JP2002053999A

JP2002053999A - 極小物品のバレル電気めっき方法

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Publication number: JP2002053999A
Application number: JP2000239164A
Authority: JP
Inventors: Tatsuaki Omasa; 龍晋大政
Original assignee: Nihon Techno KK
Current assignee: Nihon Techno KK
Priority date: 2000-08-07
Filing date: 2000-08-07
Publication date: 2002-02-19
Anticipated expiration: 2020-08-07
Also published as: JP3827276B2

Abstract

(57)【要約】【課題】極小寸法の被めっき物品をバレル電気めっき
するに際して、所要部分に形成されるめっき膜の厚さを
均一化させ良品率を向上させ、めっき膜の成膜速度を向
上させ生産性を向上させる。【解決手段】３〜３００μｍ径の多数の小開口を有す
るバレル５２内に平均径５〜５００μｍの極小の多数の
被めっき物品Ｘを収容し、バレルをめっき浴１４内で運
動させながら、被めっき物品Ｘと接触可能に配置された
陰極部材５４とめっき浴１４中に配置された陽極部材５
６との間に電圧を印加して被めっき物品の表面にめっき
膜を形成する。振動発生手段１６ｄに連係してめっき浴
１４内で振動する振動棒１６ｅに固定された振動羽根１
６ｆを振幅０．１〜１０．０ｍｍ及び振動数２００〜８
００回／分で振動させることによりめっき浴に振動流動
を発生させ、バレルを振幅０．１〜５．０ｍｍ及び振動
数１００〜３００回／分で振動させる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、めっき方法に関す
るものであり、特に極小被めっき物品をバレル内に収容
してめっきする方法に関するものである。

【０００２】

【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】従来、
電子部品などの物品の製造の分野において、物品の表面
に導電材料の膜を形成する電気めっきが広く利用されて
いる。

【０００３】特に、最近では電子機器の小型化及び高機
能化の要求を満たすために、極く小さな電子部品（たと
えば縦横寸法が６０μｍ×３０μｍのセラミック製チッ
プ０６０３縦横寸法が４０μｍ×２０μｍのセラミック
製チップ０４０２の両端に金属電極層を形成したセラミ
ックチップ抵抗体）が要求されている。また、例えば導
電性樹脂製造のために合成樹脂中に粒径３００μｍ程度
の金属粉末や金属被覆合成樹脂粉末が含有せしめられ
る。これらの極小物品としては、金属からなる被めっき
物品または導体化処理された合成樹脂またはセラミック
からなる被めっき物品の表面の全体又は所望部分に電気
めっきにより導電性良好な金属層を強固に付着形成した
ものが用いられる。

【０００４】ところで、比較的小さな寸法の被めっき物
品を電気めっきする際には、多数の被めっき物品につい
て同時にめっきを行うことが可能な所謂バレルめっきが
用いられる。バレルめっきでは、めっき液の流通が可能
な多数の小開孔を持つバレルと呼ばれる容器内にその容
積の約１／３程度の多数の被めっき物品を収容し、バレ
ル外のめっき浴内に陽極部材を配置し、バレル内に被め
っき物品と接触する陰極部材を配置して、バレルを非鉛
直方向の周りに回転（自転）させることでバレル内で被
めっき物品を転動させながら陰極部材と陽極部材との間
に電圧を印加することで、被めっき物品どうしを接触さ
せ陰極部材との導通をとり、被めっき物品の表面の所要
の導電性表面を陰極面となし、その上にめっき膜を形成
する。

【０００５】バレルめっきについては、本出願人は、特
開平６−３３０３９５号公報において、めっき浴を振動
攪拌させながらクロムめっきを行う方法を提案してい
る。また、本出願人は、特開平７−１２６８９６号公報
において、めっき浴を振動攪拌させながらめっきを行
い、その際に被めっき物品に対して振動を与えるめっき
方法を提案している。しかしながら、これらの方法では
被めっき物品として、例えば直径３０ｍｍで長さ５０ｍ
ｍの円柱体などが例示されていることからわかるよう
に、互いに直交する３方向の寸法の平均値を平均径とし
た場合に、該平均径が５ｍｍ程度より大きな寸法のもの
が用いられており、近年要求されている上記のような平
均径１ｍｍ以下の極小の被めっき物品のバレルめっきを
考慮したものではない。

【０００６】極小の被めっき物品をバレルめっきする場
合には、特有の技術的課題が存在する。即ち、極小被め
っき物品の場合には、バレル内で被めっき物品どうしの
凝集が発生しやすく、バレル自転の際の被めっき物品の
転動が不十分となり、所要のめっき膜形成部分へのめっ
き液の流通性が極端に低下する。このため、表面に均一
膜厚に付着させるべきめっき膜の厚さが部分的に不均一
になり、個体ごとの成膜状況も不均一になり、全体とし
ての良品率が大幅に低下する。特に被めっき物品どうし
の付着が発生しやすい。

【０００７】また、成膜速度が低下しやすく、生産性の
向上が困難である。特に、極小被めっき物品の場合に
は、バレルに形成される多数の小開孔の寸法を小さくせ
ざるを得ないので、一層バレル内へのめっき液の流通性
が低下しやすく、成膜速度向上は困難な傾向にある。成
膜速度を向上させるために電流密度を高めようとする
と、めっき膜厚の不均一が更に大きくなったりヤケやコ
ゲなどの発生により良品率が低下したりする。このた
め、従来、このような極小物品のバレルめっきは実用化
されていなかった。

【０００８】また、合成樹脂粒子の表面へのめっきは例
えば無電気めっきにより行うことができるが、無電気め
っきではめっき膜厚を増大させることが困難であり、め
っき膜厚の増大のためには電気めっきの適用が望まし
い。

【０００９】そこで、本発明の目的の１つは、極小寸法
の被めっき物品をバレル電気めっきするに際して、所要
部分に形成されるめっき膜の厚さを均一化させ、良品率
を向上させることにある。

【００１０】本発明の他の目的は、極小被めっき物品を
バレル電気めっきするに際して、めっき膜の成膜速度を
向上させ、生産性を向上させることにある。

【００１１】

【課題を解決するための手段】本発明によれば、上記目
的を達成するものとして、めっき液が通過し得る多数の
小開孔を有するバレル内に複数の被めっき物品を収容
し、前記バレルをめっき浴内で運動させながら、前記バ
レル内の被めっき物品と接触可能に配置された陰極部材
と前記バレル外にて前記めっき浴中に配置された陽極部
材との間に電圧を印加して前記被めっき物品の表面にめ
っき膜を形成するバレル電気めっき方法であって、前記
被めっき物品は平均径が５〜５００μｍであり、振動発
生手段に連係して前記めっき浴内で振動する振動棒に一
段または多段に固定された振動羽根を前記めっき浴内で
振幅０．１〜１０．０ｍｍ及び振動数２００〜８００回
／分で振動させることにより前記めっき浴に振動流動を
発生させ、且つ前記バレルを振幅０．１〜５．０ｍｍ及
び振動数１００〜３００回／分で振動させることを特徴
とする、極小物品のバレル電気めっき方法、が提供され
る。

