JP2002050554A - 検査用ウェーハ、その作製方法及びその作製装置 - Google Patents

検査用ウェーハ、その作製方法及びその作製装置

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JP2002050554A JP2000232199A JP2000232199A JP2002050554A JP 2002050554 A JP2002050554 A JP 2002050554A JP 2000232199 A JP2000232199 A JP 2000232199A JP 2000232199 A JP2000232199 A JP 2000232199A JP 2002050554 A JP2002050554 A JP 2002050554A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 本発明は半導体結晶の品質特性を評価するた
めの検査用ウェーハ、その作製方法及びその作製装置で
あって、生産性及び信頼性の高い新規な技術、さらには
自動化された新規な技術の提供。 【解決手段】 半導体ウェーハ主面の複数の回転対称位
置に、目視及び読み取り装置で読み取り可能な深さに識
別符号が印字され、且つ該主面が高輝度平面研削された
ことを特徴とする検査用ウェーハ、当該ウェーハの作製
方法および作成装置の提供。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術の分野】本発明は半導体結晶の品質
特性を評価するための検査用ウェーハ、その作製方法及
びその作製装置に関する。
【0002】
【従来の技術】半導体ウェーハの製造過程の最初の工程
は、チョクラルスキー法(CZ法)等によって、インゴ
ット(単結晶棒)が引き上げられる。この単結晶製造工
程で結晶起因の品質特性は決まり、最終のウェーハの品
質の主要な特性がこの工程で制御・管理される。例え
ば、CZ法で作られたシリコン結晶を例にとると、引き
上げ時に石英ルツボから溶け出した酸化珪素中の酸素を
結晶中に取りこむ。結晶中の酸素は半導体の電気特性や
ウェーハの強度、不純物のゲッタリング能力に影響す
る。
【0003】結晶の基本的な特性である抵抗率も、単結
晶製造工程においてデバイス製造側の要求仕様に合わせ
て、必要な種類と量のドープ剤を添加して調整する。
【0004】単結晶製造工程で得られたインゴットは引
き上げたままの状態では完全な円筒形ではなく、直径も
不均一であるため外径を研削して形を整える円筒研削を
行う。また、インゴットを一定の長さのブロックに切断
し、真円筒状のブロックを得る。
【0005】この真円筒状ブロックは結晶の方位を示す
ための、オリエンテーションフラット若しくはノッチを
形成した後、スライシング工程に移る。この工程は内周
刃ソー、ワイヤソーなどを用いて行われるが、以後のウ
ェーハの機械的品質(平坦度、平行度、そり)に影響す
ることになる。
【0006】また、このスライシングされたウェーハは
円周部分の面を取って、ウェーハハンドリング時のチッ
ピング(欠け)などによる品質劣化を防止するための面
取りを行う。
【0007】次に面取り後ウェーハはラッピング(平面
研削)工程に移し、主面の平坦度、平行度、そり、など
を是正する。しかしこれまでのウェーハ加工工程でその
表面近傍には加工変質層が存在するので、次の工程で化
学的にエッチングを行いそのダメージ層を取り除く。
【0008】最終的な加工は鏡面研磨工程で、少なくと
もウェーハ表面に回路を形成することのできる程度に平
坦にメカノケミカル研磨がなされるが、必要に応じその
前工程で、裏面ゲッタリング処理や、ドナー消去の熱処
理等が行われる。また、近年では面取り部分も鏡面に研
磨することが行われる。
【0009】最後に表面の汚染を洗浄、リンスして乾燥
を経てウェーハの製造は終了し、検査後デバイス製造側
に引き渡され、メモリー、LSIなどになって行く。
【0010】デバイスを形成する半導体ウェーハの品質
として重要な基本的特性は、抵抗率、酸素濃度、炭素濃
度やOSF(Oxidation−induced S
tacking Fault)、BMD(Bulk M
icro Defect)、FPD(Flow Pat
tern Defect)等の欠陥に関するものであ
