＦＩテーマコート゛(参考） // Ｃ０８Ｌ 101:00 Ｇ０２Ｂ 1/10 Ａ (72)発明者吉留博雄福岡県北九州市若松区北湊町13番２号触媒化成工業株式会社若松工場内 (72)発明者小松通郎福岡県北九州市若松区北湊町13番２号触媒化成工業株式会社若松工場内Ｆターム(参考） 2K009 AA00 AA04 AA15 BB02 BB14 BB24 CC09 CC14 CC42 DD02 EE03 4F006 AA02 AA22 AA33 AA34 AA35 AA36 AA37 AB13 AB14 AB16 AB18 AB19 AB20 AB23 AB24 AB35 AB37 AB38 AB39 AB74 AB76 BA00 BA14 4F100 AA01B AA20 AK01B AK25 AR00B AR00C AR00D AT00A BA03 BA04 BA07 BA10A BA10C DE01B EH46B EJ08B EJ42B EJ54B EJ86B JA20B JG01D JK07B JN06C JN18A JN18B YY00B

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】基材と、該基材上に形成された弾性層と、該弾性層上に形成された反射防止膜とからなる反射防止
膜付基材であって、前記弾性層が、平均粒子径が０.０５〜１０μｍの範囲
にある無機酸化物粒子および／または有機樹脂粒子を含
んでなることを特徴とする反射防止膜付基材。
【請求項２】前記弾性層の屈折率（ｎ_H）と基材の屈折
率（ｎ_F）が下記式（１）で表される関係にあることを
特徴とする請求項１に記載の反射防止膜付基材。０.８５ｎ_F ≦ ｎ_H ≦１.１ｎ_F （１）
【請求項３】前記弾性層の平均膜厚が１〜２０μｍの範
囲にあることを特徴とする請求項１または２に記載の反
射防止膜付基材。
【請求項４】前記弾性層と反射防止膜との間に導電層を
有することを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載
の反射防止膜付基材。
【請求項５】前記弾性層が、無機酸化物粒子および／または有機樹脂粒子とマトリッ
クス成分前駆体とが水および／または有機溶媒に分散さ
れてなる弾性層形成用塗布液を、基材上に塗布・乾燥し、加熱硬化処理および／または紫
外線硬化処理して得られたものであることを特徴とする
請求項１〜４のいずれかに記載の反射防止膜付基材。