【００１２】本発明の一態様においては、前記被めっき
物品は金属からなるか又は導体化処理された合成樹脂ま
たはセラミックからなる。本発明の一態様においては、
前記バレルの運動は非鉛直方向の回転中心の周りでの自
転運動である。本発明の一態様においては、前記めっき
浴の振動流動は３次元流速が１５０ｍｍ／秒以上であ
る。本発明の一態様においては、前記バレルの小開孔の
径は３〜３００μｍである。本発明の一態様において
は、前記振動発生手段は１０〜５００Ｈｚで振動する。

【００１３】

【発明の実施の形態】以下、図面を参照しながら本発明
の具体的な実施の形態を説明する。尚、図面において、
同様な機能を有する部材又は部分には同一の符号が付さ
れている。

【００１４】図１及び図２は本発明によるめっき方法の
第１の実施形態の実施されるめっき装置の構成を示す断
面図であり、図３はその平面図である。

【００１５】これらの図において、１２はめっき槽であ
り、該めっき槽にはめっき浴１４が収容されている。１
６は振動流動発生部である。該振動流動発生部１６は、
めっき槽１２に防振ゴムを介して取り付けられた基台１
６ａ、該基台に下端を固定された振動吸収部材としての
コイルバネ１６ｂ、該コイルバネの上端に固定された振
動部材１６ｃ、該振動部材に取り付けられた振動発生手
段としての振動モータ１６ｄ、振動部材１６ｃに上端を
取り付けられた振動伝達ロッド１６ｅ、該振動伝達ロッ
ドの下半部においてめっき浴１４に浸漬する位置に取り
付けられた振動羽根１６ｆを有する。コイルバネ１６ｂ
内には、後述の図７に示されているように、棒状のガイ
ド部材を配置することができる。

【００１６】振動モータ１６ｄは例えばインバータを用
いた制御により１０〜５００Ｈｚ、好ましくは２０〜６
０Ｈｚ、更に好ましくは３０〜５０Ｈｚで振動する。振
動モータ１６ｄで発生した振動は、振動部材１６ｃ及び
振動伝達ロッド１６ｅを介して振動羽根１６ｆに伝達さ
れる。振動羽根１６ｆは、めっき浴１４中で所要の振動
数で先端縁が振動する。この振動は、振動羽根１６ｆが
振動伝達ロッド１６ｅへの取り付け部分から先端縁へと
「しなる」ように発生する。この振動の振幅及び振動数
は、振動モータ１６ｄのものとは異なるが、振動伝達経
路の力学的特性及びめっき浴１４との相互作用の特性な
どに応じて決まり、本発明では振幅０．１〜１０．０ｍ
ｍで振動数２００〜８００回／分とするのが好ましい。

【００１７】図４は振動部材１６ｃへの振動伝達ロッド
１６ｅの取り付け部の拡大断面図である。振動伝達ロッ
ド１６ｅの上端に形成されたオネジ部に、振動部材１６
ｃの上下両側から振動応力分散部材１６ｇ１，１６ｇ２
及びワッシャ１６ｈ１，１６ｈ２を介してナット１６ｉ
１，１６ｉ２；１６ｉ３，１６ｉ４を適合させている。
振動応力分散部材１６ｇ１，１６ｇ２は、例えばゴムか
らなる。

【００１８】図５は振動伝達ロッド１６ｅへの振動羽根
１６ｆの取り付け部の拡大断面図である。７つの振動羽
根１６ｆの各々の上下両側には、振動羽根固定部材１６
ｊが配置されている。隣接する振動羽根１６ｆどうしの
間には固定部材１６ｊを介して振動羽根１６ｆの間隔設
定のためのスペーサリング１６ｋが配置されている。最
上部の振動羽根１６ｆの上側及び最下部の振動羽根１６
ｆの下側には、振動伝達ロッド１６ｅに形成されたオネ
ジに適合するナット１６ｍが配置されている。

【００１９】図６は振動伝達ロッド１６ｅへの振動羽根
１６ｆの取り付け部の変形例を示す図である。この変形
例では、各振動羽根１６ｆを上側及び下側のナット１６
ｎにより個別に振動伝達ロッド１６ｅへ取り付けてい
る。尚、振動羽根１６ｆと固定部材１６ｊとの間にフッ
素系樹脂やフッ素系ゴムなどからなる弾性部材シート１
６ｐを介在させることで、振動羽根１６ｆの破損を防止
することができる。図示されているように、上側の固定
部材１６ｊの下面（押圧面）は凸円筒円とされており、
下側の固定部材１６ｊの上面（押圧面）は対応する凹円
筒円とされている。これにより、固定部材１６ｊにより
上下方向から押圧される振動羽根１６ｆの部分は湾曲せ
しめられ、振動羽根１６ｆの先端部は水平面に対して角
度αをなしている。この角度αは、例えば−３０°以上
３０°以下好ましくは−２０°以上２０°以下とするこ
とができる。特に、角度αは、−３０°以上−５°以下
または５°以上３０°以下、好ましくは−２０°以上−
１０°以下または１０°以上２０°以下とするのが好ま
しい。固定部材１６ｊの押圧面を平面とした場合には、
角度αは０°である。角度αは、全ての振動羽根１６ｆ
について同一である必要はなく、例えば図１に示されて
いるように、下方の１〜２枚の振動羽根１６ｆについて
は−の値（即ち下向き：図６に示されるものと逆向き）
とし、それ以外の振動羽根１６ｆについては＋の値（即
ち上向き：図６に示される向き）とすることができる。

【００２０】振動羽根１６ｆとしては、弾力性のある金
属板、合成樹脂板またはゴム板などを用いることができ
る。振動羽根１６ｆの厚みは、振動流動発生部１６の作
動時に、振動羽根１６ｆの先端縁部分がフラッター現象
（波打つような状態）を呈するように設定される。振動
羽根１６ｆがステンレス鋼板などの金属板からなる場合
には、その厚みは０．２〜２ｍｍとすることができる。
また、振動羽根１６ｆが合成樹脂板やゴム板からなる場
合には、その厚みは０．５〜１０ｍｍとすることができ
る。

