JP2002039402A - 真空ゲート弁 - Google Patents

真空ゲート弁

Info

Publication number
JP2002039402A
JP2002039402A JP2000230724A JP2000230724A JP2002039402A JP 2002039402 A JP2002039402 A JP 2002039402A JP 2000230724 A JP2000230724 A JP 2000230724A JP 2000230724 A JP2000230724 A JP 2000230724A JP 2002039402 A JP2002039402 A JP 2002039402A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
valve plate
valve
plate support
vacuum
support
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2000230724A
Other languages
English (en)
Other versions
JP4342090B2 (ja
Inventor
Yoshichika Fukuda
祥愼 福田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shinmaywa Industries Ltd
Original Assignee
Shin Meiva Industry Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shin Meiva Industry Ltd filed Critical Shin Meiva Industry Ltd
Priority to JP2000230724A priority Critical patent/JP4342090B2/ja
Publication of JP2002039402A publication Critical patent/JP2002039402A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4342090B2 publication Critical patent/JP4342090B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Details Of Valves (AREA)
  • Sliding Valves (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 真空ゲート弁について、その弁体駆動部等か
らの発塵の拡散を簡単な構成によって防止するようにし
て、コストの低減を図りつつ真空空間の汚染を抑制す
る。 【解決手段】 開弁位置及び閉弁位置の間の弁板支持体
15の移動を案内する後側ガイドローラ24,24,…
と、弁板34及び弁板支持体15の間に設けられ、弁板
支持体15の閉弁位置で弁板34及び弁板支持体15が
互いに接離するように支持する平行リンク機構44,4
4,…との少なくとも一方の摺動部を摺動部カバー7
0,71,72により局所的に覆うようにした。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、真空容器の開口を
開閉するための真空ゲート弁に関し、特に、その摺動部
からの発塵を抑制するための技術分野に属する。
【0002】
【従来の技術】従来より、例えば実開昭64―770号
公報等に示されるように、隣接する1対の真空容器に連
通する弁箱内に弁板支持体を、その背面に軸支したガイ
ドローラで案内しながら昇降可能に配置し、この弁板支
持体の一方の真空容器側の側面に、弁箱と一方の真空容
器との間の連通部を開閉する弁板を平行リンク機構を介
して接離可能に支持し、弁箱内の下部に、弁板支持体の
下降時に弁板に当接して弁板を支持体に対し閉じ方向に
相対移動させるストッパを設け、弁箱上壁外面に、該上
壁を上下方向に気密状に貫通するピストンロッドを有す
るシリンダを取り付けて、そのピストンロッドの下端部
を弁箱内の弁板支持部に連結し、シリンダの伸縮作動に
より弁板支持体を弁箱内で昇降移動させて弁板を開閉さ
せ、シリンダの収縮作動により弁板支持体を上昇させた
ときには、その弁板支持体と共に弁板を上昇させて弁箱
の真空容器との連通部を開き、両真空容器同士を連通さ
せる一方、シリンダの伸長動作により弁板支持体を下降
させたときには、その途中で、弁板支持体と共に下降す
る弁板をストッパに当接させて平行リンク機構により弁
板支持体から離隔させ、この離隔により弁板を弁箱と真
空容器との連通部の周りに押し付けて両真空容器同士の
連通を遮断するようにした真空ゲート弁は知られてい
る。
【0003】また、例えば、特開2000―74258
号公報に示されるように、真空ゲート弁において、弁板
を開閉させる平行リンク機構(弁体駆動部)の全体をベ
ローズで覆うことによって、この平行リンク機構の摺動
部からの発塵をベローズ内に閉じこめて真空空間が汚染
されるのを防止することが知られている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】ところで、ベローズは
発塵をその内部へ封入する能力が高いので、真空空間の
清浄度を高く維持するのに適している。しかし、ベロー
ズは高価なものであるために、このベローズを備えるこ
とにより真空ゲート弁全体のコストが高くなるという問
題があった。
【0005】一方、真空ゲート弁の用途によっては、真
空空間に高い清浄度までは要求されず、それよりも低い
ある程度の清浄度だけが要求されて、清浄度よりもコス
トを優先する場合がある。このような場合に対しても、
一律に高価なベローズによって真空空間の清浄度を維持
するようにすると、その要求仕様に応じて真空ゲート弁
のコストを下げることができない。
【0006】また、このように真空ゲート弁での発塵の
拡散防止を目的としてベローズを設けるようにすると、
ベローズのひだの間に摩耗粉等の発塵が溜まってしま
い、この状態でベローズが長期間に亘り伸縮動作したと
きに、そのひだが発塵によって傷ついて終いには破損し
てしまう虞れもあった。
【0007】本発明は斯かる諸点に鑑みてなされたもの
であり、その目的とするところは、真空ゲート弁につい
て、その弁体駆動部等からの発塵の拡散をベローズに代
わる簡単な構成によって防止するようにして、コストの