る。これらのウェーハ特性はデバイスの設計に応じて品
質規格が定まっており、ウェーハ製造側ではその規格に
基づき製造し、品質を保証する必要がある。
【0011】品質特性を検査しその規格を保証するに
は、ウェーハ製造工程を全て終了した製品を検査して品
質評価を行うのが最も端的な方法であるが、前述したよ
うに引き上げ工程から出発して単結晶インゴットを鏡面
ウェーハ製品とするまでの、全工程時間は著しく長い。
従って、かかる方法では検査結果による、評価判断で、
製造条件、仕向け先計画、延いては生産計画などを管理
するのに大いに支障を来す。例えば、全工程終了後計画
していた仕向け先の規格に外れたことが判明するような
場合、大きな時間ロス、延いては製造コスト上昇を招
く。
【0012】これら基本的な特性である抵抗率、酸素濃
度、炭素濃度、OSF、BMD、FPDなどはシリコン
単結晶のバルク特性であって、結晶引き上げ工程で決ま
り、ウェーハ加工工程では本質的には変化することはな
い。そこで、上述のようなロスを防ぐ目的で、単結晶イ
ンゴット製造直後に検査用ウェーハを切りだして若しく
は加工工程の早い段階で抜き取ることでサンプルを確保
しこれを評価することが行われる。
【0013】さて、これらの検査項目についての検査法
について若干説明すると、先ず抵抗率は、必要に応じド
ナー消滅熱処理などの前処理を行い、一般的に4探針法
抵抗率測定器で測定するが、測定条件は、JIS H6
02などで標準化されている、好ましい表面状態はアル
ミナ粒度600番以上のラッピング面が推奨されてい
る。
【0014】一方、酸素濃度の測定は赤外吸収法による
評価が一般的である。赤外線がウェーハを透過する時に
酸素の影響で吸収される特定波数の赤外線の強度をフー
リエ変換型赤外分光光度計で測定してその濃度を求め
る。この測定条件についても、ASTM F120、F
1188などで標準化されており、同様に炭素について
も赤外吸収法がASTM F123、F1391やJE
IDA(Japan Electric Indust
rial Development Associat
ion)−56で決められている。これらの標準で決め
られているサンプルは厚さ2mmのウェーハを鏡面仕上
げしたものを使用することになっている。これは、製品
ウェーハと同様な工程を経る必要があるので、通常、赤
外吸収測定用にはエッチング処理した検査用ウェーハを
用いることにしている。例えば酸素濃度を測定するには
エッチングにより表面光沢を90%以上にしたもので十
分である。
【0015】OSFやBMDは、デバイスを形成しメモ
リーやLSIを製造する際、その工程で行う熱処理によ
って顕在化する結晶欠陥である。従って、各ウェーハ製
品仕様ごとに決められた特有な熱処理をウェーハ段階で
施して、欠陥を検査する。また、PFDは酸化膜耐圧に
関系の深い欠陥であり、硝酸、フッ酸、酢酸系のエッチ
ング液を用いエッチング(選択エッチング)することに
よりあらわれるさざなみ模様の欠陥を検査する。
【0016】前記したように、多種の検査項目は異なっ
た表面状態のウェーハを必要とし、異なった熱処理条件
やエッチング条件で前処理し、測定をする必要があるの
で多数の検査用サンプルが要る。しかも、例え物理的に
破壊されていなくとも測定済みサンプルは製品としては
役に立たない即ち全てが破壊検査となるのでロスにつな
がる。そこで、これら物性値は結晶成長の性格から半径
上では変化するものもあるが、同心円上では同一値で分
布するので、検査用ウェーハは円板一枚をそのまま用い
ず、扇形のセクターに等分割して各々に検査項目を振り
分け測定することで、ロスを防ぐことが行われている。
【0017】また、抵抗率と酸素濃度を測定するための
サンプルは各々仕上げ面の異なったサンプルを必要とし
たが、現状では粒度#1500〜#2000の砥石で平
面研削加工を行い両項目とも同じサンプルで測定可能に
している。このような加工を行うと鏡面研磨をしたウェ
ーハと同等の光沢度のウェーハ(高輝度平面研削ウェー
ハ)が得られる。
【0018】上記のような状況のなかで、それぞれの
(等分割された)検査ウェーハがもたらした検査値はも
ともとのインゴットとの対応及びそれぞれの(等分割さ
れた)検査ウェーハの由来(履歴)、例えば検査前の処
理の方法、検査方法などの情報と結びついていないと意
味がなく、そのためにそれぞれの(等分割された)検査
ウェーハは由来(履歴)、例えばインゴットの情報や検
査前の処理の方法、検査方法などの情報と結びつけるこ
とのできる認識(識別)符号を持ち、それぞれのウェー
ハが入れ換るなどの混入を防止する。また識別符号はウ
ェーハ上の検査に支障のない位置に書かれていなければ
ならない。
【0019】しかも検査ウェーハは検査工程で熱処理や
エッチングにさらされるので、これによって識別符号が
消滅するようなものであってはならない。すなわち、イ
ンクによる印字や、ラベルの貼付などでは不可であっ
て、ウェーハそのものに印字する必要がある。これには
ダイヤモンドペンによる手書があるが、大変な人手によ
る工数を費やすことになるとともに、その後のエッチン
グ、研削に耐える質のものでなければならない(深堀さ
れていないといけない)ことを考えると、問題は大き
い。
【0020】手動によるレーザマーカで印字する手段も
あるが、照合確認のうえ多種のコードを人間がインプッ
トする作業は煩雑であり、生産性、信頼性上好ましい方
法ではない。
【0021】
【発明が解決しようとする課題】本発明は上記従来技術
の問題点に鑑みなされたもので、半導体結晶の品質特性
を評価するための検査用ウェーハ、その作製方法及びそ
の作製装置であって、生産性及び信頼性の高い新規な技
術、さらには自動化された新規な技術の提供を目的とす
る。
【0022】
【課題を解決するための手段】本発明は半導体ウェーハ
主面の複数の回転対称位置に、目視及び読み取り装置で
読み取り可能な、識別符号が印字され且つ該主面が高輝
度平面研削された検査用ウェーハである。
【0023】前記したように、本発明のウェーハは扇形
に切断されて複数枚のサンプル片となったとき、その各
々に識別符号を持っている必要がある。それにはそれぞ
れの扇形の回転対象な同位置であって、しかも当該扇形
サンプル片が検査にかかるとき障害にならないような位
置に、該符号が印字されている必要がある。また印字後
の符号が、エッチング、高輝度平面研削などの加工を経
ても目視及び読み取り装置が読み取ることのできるほど
深く鮮明に印字されていなければならない。
【0024】さらに前記識別符号は、少なくとも引き上
げ工程におけるインゴットの識別符号、該インゴットか
ら検査用ウェーハを切断したインゴットの軸方向位置に
関する識別符号、検査種目識別符号を含むことも特徴と
する。インゴットの識別符号とは固有のインゴットの情
報を識別することのできる体系化された文字表現であ
る。従って、インゴットの識別符号は一義的にインゴッ
トの由来に関わる情報、インゴットの持つ特性に関わる
情報など固有のインゴットが、そのインゴットだけが持
つあらゆる情報と対応していなければならない。インゴ
ットの軸方向位置に関する識別符号も同様であって、該
符号もインゴットに関する情報と対応していなければな
らない。同様に検査種目識別符号は、そのサンプル片で
行うべき検査の種目と対応し、その種目を特定すれば検
査方法その他検査工程に関する情報との対応がなされな
ければならない。
【0025】本発明の検査用ウェーハは前記した少なく
とも三種の識別符号を備えることにより、自動化に結び
つき、信頼性の高い管理で生産性よくウェーハの検査を
おこなうことができるのである。
【0026】本発明の検査ウェーハは前記識別符号が自
動化されたレーザマーカで印字されていることも特徴と
する。即ち、十分に深く印字されて、少なくともウェー
ハ表裏の主面が高輝度平面研削された後に鮮明度を保っ
ており、且つ信頼性のある識別符号であるには、自動化
されたレーザマーカで印字されることが好ましい。
【0027】次に本発明の検査用ウェーハの作製方法は
半導体ウェーハ主面の複数の回転対称位置に、該主面を
高輝度平面研削した後に目視及び読み取り装置で読み取
り可能な識別符号を印字した後、該主面を高輝度平面研
削することを特徴とする。即ち本発明の検査用ウェーハ
の作製方法は定義した特定位置に識別符号を印字した
後、高輝度平面研削するステップを有する検査用ウェー
ハ作製方法である。これは次の検査ステップでの検査条
件に適合しなければならないからであり、しかもこの加
工工程で印字された識別符号は消滅してはならず、鮮明
に読み取り可能であることが必要とされる。
【0028】更に本発明の検査用ウェーハの作製方法は
少なくとも引き上げ工程におけるインゴットの識別符
号、該インゴットから切断したブロックのインゴット軸
方向位置に関する識別符号、検査種目識別符号という特
定な識別符号を印字するステップを含むことも特徴とす
る。
【0029】更に本発明の検査用ウェーハの作製方法は
インゴットより切り出した複数の検査用ウェーハを、識
別符号を有するカセットに決定順序通りに収納する工程
と、該カセットの識別符号と該カセットに収納した前記
複数の検査用ウェーハの情報をコンピュータで対応さ
せ、該コンピュータに記憶させてある仕様に基づき、該
検査用ウェーハに印字すべき識別符号を決定する工程
と、該コンピュータで決定された該検査用ウェーハに印
字すべき識別符号を受信し、該カセットの識別符号と対
応させ、検査用ウェーハに識別符号を印字する工程と、
該検査用ウェーハを高輝度平面研削する工程を有するこ
とも特徴とする。
【0030】ここでいう検査ウェーハに印字すべき識別
符号とは少なくともインゴットの識別符号、該インゴッ
トから切断したブロックのインゴット軸方向位置に関す
る識別符号、検査種目識別符号からなる特定識別符号で
ある。そしてこれら識別符号は意味のある各関連情報と
コンピュータ上でリンクしている必要のあることは前記
したとおりである。
【0031】このような工程に用いる本発明の検査用ウ
ェーハの作製装置は少なくとも製品規格、検査項目の仕
様情報を記憶装置に所有し、インゴットの情報を送受信
し、前記各情報を対応させ、検査用ウェーハに印字すべ
き識別符号を決定し、印字装置に印字指令するコンピュ
ータと、検査用ウェーハを切りだし、該コンピュータへ
インゴットの情報を送受信可能な切断装置と、該コンピ
ュータからの印字指令に基づき,検査用ウェーハの回転
対象位置に識別符号を印字する印字装置と、該検査用ウ
ェーハを高輝度平面研削する研削装置とを有することを
特徴とする。
【0032】更に本発明の検査用ウェーハの作製装置
は、切断された検査用ウェ−ハを収納する識別符号を有
するカセットと、該カセットを印字装置まで搬送可能な
自走式ロボットと、該カセットの識別符号を読み取り、
コンピュータへカセット情報を送受信可能な自動読み取
り装置と、印字装置で印字された検査用ウェーハを該印
字装置出口から平面研削装置まで搬送可能な自走式ロボ
ットを備えていることを特徴とする。
【0033】以下に図2及び図3に示したフローチャー
トに基づき、以上を総括的にまとめる。図3は従来の検
査フローで、インゴットブロックから切断された検査用
ウェーハは手書で識別符号を付され検査種目に応じたウ
ェーハ加工を施し、円板のまま検査すべき項目は分割前
のウェーハで行い、次にウェーハを分割してそれぞれの
検査を行った。手書での印字のため識別符号は簡単なも
のとした。また印字場所も不規則であり、分割後、識別
符号がないものは再度手書で識別符号を印字した。
【0034】図2は本発明のフローの一例であって、コ
ンピュータとの通信を含め、自動化可能な手順を示して
いる。このフロー例について説明すると、先ず第1ステ
ップでは、検査用ウェーハの切断プロセスにおいて処理
中のインゴット情報をコンピュータと通信する。次の第
2ステップでは、切断したウェーハは、あらかじめ識別
符号を持ち且つ例えばバーコードなどの形で貼付されて
いるカセットに、定められたスロット順に収納される。
第3ステップではカセットの識別符号をコンピュータと
通信する。次の第4ステップでは、あらかじめコンピュ
ータ中に記憶されている該インゴットの製品規格、検査
種目を前記受信データより判断して選択し、相当する印
字識別符号を判断選出してレーザマーカへ印字情報およ
び印字指令を発信する。第5ステップではレーザマーカ
により前ステップの指令に基づいてウェーハサンプルの
所定位置に識別符号を印字する。第6ステップは研削機
へ移動して高輝度平面研削が行われる。第7ステップは
洗浄、必要に応じ熱処理後第8ステップで円板状で検査
すべき項目(例えば酸素、抵抗など)の検査を行い、ウ
ェーハの分割を次の第9ステップで行い、第10ステッ
プでは分割されたウェーハごとに行う検査に必要な前処
理を行い、最終的に分割されたウェーハ毎の検査を完了
してこれら測定値はコンピュータに記憶される。これら
ステップはすべてコンピュータ中の情報とウェーハ識別
符号との関連づけに於いて行われるので、自動化が容易
である。また分割後のすべてのサンプルに識別符号、特
に検査種目など詳細な情報が印字されているため、サン
プルの混入等が防止でき、検査の信頼性が向上する。
【0035】
【発明の実施の形態】次に本発明の実施の形態を具体例
及び図面に基づき、詳しく説明する。但し本実施の形態
に記載する製品の形状、寸法、その相対配置等は特に特
定的な記載がない限りはこの発明の範囲をそれのみに限
定する趣旨ではなく単なる説明例に過ぎない。
【0036】図4は本発明の具体例を示す検査用ウェー
ハの作製装置である。図1は本発明により作成した検査
用ウェーハの1例である。
【0037】図4において41は切断装置、42はウェ
ーハカセット、43は自走式ロボット又はハンドリング
装置、44は印字装置、45は高輝度平面研削装置、4
6は自動読み取り装置、47はコンピュータ、1は本発
明で作製された検査用ウェーハである。
【0038】41で切断されたウェーハは42のカセッ
トの予め定められた位置に装填され、図示してないがイ
ンゴットブロックの認識符号がコンピュータに送出され
る。装填済みのカセットのカセット認識符号が読取装置
46で読み取られコンピュータに送出される。コンピュ
ータ内には該インゴットブロックが割り当てられた製品
名、製品規格マスター、それとリンクする検査種目マス
ターなどの情報が予めインプットされており、コンピュ
ータは該データ及び該カセット認識符号から判断される
べき各検査用ウェーハの今後の扱いを判断決定する。そ
して以後の搬送、マーキング、研削の工程を順序よく、
行わしめるのである。
【0039】(実施例1)チョクラルスキー法により単
結晶インゴットを製造した。このインゴットの識別符号
(以下インゴットIDという)を例えば「9088」と
した。コンピュータにはこのインゴットID「908
8」についての、製品規格、検査項目などの情報が記憶
されている。
【0040】製造された単結晶インゴットは、円筒研削
され直径を略200mmとし、次にこのインゴットから
検査用ウェーハを切りだし該コンピュータへインゴット
の情報を送受可能な切断装置に投入した。この切断装置
によりインゴットの種子結晶側の製品として使えない部
分(コーンと言われる部分)とインゴットの尾部側の製
品として使えない部分(テールと言われる部分)を切断
後、インゴットの識別符号及び製品規格の情報により適
切な長さのインゴットブロックに切断した。この切断時
に約2mmの検査用ウェーハを切り出した。切断位置は
コーンを除いた側の位置を0mmとし、0mm、320
mm、685mmの位置より切り出した。
【0041】この検査用ウェーハは、識別符号のわかっ
ているウェーハ用カセット(以下、この識別符号をカセ
ットIDという)に収納される。このウェーハ用カセッ
トは自動読み取り装置で読み取り可能な識別符号を有す
るカセットであり、カセットの定位置にカセットIDを
示すものとして例えばバーコードが貼られている。また
このカセットは複数枚のウェーハが収納できるカセット
であり、それぞれウェーハを収納する部分には、スロッ
ト番号が付与されている。例えば,カセットID「01
23」とし、上記3枚の検査用ウェーハをそれぞれ切断
位置0mmのものをスロット1、320mmの位置から
切り出した検査用ウェーハをスロット2、685mmの
位置から切り出した検査用ウェーハをスロット3に収納
した。
【0042】これらの情報,つまりインゴットの情報
(インゴットID及び切断位置に関する情報)とカセッ
トの情報(カセットID及びスロット番号)を対応させ
コンピュータに通信する。
【0043】該カセットは、自走式ロボットにより、印
字装置であるレーザマーカまで運搬していく。自走式ロ
ボットは、これらの工程間を決まった軌道に沿って無人
運搬するもので、コンピュータの指示またはカセット存
在を確認し自動的に次工程に送るようにしてある。
【0044】運搬されたカセットはレーザマーカの受け
入れ口に置かれる。そこでレーザマーカに付設してある
自動読み取り機で予めカセットIDを読み取りコンピュ
ータと通信して、該カセットの各スロットに入っている
ウェーハに印字すべき情報、例えばインゴットID及び
切断位置、更には検査項目などを確認する。
【0045】次にレーザマーカに付設するハンドリング
装置で、カセットの上からウェーハを抜き取り、レーザ
マーキングステージ上に置く。既に受信しているデータ
をカセットのスロットに合わせてウェーハの定位置に印
字する。
【0046】ウェーハの定位置に印字する例を図1に示
す。図1は、回転対象な位置で4つの分割ウェーハを得
る場合の印字書式の例を示した物である。印字する項目
としては、例えば、図1の符号5の位置にインゴットの
情報であるインゴットの識別符号(インゴットID)及
び該インゴットから切断したインゴットの軸方向位置に
関する識別符号(切断位置)を印字し(インゴットID
及び切断位置を合わせウェーハIDということがあ
る)、符号4の位置に検査種目識別符号、また符号3の
位置に必要に応じその他識別符号を付与する。これら印
字する位置は特に限定するものではないが、検査の妨害
とならない位置に印字する必要がある。
【0047】検査種目識別符号は、例えば検査のための
前処理が異なる項目毎に検査コードを決めておく。例え
ば、1150℃の熱処理を行うOSF検査では検査コー
ドを「LD01」、1000℃での熱処理を施した後、
酸素濃度を測定する析出検査の検査コードを「OP0
1」、選択エッチングを行うFPD検査の検査コードを
「FP01」等と予め定めておく。この他にも検査項目
とは異なるが、品質保証上一定期間保管しておくための
バックサンプルに「BS01」など特別な識別符号(番
号)を付与してもよい。
【0048】インゴットID「9088」のインゴット
について先の通信により、仕様を確認し、検査項目とし
て、OSF検査、析出検査、FPD検査を行うという情
報が自動的に得られる。またバックサンプルも含め1枚
のウェーハから4枚の分割したウェーハを得ることにな
る。
【0049】レーザマーカはこれらの情報に基づき印字
を行う。つまり、カセットID「0123」のスロット
1の検査用ウエ一ハには、インゴットID「9088」
のインゴットの0mmの位置から切断した検査用ウェー
ハであるため、ウェーハID「9088−000」とし
た。このウエ一ハからは4枚の分割したウェーハを得る
ため、4ヶ所に識別符号を印字するが、その1ケ所目に
はウェーハID「9088−000」を図1符号5の位
置(PPPPPPPPPPPの位置)に、検査コード
「LD01」を図1符号4の位置(QQQQの位置)に
印字した。更に90°回転させた回転対象位置である2
ケ所目には「9088−000」、検査コ一ド「OP0
1」、更に90°回転させた3ケ所目には「9088−
000」と検査コード「FP01」、更に90°回転さ
せた4ケ所目には「9088−000」とバックサンプ
ルの符号である「BS01」を印字した。
【0050】同様にカセットID「0123」のスロッ
ト2には、インゴットID「9088」のインゴットの
320mmの位置から切断した検査用ウェーハであるた
め、ウェーハID「9088−320」とした。このウ
ェーハIDで0mmの位置と同様な配置で、ウェーハI
D及び上記3種類の検査コード及びバックサンプルの符
号をウェーハ面内4ケ所に印字した。
【0051】同様にカセットID「0123」のスロッ
ト3には、インゴットID「9088」のインゴットの
685mmの位置から切断した検査用ウェーハであるた
め、ウェーハID「9088−685」とした。このウ
ェーハIDで0mmの位置と同様な配置で、ウェーハI
D及び上記3種類の検査コード及びバツクサンプルの符
号をウェーハ面内4ケ所に印字した。
【0052】印字装置はレーザマーカを用いた。例え
ば、50〜150μm程度の深さまで印字可能なYAG
レーザを用いたハードレーザマーカで行った。この印字
深さは後工程、特に高輝度な表面を得るための平面研削
で消えることがない深さに印字する必要がある。本実施
例では、ウェーハ表面より約100μmの深さまで印字
されており、後工程の高輝度平面研削を行っても印字が
消えることなく検査用ウエ一ハを得ることができる。
【0053】印字が終了した検査用ウェーハは、ハンド
リング装置によりレーザマーカに隣接する研削装置(平
面研削機)の受入ロまで搬送する。
【0054】研削工程では、#1500の砥石を用い検
査用ウェーハの主面を表裏両面とも研削した。厚さを調
整するための平面研削等を実施し、最終的に#1500
の砥石を用い、40μm程度研削することにより、識別
符号が印字してある側の主面(表面)及び識別符号が印
字していない側の主面(裏面)の両面とも高輝度平面研
削した。鏡面研磨されたウェーハの光沢度を100とし
た場合、このような高番手の砥石を用いた平面研削でも
同様に100に近い光沢度が得られ、研磨面と同様な表
面、すなわち高輝度な表面である検査用ウェーハが製造
できる。この時、先に印字した識別符号はきちんと目視
及び読み取り装置で読み取り可能な状態で残っている。
【0055】以上のように、この検査用サンプルの製造
を自動化にすることによって、検査用サンプルを準備す
る作業性及び符号の付与ミスなどの人為的ミス等を防止
でき信頼性の高い技術である。また検査ウェーハの準備
段階でのサンプルの混入を防止できる。
【0056】このように準備された検査用ウェーハを、
各検査項目に応じた前処理(熱処理や、エッチング)を
施し、品質の評価を行つた。
【0057】本発明では半導体結晶の品質特性を評価す
るための検査用ウェーハ自体に多くの識別符号を付与し
ているため、実際の検査工程または検査のための前処理
(熱処理等)をする場合にも検査ウェーハの混入等を防
止できるため正確な前処理及び評価が行える。
【0058】なお、本発明は、上記実施の形態に限定さ
れるものではない。上記実施の形態は単なる例示であ
り、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と
実質的に同−な構成を有し、同様な作用効果を奏するも
のは、いかなるものであっても本発明の技術範囲に包含
される。
【0059】例えば、本実施例では検査用ウェーハを切
断後、ー旦検査用ウェーハをカセットに収納し、複数枚
の検査ウェーハを同時に印字工程まで搬送しているが、
必ずしもこのようなカセットは必要としない。つまり切
断装置と印字装置を併設し、切り出した直後に1枚毎に
コンピュータと照合し必要な情報を受け印字することも
可能である。但し、切断される加工能力と、印字される
能力がうまく同期していないと作業時間の無駄が生じる
可能性がある。その点、本実施例のようなカセットを使
用した方法では、このカセットがバッファ的な役割を
し、各装置間で無駄の少ない処理が実施でき好ましい。
【0060】また、コンピュ一タによる管理は、少なく
とも切断装置及び印字装置について必要であるが、その
間の搬送や、その後の高輝度平面研削は必ずしも必要で
ない。
【0061】また検査用ウェーハに印字される識別符号
の番号や記号、識別符号の桁数や印字位置等は限定され
るものではなく、検査項目を評価する際に邪魔にならな
い位置、及びインゴットの情報がはっきり分かる識別符
号が印字してあればかまわない。
【0062】本実施例では、3種類の検査と1枚の保管
用ウェーハにするため、4つの区分に分割するように識
別符号を印字したが、これは検査項目等を考慮し2分割
または3分割、更にはもっと多く5分割以上としてもか
まわない。
【0063】
【発明の効果】検査ウェーハの複数の箇所に識別符号を
印字したことにより、1枚の検査用ウェーハから多くの
検査用サンプルに分割することができ、製品とすべきイ
ンゴットのロスを少なくすることができる。また分割し
た後もそれぞれの検査ウェーハの由来(履歴)を正確に
確認することができ、サンプルの混入などが防止でき、
信頼性の高い検査が実施できる。また、検査種目等の詳
細情報も併せて印字してある事から、検査用ウェーハの
検査工程への割振り等も容易である。また、印字につい
てもレーザマーカ等で深堀されているため、平面研削や
検査中に印字が消えてしまうことが無く、さらに手書の
ような、人的要因の見ずらさ及び記載ミスを防止でき
る。また、本発明のような装置にすることにより、検査
用ウェーハの切り出しから高輝度平面研削までのサンプ
ル準備段階を自動化することができた。以上のように検
査用ウェーハの準備に対しその生産性及び信頼性の高い
技術となり、さらには自動化が可能となった。
【図面の簡単な説明】
【図1】 検査用ウェーハの識別符号書式の一例を示す
【図2】 本発明の方法に関するフローチャート
【図3】 従来の方法に関するフローチャート
【図4】 本発明の装置を示す略図
【符号の説明】
1 本発明の検査用ウェーハ 2 本発明の分割ウェーハ 3 特殊コード 4 検査コード 5 ウェーハID 41 切断機 42 カセット 43 自走式ロボット 44 レーザマーカ 45 高輝度平面研削機 46 自動読み取り装置 47 コンピュータ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 2G051 AA51 DA03 DA08 DA11 DA15 DA20 EA21 4M106 AA01 BA05 BA11 CA27 DG08 DH57 DH60

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 半導体ウェーハ主面の複数の回転対称位
    置に、目視及び読み取り装置で読み取り可能な深さに識
    別符号が印字され、且つ該主面が高輝度平面研削された
    ことを特徴とする検査用ウェーハ。
  2. 【請求項2】 前記識別符号は、少なくとも引き上げ工
    程におけるインゴットの識別符号、インゴットの軸方向
    位置に関する識別符号、検査種目識別符号を含むことを
    特徴とする請求項1記載の検査用ウェーハ。
  3. 【請求項3】 前記識別符号は自動化されたレーザマー
    カで印字されていることを特徴とする請求項1若しくは
    2記載の検査用ウェーハ。
  4. 【請求項4】 半導体ウェーハ主面の複数の回転対称位
    置に、該主面を少なくとも高輝度平面研削した後に目視
    及び読み取り装置で読み取り可能な深さに識別符号を印
    字した後、該主面を高輝度平面研削することを特徴とす
    る検査用ウェーハの作製方法。
  5. 【請求項5】 前記識別符号は、少なくとも引き上げ工
    程におけるインゴットの識別符号、インゴットの軸方向
    位置に関する識別符号、検査種目識別符号を含むことを
    特徴とする請求項4記載の検査用ウェーハの作製方法。
  6. 【請求項6】 インゴットより切り出した複数の検査用
    ウェーハを、識別符号を有するカセットに決定順序通り
    に収納する工程と、該カセットの識別符号と該カセット
    に収納した前記複数の検査用ウェーハの情報をコンピュ
    ータで対応させ、該コンピュータに記憶させてある仕様
    に基づき、該検査用ウェーハに印字すべき識別符号を決
    定する工程と、該コンピュータで決定された該検査用ウ
    ェーハに印字すべき識別符号を受信し、該カセットの識
    別符号と対応させ、検査用ウェーハに識別符号を印字す
    る工程と、該検査用ウェーハを高輝度平面研削する工程
    を有することを特徴とする請求項4若しくは5記載の検
    査用ウェーハの作製方法。
  7. 【請求項7】 少なくとも製品規格、検査項目の仕様情
    報を記憶装置に所有し、インゴットの情報を送受信し、
    前記各情報を対応させ、検査用ウェーハに印字すべき識
    別符号を決定し、印字装置に印字指令するコンピュータ
    と、検査用ウェーハを切りだし、該コンピュータへイン
    ゴットの情報を送受信可能な切断装置と、該コンピュー
    タからの印字指令に基づき,検査用ウェーハの回転対象
    位置に識別符号を印字する印字装置と、該検査用ウェー
    ハを高輝度平面研削する研削装置とを有することを特徴
    とする検査用ウェーハの作製装置。
  8. 【請求項8】 少なくとも製品規格、検査項目の仕様情
    報を記憶装置に所有し、インゴットの情報、カセット情
    報を送受信し、前記各情報を対応させ、検査用ウェーハ
    に印字すべき識別符号を決定し、印字装置に印字指令す
    るコンピュータと、検査用ウェーハを切りだし、該コン
    ピュータへインゴットの情報を送受信可能な切断装置
    と、切断された検査用ウェ−ハを収納する識別符号を有
    するカセットと、該カセットを印字装置まで搬送可能な
    自走式ロボットと、該カセットの識別符号を読み取り、
    コンピュータへカセット情報を送受信可能な自動読み取
    り装置と、該コンピュータからの印字指令に基づき,検
    査用ウェーハの回転対象位置に識別符号を印字する印字
    装置と、該印字装置出口から平面研削装置まで搬送可能
    な自走式ロボットと、該検査用ウェーハを高輝度平面研
    削する研削装置とを有することを特徴とする請求項7記
    載の検査用ウェーハの作製装置。
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