【００２１】図１〜３において、振動フレーム４４が振
動吸収部材としてのコイルバネ４６を介してめっき槽１
２に取り付けられている。振動フレーム４４には、振動
モータ４８及びこれとの重量バランスをとるためのバラ
ンスウェイト４９とが取り付けられている。振動フレー
ム４４には、支持部材５０を介してバレル５２が取り付
けられている。該バレルは、支持部材５０に対して回転
可能に取り付けられており、不図示の駆動手段により図
１において矢印で示される向きに回転せしめられる。バ
レル５２の回転数は、例えば、１〜１５回／分である。
一般のバレルめっきの場合の回転数は６〜８回／分程度
に固定されているが、本発明においては、被めっき物品
の状態に応じて、３回／分、５回／分、または８回／分
といったように適宜制御することが好ましい。例えば、
樹脂粒子にめっきする場合には、めっき前は比重が小さ
いので回転数を上げ過ぎるとバレル壁面に付着しやす
く、このため比較的小さな回転数を用いるが、めっき金
属膜が付着するにつれて粒子の比重が大きくなるので回
転数を増加させることができる。

【００２２】バレル５２内には極小な被めっき物品Ｘが
多数収容されている。バレル５２の外周面には、被めっ
き物品Ｘの通過を阻止し且つめっき浴１４の液体（めっ
き液）の通過を許容する多数の小開孔が形成されてい
る。バレル５２内にはその下部にまで延びた陰極導電部
材５４が配置されている。該陰極導電部材５４は、絶縁
被覆配線５４’を介してバレル５２の回転中心にて該バ
レルに取り付けられたパイプ部材５２ａ内を通って電源
回路３４の負極端子に接続されている。陰極導電部材５
４は、バレル回転の際にも回転することはなく、従って
バレル回転に伴い転動する被めっき物品Ｘは陰極導電部
材５４との接触及び陰極導電部材５４からの離隔を繰り
返す。尚、使用されるバレルとしては、ここに示される
ような形態のものに限定されることはなく、公知の各種
の形態のバレル（但し、小開孔の大きさは本発明では平
均径５〜５００μｍの極小物品の通過を阻止することが
できる３〜３００μｍ径のものを使用する）を使用する
ことができる。

【００２３】５６はメッキ浴１４中に下部が浸漬された
陽極金属部材である。該陽極金属部材５６は、例えばプ
ラスチック製の籠に収容されており、絶縁被覆配線５
６’を介して電源回路３４の正極端子に接続されてい
る。図１に示されているように、陽極金属部材５６はバ
レル５２の両側に配置されている。しかし、陽極金属部
材５６は片側にのみ配置してもよい。

【００２４】振動モータ４８は、例えばインバータを用
いた制御により１０〜６０Ｈｚ、好ましくは２０〜３５
Ｈｚで振動する。振動モータ４８で発生した振動は、振
動フレーム４４及び支持部材５０を介してバレル５２に
伝達され、これによりバレル５２ひいては被めっき物品
Ｘは振幅０．１〜５．０ｍｍで振動数１００〜３００回
／分で振動せしめられる。

【００２５】電源回路３４は交流電圧から直流電圧を作
成することができるものであり、このような電源回路は
例えばトランジスタを用いた整流回路を有するものであ
り、整流器として知られている。本発明でめっき電流を
発生させるのに使用される電源回路（電源装置）として
は、交流を整流（直流成分の付加を含む）して出力する
公知のものが用いられる。

【００２６】めっき浴１４は、めっきの種類即ち形成す
べきめっき膜に応じて、公知の電気めっき法と同様にし
て、選択される。めっきの種類としては、例えば、硫酸
銅めっき、シアン化銅めっき、ピロ燐酸銅めっき、ニッ
ケルめっき、黒色ニッケルめっき、スルファミン酸ニッ
ケルめっき、クロムめっき、シアン化亜鉛めっき、ノー
シアン亜鉛めっき、アルカリ性スズめっき、酸性スズめ
っき、中性スズめっき、銀めっき、シアン化金めっき、
酸性金めっき、銅−亜鉛合金めっき、ニッケル−鉄合金
めっき、スズ−鉛合金めっき、パラジウムめっき、はん
だめっき等を挙げることができる。

【００２７】例えば、硫酸銅めっきを行う場合には、ス
ルーホール浴として、硫酸銅：６０〜１００ｇ／Ｌ（リットル）硫酸：１７０〜２１０ｇ／Ｌ光沢剤：適量塩素イオン：３０〜８０ｍＬ／Ｌからなるものを用いることができ、普通浴として、硫酸銅：１８０〜２５０ｇ／Ｌ硫酸：４５〜６０ｇ／Ｌ光沢剤：適量塩素イオン：２０〜８０ｍＬ／Ｌからなるものを用いることができる。

【００２８】また、例えば、ニッケルめっきを行う場合
には、バレル浴として、硫酸ニッケル：２７０ｇ／Ｌ塩化ニッケル：６８ｇ／Ｌほう酸：４０ｇ／Ｌ硫酸マグネシウム：２２５ｇ／Ｌからなるものを用いることができ、普通浴として、硫酸ニッケル：１５０ｇ／Ｌ塩化アンモニウム：１５ｇ／Ｌほう酸：１５ｇ／Ｌからなるものを用いることができ、ワット浴として、硫酸ニッケル：２４０ｇ／Ｌ塩化アンモニウム：４５ｇ／ＬｐＨ：４〜５浴温度：４５〜５５℃ からなるものを用いることができる。

【００２９】また、例えば、酸性スズめっきを行う場合
には、硫酸塩浴として、硫酸第一スズ：５０ｇ／Ｌ硫酸：１００ｇ／Ｌクレゾールスルホン酸：１００ｇ／Ｌゼラチン：２ｇ／Ｌ β−ナフトール：１ｇ／Ｌからなるものを用いることができる。

【００３０】被めっき物品Ｘは、平均径が５〜５００μ
ｍの極小のものである。ここで、平均径とは、互いに直
交する３方向の代表的寸法の平均値をいうものとする。
このような被めっき物品Ｘとしては、銅粉末や前処理さ
れたアルミニウム粉末や鉄粉末などの金属粉末、導体化
処理されたＡＢＳ樹脂粉末などの合成樹脂粉末や、導体
化処理されたセラミックチップなどを例示することがで
きる。また、その他の電子部品、機械部品、金属粉末合
金、微粒子無機・有機顔料、金属ボールなどがあげられ
る。

【００３１】例えば、３００μｍ程度径の金属粒子例え
ばＣｕ粒子にＮｉめっき膜を形成したり、Ｎｉめっき膜
上にＡｕめっき膜やＡｇめっき膜を形成することにより
複合めっき膜を形成することができる。