低減を図りつつ真空空間の汚染を抑制することにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、この発明では、真空ゲート弁について、弁体駆動
部の発塵箇所を局所的に覆うようにした。
【0009】具体的には、請求項1の発明の真空ゲート
弁は、ガイド機構により案内されて真空容器の開口と略
平行な方向に沿って開弁位置及び閉弁位置の間を移動可
能な弁板支持体と、上記弁板支持体に弁板支持機構を介
して接離可能に支持され、弁板支持体の閉弁位置で該弁
板支持体に対し接離して上記真空容器の開口を開閉する
弁板と、上記ガイド機構又は弁板支持機構の少なくとも
一方の摺動部を局所的に覆うように設けられ、該摺動部
からの発塵を内部に封入保持する発塵保持手段とを備え
るようにした。
【0010】上記の構成により、弁板支持機構又はガイ
ド機構の摺動部は発塵保持手段によって局所的に覆われ
るので、その内部に弁板の開閉に伴う摺動部からの発塵
を封入保持して真空空間の汚染を抑えることができる。
【0011】そして、高価なベローズを設ける代わりに
摺動部を局所的に覆うという簡単な構成によって真空空
間の汚染を防止するので、コストを低減させることがで
きる。特に、清浄度よりもコストを優先して、ある程度
の清浄度だけが要求されるような場合に好適なものとな
る。
【0012】また、主要な発塵箇所だけを局所的に覆う
ので、ベローズ等で弁体駆動部全体を覆う場合に比べて
真空ゲート弁全体を小型化することができる。
【0013】請求項2の発明では、上記請求項1の真空
ゲート弁において、発塵保持手段は、弁板支持機構の摺
動部周りの弁板又は弁板支持体上に設けられた板状の摺
動部カバーであるようにした。また、請求項3の発明で
は、上記請求項1の真空ゲート弁において、発塵保持手
段は、ガイド機構の摺動部周りに設けられた板状の摺動
部カバーであるようにした。
【0014】これら発明の構成により、発塵保持手段を
具体化することができる。また、板状のものとすること
で、加工を容易化して製造コストを低減させることがで
きる。
【0015】請求項4の発明では、上記請求項1の真空
ゲート弁において、弁板支持機構は、弁板及び弁板支持
体の間に設けられた対なるリンクを有する平行リンク機
構とした。請求項5の発明では、上記請求項1の真空ゲ
ート弁において、ガイド機構は、弁板支持体に軸支され
て該弁板支持体を転動しながら案内するガイドローラを
備えるようにした。このことにより、発塵保持手段によ
り摺動部を局所的に覆って発塵を封入するのに好適な弁
板支持機構が得られる。
【0016】請求項6の発明では、摺動部を摺動させな
がら真空容器の開口を開閉する弁板を備えた真空ゲート
弁において、上記摺動部を局所的に覆うように設けら
れ、該摺動部からの発塵を内部に封入保持する発塵保持
手段を備えるようにした。
【0017】上記の構成により、上記請求項1と同様
に、摺動部を局所的に覆うという簡単な構成によって真
空空間の汚染を防止するので、高価なベローズを設ける
場合に比べてコストを低減させることができる。また、
摺動部だけを局所的に覆うので、ベローズ等で弁体駆動
部全体を覆う場合に比べて真空ゲート弁全体を小型化す
ることができる。
【0018】
【発明の実施の形態】図9〜図11は本発明の実施形態
を示し、1は前側に位置する第1真空容器、2は第1真
空容器1の後側に隣接する第2真空容器であって、各真
空容器1,2はそれぞれ互いに対向配置された略矩形状
の開口3,4を有する。この両真空容器1,2間には両
真空容器1,2の内部空間(真空空間)同士を連通又は
連通遮断するための真空ゲート弁5が配設されている。
この真空ゲート弁5は、両真空容器1,2間に気密状に
挟まれた薄厚矩形状の弁箱6を備え、この弁箱6の前壁
(図10及び図11で左側壁)の下部には上記第1真空
容器1の開口3に対応する前側連通口7が、また後壁
(図10及び図11で右側壁)の下部には第2真空容器
2の開口4に対応する後側連通口8がそれぞれ開口され
ており、この連通口7,8を介して弁箱6内の真空空間
が各真空容器1,2と連通している。
【0019】上記弁箱6内の上部には、左右方向に所定
間隔離れた位置を前後方向(図10及び図11で左右方
向)に互いに平行に延びる左右1対の支持軸11,11
がそれぞれ弁箱6の前後壁に形成した軸孔6a,6aを
貫通して回転可能に支持されている。つまり、この弁箱
6前後壁の軸孔6a,6aにはそれぞれ軸受10,10
が気密シールされて嵌合固定され、この両軸受10,1
0には各支持軸11が軸受10,10にそれぞれ内挿し
たシール部材(図示省略)を介して回転可能にかつ気密
状にシールされて挿通されている。
【0020】上記左右の支持軸11,11において弁箱
6内に位置する中間部にはそれぞれ前後方向に2股状に
分かれた左右アーム12,12の基端部が回転一体に取
付固定され、この両アーム12,12の各先端部にはア
ーム12と略同じ長さの板状の左右内側リンク13,1
3の各一端部(上端部)がそれぞれ前後方向に延びるリ
ンク軸14,14により揺動可能に支持されている。こ
の内側リンク13,13の各他端部(下端部)は、上記
弁箱6下部の連通口7,8よりも若干大きくかつ弁箱6
内の後側(第2真空容器2側)にオフセット配置した弁
板支持体15上端に対し、その左右方向に離れた位置に
ある前後方向に2股状に分かれた取付部17,17にて
それぞれ前後方向のリンク軸19,19により揺動可能
に連結されている。
【0021】このことにより、弁板支持体15は、左右
の両アーム12,12の先端部にそれぞれ外側リンク1
3,13を介して吊り下げられていて、左右の両支持軸
11,11が互いに逆方向に同期して回転することで弁
箱6内を昇降し、左側(図9で左側)の支持軸11が図
9で反時計回り方向に、また右側支持軸11が図9で時
計回り方向にそれぞれ同期回転したときに上昇するよう
になっている。
【0022】上記各支持軸11の前端部は弁箱6の前壁
外面よりも前側(弁箱6外)に延び、その前端部には、
前側(支持軸11の軸方向)から見て弁箱6の左右中央
側に上記アーム12と直角となるように延びる1対の平
行な板材からなる内側リンク28が基端部にて回転一体
に取付固定されている。この内側リンク28の先端部に
は板状のレバー29の一端部が前後方向のリンク軸30
により揺動可能に支持されている。また、弁箱6よりも
前側の左右中央部には上下方向の軸線を有するリニアア
クチュエータとしてのシリンダ31が配置固定されてい
る。このシリンダ31は、シリンダボディから下方に突
出して直線運動をするピストンロッド31aを有し、こ
のピストンロッド31aの下端部には左右方向に延びる
板状の連結部32が中央にて移動一体に取付固定され、
この連結部32の両端部にそれぞれ上記内側リンク2
9,29の他端部が前後方向のリンク軸30により揺動
可能に連結されている。すなわち、シリンダ31のピス
トンロッド31aは各内側リンク28先端部にレバー2
9を介して連結されており、シリンダ31の伸縮作動に
よりピストンロッド31aを昇降させて両支持軸11,
11を同期して逆方向に回転させることにより、弁板支
持体15及び後述の弁板34を昇降させ、シリンダ31
を収縮作動させたときには、左側支持軸11を図9で反
時計回り方向に、また右側支持軸11を図9で時計回り
方向にそれぞれ回転させて弁板支持体15及び弁板34
を上昇させ、ゲート弁5を開弁状態とする一方、シリン
ダ31を伸長作動させたときには、左側支持軸11を図
9で時計回り方向に、また右側支持軸11を図9で反時
計回り方向にそれぞれ回転させて弁板支持体15及び弁
板34を下降させ、ゲート弁5を閉弁状態とする。そし
て、上記アーム12と内側リンク28とは、各支持軸1
1の軸方向から見て直交方向に延びていて、弁板支持体
15が上昇端位置近傍にあるときにアーム12が略水平
状態になる一方、弁板支持体15が下降端位置近傍にあ
るときに内側リンク28が略水平状態になるように配置
されている。
【0023】そして、上記弁板支持体15を弁箱6内で
昇降案内する複数種類の案内用ローラ22,24,26
が設けられている。すなわち、図7及び図8に示すよう
に、弁板支持体15の左右側部の上下端部にはそれぞれ
水平左右方向の軸心を持ったローラ軸21,21,…が
突出して取付固定され、この各ローラ軸21には、弁箱
6の前後壁内面間の間隔よりも若干小さい外径を有しか
つ弁箱6の連通孔7,8の左右両側の前後壁内面上を転
動する前後ガイドローラ22が回転可能に支持されてい
る。そして、この前後ガイドローラ22とその回転軸で
あるローラ軸21との間に例えばMoS2等の固体潤滑
材料を成形してなる円筒状ブッシュ60が介在されてい
る。
【0024】また、図1、図2及び図8に示す如く、上
記弁板支持体15の第2真空容器2側(図10及び図1
1で右側)である後側面の上下端部にはそれぞれ切り欠
き部80,80,…が2つずつ設けられている。この上
端部の切り欠き部80,80は、上及び後方向に開口す
る一方、下端部の切り欠き部80,80は、下及び後方
向に開口している。そして、これら切り欠き部80,8
0,…には、それぞれ水平左右方向に延びるローラ軸2
3,23,…が上下に略対応して左右方向に並んだ状態
で取付固定され、この各ローラ軸23には弁箱6の後壁
内面上を転動可能な後側ガイドローラ24が支持されて
いる。そして、この後側ガイドローラ24とそのローラ
軸23との間にも上記と同様のブッシュ61が介在され
ている。
【0025】さらに、図5、図6及び図8に示す如く、
弁板支持体15の左右側部の上下端部にはそれぞれ水平
前後方向の軸心を持つローラ軸25,25,…(一方の
みを示す)が取付固定され、この各ローラ軸25に弁箱
6の左右側壁内面上を転動するサイドローラ26が回転
可能に支持されている。そして、この各サイドローラ2
6とそのローラ軸25との間にも上記と同様のブッシュ
59が介在されている。そして、これらガイドローラ2
2,24及びサイドローラ26により弁板支持体15が
弁箱6内で前後方向及び左右方向に殆ど位置ずれするこ
となく昇降するようになっている。
【0026】このようにして、弁板支持体15は、ガイ
ド機構としての前後ガイドローラ22、後側ガイドロー
ラ24、及びサイドローラ26により案内されて、第1
及び第2真空容器1,2の各開口と略平行な方向に沿っ
て開弁位置及び閉弁位置の間を移動可能とされている。
【0027】上記弁板支持体15の前側面(図10び図
11で左側面)には弁板支持体15と略同じ大きさ(弁
箱6下部の前側連通口7よりも若干大)の弁板34が弁
板支持機構としての平行リンク機構44,44,…を介
して接離可能に支持されている。この弁板34は、弁板
支持体に対し接離して、第1真空容器1の開口3つまり
弁箱6の前側連通口7を開閉して第1及び第2真空容器
1,2同士を連通又は連通遮断させるもので、その前側
面外周部には弁箱6の前壁内面における連通口7周りに
当接してシールする金属製等のシール部材35が取付固
定されている。
【0028】上記平行リンク機構44,44,…は、弁
板34及び弁板支持体15の間に設けられて上記弁板支
持体15の閉弁位置で弁板34及び弁板支持体15が互
いに接離するように支持しており、この弁板34及び弁
板支持体15が接触することによって真空ゲート弁が開
弁する一方、離隔することによって閉弁するように構成
されている。そして、この平行リンク機構44,44,
…の各々のリンク取付構造は以下のとおりである。
【0029】すなわち、弁板支持体15の上下中間部に
は、弁板支持体15を前後方向に貫通しかつ上下1対を
1組とした例えば2組の開口部16,16,…がそれぞ
れ左右方向に並んだ状態で形成され、この各開口部16
内でリンク45の後端部(弁板支持体15側の端部)が
弁板支持体15の移動方向と直交する水平左右方向の軸
心回りに揺動可能に軸支されている。また、弁板34の
後側面には上記弁板支持体15の各開口部16に略対応
して凹部36aが形成され、さらに、この凹部36aの
底部に凹部36が形成されている。そして、この各凹部
36内で上記各リンク45の前端部(弁板34側の端
部)が水平左右方向の軸心回りに揺動可能に軸支されて
いる。そして、上記上下に対応する1対のリンク45,
45で平行リンク機構44,44,…が構成されてお
り、この平行リンク機構44,44,…を介して弁板3
4が弁板支持体15の前側面(第1の真空容器1側の側
面)に接離可能に支持されている。
【0030】具体的には、図1〜4に拡大詳示するよう
に、上記弁板34の後側面(弁板支持体15側の側面)
の各凹部36には、各リンク45の前端部を軸支する弁
板側受け部材49がボルト50,50,…により取付固
定されている。この弁板側受け部材49には前後方向に
貫通する断面矩形状のリンク収容部49aが形成され、
このリンク収容部49aの上側の側面は後側に向かって
上側に所定角度で傾斜する傾斜面とされている。リンク
収容部49aの左右側壁には左右方向の軸孔49b,4
9bが貫通形成されており、この軸孔49b,49b及
びリンク45の前端部に形成した軸孔45a(図3参
照)にリンク軸46を挿通させることにより、リンク4
5の前端部が弁板側受け部材49により鉛直面内で回動
可能に軸支されている。
【0031】これに対し、上記弁板支持体15の開口部
16周囲面のうち上下側面にはそれぞれ弁板支持体15
の厚さ方向中央部に左右方向に延びる突起部16a,1
6bが上下に対向して形成されている。また、この上側
の突起部16aよりも前側の開口部16上側面は後側の
上側面よりも高くなっている。上記弁板支持体15の開
口部16周りには、各リンク45の後端部を軸支する支
持体側受け部材52が弁板支持体15の後側つまり弁板
34と反対側から操作されるボルト55,55,…によ
り取付固定されている。すなわち、この支持体側受け部
材52は、弁板支持体15の前側面(弁板34側の側
面)の開口部16周りに配置されてリンク45の後端部
を軸支する第1受け部材53と、弁板支持体15の後側
面(弁板34と反対側の側面)の開口部16周りに配置
された第2受け部材54とからなる。第1受け部材53
の隅角部にはねじ孔からなる4つのボルト孔53a,5
3a,…が貫通形成されている。また、この第1受け部
材53には前後方向に貫通する断面矩形状のリンク収容
部53bが形成され、このリンク収容部53bの下側の
側面は前側に向かって下側に所定角度で傾斜する傾斜面
とされている。リンク収容部53bの左右側壁には左右
方向の軸孔53d,53dが貫通形成されており、この
軸孔53d,53d及びリンク45の後端部に形成した
軸孔45bにリンク軸47(図3参照)を挿通させるこ
とにより、リンク45の後端部が第1受け部材53によ
り鉛直面内で回動可能に軸支されている。
【0032】一方、上記第2受け部材54には前後方向
に貫通する受け部材嵌合部54aが形成されており、こ
の受け部材嵌合部54aに上記第1受け部材53の後部
を密着状態に嵌合するようにしている。また、第2受け
部材54の隅角部には4つのボルト挿通孔54b,54
b,…が上記第1受け部材53のボルト孔53a,53
a,…に対応して貫通形成されており、この各ボルト挿
通孔54bに挿通した六角穴付等のボルト55を第1受
け部材53の対応するボルト孔53aに螺合すること
で、第1及び第2受け部材53,54同士を両者間に弁
板支持体15(開口部16の上下突起部16a,16
b)を挟んで締結し、第1受け部材53を弁板支持体1
5に取付固定するようにしている。
【0033】そして、上記各平行リンク機構44におけ
る各リンク45の前後の軸孔45a,45b内周面と、
該軸孔45a,45bに挿通されるリンク軸46,47
の外周面との間には、各ロータに設けたものと同様の例
えばMoS2等の固体潤滑材料を成形してなる円筒状ブ
ッシュ57が介在されている。
【0034】尚、この各ブッシュ57は軸方向に2分割
されていて、軸方向両側から嵌挿されるようになってい
る。また、アーム12の軸孔12a及び取付部17の軸
孔17aとリンク軸14,19との間に同様のブッシュ
を介在させることもできる。また、上記内側リンク13
の一方の端部のみにブッシュを設けてもよい。
【0035】図5,図6及び図8に示すように、上記弁
板34の前側面における左右側部下端にはそれぞれ水平
左右方向に延びるローラ軸38,38が取付固定され、
この各ローラ軸38にはストッパローラとしての弁板前
ローラ39が回転可能に支承されている。そして、この
弁板前ローラ39とそのローラ軸38との間に他のロー
ラと同様のブッシュ62がそれぞれ介在されている。ま
た、弁箱6の前壁内面における左右側部の下端には、弁
板34が弁箱6の前側連通口7を閉じた閉弁状態にある
ときの上記各弁板前ローラ39に対応して有底の凹部6
bが形成されており、弁板34が前側連通口7を開いた
状態では、弁板前ローラ39は前側連通口7の左右両側
の前壁内面上を転動するが、閉じた状態では、弁板前ロ
ーラ39が弁箱6の凹部6b内にその底面から浮いた状
態で落ち込むようになっている。
【0036】そして、上記弁箱6内の下部には上記各弁
板前ローラ39の真下位置にそれぞれストッパ40,4
0が左右方向に並んだ状態で取り付けられている。この
各ストッパ40はブロック状のもので、弁板支持体15
が下降端位置近傍まで下降したときに弁板34詳しくは
弁板前ローラ39に当接して弁板34の下降移動を停止
させ、その後の弁板支持体15の下降移動に伴い、弁板
34を平行リンク機構44,44,…によって弁板支持
体15から離隔する前方向つまり閉じ方向に相対移動さ
せるように案内する。尚、この弁板前ローラ39に代
え、各ストッパ40に、弁板34に当接して転動するス
トッパローラを軸支するようにしてもよい。
【0037】尚、図4中、42は弁板34の後側面と弁
板支持体15との間に伸装された引張ばねで、弁板34
を弁板支持体15に接近する後側に付勢してその踊り
(揺れや振れ)を防止するためのものである。
【0038】本発明の特徴として、図1及び図2に示す
ように、弁板支持機構としての平行リンク機構44,4
4,…における摺動部と、ガイド機構としての後側ガイ
ドローラ24,24,…における摺動部とを発塵保持手
段としての摺動部カバー70,71,72によって局所
的に覆うことによって、これら平行リンク機構44,4
4,…及び後側ガイドローラ24,24,…からの発塵
をその摺動部カバー70,71,72で覆われた内部に
封入保持するようにしている。
【0039】ここで、平行リンク機構44,44,…の
摺動部とは、リンク45の軸孔45a,45b及びブッ
シュ57外周面の接触部と、リンク軸46,47の外周
面及びブッシュ57内周面の接触部とをいう。また、後
側ガイドローラ24,24,…の摺動部とは、ガイドロ
ーラ24の内周面及びブッシュ61外周面の接触部と、
ローラ軸23の外周面及びブッシュ61内周面の接触部
とをいう。
【0040】尚、本実施形態では、大きい負荷が作用す
る箇所である平行リンク機構44,44,…及び後側ガ
イドローラ24,24,…の各摺動部のみを摺動部カバ
ー70,71,72で覆うようにしており、他のサイド
ローラ26、前後ガイドローラ22及び弁板前ローラ3
9の各摺動部については、大きい負荷は作用せず発塵が
問題とはならないため、摺動部カバーは設けていない。
【0041】具体的には、まず平行リンク機構44,4
4,…については、図1〜4に示すように、例えばSU
S等の薄板からなる略箱筒状の摺動部カバー70と、同
様の薄板からなる蓋状の摺動部カバー71とによって、
各摺動部が局所的に覆われている。
【0042】摺動部カバー70は、図1、図2及び図8
に示すように、左側面部70a、右側面部70b、上側
面部70c及び下側面部70dからなり、左側面部70
a及び右側面部70bは、弁板支持体15の開口部16
の弁板34側の左右方向の内壁面である左方向内壁面9
0a及び右方向内壁面90bのそれぞれに沿って、例え
ばねじ等により各々固着されている。同様に、摺動部カ
バー70の上側面部70cも開口部16の弁板34側の
上方向の内壁面である上方向内壁面90cに固着されて
いる。そして、摺動部カバー70の下側面部70dは、
開口部16の突起部16bの弁板34側の壁面である下
部壁面90dに沿って同様に固着され、この固着部分の
上側から弁板34側へ延びる面が、上記上側面部70c
と対向するようにして設けられている。
【0043】さらに、これら左側面部70a、右側面部
70b、上側面部70c及び下側面部70dの各々の弁
板34側端部によって、カバー開口部70eが形成さ
れ、さらにこのカバー開口部70eの開口部面積が小さ
くなるようにしてフランジ部70fが形成されている。
【0044】そして、弁板34の凹部36aの前後方向
(図の左右方向)の深さは、弁板34の開弁時の弁板3
4及び弁板支持体15の接合面間距離よりも若干大きい
大きさとなっており、閉弁時には、摺動部カバー70の
フランジ部70fと弁板の凹部36aとが略接する一
方、開弁時には、フランジ部70fは弁板34の後側
(弁板支持体15側)の接合面よりも若干前側に位置す
るようになっている。
【0045】また、弁板支持体15後側(図の右方向)
の支持体側受け部材52及び貫通口であるリンク収容部
53bは、中央部に凹部が形成された薄板からなる蓋状
の摺動部カバー71によって覆われている。
【0046】このようにして、摺動部カバー70,71
を配設することによって、平行リンク機構44,44,
…の摺動部は、摺動部カバー70,71と、弁板凹部3
6aの壁面弁板側受け部材49と、支持体側受け部材5
2とにより形成される略閉空間内に収容されるようにな
り、この略閉空間に平行リンク機構44,44,…の摺
動部からの発塵が封入保持される。
【0047】次に、後側ガイドローラ24,24,…に
ついては、図1,図2及び図8に示すように、例えばS
US等の薄板からなる摺動部カバー72によって、この
後側ガイドローラ24,24,…の摺動部が局所的に覆
われている。
【0048】摺動部カバー72は、平面部72a,72
b及び突出口部72cからなり、切り欠き部80,8
0,…の上又は下方向開口部80a,80aのそれぞれ
を平面部72aで塞ぐ一方、後側ガイドローラ24,2
4,…は弁板支持体15の後側面から突出しているため
に、このローラ周りを囲む突出口部72cとこの突出口
部72cに連続する平面部72bとによって、後方向開
口部80bを塞ぐようにして設けられている。
【0049】このようにして、摺動部カバー72を配設
することによって、後側ガイドローラ24,24,…の
摺動部は、摺動部カバー72と、弁板34の切り欠き部
80の内壁面とにより形成される略閉空間内に収容され
るようになり、この略閉空間に後側ガイドローラ24,
24,…の摺動部からの発塵が封入保持される。
【0050】次に、上記実施形態の作動について説明す
る。図9で実線及び図11に示す閉弁状態にある真空ゲ
ート弁5を開くときには、シリンダ31の収縮作動によ
りピストンロッド31aを上昇移動させる。このこと
で、ピストンロッド31a下端の連結部32にレバー2
9,29及び内側リンク28,28を介して連結されて
いる両支持軸11,11が同期して互いに逆方向に回転
し、左側支持軸11は図9で反時計回り方向に、また右
側支持軸11は同時計回り方向にそれぞれ回転する。こ
の支持軸11,11の回転駆動により該支持軸11,1
1と一体のアーム12,12も回動し、その先端に外側
リンク13,13を介して連結されている弁板支持体1
5がガイドローラ22,24により前後方向に、またサ
イドローラ26により左右方向にそれぞれ移動規制され
て案内されながら弁箱6内を上昇する。この弁板支持体
15の上昇により、弁箱6と第1真空容器1との間の連
通部つまり前側連通口7を気密状に閉じていた弁板34
が平行リンク機構44,44,…により引き上げられ
て、その前側連通口7が開かれる。
【0051】そして、上記シリンダ31の収縮ストロー
クエンド近傍で、図9で仮想線及び図10示すように弁
板支持体15により弁板34が下端部を弁箱6の連通口
7,8の上端位置に略一致させるように移動して、両真
空容器1,2の内部空間同士が弁箱6内を介して連通状
態となる。
【0052】これに対し、上記開弁状態から逆にゲート
弁5を閉じるときには、シリンダ31の伸長作動により
ピストンロッド31aを下降させる。このことで、両支
持軸11,11が同期して互いに逆方向に回転し、左側
支持軸11は図9で時計回り方向に、また右側支持軸1
1は反時計回り方向にそれぞれ回転する。この支持軸1
1,11の回転駆動により該支持軸11,11と一体の
アーム12,12も回動して、その先端に外側リンク1
3,13を介して連結されている弁板支持体15が、ガ
イドローラ22,24及びサイドローラ26により移動
規制されて案内されながら弁板34と共に弁箱6内を下
降する。そして、弁板支持体15の下降端位置近傍で弁
板34下端の上記各弁板前ローラ39がストッパ40に
当接すると、弁板34のそれ以上の下降移動が停止さ
れ、弁板支持体15のさらなる下降移動により弁板34
が今度は平行リンク機構44,44,…における各リン
ク45の立上がり動作により弁板支持体15から離隔す
るように前側に移動案内される。図9で実線及び図11
に示すように、上記シリンダ31の伸長ストロークエン
ド近傍で弁板支持体15が下降端位置に達すると、弁板
34はガイドローラ22,24により後側面を移動規制
されている弁板支持体15によりリンク45,45,…
を介して前側に押されて弁箱6と第1真空容器1との間
の連通部つまり弁箱6の前側連通口7の周りに気密シー
ル状態で押し付けられ、両真空容器1,2の内部空間同
士の連通が弁板34によって遮断される。尚、この状態
では、上記各弁板前ローラ39が弁箱6の前壁内面の凹
部6b内に落ち込む。
【0053】そして、この実施形態においては、平行リ
ンク機構44,44,…及び後側ガイドローラ24,2
4,…の各摺動部は、それぞれ摺動部カバー70,7
1,72と、弁板34又は弁板支持体15の一部とによ
り形成される略閉空間内に収容されるので、その内部に
弁板34の開閉に伴って発生する摺動部からの発塵を封
入保持して真空空間の汚染を抑えることができる。
【0054】そして、高価なベローズを設ける代わりに
平板からなる摺動部カバー70,71,72によって平
行リンク機構44,44,…及び後側ガイドローラ2
4,24,…の各摺動部を局所的に覆うようにするの
で、コストの低減化を図ることができる。特に、高い清
浄度は不要であるが、ある程度の清浄度だけが要求され
て清浄度よりもコストを優先するような場合に好適なも
のとなる。
【0055】また、主要な発塵箇所である平行リンク機
構44,44,…及び後側ガイドローラ24,24,…
だけを局所的に覆うので、平行リンク機構44,44,
…、後側ガイドローラ24,24,…等からなる弁体駆
動部全体をベローズ等によって覆う場合に比べて真空ゲ
ート弁全体を小型化することができる。
【0056】尚、上記実施形態では、真空ゲート弁5は
前後2つの真空容器1,2に連通するようにしたが、真
空ゲート弁の前後どちらか一方の連通口が真空容器に連
通していればよく、このとき他方の連通口は外部の真空
ポンプへの排気通路等に連通するようにしてもよい。
【0057】また、平行リンク機構44及び後側ガイド
ローラ24の双方を摺動部カバー70,71,72で覆
うようにしたが、平行リンク機構44又は後側ガイドロ
ーラ24の少なくとも一方のみを覆うようにしてもよ
い。
【0058】そして、弁板支持機構は、平行リンク機構
44としたが、他の摺動部を有する機構でもよい。ま
た、平行リンク機構44とその他の機構とが組み合わさ
れてなるようにしてもよい。
【0059】また、リンク軸46,47とリンク45と
の間、及びローラ軸21,23,25,38とローラ2
2,24,26,39との間にブッシュ57及び59〜
62を介在させているが、これらの摺動部にブッシュ等
の固体潤滑剤の皮膜をコーティングするようにしてもよ
い。また、これら複数の摩擦摺接部材の全てにブッシュ
を介在させる必要はなく、必要な箇所の摩擦摺接部のみ
にブッシュを介在させるようにしてもよい。
【0060】そして、上記実施形態では、リニアアクチ
ュエータをシリンダ31としているが、その他、直線運
動をする出力部を有するものであればよく、また回転型
のアクチュエータにより支持軸11を直接に回転駆動す
るようにしてもよい。
【0061】また、上記各実施形態では、シリンダ31
から弁板支持体15に至る駆動連絡系を2つとしている
が、3つ以上又は1つに増減変更することもできる。
【0062】さらに、上記各実施形態では、弁板支持体
15及び弁板34を上昇移動させて開弁し、下降移動さ
せて閉弁するようにしているが、逆に弁板支持体15及
び弁板34の下降移動により開弁し、上昇移動により閉
弁するようにしてもよい。また、弁板支持体15及び弁
板34の開閉動作の向きを必ずしも上下方向に限定する
必要はない。
【0063】
【発明の効果】以上説明したように、請求項1の発明に
よると、真空ゲート弁として、ガイド機構により案内さ
れて真空容器の開口と略平行な方向に沿って開弁位置及
び閉弁位置の間を移動可能な弁板支持体と、弁板支持体
に弁板支持機構を介して接離可能に支持され、弁板支持
体の閉弁位置で該弁板支持体に対し接離して真空容器の
開口を開閉する弁板と、ガイド機構又は弁板支持機構の
少なくとも一方の摺動部を局所的に覆うように設けら
れ、摺動部からの発塵を内部に封入保持する発塵保持手
段とを備えるようにしたことにより、発塵保持手段の内
側に弁板の開閉に伴う摺動部からの発塵を封入保持して
真空空間の汚染を抑えることができ、さらにコストを低
減させることができる。特に、清浄度よりもコストを優
先して、ある程度の清浄度だけが要求されるような場合
に好適なものとなる。また、ベローズ等で弁体駆動部全
体を覆う場合に比べて真空ゲート弁全体を小型化するこ
とができる。
【0064】請求項2の発明では、発塵保持手段は、弁
板支持機構の摺動部周りの弁板又は弁板支持体上に設け
られた板状の摺動部カバーであるようにした。また、請
求項3の発明では、発塵保持手段は、ガイド機構の摺動
部周りに設けられた板状の摺動部カバーであるようにし
た。従って、これら発明によると、発塵保持手段を具体
化することができる。また、加工を容易化して製造コス
トを低減させることができる。
【0065】請求項4の発明では、弁板支持機構は、弁
板及び弁板支持体の間に設けられた対なるリンクを有す
る平行リンク機構とした。また、請求項5の発明では、
ガイド機構は、弁板支持体に軸支されて該弁板支持体を
転動しながら案内するガイドローラを備えるようにし
た。従って、これらの発明によると、発塵を封入するの
に好適な弁板支持機構が得られる。
【0066】請求項6の発明によると、摺動部を摺動さ
せながら真空容器の開口を開閉する弁板を備えた真空ゲ
ート弁において、 摺動部を局所的に覆うように設けら
れ、摺動部からの発塵を内部に封入保持する発塵保持手
段を備えるようにしたことにより、上記請求項1と同様
に、高価なベローズを設ける場合に比べてコストを低減
させることができる。また、ベローズ等で弁体駆動部全
体を覆う場合に比べて真空ゲート弁全体を小型化するこ
とができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本実施形態に係る真空ゲート弁の開弁状態にお
ける平行リンク機構及び後側ガイドローラを拡大して示
す側面断面図である。
【図2】本実施形態に係る真空ゲート弁の閉弁状態を示
す図1相当図である。
【図3】図2のIII−III線断面図である。
【図4】本発明の実施形態に係る真空ゲート弁における
弁板支持体及び弁板間の平行リンク機構を拡大して示す
側面断面図である。
【図5】弁板支持体左右側部のサイドローラ及び弁板下
端部の弁板前ローラの支持構造を拡大して示す一部破断
側面図である。
【図6】弁板支持体左右側部のサイドローラ及び弁板下
端部の弁板前ローラの支持構造を拡大して示す平面断面
図である。
【図7】弁板支持体左右側部の前後ガイドローラの支持
構造を拡大して示す平面断面図である。
【図8】弁板支持体の左右側部を拡大して示す正面図で
ある。
【図9】真空ゲート弁の要部を示す正面図である。
【図10】真空ゲート弁の開弁状態を示す断面図であ
る。
【図11】真空ゲート弁の閉弁状態を示す断面図であ
る。
【符号の説明】
1 第1真空容器(真空容器) 2 第2真空容器(真空容器) 3,4 開口 5 真空ゲート弁 7 前側連通口 8 後側連通口 15 弁板支持体 22 前後ガイドローラ(ガイド機構) 23 ローラ軸(摺動部) 24 後側ガイドローラ(ガイド機構、ガイドローラ、
摺動部) 26 サイドローラ(ガイド機構) 34 弁板 44 平行リンク機構(弁板支持機構) 45 リンク(摺動部) 47 リンク軸(摺動部) 70〜72 摺動部カバー(発塵保持手段)

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 ガイド機構により案内されて真空容器の
    開口と略平行な方向に沿って開弁位置及び閉弁位置の間
    を移動可能な弁板支持体と、 上記弁板支持体に弁板支持機構を介して接離可能に支持
    され、弁板支持体の閉弁位置で上記弁板支持体に対し接
    離して上記真空容器の開口を開閉する弁板と、 上記ガイド機構又は弁板支持機構の少なくとも一方の摺
    動部を局所的に覆うように設けられ、該摺動部からの発
    塵を内部に封入保持する発塵保持手段とを備えることを
    特徴とする真空ゲート弁。
  2. 【請求項2】 請求項1の真空ゲート弁において、 発塵保持手段は、弁板支持機構の摺動部周りの弁板又は
    弁板支持体上に設けられた板状の摺動部カバーであるこ
    とを特徴とする真空ゲート弁。
  3. 【請求項3】 請求項1の真空ゲート弁において、 発塵保持手段は、ガイド機構の摺動部周りに設けられた
    板状の摺動部カバーであることを特徴とする真空ゲート
    弁。
  4. 【請求項4】 請求項1の真空ゲート弁において、 弁板支持機構は、弁板及び弁板支持体の間に設けられた
    対なるリンクを有する平行リンク機構であることを特徴
    とする真空ゲート弁。
  5. 【請求項5】 請求項1の真空ゲート弁において、 ガイド機構は、弁板支持体に軸支されて該弁板支持体を
    転動しながら案内するガイドローラを備えることを特徴
    とする真空ゲート弁。
  6. 【請求項6】 摺動部を摺動させながら真空容器の開口
    を開閉する弁板を備えた真空ゲート弁において、 上記摺動部を局所的に覆うように設けられ、該摺動部か
    らの発塵を内部に封入保持する発塵保持手段を備えるこ
    とを特徴とする真空ゲート弁。
JP2000230724A 2000-07-31 2000-07-31 真空ゲート弁 Expired - Fee Related JP4342090B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000230724A JP4342090B2 (ja) 2000-07-31 2000-07-31 真空ゲート弁

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000230724A JP4342090B2 (ja) 2000-07-31 2000-07-31 真空ゲート弁

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2002039402A true JP2002039402A (ja) 2002-02-06
JP4342090B2 JP4342090B2 (ja) 2009-10-14

Family

ID=18723645

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2000230724A Expired - Fee Related JP4342090B2 (ja) 2000-07-31 2000-07-31 真空ゲート弁

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4342090B2 (ja)

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0320182A (ja) * 1989-06-17 1991-01-29 Ulvac Corp 真空バルブ
JPH0377869U (ja) * 1989-11-30 1991-08-06
JPH11315939A (ja) * 1998-05-08 1999-11-16 Ckd Corp ゲート式真空遮断弁
JP2000046206A (ja) * 1998-07-24 2000-02-18 Shin Meiwa Ind Co Ltd 真空ゲート弁
JP2000074258A (ja) * 1998-06-19 2000-03-14 Shin Meiwa Ind Co Ltd 真空ゲ―ト弁
JP2000257751A (ja) * 1999-03-10 2000-09-19 Shin Meiwa Ind Co Ltd 真空ゲート弁
JP2000257727A (ja) * 1999-03-10 2000-09-19 Shin Meiwa Ind Co Ltd 真空ゲート弁
JP2001027336A (ja) * 1999-07-14 2001-01-30 Smc Corp ゲートバルブ

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0320182A (ja) * 1989-06-17 1991-01-29 Ulvac Corp 真空バルブ
JPH0377869U (ja) * 1989-11-30 1991-08-06
JPH11315939A (ja) * 1998-05-08 1999-11-16 Ckd Corp ゲート式真空遮断弁
JP2000074258A (ja) * 1998-06-19 2000-03-14 Shin Meiwa Ind Co Ltd 真空ゲ―ト弁
JP2000046206A (ja) * 1998-07-24 2000-02-18 Shin Meiwa Ind Co Ltd 真空ゲート弁
JP2000257751A (ja) * 1999-03-10 2000-09-19 Shin Meiwa Ind Co Ltd 真空ゲート弁
JP2000257727A (ja) * 1999-03-10 2000-09-19 Shin Meiwa Ind Co Ltd 真空ゲート弁
JP2001027336A (ja) * 1999-07-14 2001-01-30 Smc Corp ゲートバルブ

Also Published As

Publication number Publication date
JP4342090B2 (ja) 2009-10-14

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3810604B2 (ja) ゲートバルブ
US8800956B2 (en) Non-sliding gate valve
KR101540491B1 (ko) 진공밸브
JPH0842715A (ja) 無しゅう動真空ゲートバルブ
JP5545152B2 (ja) ゲートバルブ
JP2006214489A (ja) 真空処理装置
KR100605086B1 (ko) 게이트 밸브 장치
JP2002039402A (ja) 真空ゲート弁
JP2005076836A (ja) ゲートバルブ並びに真空処理容器および真空処理容器のゲート開閉方法
JP2001027336A (ja) ゲートバルブ
JP2000074258A (ja) 真空ゲ―ト弁
JPH09310766A (ja) 無しゅう動真空ゲートバルブ
JP2000337553A (ja) 真空装置及び真空ゲート弁
JP2000046206A (ja) 真空ゲート弁
JP2002276828A (ja) 真空ゲート弁
JP3755072B2 (ja) 小型回転アクチュエータ
JPH11190439A (ja) 真空ゲート弁
JP4632111B2 (ja) 遮断弁の弁構造
KR100230936B1 (ko) 진공게이트 밸브
WO2024053507A1 (ja) ゲートバルブ
JP2016169801A (ja) ゲートバルブ
JP3771036B2 (ja) 真空ゲート弁
JPH05263966A (ja) 真空ゲート弁
JP2000257751A (ja) 真空ゲート弁
JP4274735B2 (ja) ゲート弁

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20060417

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20080901

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20081007

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20081208

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20090407

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20090602

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20090623

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20090707

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120717

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120717

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130717

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130717

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130717

Year of fee payment: 4

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees