JP3909223B2 - 電子デバイスの製造工程管理システム - Google Patents
電子デバイスの製造工程管理システム Download PDFInfo
- Publication number
- JP3909223B2 JP3909223B2 JP2001181870A JP2001181870A JP3909223B2 JP 3909223 B2 JP3909223 B2 JP 3909223B2 JP 2001181870 A JP2001181870 A JP 2001181870A JP 2001181870 A JP2001181870 A JP 2001181870A JP 3909223 B2 JP3909223 B2 JP 3909223B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- inspection
- process capability
- storage device
- measurement
- capability
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 19
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 132
- 238000007689 inspection Methods 0.000 claims description 87
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 35
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims description 32
- 238000003860 storage Methods 0.000 claims description 27
- 238000004891 communication Methods 0.000 claims description 6
- 238000007726 management method Methods 0.000 description 21
- 238000005070 sampling Methods 0.000 description 12
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 6
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 6
- 238000000275 quality assurance Methods 0.000 description 6
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 5
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 5
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 3
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 2
- 230000000593 degrading effect Effects 0.000 description 2
- 230000015654 memory Effects 0.000 description 2
- 238000009825 accumulation Methods 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000013480 data collection Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000002542 deteriorative effect Effects 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 230000005389 magnetism Effects 0.000 description 1
- 108091008695 photoreceptors Proteins 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P90/00—Enabling technologies with a potential contribution to greenhouse gas [GHG] emissions mitigation
- Y02P90/30—Computing systems specially adapted for manufacturing
Landscapes
- General Factory Administration (AREA)
- Management, Administration, Business Operations System, And Electronic Commerce (AREA)
Description
【発明の属する技術分野】
この発明は、電子デバイスの製造工程管理システムに関するものである。
【0002】
【従来の技術】
従来、特に半導体(ウェハ)などのデバイスを製造(試作を含む)する場合においては、急いで製造する必要のある特別なワーク(ロット、バッチ)(所謂、特急ワーク(ロット、バッチ))であっても、通常の速度で製造するワークであっても、工程フロー上の途中の出来映え等を確認するために設定されている工程内検査は、品質を保証するために同様に一律に実施するのが常である。しかし、実際には、理論上は十分に工程能力がある時点においては、このような工程内検査を省略することが可能である。
【0003】
しかしながら、現実には、その時点での工程能力が十分であるかどうかは、幾つもの要因が重なり合うため、人による判断を待っていては時間がかかり、先述のような特急ワークにおけるこうした省略は困難であり、又、仮にこのような省略ができたとしても、検査結果が残らないため、後日何か問題等があった場合に当時の工程の状況を調査するためのデータが残らないといった問題があった。