【００３２】バレル５２内には被めっき物品Ｘを数千個
ないし数十万個程度収容することができる。バレルの寸
法は例えば直径５０〜２００ｍｍで長さ１００〜２５０
ｍｍである。また、バレル５２の小開孔の大きさは被め
っき物品Ｘの通過が阻止される程度のものであり、全外
周面の表面積に対する全小開孔面積の割合としての開孔
率は２５〜７５％程度である。

【００３３】本発明のめっき方法では、振動流動発生部
１６によりめっき浴１４に生ぜしめられる振動流動によ
り小開孔を介してのバレル５２内へのめっき液の流通性
が改善されることに加えて、バレル５２内においても互
いに隣接する被めっき物品Ｘの間へのめっき液の流通性
が改善される。更に、本実施形態では、バレル５２を振
動させており、これによりバレル５２内での被めっき物
品Ｘの凝集を防止して十分に転動させることができ、互
いに隣接する被めっき物品Ｘの間へのめっき液の流通性
が更に改善され、一層良好な膜厚均一性と成膜速度とを
達成することができる。

【００３４】また、本発明においては、めっき浴１４に
生ぜしめられる振動流動の作用により、被めっき物品Ｘ
と陽極金属部材との距離を近づけて電流密度を高めても
ショートが発生しにくい。このことも、ヤケやコゲなど
の不具合を生ずることなく良好な歩留で且つ高速でめっ
き膜を形成することができる要因であると考えられる。

【００３５】この様な作用を良好に得るためには、めっ
き浴１４の振動流動の３次元流速が１５０ｍｍ／秒以上
であるのが極めて好ましい。このような高い３次元流速
は、めっき浴を振動流動させることによって効果的に実
現されるものであり、通常の攪拌によっては実現困難で
あり実現するにしても極めて大規模な装置構成が必要と
なる不利がある。

【００３６】本発明による電気めっき方法の実施に先立
ち、必要に応じて被めっき物品Ｘについて所要の前処理
工程を行う。これら前処理については、従来公知の電気
めっき方法の場合と同様にして行えばよい。この前処理
の例としては、例えば、次のような処理工程及び水洗工
程が挙げられる。

【００３７】脱脂：ホウ酸ソーダ２０ｇ／リットル（Ｌ）リン酸ソーダ２０ｇ／Ｌ界面活性剤２ｇ／Ｌ４０〜６０℃ ３〜５分エッチング：クロム酸４００ｇ／Ｌ硫酸４００ｇ／Ｌ６５〜７０℃ ５〜１５分中和：濃塩酸５０ｍＬ／Ｌ室温３０〜６０秒キャタリスト：塩化パラジウム０．２ｇ／Ｌ塩化第一スズ５〜２０ｇ／Ｌ塩酸１００〜２００ｍＬ／Ｌ室温２〜５分アクセラレーター：硫酸５０〜１００ｍＬ／Ｌまたは塩酸８０〜１５０ｍＬ／Ｌ３０〜５０℃ ２〜６分無電解ニッケルめっき：硫酸ニッケル３０ｇ／Ｌ次亜リン酸ソーダ２０ｇ／Ｌクエン酸アンモン５０ｇ／ＬｐＨ７．５〜９．５３０〜４０℃ ５〜１０分特に、合成樹脂（フプラスチック）からなる粉末または
粒子に対して電気めっきを行う場合には、以上のような
導電化工程を必要とする。このような処理の際にも処理
浴を振動流動攪拌させることで、処理時間を著しく低減
することができる。

【００３８】以上のような前処理後に本願発明の電気め
っき処理を施す。電気めっきは、例えば次のよう工程で
なされる。

【００３９】硫酸銅めっき：硫酸銅２００〜２４０ｇ／Ｌ硫酸５０〜６０ｇ／Ｌ光沢剤適量２０〜２８℃ 電流密度２〜４Ａ／ｄｍ² １５〜４０分その後、アルコール洗浄した後に、乾燥する。

【００４０】プラスチック材料の場合には、上記前処理
を含む本発明の処理工程として、例えば、脱脂→水洗→
エッチング→水洗→中和→水洗→キャタリスト（触媒付
与）→水洗→アクセラレーター（活性化）→水洗→無電
気めっき→水洗→電気めっき→水洗→乾燥があげられ
る。即ち、プラスチック材料の場合には、その表面に電
気めっき膜を形成するためには予め表面に導電性膜を形
成して導体化することが必要であり、無電気めっきによ
り導体化した後に、金属材料と同様にして電気めっきを
行う。このようにして得られた表面導電性の樹脂粒子な
いし樹脂粉末は、電気めっき膜がスズ膜またははんだ膜
やその他の合金はんだ形成可能な材料の膜からなる積層
膜である場合には、はんだ接合の際の加熱溶融により合
成樹脂が蒸発して体積減少するはんだ材料として利用す
ることができる。

【００４１】金属材料の場合には、上記前処理を含む本
発明の処理工程として、例えば、脱脂→水洗→アクセラ
レーター（活性化）→水洗→電気めっき→水洗→乾燥が
あげられる。

【００４２】また、本発明方法においてめっき浴中に所
要の振動流動を発生させるのに使用される振動羽根を備
えた振動流動発生部としては、上記特開平１１−１８９
８８０号公報に記載のもの（例えば該公報中の図７〜８
を参照して説明されているように振動羽根をめっき槽の
底部に配置し、振動モータから振動伝達枠を介して振動
を振動羽根に伝達し、振動羽根を水平方向に振動させる
ようにしたもの）や該公報中にて引用されている公報に
記載されているもの等を適宜使用することができる。

【００４３】図７は本発明によるめっき方法の実施に使
用されるめっき装置の他の形態を示す断面図であり、図
８はその一部切欠平面図である。この形態は、振動流動
発生部１６の構成が上記実施形態と異なる。即ち、めっ
き槽１２の上端縁部に固定された取り付け部材１１８に
対してコイルバネ１６ｂの下端が固定されており、該コ
イルバネ１６ｂの上端が固定された振動部材１６ｃの下
側に振動モータ１６ｄが取り付けられている。尚、コイ
ルバネ１６ｂ内には、取り付け部材１１８に下端を固定
された下側ガイド部材１２４及び振動部材１６ｃに上端
を固定された上側ガイド部材１２３が互いに適度の間隔
をおいて配置されている。

【００４４】本発明では、電源回路３４により直流電圧
ではなくパルス状電圧を印加して、いわゆるパルスめっ
きを行うことも可能である。その場合、電源回路３４は
交流電圧から矩形波状電圧を作成することができるもの
であり、このような電源回路は例えばトランジスタを用
いた整流回路を有するものであり、パルス電源装置とし
て知られている。

【００４５】本発明でめっき電流を発生させるのに使用
される電源回路（電源装置）としては、交流を整流（直
流成分の付加を含む）して出力するものが用いられる。
このような電源装置または整流器としては、トランジス
タ調整式電源、ドロッパー方式の電源、スイッチング電
源、シリコン整流器、ＳＣＲ型整流器、高周波型整流
器、インバータデジタル制御方式の整流器（例えば
（株）中央製作所製のＰｏｗｅｒＭａｓｔｅｒ）、
（株）三社電機製作所製のＫＴＳシリーズ、四国電機株
式会社製のＲＣＶ電源、スイッチングレギュレータ式電
源とトランジスタスイッチとからなりトランジスタスイ
ッチがＯＮ−ＯＦＦすることで矩形波状のパルス電流を
供給するもの、高周波スイッチング電源（交流をダイオ
ードにて直流に変換した後にパワートランドスタで２０
〜３０ＫＨｚの高周波をトランスに加えて再度整流、平
滑化し出力を取り出す）、ＰＲ式整流器、高周波制御方
式の高速パルスＰＲ電源（例えばＨｉＰＲシリーズ
（（株）千代田）などが利用可能である。

【００４６】図９は電源回路３４により陰極と陽極との
間に印加される電圧に基づき被めっき物品Ｘを介して流
れるめっき電流（電流密度）の変化を示すグラフであ
る。図示されているように、めっき電流は、第１の値Ｉ
１で第１の時間Ｔ１持続する第１状態と第２の値Ｉ２
（＜Ｉ１）で第２の時間Ｔ２持続する第２状態とが交互
にあらわれるようなものである。ここで、第１の値Ｉ１
と第２の値Ｉ２とは同一極性である。Ｉ１はＩ２の６倍
以上（例えば６〜２５倍）であり好ましくは８〜２０倍
である。また、Ｔ１はＴ２の４倍以上（例えば４〜２５
倍）であり好ましくは６〜２０倍である。このようなめ
っき電流と上記振動流動発生部１６によるめっき浴１４
の振動流動を組み合わせることにより、微細な導電構造
パターンのめっきにおいても良好な品質及び高い成膜速
度を得ることができる。

【００４７】第１の値Ｉ１及び第１の時間Ｔ１は、めっ
きの種類あるいはめっき浴の組成などに応じて適宜設定
されるが、例えば、Ｉ１は０．０１〜１００［Ａ／ｄｍ
² ］の範囲内とすることができ、Ｔ１は３〜３００
［秒］の範囲内とすることができる。但し、これに限定
されるものではなく、最適なＩ１，Ｉ２，Ｔ１，Ｔ２
は、上記めっきの種類やめっき浴の組成などに応じて広
い範囲で変化することもあり、例えばめっきの進行に伴
いめっき浴の組成が変化することで変化したりする。

【００４８】図１０及び図１１は本発明によるめっき方
法の実施に使用されるめっき装置を構成する振動流動発
生部のめっき槽への取り付けの他の形態を示す断面図で
あり、図１２はその平面図である。図１０及び図１１は
それぞれ図１２のＸ−Ｘ’断面及びＹ−Ｙ’断面に相当
する。尚、これらの図では、めっき処理のためのバレル
や陰極、陽極及び電源回路等は図示を省略されている。

【００４９】この形態では、振動吸収部材として上記コ
イルバネ１６ｂに代えてゴム板２と金属板１，１’との
積層体３が用いられている。即ち、積層体３は、めっき
槽１２の上端縁部に固定された取り付け部材１１８に防
振ゴム１１２を介して取り付けられた金属板１’をボル
ト１３１により固定し、該金属板１’上にゴム板２を配
置し、該ゴム板２上に金属板１を配置し、これらをボル
ト１１６及びナット１１７により一体化することで形成
されている。

【００５０】振動モータ１６ｄは支持部材１１５を介し
てボルト１３２により金属板１に固定されている。ま
た、振動伝達ロッド１６ｅの上端部はゴムリング１１９
を介して積層体３特に金属板１とゴム板２とに取り付け
られている。即ち、上側金属板１は図１その他に記載さ
れている実施形態の振動部材１６ｃの機能をも発揮する
ものであり、下側金属板１’は図１その他に記載されて
いる実施形態の基台１６ａの機能をも発揮するものであ
る。そして、これら金属板１，１’を含む積層体３（主
としてゴム板２）が図１その他に記載されているコイル
バネ１６ｂと同様な振動吸収機能を発揮する。

【００５１】図１３は積層体３の平面図を示す。図１０
〜１２の形態に対応する図１３（ａ）の例では、積層体
３には振動伝達ロッド１６ｅを通すための貫通孔５が形
成されている。また、図１３（ｂ）の例では、積層体３
は貫通孔５を通る分割線により２分割された２つの部分
３ａ，３ｂからなり、これによれば装置組立の際に振動
伝達ロッド１６ｅを容易に通すことができる。また、図
１３（ｃ）の例では、積層体３は、めっき槽１２の上端
縁部に対応する環形状をなしており、中央部に開孔６が
形成されている。

【００５２】図１３（ａ），（ｂ）の例では、めっき槽
１２の上部が積層体３により塞がれ、これによりめっき
処理の際にめっき浴１４から揮散するガスや飛散するめ
っき液が周囲へと漏れるのを防止することができる。

【００５３】図１４は、このような積層体３によるめっ
き槽上部の閉塞（シール）の様子を示す断面図である。
図１４（ａ）の形態では、ゴム板２が貫通孔５において
振動伝達ロッド１６ｅに当接してシールがなされる。ま
た、図１４（ｂ）の形態では、積層体３の開孔部６にお
いて該積層体３と振動伝達ロッド１６ｅとに取り付けら
れこれらの間の空隙を塞ぐフレキシブルシール部材１３
６が設けられている。

【００５４】図１５に振動吸収部材としての積層体３の
例を示す。図１５（ｂ）の例は上記図１０〜１２の実施
形態のものである。図１５（ａ）の例では、積層体３は
金属板１とゴム板２とからなる。図１５（ｃ）の例で
は、積層体３は上側金属板１と上側ゴム板２と下側金属
板１’と下側ゴム板２’とからなる。図１５（ｄ）の例
では、積層体３は上側金属板１と上側ゴム板２と中間金
属板１”と下側ゴム板２’と下側金属板１’とからな
る。積層体３における金属板やゴム板の数は、例えば１
〜５とすることができる。尚、本発明においては、ゴム
板のみから振動吸収部材を構成することも可能である。

【００５５】金属板１，１’，１”の材質としては、ス
テンレス鋼、鉄、銅、アルミニウム、その他適宜の合金
を使用することができる。金属板の厚さは、例えば１０
〜４０ｍｍである。但し、積層体以外の部材に対して直
接固定されない金属板（例えば上記中間金属板１”）は
０．３〜１０ｍｍと薄くすることができる。

【００５６】ゴム板２，２’の材質としては、合成ゴム
又は天然ゴムの加硫物を使用することができ、ＪＩＳＫ
６３８６で規定される防振ゴムが好ましく、更に特に静
的剪断弾性率４〜２２ｋｇｆ／ｃｍ² 好ましくは５〜１
０ｋｇｆ／ｃｍ² 、伸び２５０％以上のものが好まし
い。合成ゴムとしては、クロロプレンゴム、ニトリルゴ
ム、ニトリル−クロロプレンゴム、スチレン−クロロプ
レンゴム、アクリロニトリル−ブタジエンゴム、イソプ
レンゴム、エチレン−プロピレン−ジエン共重合体ゴ
ム、エピクロルヒドリン系ゴム、アルキレンオキシド系
ゴム、フッ素系ゴム、シリコーン系ゴム、ウレタン系ゴ
ム、多硫化ゴム、フォスファビンゴムを例示することが
できる。ゴム板の厚さは、例えば５〜６０ｍｍである。

【００５７】図１５（ｅ）の例では、積層体３は上側金
属板１とゴム板２と下側金属板１’ととからなり、ゴム
板２が上側ソリッドゴム層２ａとスポンジゴム層２ｂと
下側ソリッドゴム層２ｃとからなる。下側ソリッドゴム
層２ａ，２ｃのうちの一方を除去してもよいし、更に複
数のソリッドゴム層と複数のスポンジゴム層とを積層し
たものであってもよい。

【００５８】

【実施例】以下、本発明を実施例により説明する。

【００５９】実施例１：図１〜３に関して説明した装置
を使用した。ここで、振動モータ１６ｄとして１５０Ｗ
×２００Ｖ×３φのものを用い、めっき槽１２として容
量３００リットルのものを用いた。また、バレル５２と
して、直径１００ｍｍで長さ１７０ｍｍで、小開孔の径
が０．１ｍｍで、円筒状外周面における小開孔の開孔率
（開孔率）が６０％のものを用いた。

【００６０】被めっき物品Ｘとして常法により所定の前
処理を施した寸法０．６ｍｍ×０．３ｍｍ×０．２ｍｍ
のセラミック製チップ抵抗体０６０３を約８万個用い
た。また、ダミーボールをバレル容積の約１／３加え
た。このセラミック製チップ抵抗体には、抵抗体機能部
としての抵抗体膜が形成されており、それに接続される
ようにして、チップの長手方向に関する両端の面及びこ
れに続く０．６ｍｍ×０．３ｍｍの面の一部（両端面か
ら０．１ｍｍまでの領域）に電極形成のための導体化処
理がなされていた。

【００６１】このセラミックチップを、５ミリリットル
（ｍＬ）／リットル（Ｌ）の中性洗剤を含む５０℃の洗
浄液中に５分間浸漬して脱脂し、次いで常温のイオン交
換水で３０秒間洗浄した。その後、電源回路３４により
陰極導電部材５４と陽極金属部材５６との間に１０．５
Ｖの電圧を印加し３７Ａの電流を流して、６０分間ニッ
ケルめっきを行った。ニッケルめっきの際のめっき浴１
４では、硫酸ニッケル：２４０ｇ／Ｌ塩化ニッケル：４５ｇ／Ｌほう酸：４０ｇ／Ｌであり、めっき浴１４の温度は５５℃であった。これに
より、セラミックチップの所定部分に膜厚４μｍ±０．
５μｍのニッケルめっき膜が形成された。

【００６２】その後、このセラミックチップを、常温の
市水で３０秒間洗浄し、電源回路３４により陰極導電部
材５４と陽極金属部材５６との間に３．０Ｖの電圧を印
加し１２Ａの電流を流して、６０分間スズめっきを行っ
た。スズめっきの際のめっき浴１４では、硫酸第一スズ：５０ｇ／Ｌ硫酸：１００ｇ／Ｌクレゾールスルホン酸：１００ｇ／Ｌであり、めっき浴１４の温度は３０℃であった。これに
より、セラミックチップのニッケルめっき膜上に膜厚４
μｍ±０．５μｍのスズめっき膜が形成された。

【００６３】その後、このセラミックチップを、常温の
イオン交換水で３０秒間洗浄し、常温の第三リン酸ソー
ダ２％液で中和し、更に常温のイオン交換水で３０秒間
洗浄し、７０℃の純水で３０秒間洗浄し、メタノールで
純水と交換し、７０℃のオーブン中で４０分間の乾燥を
行った。

【００６４】以上のニッケルめっき及びスズめっきの際
には、振動流動発生部１６の振動モータ１６ｄを３８Ｈ
ｚで振動させて、振動羽根１６ｆをめっき浴１４中で振
幅０．２ｍｍ及び振動数７５０回／分で振動させた。ま
た、振動モータ４８を２５Ｈｚで振動させて、バレル５
２をめっき浴１４中で振幅０．１５ｍｍ及び振動数２５
０回／分で振動させた。また、バレル５２の回転数は８
回／分であった。この時のめっき浴中の３次元流速を３
次元電磁流速計ＡＣＭ３００−Ａ（アレック電子株式会
社製）で測定したところ２００ｍｍ／秒であった。

【００６５】以上のようにして形成されたセラミックチ
ップ抵抗体の全てについて、均一性良好な電極めっき膜
が形成されており、スズめっきにおける付着性がない
（良品率１００％）ことが、カット断面の顕微鏡検査、
その他の検査の結果判明した。

【００６６】比較例１−１：振動モータ４８を振動させ
ず、従ってバレル５２をめっき浴１４中で振動させない
ことを除いて実施例１と同様な処理を行ったところ、ニ
ッケルめっき膜の膜厚が平均３μｍ（誤差±２μｍ）
で、スズめっき膜の膜厚が平均３μｍ（誤差±２．５μ
ｍ）であり、良品率が約１０％であった。付着した製品
が非常に多く、膜厚ばらつきなどの製品ばらつきが非常
に多く発生した。

【００６７】比較例１−２：振動流動発生部１６を作動
させないことを除いて実施例１と同様な処理を行ったと
ころ、ニッケルめっき膜の膜厚が平均３．５μｍ（誤差
±２．５μｍ）で、スズめっき膜の膜厚が平均２．７μ
ｍ（誤差±３μｍ）であり、ヤケやコゲ等に基づく不良
発生があり、良品率が約５％であった。

【００６８】以上のように、開孔寸法３００μｍ以下の
小型バレルでは、振動流動攪拌装置でめっき浴に振動流
動攪拌を加えることによりはじめてバレル内のめっき液
の流動が可能になるのであって、振動流動攪拌装置を設
置しない場合には、バレル内外のめっき液の濃度差発生
などによりめっき不良が発生することがわかった。

【００６９】実施例２：被めっき物品Ｘとして実施例１
で使用したと同様に所定の前処理を施した寸法０．６ｍ
ｍ×０．３ｍｍ×０．２ｍｍのセラミック製チップ抵抗
体０６０３を約３ｍＬ用い、直径０．５ｍｍのダミーボ
ール３０ｍＬを用い、バレルとして直径５５ｍｍで長さ
５０ｍｍで、小開孔の径が０．１ｍｍのものを用いて、
実施例１と同様なニッケルめっき液で９．５Ｖ×７．５
Ａで６０分間のニッケルめっきを行った。その後、実施
例１と同様なスズめっき液で３．０Ｖ×２．５Ａで６０
分間のスズめっきを行った。これにより、ニッケルめっ
き膜厚４μｍ、スズめっき膜厚４μｍの製品を得た。め
っき膜厚均一性良好であり、不良品はなかった（良品率
１００％）。

【００７０】振動流動発生部を停止させる（すなわち振
動流動攪拌装置によるめっき液の振動流動発生を停止さ
せる）と、バレルを振動させても、メッキ膜厚不均一な
どによる不良の発生が極めて多く、良品率は約２０％で
あった。また、振動流動発生部を停止させずに、バレル
振動を停止させると、良品率は約５０％となった。

【００７１】実施例３：図１〜３に関して説明した装置
（振動モータ１６ｄ，４８及びめっき槽１２は実施例１
と同様）を使用し、バレル５２として、直径１００ｍｍ
で長さ１７０ｍｍで、小開孔の径が１００μｍで、円筒
状外周面における小開孔の開孔率が６０％のものを用
い、被めっき物品Ｘとして常法により所定の前処理を施
した平均径３００μｍのアクリロニトリル・ブタジエン
・スチレン共重合体（ＡＢＳ樹脂）の粉末をバレル容量
の約１／３入れ、ダミーを使用せずに、表面全体に銅め
っき膜の形成を行った。

【００７２】尚、前処理は、次のような（ａ）〜（ｋ）
の脱脂−水洗−表面調整−水洗−プリディップ−キャタ
リスト（Ｓｎ，Ｐｄ）−水洗−アクセレーター（Ｓｎ
除去）−水洗−導体化のための化学ニッケルめっき（無
電解ニッケルめっき）−水洗を行うことによりなされ
た。

【００７３】（ａ）脱脂工程処理条件：クリーナー，５５℃，５分処理液（４０ｍＬ／Ｌ）：有機キレート剤７．５（Ｗ／Ｖ）％リン酸塩１．０（Ｗ／Ｖ）％水酸化ナトリウム２．５（Ｗ／Ｖ）％界面活性剤１０．７５（Ｗ／Ｖ）％界面活性剤２０．１（Ｗ／Ｖ）％水残部（ｂ）水洗工程処理液：イオン交換水（ｃ）表面調整工程処理条件：コンディショナー，４０℃，５分処理液（３０ｍＬ／Ｌ）：有機化合物１０．０（Ｗ／Ｖ）％水残部（ｄ）水洗工程処理液：イオン交換水（ｅ）プリディップ工程処理条件：２５℃，１分処理液（５０ｍＬ／Ｌ）：３５％塩酸（ｆ）キャタリスト工程処理条件：４０℃，５分処理液１（３０ｍＬ／Ｌ）：パラジウム塩０．５（Ｗ／Ｖ）％スズ塩３２．０（Ｗ／Ｖ）％塩酸１６．０（Ｗ／Ｖ）％水残部処理液２（２００ｍＬ／Ｌ）：３５％塩酸（ｇ）水洗工程処理液：イオン交換水（ｈ）アクセレーター工程処理条件：４０℃，５分処理液１（２０ｍＬ／Ｌ）：有機化合物８．０（Ｗ／Ｖ）％無機酸塩２．０（Ｗ／Ｖ）％水残部処理液２（１００ｍＬ／Ｌ）：９５％硫酸（ｉ）水洗工程処理液：イオン交換水（ｊ）無電解ニッケルめっき工程処理条件：４０℃，１２分処理液（１２５ｍＬ／Ｌ）：（ｋ）水洗工程処理液：イオン交換水銅めっきの際のめっき浴１４としては、硫酸銅：２００ｇ／Ｌ硫酸：５０ｇ／Ｌを用いた。６０分間のめっきを行った。

【００７４】振動流動発生部１６の振動モータ１６ｄを
インバーターで３８Ｈｚで振動させて、振動羽根１６ｆ
をめっき浴１４中で振幅０．２ｍｍ及び振動数７００回
／分で振動させた。また、振動モータ４８を振動させ
て、被めっき物品Ｘをめっき浴１４中で振幅０．１５ｍ
ｍ及び振動数２５０回／分で振動させた。また、バレル
５２の回転数は８回／分であった。この時のめっき浴中
の３次元流速を３次元電磁流速計ＡＣＭ３００−Ａで測
定したところ２１０ｍｍ／秒であった。

【００７５】以上のようにして形成された表面に銅めっ
き膜を有する合成樹脂粉末は、均一性良好な銅めっき膜
（膜厚５μｍ±０．５μｍ）が形成されている（良品率
１００％）ことが、目視、カット断面の顕微鏡検査その
他の検査の結果判明した。

【００７６】比較例３−１：振動モータ４８を振動させ
ず、従ってバレル５２をめっき浴１４中で振動させない
ことを除いて実施例２と同様な処理を行ったところ、銅
めっき膜の膜厚が平均３μｍ（誤差±２μｍ）であり、
良品率が約４０％であった。

【００７７】比較例３−２：振動流動発生部１６を作動
させないことを除いて実施例２と同様な処理を行ったと
ころ、銅めっき膜の膜厚が平均３μｍ（誤差±０．６μ
ｍ）であり、ヤケやコゲ等に基づく不良発生があり、光
沢がなく、良品率が０％であった。

【００７８】実施例４：被めっき物品Ｘとして実施例３
で使用したと同様に所定の前処理を施した平均径３００
μｍのアクリロニトリル・ブタジエン・スチレン共重合
体（ＡＢＳ樹脂）の粉末を実施例２で使用したバレルに
その容量の約１／３入れ、更に直径０．５ｍｍのダミー
ボール３０ｍＬをバレル内に入れて、実施例１と同様な
ニッケルめっき液で９．５Ｖ×７．５Ａで６０分間のニ
ッケルめっきを行った。その後、実施例１と同様なスズ
めっき液で３．０Ｖ×２．５Ａで６０分間のスズめっき
を行った。これにより、ニッケルめっき膜厚４μｍ、ス
ズめっき膜厚４μｍの製品を得た。めっき膜厚均一性は
良好であり、不良品はなかった（良品率１００％）。

【００７９】更に、実施例３と同様なめっき液を使用
し、振動流動発生部１６の振動モータを３８Ｈｚで振動
させて銅めっきを行った。めっき膜の膜厚均一性は良好
であり、不良品はなかった（良品率１００％）。

【００８０】振動流動発生部を停止させる（すなわち振
動流動攪拌装置によるめっき液の振動流動発生を停止さ
せる）と、バレルを振動させても、メッキ膜厚不均一な
どによる不良の発生が極めて多く、良品率は約３０％で
あった。また、振動流動発生部を停止させずに、バレル
振動を停止させると、良品率は約６０％となった。

【００８１】実施例５：ＡＢＳ樹脂粉末の表面の前処理
においてアクセレーター（Ｓｎ除去）−水洗−導体化の
ための化学ニッケルめっきの処理に代えてＳｎ除去且つ
Ｃｕ析出による導体化を行うことを除いて実施例３と同
様な処理を行った。これは、ダイレクトめっきと呼ばれ
る方法である。

【００８２】以上のようにして形成された表面に銅めっ
き膜を有する合成樹脂粉末は、均一性良好な銅めっき膜
が形成されている（良品率９５％）ことが、目視、カッ
ト断面の顕微鏡検査その他の検査の結果判明した。

【００８３】なお、以上の実施例では、陽極金属部材と
バレルとの間隔を約４０ｍｍに近づけることでめっき時
間の短縮化を図り且つ膜厚均一性の良好なめっき膜を形
成して高い良品率を得ることができたが、振動流動発生
部の動作を停止した比較例では陽極金属部材とバレルと
の間隔を約４０ｍｍとするとヤケやコゲが発生して高い
膜厚均一性と高い良品率とが得られなかった。振動流動
発生部の動作を停止する場合には、陽極金属部材とバレ
ルとの間隔を約１００ｍｍまで長くすることでヤケやコ
ゲの発生を抑制することができるが、その場合にはめっ
き時間が長くかかることになる。

【００８４】

【発明の効果】以上説明した様に、本発明のバレル電気
めっき方法によれば、極小被めっき物品を良好な膜厚均
一性及び高い成膜速度をもって製造することができ、良
品率の向上と生産性の向上とを実現することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明のめっき方法が実施されるめっき装置の
構成を示す断面図である。

【図２】本発明のめっき方法が実施されるめっき装置の
構成を示す断面図である。

【図３】本発明のめっき方法が実施されるめっき装置の
構成を示す平面図である。

【図４】振動部材への振動伝達ロッドの取り付け部の拡
大断面図である。

【図５】振動伝達ロッドへの振動羽根の取り付け部の拡
大断面図である。

【図６】振動伝達ロッドへの振動羽根の取り付け部の変
形例を示す図である。

【図７】本発明のめっき方法の実施に使用されるめっき
装置を示す断面図である。

【図８】図７のめっき装置の一部切欠平面図である。

【図９】被めっき物品を介して流れるめっき電流の変化
を示すグラフである。

【図１０】本発明によるめっき方法の実施に使用される
めっき装置を構成する振動流動発生部のめっき槽への取
り付けを示す断面図である。

【図１１】本発明によるめっき方法の実施に使用される
めっき装置を構成する振動流動発生部のめっき槽への取
り付けを示す断面図である。

【図１２】本発明によるめっき方法の実施に使用される
めっき装置を構成する振動流動発生部のめっき槽への取
り付けを示す平面図である。

【図１３】積層体の平面図である。

【図１４】積層体によるめっき槽上部の閉塞の様子を示
す断面図である。

【図１５】積層体を示す図である。

【符号の説明】

１２めっき槽１４めっき浴１６振動流動発生部１６ａ基台１６ｂコイルバネ１６ｃ振動部材１６ｄ振動モータ１６ｅ振動伝達ロッド１６ｆ振動羽根１６ｇ１，１６ｇ２振動応力分散部材１６ｈ１，１６ｈ２ワッシャ１６ｉ１，１６ｉ２；１６ｉ３，１６ｉ４ナット１６ｊ振動羽根固定部材１６ｋスペーサリング１６ｍ，１６ｎナット１６ｐ弾性部材シート３４電源回路４４振動フレーム４６コイルバネ４８振動モータ４９バランスウェイト５０バレル支持部材５２バレル５２ａパイプ部材５４陰極導電部材５４’，５６’ 絶縁被覆配線５６陽極金属部材Ｘ被めっき物品

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】めっき液が通過し得る多数の小開孔を有
するバレル内に複数の被めっき物品を収容し、前記バレ
ルをめっき浴内で運動させながら、前記バレル内の被め
っき物品と接触可能に配置された陰極部材と前記バレル
外にて前記めっき浴中に配置された陽極部材との間に電
圧を印加して前記被めっき物品の表面にめっき膜を形成
するバレル電気めっき方法であって、前記被めっき物品は平均径が５〜５００μｍであり、振動発生手段に連係して前記めっき浴内で振動する振動
棒に一段または多段に固定された振動羽根を前記めっき
浴内で振幅０．１〜１０．０ｍｍ及び振動数２００〜８
００回／分で振動させることにより前記めっき浴に振動
流動を発生させ、且つ前記バレルを振幅０．１〜５．０
ｍｍ及び振動数１００〜３００回／分で振動させること
を特徴とする、極小物品のバレル電気めっき方法。
【請求項２】前記被めっき物品は金属からなるか又は
導体化処理された合成樹脂またはセラミックからなるこ
とを特徴とする、請求項１に記載のバレル電気めっき方
法。
【請求項３】前記バレルの運動は非鉛直方向の回転中
心の周りでの自転運動であることを特徴とする、請求項
１〜２のいずれかに記載のバレル電気めっき方法。
【請求項４】前記めっき浴の振動流動は３次元流速が
１５０ｍｍ／秒以上であることを特徴とする、請求項１
〜３のいずれかに記載のバレル電気めっき方法。
【請求項５】前記バレルの小開孔の径は３〜３００μ
ｍであることを特徴とする、請求項１〜４のいずれかに
記載のバレル電気めっき方法。
【請求項６】前記振動発生手段は１０〜５００Ｈｚで
振動することを特徴とする、請求項１〜５のいずれかに
記載のバレル電気めっき方法。