【0004】
加えて、このような問題はこうした特急ワーク以外にも、平常から抜取りで検査(測定)を行っている作業ステップにおいても、出来映えの値等が大きく変動するような時は同様に問題であった。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
本発明はこのような背景の下になされたものであり、その目的は、工程内検査を、品質保証能力を低下させずに省略することができる電子デバイスの製造工程管理システムを提供することにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】
請求項1に記載の発明は、測定検査装置を用いて同種のワークからなるロット毎に工程内検査を実施し、該測定検査装置に通信ラインを介して接続された記録装置にその検査結果を記録する電子デバイスの製造工程管理システムであって、前記測定検査装置には、該測定検査装置に対して検査対象となるロットのワークを仕掛けるか否かを指示するライン側コントローラと前記記憶装置に接続される処理装置とが通信ラインを介して接続されるとともに、前記記憶装置には、工程内検査を省略するか否かを判定するためのパラメータと以前に実施した工程内検査の検査結果を蓄積した蓄積データとが記憶されており、前記処理装置は、前記測定検査装置にて今回のロットの工程内検査を行う前に、前記記憶装置に記憶された蓄積データに基づいて今回のロットの品質特性に関する工程能力を算出し、この算出した工程能力が前記記憶装置に記憶された前記パラメータに基づいて工程能力上問題ないと同処理装置によって判断される場合に、同処理装置は、前記ライン側コントローラに工程内検査を省略する旨を指示し、前記測定検査装置での今回のロットを対象にした工程内検査を省略させるとともに、今回のロットでの工程内検査に関するデータとして今回のロットの前および後の少なくとも一方の検査結果から推定したデータを前記記録装置に記録するようにしたことを特徴としている。
【0007】
請求項2に記載の発明によれば、前記記憶装置には、工程内検査を省略するか否かを判定するためのパラメータとして、規格値に対する工程能力判定値が記憶されており、前記処理装置は、前記記憶装置に記憶された蓄積データに基づいて算出する規格値に対する公差と標準偏差とに基づいて工程能力指数を算出し、この算出した工程能力指数と前記記憶装置に記憶された前記規格値に対する工程能力判定値とが「工程能力指数≧規格値に対する工程能力判定値」の関係を満たす場合に、今回のロットの品質特性に関する工程能力が工程能力上問題ないと判断する。
また、請求項3に記載の発明によれば、前記記憶装置には、工程内検査を省略するか否かを判定するためのパラメータとして、管理値に対する工程能力判定値が記憶されており、前記処理装置は、前記記憶装置に記憶された蓄積データに基づいて算出する管理値に対する公差と標準偏差とに基づいて工程能力指数を算出し、この算出した工程能力指数と前記記憶装置に記憶された前記管理値に対する工程能力判定値とが「工程能力指数≧管理値に対する工程能力判定値」の関係を満たす場合に、今回のロットの品質特性に関する工程能力が工程能力上問題ないと判断する。
【0008】
このようにすることにより、工程内検査を、品質保証能力を低下させずに省略することができる。
【0009】
【発明の実施の形態】
以下、この発明を具体化した実施の形態を図面に従って説明する。
図1は、半導体ウェハ工場で適用した場合を例にとったときの製造工程管理システムを模式的に表したものである。
【0010】
半導体ウェハ工場において、製造ラインにはライン側コントローラ201が備えられるとともに、測定(検査)装置202が備えられている。また、ライン側設備200に対し離れた場所には工程管理装置(サーバマシン)100が設置されており、工程管理装置100においては処理装置(コンピュータ等)101と記憶装置102が備えられている。ライン側の機器201,202と工程管理装置100の処理装置(コンピュータ等)101は通信ライン(通信装置)により接続されており、相互に通信できるようになっている。ライン側コントローラ201はワークの仕掛けの実施可否の指示を行うための装置であり、例えば、作業員或いはロボット或いは測定(検査)装置に直接等の手段で指示するための装置である。
【0011】
図1の工程管理装置100の記憶装置102における記憶内容を図2に示す。記憶装置102には、定義(条件判定)ファイル110と測定(検査)結果記録ファイル111が用意されている。定義(条件判定)ファイル110に関して、工程(フロー)条件ファイルの個々の作業ステップのうち、測定(検査)の作業ステップの個別条件ファイルには、必要に応じて抜取りを行うか否か、即ち、工程内検査を省略するか否かを判定するための定義が予めされており、反映できるデータ(過去の所定ロット数分のデータ)が揃っている場合、可変定義された優先度(以上)の優先ワークがこの測定(検査)の作業ステップに仕掛る直前に、このステップを実施するか否かを判断することができるようになっている。
【0012】
具体例を挙げて説明するならば、例えば、線幅の測定・検査作業ステップの個別条件ファイルには、抜取りを行うか否か(工程内検査を省略するか否か)を判定するための定義がされており、過去の所定ロット数分のデータが揃っていたならば、特急ワークが測定・検査作業ステップに仕掛る直前に当該ステップを実施するか否かを判断する。
【0013】
図3には、電子デバイスの製造工程管理システムにおける処理手順を示す。
図3の処理開始は特急ワーク(ロット)の仕掛り前に行われる。
図1の処理装置101は図3のステップ1001において抜取り許可・不許可の判定(工程内検査の省略を許可するか不許可にするかの判定)を行う。このとき、優先ワーク(ロット)の測定(検査)作業抜取り方法定義ファイルが参照される。このステップ1001での判定について言及する。
【0014】
優先ワークの測定(検査)作業抜取りに関する可変定義ファイル(工程内検査の省略に関する可変定義ファイル)には、次の例のような情報が予め記述されている。
・種別(ワイルドカードを用いて指定することも可)…例えば、DMOSFETの20μmセル工程、0.35μmLSIの工程
・基本工程フロー名(ワイルドカードを用いて指定することも可)…例えば、DMOSFETの20μmセル工程のNチャネル用工程フローグループ、0.35μmLSIの工程のA社向け工程フローグループ
・品名(ワイルドカードを用いて指定することも可)…例えば、或る基本工程フローのB商品用
・工程のブロック名(ワイルドカードを用いて指定することも可)…例えば、第1層配線形成工程
・測定(検査)作業ステップ名(ワイルドカードを用いて指定することも可)…例えば、線幅測定工程
・判定対象とすべきワークの優先度…例えば、超特急・特急・急行といったものや、納期に対する余裕の度合い(残り猶余期間、算出値)
つまり、納期に近いロット(納期を越えた場合は越えた時間が大きいロット)を優先する。なお、納期に対する余裕度合いの算出値(算出方法)とは、例えば、納期余裕度や納期余裕時間や計画に対する進捗度をいう。納期余裕度はCritical Ratioともいい、納期を過ぎていない場合は、(納期までの時間)/(残り作業時間)で求められ、納期を過ぎている場合は、(納期までの時間)×(残り作業時間)で求められる。納期余裕時間は「納期までの時間」−「残り作業時間」で求められる。
・データ収集日数上限…例えば、1年分や30日分
・データ賞味期限…例えば、30日
・対象とするデータ件数…例えば、100件
・規格値に対する工程能力判定値…例えば、図4に示すごとく、工程能力指数Cp=T/6σ(ただし、T:公差(規格の幅)、σ:標準偏差)が1.33以上なお、規格値に対する工程能力判定値として工程能力指数Cp(=T/6σ)を例示したが、他にもT/8σを用いたり正規分布以外の確率分布から規格値に対する工程能力判定値を求めるようにしてもよい。また、規格は両側規格ではなく片側規格でもよい(後記の管理値についても同様)。
・管理値に対する工程能力判定値…例えば、図4に示すごとく、工程能力指数Cp=T/6σ(ただし、T:公差(管理の幅)、σ:標準偏差)が1.33以上
なお、管理値に対する工程能力判定値として工程能力指数Cp(=T/6σ)を例示したが、他にもT/8σを用いたり正規分布以外の確率分布から管理値に対する工程能力判定値を求めるようにしてもよい。
【0015】
この規格値や管理値は第1、第2…と複数設定してもよく、また、規格値だけでもよい(要は、少なくとも1つの規格または管理値を用いればよい)。
実際に、抜取りを実施するための前提条件(工程内検査を省略するための前提条件)として、図3のステップ1001では、この事例の場合、次の条件を全て満たすか判定する。
・ワークの種別が一致する。
・ワークの基本工程フロー名が一致する。
・ワークの品名が一致する。
・ワークの次の作業ステップの工程ブロック名が一致する。
・ワークの次の作業ステップの作業ステップ名が一致する。
・ワークの優先度が、定義された優先度(以上)である。
【0016】
図1の処理装置101は、このような図3のステップ1001での判定の結果、条件を満たさなければステップ1006に移行して抜取り不許可にする(工程内検査の省略を禁止する)。一方、処理装置101は、条件を満たせばステップ1002に移行して工程能力の算出を行う。工程能力を算出した後、処理装置101は、ステップ1003に移行して抜取り許可・不許可の判定を行う。
【0017】
図3におけるステップ1002での処理、即ち、工程能力を算出するための蓄積データは次の条件を満たすものとする。
(1)最新の収集データが正常である(例えば、規格外の点数<許容数)。そして、正常でなければ、抜取りは実施しないこととする。
(2)定義された蓄積データ件数分、収集データが既に蓄積されている。
(3)蓄積データ件数内で一番古いデータの収集日時が定義された上限より新しい。
【0018】
また、規格値に対する工程能力については、(1)〜(3)で求めた蓄積データから工程能力を求め、図3のステップ1003においては、
工程能力≧(>)定義された規格値[管理値]に対する工程能力
であればよい。具体例を挙げるならば、Cpが1.33より大きいときである。
【0019】
これら判定結果を全て満足できたならば、抜取りが許可(工程内検査の省略が許可)されることになる。つまり、予め定義された条件(ファイル)に記述されたパラメータに基づき工程能力上問題ない場合は、このワークにおいては、当該測定(検査)の作業ステップを実施せず飛ばすことになる。
【0020】
図1の処理装置101は、このような図3のステップ1003での判定の結果、条件を全て満たさなければステップ1006に移行して抜取り不許可(工程内検査を省略することを不許可)にする。一方、処理装置101は、条件を全て満たせばステップ1004に移行してワーク(ロット)への抜取りの指示(工程内検査の省略の指示)を図1のライン側コントローラ201に与える。この指示によりライン側コントローラ201は測定(検査)装置202を作動させて工程内検査を行わせないようにする。
【0021】
引き続き、処理装置101は、ステップ1005に移行して測定(検査)データの反映処理を実行する。この処理によるデータは図1,2の記憶装置102の測定(検査)結果記録ファイル111に記録される。
【0022】
この測定(検査)データの反映について説明を加える。
抜取りするワーク(工程内検査を省略するワーク)に対して測定(検査)作業ステップ内に定義されている本来測定(検査)する予定であった測定内容の代りに、次のデータを定義ファイルに基づき反映させる。
・以前のワークの最新のデータを反映
・以後に通る最初のワークのデータを反映
・以前と以後のワークのデータを元に最小自乗法等の直線や曲線の当てはめを行った推測値を反映(以前だけ、或いは以後だけとすることも可能)
これにより、測定(検査)作業ステップを実行しなくとも、必要なデータを取得記録できる。
【0023】
以上説明したように、従来、特急ワーク(ロット)であっても、通常のワークであっても、工程フロー途上の出来映え等の工程内検査は、その品質を保証するために必ず一律に実施していたが、本実施形態によれば、工程能力が十分である時は、特急ワーク(ロット)についてはこの工程内検査を自動で省略し、且つ前後の結果から推測算出した値を自動で自身のデータとして反映することにより(推測算出した値等が直接特急ワークの出来映えとして記録することにより)、品質保証等で用いるデータも抜けなく残すことで後日、問題等があった場合でも、当時の工程状況を調査することができ、品質保証の低下の危惧なく特急ワークの製造時間を飛躍的に短縮することができる。
【0024】
つまり、従来、特急ワークにおけるこうした省略は困難であり、又、仮にこのような省略ができたとしても、工程内検査の結果が残らないため、後日何か問題等があった場合に当時の工程の状況を調査するためのデータが残らないといった問題があった。また、このような問題は特急ワークの時の問題だけでなく、平常から抜取りで測定(検査)を行っている作業ステップにおいても、出来映えの値等が大きく変動するような時は同様に問題であった。このように、従来は、たとえ特急ワークであっても、或いは、工程内にワークが極めて多くあり可能ならば作業ステップを短くしたい場合であっても一律で工程内検査を実施するため、その分の製造時間がかかる。これに対し、本実施形態においては、同種のワークからの各ロットでの工程内検査の結果に関するデータを蓄積していき、今回のロットでのワークを仕掛ける前において蓄積データに基づいて今回のロットでの品質特性に関する工程能力(例えば、Cp(=T/6σ)値やT/8σ値や正規分布以外の確率分布から求めた工程能力判定値など)を自動的に算出して工程能力上問題ないと判定した場合にはこのロットにおける工程内検査を省略するとともに、当該ロットでの工程内検査に関するデータとして今回のロットの前と後の少なくともいずれかの検査結果から推定したデータを自動的に記録するようにした。特に、同種のワークからの各ロットでの工程内検査の結果に関するデータを蓄積していき、今回、所定以上の優先度を有するロット(特急ロット等の急ぐ度合いが所定以上のもの、あるいは、納期に対する余裕度合いが所定値よりも厳しいもの等)でのワークを仕掛ける前において蓄積データに基づいて今回のロットでの品質特性に関する工程能力を自動的に算出して工程能力上問題ないと判定した場合にはこのロットにおける工程内検査を省略するとともに、当該ロットでの工程内検査に関するデータとして今回のロットの前と後の少なくともいずれかの検査結果から推定したデータを自動的に記録するようにした。このようにすることにより、省略可能な作業ステップを自動で省略し、かつ、その作業ステップを抜き取られたとしても(省略したとしても)品質保証能力を低下させなくすることができることとなり、工程内検査を品質保証能力を低下させずに省略することができる。特に半導体ウェハ工場では非常に有効な製造工程管理システムとなる。
【0025】
また、自動で判断することから、抜取りまちがいといった誤りも防止することもでき、自動化が進んだ工場等では特に好適である。
また、平常から定期の間隔で抜取りで測定(検査)を行っている場合においては、定期的なバッチ処理や、或いは先と同様なその作業ステップに仕掛る直前に、同様な工程能力算出処理を行うことで、抜き取りの間隔を自動で見直すこともできるようになる。
【0026】
なお、図3のステップ1004と1005の処理は順序が逆でもよい。
また、本実施形態ではロットでの例を示したが、ロットが複数のワークから構成される場合において適用してもよい。つまり、本実施形態は図5に示すごとくロット1、ロット2、…において測定(検査実行)と抜取(検査省略)を選択する場合について述べてきたが、別の例として、図6に示すようにロットの中の個々のワーク1、ワーク2、…に対して抜取方式で測定(検査)をする・しないを指定する場合に適用してもよい。
【0027】
本発明は、半導体(ウェハ)などのデバイスを製造(試作を含む)する場合に限定されるものではなく、種々の液晶やプラズマ方式などのディスプレイ、磁気・光といった記録ディスク媒体、或いは薄膜ヘッド、超格子メモリ、といった電子デバイス及び有機物を主に用いたデバイス(例えば有機EL、有機感光体)を製造するプロセス全般に渡り有効である。
【図面の簡単な説明】
【図1】実施の形態における製造工程管理システムを模式的に表した構成図。
【図2】記憶装置における記憶内容を示す図。
【図3】製造工程管理システムにおける処理手順を示す図。
【図4】規格値と管理値を説明するための図。
【図5】測定(検査)対象を説明するための図。
【図6】別例における測定(検査)対象を説明するための図。
【符号の説明】
100…工程管理装置、101…処理装置(コンピュータ等)、102…記憶装置、200…ライン側設備、201…ライン側コントローラ、202…測定(検査)装置。
Claims (3)
- 測定検査装置を用いて同種のワークからなるロット毎に工程内検査を実施し、該測定検査装置に通信ラインを介して接続された記録装置にその検査結果を記録する電子デバイスの製造工程管理システムであって、
前記測定検査装置には、該測定検査装置に対して検査対象となるロットのワークを仕掛けるか否かを指示するライン側コントローラと前記記憶装置に接続される処理装置とが通信ラインを介して接続されるとともに、前記記憶装置には、工程内検査を省略するか否かを判定するためのパラメータと以前に実施した工程内検査の検査結果を蓄積した蓄積データとが記憶されており、
前記処理装置は、前記測定検査装置にて今回のロットの工程内検査を行う前に、前記記憶装置に記憶された蓄積データに基づいて今回のロットの品質特性に関する工程能力を算出し、この算出した工程能力が前記記憶装置に記憶された前記パラメータに基づいて工程能力上問題ないと同処理装置によって判断される場合に、同処理装置は、前記ライン側コントローラに工程内検査を省略する旨を指示し、前記測定検査装置での今回のロットを対象にした工程内検査を省略させるとともに、今回のロットでの工程内検査に関するデータとして今回のロットの前および後の少なくとも一方の検査結果から推定したデータを前記記録装置に記録するようにしたことを特徴とする電子デバイスの製造工程管理システム。 - 前記記憶装置には、工程内検査を省略するか否かを判定するためのパラメータとして、規格値に対する工程能力判定値が記憶されており、
前記処理装置は、前記記憶装置に記憶された蓄積データに基づいて算出する規格値に対する公差と標準偏差とに基づいて工程能力指数を算出し、この算出した工程能力指数と前記記憶装置に記憶された前記規格値に対する工程能力判定値とが「工程能力指数≧規格値に対する工程能力判定値」の関係を満たす場合に、今回のロットの品質特性に関する工程能力が工程能力上問題ないと判断する請求項1に記載の電子デバイスの製造工程管理システム。 - 前記記憶装置には、工程内検査を省略するか否かを判定するためのパラメータとして、管理値に対する工程能力判定値が記憶されており、
前記処理装置は、前記記憶装置に記憶された蓄積データに基づいて算出する管理値に対する公差と標準偏差とに基づいて工程能力指数を算出し、この算出した工程能力指数と前記記憶装置に記憶された前記管理値に対する工程能力判定値とが「工程能力指数≧管理値に対する工程能力判定値」の関係を満たす場合に、今回のロットの品質特性に関する工程能力が工程能力上問題ないと判断する請求項1に記載の電子デバイスの製造工程管理システム。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001181870A JP3909223B2 (ja) | 2001-06-15 | 2001-06-15 | 電子デバイスの製造工程管理システム |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001181870A JP3909223B2 (ja) | 2001-06-15 | 2001-06-15 | 電子デバイスの製造工程管理システム |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2002373014A JP2002373014A (ja) | 2002-12-26 |
JP3909223B2 true JP3909223B2 (ja) | 2007-04-25 |
Family
ID=19022071
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001181870A Expired - Fee Related JP3909223B2 (ja) | 2001-06-15 | 2001-06-15 | 電子デバイスの製造工程管理システム |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3909223B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005190262A (ja) * | 2003-12-26 | 2005-07-14 | Renesas Technology Corp | 半導体集積回路の設計方法 |
US7296103B1 (en) * | 2004-10-05 | 2007-11-13 | Advanced Micro Devices, Inc. | Method and system for dynamically selecting wafer lots for metrology processing |
KR101995112B1 (ko) * | 2017-06-14 | 2019-09-30 | 에스케이 주식회사 | 장비신뢰지수에 기초한 Lot 리스크 스코어 기반의 동적 Lot 계측 제어방법 및 시스템 |
JP7545885B2 (ja) | 2020-12-15 | 2024-09-05 | 株式会社竹中工務店 | 管理システム、及び管理プログラム |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3304741B2 (ja) * | 1995-01-26 | 2002-07-22 | 株式会社デンソー | プロセスフロー生成装置 |
JPH10277890A (ja) * | 1997-04-02 | 1998-10-20 | Hitachi Ltd | 製造ラインの管理方法および管理制御システム |
JPH1165646A (ja) * | 1997-08-15 | 1999-03-09 | Sony Corp | 半導体製品製造装置の品質データ管理装置とその方法 |
JPH11219875A (ja) * | 1998-01-30 | 1999-08-10 | Hitachi Ltd | 半導体製造方法および半導体製造システム |
JPH11291144A (ja) * | 1998-04-13 | 1999-10-26 | Ricoh Co Ltd | 検査ロット管理システム |
JP2001134798A (ja) * | 1999-11-08 | 2001-05-18 | Nippon Chem Ind Co Ltd | 製品品質管理情報システム |
-
2001
- 2001-06-15 JP JP2001181870A patent/JP3909223B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2002373014A (ja) | 2002-12-26 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR102568074B1 (ko) | 반도체 제조 프로세스에서 딥 러닝을 사용하여 결함 및 임계 치수를 예측하기 위한 시스템 및 방법 | |
JP4357134B2 (ja) | 検査システムと検査装置と半導体デバイスの製造方法及び検査プログラム | |
KR101331249B1 (ko) | 제조 데이터 인덱싱을 위한 방법 및 장치 | |
JP6997428B2 (ja) | 自動視覚的欠陥検査後の電子ダイインキングのためのシステム及び方法 | |
JP5100419B2 (ja) | 検査システム | |
US7257458B1 (en) | Automated integrated circuit device manufacturing facility using central control | |
US20050090927A1 (en) | Method of maintaining and automatically inspecting processing apparatus | |
US6556959B1 (en) | Method and apparatus for updating a manufacturing model based upon fault data relating to processing of semiconductor wafers | |
US7337034B1 (en) | Method and apparatus for determining a root cause of a statistical process control failure | |
JP3909223B2 (ja) | 電子デバイスの製造工程管理システム | |
US20230253224A1 (en) | Substrate processing system, substrate processing method, and map creating device | |
US7445945B1 (en) | Method and apparatus for dynamic adjustment of a sampling plan based on wafer electrical test data | |
US7296103B1 (en) | Method and system for dynamically selecting wafer lots for metrology processing | |
TWI644225B (zh) | 擷取線上製程控制工具之全面設計導引及其方法 | |
WO2019006222A1 (en) | SYSTEMS AND METHODS FOR PREDICTING DEFECTS AND CRITICAL DIMENSION USING DEEP LEARNING IN A SEMICONDUCTOR MANUFACTURING PROCESS | |
US10191112B2 (en) | Early development of a database of fail signatures for systematic defects in integrated circuit (IC) chips | |
US7348187B2 (en) | Method, device, computer-readable storage medium and computer program element for the monitoring of a manufacturing process of a plurality of physical objects | |
US7106434B1 (en) | Inspection tool | |
US7855088B2 (en) | Method for manufacturing integrated circuits by guardbanding die regions | |
KR102196942B1 (ko) | 설계 분석을 이용한 계측 타겟의 전기적 관련 배치 | |
US20060261268A1 (en) | Pattern measuring system and semiconductor device manufacturing method | |
US7519447B1 (en) | Method and apparatus for integrating multiple sample plans | |
JPH10107111A (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
CN101807266B (zh) | 半导体制造中的成品管理方法 | |
KR100597595B1 (ko) | 반도체 제조를 위한 사진공정에서의 샘플 웨이퍼 처리 방법 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20041210 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20041221 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20050221 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20050315 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20070122 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110126 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120126 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130126 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140126 Year of fee payment: 7 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |