JP2002033517A - Light emitting element and its manufacturing method - Google Patents

Light emitting element and its manufacturing method

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JP2002033517A
JP2002033517A JP2000249811A JP2000249811A JP2002033517A JP 2002033517 A JP2002033517 A JP 2002033517A JP 2000249811 A JP2000249811 A JP 2000249811A JP 2000249811 A JP2000249811 A JP 2000249811A JP 2002033517 A JP2002033517 A JP 2002033517A
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a light emitting element which can obtain stable high luminous efficiency for a long period. SOLUTION: In this light emitting element, a semiconductor LED chip is provided in the recess of a package and the recess is filled up with a light- transmissive resin so as to cover the LED chip. A light scattering layer in which an inorganic material that scatters the light from a semiconductor LED and which has a glass layer in which the inorganic material is scattered and a resin layer formed on the glass layer is provided between the recess and the light-transmissive resin.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、発光素子とその製
造方法に関する。
The present invention relates to a light emitting device and a method for manufacturing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】発光ダイオード(LED)は、半導体素
子であり玉切れがなく、ON/OFF駆動特性に優れて
いることから、種々の用途に幅広く使用されている。
2. Description of the Related Art Light emitting diodes (LEDs) are widely used in various applications because they are semiconductor elements, have no breakage, and have excellent ON / OFF drive characteristics.

【0003】また、最近では、表面実装が可能なチップ
タイプのLEDが多く使用されるようになってきてい
る。
In recent years, chip-type LEDs that can be surface-mounted have been increasingly used.

【0004】このチップタイプLED(チップタイプの
発光素子)は、電極リードが埋め込まれた例えば液晶ポ
リマからなるパッケージの凹部に半導体LEDチップが
ダイボンディングされ、必要に応じてワイヤーボンディ
ングがされた後にその半導体LEDチップを覆うように
凹部内に透光性樹脂を充填することにより構成されてい
る。
In this chip type LED (chip type light emitting element), a semiconductor LED chip is die-bonded to a concave portion of a package made of, for example, a liquid crystal polymer in which electrode leads are embedded, and after wire bonding as necessary, the semiconductor LED chip is used. It is configured by filling a translucent resin in the recess so as to cover the semiconductor LED chip.

【0005】また、一般に、半導体LEDチップは、G
aN等の化合物半導体からなるp半導体層とn半導体層
が直接接合してpn接合を形成するか、その間に活性層
を挟持してダブルへテロ接合を形成して構成され、p半
導体層とn半導体層との間に順方向の電圧が印加される
ことにより、pn接合部又は活性層で発光する。
In general, a semiconductor LED chip has a G
The p semiconductor layer and the n semiconductor layer made of a compound semiconductor such as aN are directly joined to form a pn junction, or an active layer is interposed therebetween to form a double hetero junction, and the p semiconductor layer and the n semiconductor layer are formed. When a forward voltage is applied to the semiconductor layer, light is emitted from the pn junction or the active layer.

【0006】以上のように構成された発光素子におい
て、半導体LEDチップから発せられた光は、透光性樹
脂を介して前方に出射される。
[0006] In the light emitting device configured as described above, the light emitted from the semiconductor LED chip is emitted forward through the translucent resin.

【0007】また、最近では、低消費電力でより明るい
発光素子が求められており、半導体LEDチップの発光
効率を高めるとともに、半導体LEDチップが発光した
光を効率よく前方に出射させることができる光の取りだ
し効率の高い構造の検討が成されている。
Recently, there has been a demand for a light-emitting element with lower power consumption and brighter light. The light-emitting element can enhance the light-emitting efficiency of the semiconductor LED chip and efficiently emit the light emitted from the semiconductor LED chip to the front. Studies have been made on a structure with a high take-out efficiency.

【0008】発光素子において光取りだし効率を向上さ
せる有効な構造として本出願人は先に酸化チタン等の無
機材料からなる拡散材を樹脂に分散させてパッケージの
凹部の壁面にコートすることにより凹部壁面に光散乱層
を形成する構造を提案した(特開平11−284234
号公報)。この提案した構造によれば、半導体LEDチ
ップから出力されて壁面に入射された光が光散乱層によ
り散乱されて前方に出射される光を増加させることがで
き、その結果、光の取りだし効率を向上させることがで
きる。
As an effective structure for improving the light extraction efficiency in a light emitting element, the present applicant firstly disperses a diffusing material made of an inorganic material such as titanium oxide in a resin and coats it on the wall surface of the concave portion of the package. (Japanese Patent Laid-Open No. 11-284234).
No.). According to the proposed structure, the light output from the semiconductor LED chip and incident on the wall surface can be scattered by the light scattering layer to increase the light emitted forward, and as a result, the light extraction efficiency can be improved. Can be improved.

【0009】光の取り出し効率を高める他の方法とし
て、透光性樹脂に覆われたチップタイプLEDにおい
て、半導体LEDチップと前記透光性樹脂との間に、前
記半導体LEDチップの屈折率と前記透光性樹脂の屈折
率との間の屈折率を有する中間層を設けることにより、
光の取り出し効率を向上させることが考えられる。
As another method for improving the light extraction efficiency, in a chip type LED covered with a translucent resin, the refractive index of the semiconductor LED chip and the refractive index of the semiconductor LED chip are set between the semiconductor LED chip and the translucent resin. By providing an intermediate layer having a refractive index between the refractive index of the translucent resin,
It is conceivable to improve the light extraction efficiency.

【0010】一方、一般に、シリコーン樹脂に比べて屈
折率の高いエポキシ樹脂等を封止樹脂として用いると、
シリコーン樹脂に比べてエポキシ樹脂の線膨張係数は大
きいため、半導体LEDチップと基体とを電気的に結ぶ
導電線が、主に導電線と基体との接合部において切れ乃
至剥がれを発生するという問題が生じる可能性があっ
た。
On the other hand, in general, when an epoxy resin or the like having a higher refractive index than a silicone resin is used as a sealing resin,
Since the linear expansion coefficient of the epoxy resin is larger than that of the silicone resin, there is a problem that the conductive line electrically connecting the semiconductor LED chip and the base is cut or peeled off mainly at the junction between the conductive line and the base. Could occur.

【0011】そこで、本出願人は半導体LEDチップ及
び導電線を線膨張係数の小さいシリコーン樹脂等の柔ら
かい樹脂で直接包囲してからエポキシ樹脂で覆うことに
より、導電線の切れ乃至剥がれ等を防止する発明を出願
した(特開平8−335720)。
Accordingly, the present applicant directly cuts off or peels off the conductive wire by directly surrounding the semiconductor LED chip and the conductive wire with a soft resin having a small coefficient of linear expansion such as silicone resin and then covering with an epoxy resin. We filed the invention (Japanese Patent Application Laid-Open No. 8-335720).

【0012】[0012]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、樹脂に
酸化チタンが分散された光散乱層を有する発光素子は、
酸化チタンに光が照射された時に生じる活性酸素により
光散乱層を構成する樹脂が分解するという問題点があっ
た。
However, a light-emitting device having a light-scattering layer in which titanium oxide is dispersed in a resin,
There is a problem that the resin constituting the light scattering layer is decomposed by active oxygen generated when the titanium oxide is irradiated with light.

【0013】このために光散乱層と他の要素との界面が
剥離したり、光散乱層自身にボイドが形成される等の問
題点により光散乱層が劣化し、発光素子において高い光
取りだし効率を長期間安定して得ることが困難であっ
た。
As a result, the light scattering layer deteriorates due to problems such as peeling off of the interface between the light scattering layer and other elements and formation of voids in the light scattering layer itself, and high light extraction efficiency in the light emitting element. For a long period of time.

【0014】また、pn接合部又は活性層で発光した光
は、半導体LEDチップ内に存在する半導体層あるいは
サファイア基板等から透光性樹脂に出射し、ついで前記
透光性樹脂から空気中に出射され、利用される。
Light emitted at the pn junction or the active layer is emitted from the semiconductor layer or the sapphire substrate in the semiconductor LED chip to the light-transmitting resin, and then emitted from the light-transmitting resin into the air. Is used.

【0015】しかしながら、半導体LEDチップを構成
する材料の屈折率(例えば、GaNの屈折率:2.2程
度、GaPの屈折率:3.3程度、サファイアの屈折
率:4.0程度)に対して、透光性樹脂の屈折率(例え
ば、エポキシ樹脂の屈折率:1.5〜1.6程度、シリ
コーン樹脂の屈折率:1.4〜1.5程度)は小さいた
めに、pn接合部又は活性層で発光した光は、前記半導
体LEDチップと透光性樹脂との界面で全反射してしま
い、効率の良い光の取り出し効率は得られにくかった
(半導体LEDチップ内に戻った光は半導体層等により
吸収される場合がある)。
However, the refractive index of the material constituting the semiconductor LED chip (for example, the refractive index of GaN: about 2.2, the refractive index of GaP: about 3.3, the refractive index of sapphire: about 4.0) Since the refractive index of the translucent resin (for example, the refractive index of epoxy resin: about 1.5 to 1.6, the refractive index of silicone resin: about 1.4 to 1.5) is small, the pn junction Alternatively, the light emitted from the active layer is totally reflected at the interface between the semiconductor LED chip and the translucent resin, and it is difficult to obtain efficient light extraction efficiency (light returned to the semiconductor LED chip is May be absorbed by a semiconductor layer or the like).

【0016】一方、半導体LEDチップと透光性樹脂と
の間に、前記半導体LEDチップの屈折率と前記透光性
樹脂の屈折率との間の屈折率を有する中間層が設けられ
る、すなわち前記半導体LEDチップ上に、順に、高屈
折率樹脂層と低屈折率樹脂層(低屈折率樹脂の屈折率<
高屈折率樹脂の屈折率<半導体LEDチップの屈折率)
とが形成される方法において、高屈折率樹脂の材料とし
て低融点ガラスが考えられるが、低融点ガラスをパッケ
ージの凹部に塗布しようとすると低融点ガラスの硬化温
度、すなわち融点でパッケージが融解してしまう。これ
は、例えば、屈折率が2の低融点ガラスの融点が400
℃程度であるのに対して、熱可塑性樹脂の中で最高の耐
熱性を有する液晶ポリマーの耐熱温度が350℃程度で
あるためである。
On the other hand, an intermediate layer having a refractive index between the refractive index of the semiconductor LED chip and the refractive index of the translucent resin is provided between the semiconductor LED chip and the translucent resin. A high refractive index resin layer and a low refractive index resin layer (refractive index of low refractive index resin <
Refractive index of high refractive index resin <Refractive index of semiconductor LED chip)
In the method in which the low-melting glass is considered as a material of the high-refractive-index resin, when the low-melting glass is applied to the concave portion of the package, the package is melted at the curing temperature of the low-melting glass, that is, the melting point. I will. This is because, for example, the melting point of a low melting point glass having a refractive index of 2 is 400.
This is because the liquid crystal polymer having the highest heat resistance among thermoplastic resins has a heat resistance temperature of about 350 ° C., while the heat resistance is about 350 ° C.

【0017】また、仮にパッケージ以外の基体に低融点
ガラスを塗布したとしても、低融点ガラスは無機物であ
るシリカを主成分とするため、従来通り低融点ガラスを
硬化させた後、前記低融点ガラスの上に有機物であるエ
ポキシ樹脂層を形成すると、その界面において剥離乃至
ボイド等が発生してしまうという問題があった。
Even if the low-melting glass is applied to a substrate other than the package, the low-melting glass is mainly composed of silica, which is an inorganic substance. When an organic epoxy resin layer is formed on the substrate, there is a problem that peeling or voids are generated at the interface.

【0018】また、半導体LEDチップを直接シリコー
ン樹脂等の柔らかい樹脂で包囲してからエポキシ樹脂で
覆うことにより、金線の切れ乃至剥がれ等を防止すると
いう発明においては、従来通りシリコーン樹脂を硬化さ
せた後、前記シリコーン樹脂の上にエポキシ樹脂層を形
成することにより金線の切れ乃至剥がれ等を防止するこ
とができる。
Further, in the invention in which a semiconductor LED chip is directly surrounded by a soft resin such as a silicone resin and then covered with an epoxy resin to prevent the gold wire from being cut or peeled off, the silicone resin is hardened as in the prior art. After that, by forming an epoxy resin layer on the silicone resin, breakage or peeling of the gold wire can be prevented.

【0019】しかしながら、LEDはその需要の高まり
に伴い、さらに厳しい条件下での使用も考えられる。こ
のような特殊な条件下においては、例えば、半導体LE
Dチップ上に第1樹脂層を形成し、さらにその上に第2
樹脂層を形成したLEDの場合であると、前記第1樹脂
層と前記第2樹脂層との界面にて剥離乃至ボイドが発生
する可能性がある。
However, as the demand for LEDs increases, use under more severe conditions is conceivable. Under such special conditions, for example, the semiconductor LE
A first resin layer is formed on the D chip, and a second resin layer is further formed thereon.
In the case of an LED having a resin layer formed, peeling or voids may be generated at the interface between the first resin layer and the second resin layer.

【0020】一方、高屈折率シリコーン樹脂と一般に用
いられる低屈折率シリコーン樹脂とを比較すると、高屈
折率のシリコーン樹脂の方が柔らかく、外部からの衝撃
に対して弱い。従って、発光素子表面を高屈折率のシリ
コーン樹脂とすると、若干の外部からの衝撃により封止
樹脂が破れてしまう可能性があった。
On the other hand, comparing the high-refractive-index silicone resin with the generally used low-refractive-index silicone resin, the high-refractive-index silicone resin is softer and more vulnerable to an external impact. Therefore, when the surface of the light emitting element is made of a silicone resin having a high refractive index, there is a possibility that the sealing resin may be broken by a slight external impact.

【0021】そこで、本発明は、上述した問題を解決
し、長期間安定した高い光取り出し効率を得ることがで
きる発光素子を提供することを目的とする。
Accordingly, an object of the present invention is to solve the above-mentioned problems and to provide a light-emitting element capable of obtaining a high and stable light extraction efficiency for a long period of time.

【0022】[0022]

【課題を解決するための手段】本発明の第1の発光素子
は、上記目的を達成するために、基体上に半導体LED
チップが設けられ、その半導体LEDチップと該LED
チップの少なくとも周りの基体上を覆うように透光性樹
脂が形成された発光素子において、上記基体と上記透光
性樹脂との間に上記半導体LEDからの光を散乱させる
無機材料が分散された光散乱層を備え、かつ上記光散乱
層は、上記無機材料が分散されたガラス層と、該ガラス
層の上に形成された樹脂層とを有してなることを特徴と
する。
According to a first light emitting device of the present invention, a semiconductor LED is provided on a substrate to achieve the above object.
A semiconductor LED chip and the LED.
In a light-emitting element in which a light-transmitting resin is formed so as to cover at least a substrate around a chip, an inorganic material that scatters light from the semiconductor LED is dispersed between the substrate and the light-transmitting resin. A light scattering layer is provided, and the light scattering layer includes a glass layer in which the inorganic material is dispersed, and a resin layer formed on the glass layer.

【0023】このようにすると、無機材料と樹脂層とが
直接に接しないようにできるので、その無機材料による
樹脂の劣化を防止でき、長期間にわたって安定した光散
乱特性が得られる。
With this arrangement, the inorganic material and the resin layer can be prevented from coming into direct contact with each other, so that deterioration of the resin due to the inorganic material can be prevented, and stable light scattering characteristics can be obtained over a long period of time.

【0024】ここで、本願明細書で言うガラスとは、構
成原子が規則的な配置をとっておらず、無秩序な構造を
有する非晶質の無機物質をいう。
Here, the glass referred to in the specification of the present application refers to an amorphous inorganic substance having a disordered structure in which constituent atoms are not arranged regularly.

【0025】また、本発明の第2の発光素子は、上記目
的を達成するために、パッケージの凹部に半導体LED
チップが設けられ、その半導体LEDチップを覆うよう
に上記凹部に透光性樹脂が充填されてなるチップ型の発
光素子において、上記凹部と上記透光性樹脂との間に上
記半導体LEDからの光を散乱させる無機材料が分散さ
れた光散乱層を備え、かつ上記光散乱層は、上記無機材
料が分散されたガラス層と、該ガラス層の上に形成され
た樹脂層とを有してなることを特徴とする。
According to a second light emitting device of the present invention, a semiconductor LED is provided in a recess of a package to achieve the above object.
In a chip-type light-emitting element in which a chip is provided and the concave portion is filled with a translucent resin so as to cover the semiconductor LED chip, light from the semiconductor LED is interposed between the concave portion and the translucent resin. A light scattering layer in which an inorganic material that scatters light is dispersed, and the light scattering layer has a glass layer in which the inorganic material is dispersed, and a resin layer formed on the glass layer. It is characterized by the following.

【0026】以上のように構成すると上記凹部の壁面に
より光を反射して、効果的に上記パッケージの上方に光
を出射することができ、また、無機材料と樹脂層とが直
接に接しないようにできるので、その無機材料による樹
脂の劣化を防止でき、長期間にわたって安定した光散乱
特性が得られる。
With the above configuration, light can be reflected by the wall surface of the concave portion and can be effectively emitted above the package, and the inorganic material and the resin layer do not come into direct contact with each other. Therefore, deterioration of the resin due to the inorganic material can be prevented, and stable light scattering characteristics can be obtained over a long period of time.

【0027】また、本発明に係る第1と第2の発光素子
では、上記ガラス層と上記樹脂層との間に、上記ガラス
層を構成するガラス材料から上記樹脂層を構成する樹脂
材料へと組成が徐徐に変化する組成傾斜層を有すること
が好ましい。
Further, in the first and second light emitting elements according to the present invention, between the glass layer and the resin layer, the glass material forming the glass layer is changed to the resin material forming the resin layer. It is preferable to have a composition gradient layer whose composition gradually changes.

【0028】このようにすると、ガラス層と樹脂層とを
直接接触させた場合に比較して、ガラス層と樹脂層とを
より強固に接合することができる。
In this case, the glass layer and the resin layer can be more firmly joined than when the glass layer and the resin layer are directly contacted.

【0029】また、本発明に係る第1と第2の発光素子
において、上記樹脂は、エポキシ樹脂又はシリコーン樹
脂であることが好ましい。
In the first and second light emitting devices according to the present invention, the resin is preferably an epoxy resin or a silicone resin.

【0030】さらに、本発明に係る第1と第2の発光素
子において、上記無機材料を酸化チタンとすることがで
きる。
Further, in the first and second light emitting devices according to the present invention, the inorganic material may be titanium oxide.

【0031】本構成では、酸化チタンを樹脂に直接接触
しないように光散乱層に分散させることができるので樹
脂の劣化を防止でき、長期間安定した光散乱特性が得ら
れる。
In this configuration, the titanium oxide can be dispersed in the light scattering layer so as not to come into direct contact with the resin, so that deterioration of the resin can be prevented and stable light scattering characteristics can be obtained for a long period of time.

【0032】また、本発明に係る発光素子の製造方法
は、パッケージの凹部に半導体LEDチップが設けら
れ、その半導体LEDチップを覆うように上記凹部に透
光性樹脂が充填されてなるチップ型の発光素子の製造方
法において、シリカ又はシロキサンを骨格とする無機物
ゾルに上記半導体LEDからの光を散乱させる無機材料
を混合することにより無機コーティング剤を作製するこ
とと、上記無機コーティング剤を上記パッケージの壁面
に塗布して乾燥することによりゲル状の無機コーティン
グ層を形成することと、上記ゲル状態の無機コーティン
グ層の上に樹脂をコーティングすることにより樹脂層を
形成すること、上記無機コーティング層と樹脂層とを硬
化させることとを含むことを特徴とする。
Further, in the method of manufacturing a light emitting device according to the present invention, a semiconductor LED chip is provided in a concave portion of a package, and the concave portion is filled with a translucent resin so as to cover the semiconductor LED chip. In the method for manufacturing a light emitting element, an inorganic coating agent is prepared by mixing an inorganic material that scatters light from the semiconductor LED with an inorganic sol having a skeleton of silica or siloxane, and Forming a gel-like inorganic coating layer by applying to a wall surface and drying, and forming a resin layer by coating a resin on the gel-like inorganic coating layer, forming the inorganic coating layer and the resin And curing the layer.

【0033】このようにすると、ガラス層と、樹脂層
と、ガラス層と樹脂層との間に位置する組成傾斜層から
なる光散乱層を、凹部5cの底面及び側壁面に容易に形
成することができる。
In this manner, the light scattering layer composed of the glass layer, the resin layer, and the composition gradient layer located between the glass layer and the resin layer can be easily formed on the bottom surface and the side wall surface of the concave portion 5c. Can be.

【0034】また、本発明の請求項7に記載の発光素子
は、前記目的を達成するために、基体上に半導体LED
チップが設けられ、前記半導体LEDチップと前記半導
体LEDチップの少なくとも周りの基体上を覆うように
透光性樹脂が形成された発光素子において、前記透光性
樹脂が、少なくとも前記基体上に形成される第1樹脂層
と前記第1樹脂層の上に形成される第2樹脂層より成
り、かつ前記第1樹脂層と前記第2樹脂層との間に、前
記第1樹脂層を構成する材料から前記第2樹脂層を構成
する材料へと組成が徐徐に変化する組成傾斜層を有する
ことを特徴とする。
According to a seventh aspect of the present invention, there is provided a light emitting device, comprising:
A light-emitting element provided with a chip, wherein a light-transmitting resin is formed so as to cover the semiconductor LED chip and a substrate at least around the semiconductor LED chip, wherein the light-transmitting resin is formed at least on the substrate. A first resin layer and a second resin layer formed on the first resin layer, and a material constituting the first resin layer between the first resin layer and the second resin layer. A composition gradient layer in which the composition gradually changes from the material constituting the second resin layer to the material constituting the second resin layer.

【0035】このようすると、組成傾斜層を設けず単に
基体上に、順に、第1樹脂層と第2樹脂層を形成した場
合と比較して、前記第1樹脂層と前記第2樹脂層とをよ
り強固に接合することができる。特に、前記第1樹脂層
と前記第2樹脂層の主成分がそれぞれ有機物と無機物あ
るいは無機物と有機物である場合、前記第1樹脂層と前
記第2樹脂層との界面にて生じる可能性のある剥離乃至
ボイドの発生を防止することができる。また、第2樹脂
層の屈折率<第1樹脂層の屈折率<半導体LEDチップ
の屈折率という関係が成り立ち、かつ、前記半導体LE
Dチップと前記第1樹脂層が接触する場合、前記半導体
LEDチップを直接に前記第2樹脂層で覆う場合に比較
して、前記半導体LEDチップと前記第1樹脂層との接
触面における光の全反射が減少するので、光の取り出し
効率を向上させることができる。さらに、前記第1樹脂
層と前記第2樹脂層との間においては、前記第1樹脂層
と前記第2樹脂層との間に組成傾斜層を設けることによ
り不連続に屈折率が変化する境界が存在しないので、組
成傾斜層を設けず単に少なくとも基体上に、順に、第1
樹脂層と第2樹脂層を形成した場合と比較して、その境
界により光を反射することなく、より良い光の取り出し
効率が得られる。また、第1樹脂層と第2樹脂層の少な
くとも一方を線膨張係数の小さいシリコーン樹脂等と
し、それを用いて少なくとも導電線の一部を覆うことに
より、その部分で発生する導電線の切れ乃至剥がれを防
止することができる。
In this case, compared with the case where the first resin layer and the second resin layer are sequentially formed on the base without providing the composition gradient layer, the first resin layer and the second resin layer are compared with each other. Can be bonded more firmly. In particular, when the main components of the first resin layer and the second resin layer are an organic substance and an inorganic substance or an inorganic substance and an organic substance, respectively, there is a possibility that the first resin layer and the second resin layer may occur at the interface between the first resin layer and the second resin layer. Peeling or generation of voids can be prevented. Further, the relationship of the refractive index of the second resin layer <the refractive index of the first resin layer <the refractive index of the semiconductor LED chip holds, and the semiconductor LE
When the D chip and the first resin layer are in contact with each other, the light of the light at the contact surface between the semiconductor LED chip and the first resin layer is smaller than when the semiconductor LED chip is directly covered with the second resin layer. Since total reflection is reduced, light extraction efficiency can be improved. Further, between the first resin layer and the second resin layer, a boundary where the refractive index changes discontinuously by providing a composition gradient layer between the first resin layer and the second resin layer. Does not exist, the composition gradient layer is not provided, and at least the first
As compared with the case where the resin layer and the second resin layer are formed, better light extraction efficiency can be obtained without reflecting light at the boundary. Further, at least one of the first resin layer and the second resin layer is made of a silicone resin or the like having a small linear expansion coefficient, and is used to cover at least a part of the conductive wire, so that the conductive wire generated at that part is cut off. Peeling can be prevented.

【0036】また、本発明の請求項8に記載の発光素子
は、本発明の請求項7に記載の発光素子において、前記
第1樹脂層が前記半導体LEDチップを覆うように形成
されることを特徴とする。
The light emitting device according to claim 8 of the present invention is the light emitting device according to claim 7, wherein the first resin layer is formed so as to cover the semiconductor LED chip. Features.

【0037】このようすると、第2樹脂層の屈折率<第
1樹脂層の屈折率<半導体LEDチップの屈折率という
関係が成り立つ場合、前記半導体LEDチップを直接に
前記第2樹脂層で覆う場合に比較して、前記半導体LE
Dチップと前記第1樹脂層との接触面における光の全反
射が減少するので、光の取り出し効率をより効率的に向
上させることができる。
In this case, when the relationship of the refractive index of the second resin layer <the refractive index of the first resin layer <the refractive index of the semiconductor LED chip is satisfied, the semiconductor LED chip is directly covered with the second resin layer. Compared to the semiconductor LE
Since the total reflection of light at the contact surface between the D chip and the first resin layer is reduced, the light extraction efficiency can be more efficiently improved.

【0038】また、本発明の請求項9に記載の発光素子
は、本発明の請求項7〜8に記載の発光素子において、
前記第1樹脂層と前記第2樹脂層が共にシリコーン樹脂
よりなることを特徴とする。
The light emitting device according to the ninth aspect of the present invention is the light emitting device according to the seventh to eighth aspects of the present invention.
The first resin layer and the second resin layer are both made of a silicone resin.

【0039】このように構成すると、導電線は線膨張係
数の小さいシリコーン樹脂である前記第1樹脂層と前記
第2樹脂層の少なくともどちらか一方で覆われるので、
導電線の切れ乃至剥がれ等を防止することができる。
With this configuration, the conductive wire is covered with at least one of the first resin layer and the second resin layer, which are silicone resins having a small coefficient of linear expansion.
The conductive wire can be prevented from being cut or peeled off.

【0040】また、本発明の請求項10に記載の発光素
子は、本発明の請求項7〜8に記載の発光素子におい
て、前記第1樹脂層と前記第2樹脂層がそれぞれシリコ
ーン樹脂とエポキシ樹脂であることを特徴とする。
According to a tenth aspect of the present invention, in the light emitting element according to the seventh to eighth aspects of the present invention, the first resin layer and the second resin layer are made of a silicone resin and an epoxy resin, respectively. It is a resin.

【0041】このように構成すると、発光素子表面がエ
ポキシ樹脂となるので、タイバーカット行程における受
け皿の壁面への発光素子の付着を防止することもでき
る。さらには、一般的に、シリコーン樹脂に比較してエ
ポキシ樹脂の硬度は高いので、外部からの衝撃に強くな
る。
According to this structure, since the surface of the light emitting element is made of epoxy resin, it is possible to prevent the light emitting element from adhering to the wall surface of the tray in the tie bar cutting process. Further, since the hardness of the epoxy resin is generally higher than that of the silicone resin, the epoxy resin is more resistant to external impact.

【0042】また、本発明の請求項11に記載の発光素
子は、本発明の請求項10に記載の発光素子において、
少なくとも基体と導電線との接合部を前記第1樹脂層の
シリコーン樹脂で覆うことを特徴とする。
The light emitting device according to claim 11 of the present invention is the light emitting device according to claim 10 of the present invention,
At least the joint between the base and the conductive wire is covered with the silicone resin of the first resin layer.

【0043】このように構成すると、少なくとも基体と
導電線との接合部を前記第1樹脂層のシリコーン樹脂で
覆うので、前記第1樹脂層のシリコーン樹脂で覆われた
部分における導電線の切れ乃至剥がれ等を防止すること
ができる。
With this configuration, at least the joint between the base and the conductive wire is covered with the silicone resin of the first resin layer, so that the conductive wire can be cut off at the portion of the first resin layer covered with the silicone resin. Peeling or the like can be prevented.

【0044】また、本発明の請求項12に記載の発光素
子は、本発明の請求項7〜8に記載の発光素子におい
て、前記第1樹脂層と前記第2樹脂層がそれぞれエポキ
シ樹脂とシリコーン樹脂であることを特徴とする。
According to a twelfth aspect of the present invention, in the light emitting element according to the seventh or eighth aspects of the present invention, the first resin layer and the second resin layer are made of epoxy resin and silicone, respectively. It is a resin.

【0045】このように構成すると、大半のシリコーン
樹脂の屈折率よりもエポキシ樹脂の屈折率の方が高いの
で、ほとんどの場合において第2樹脂層の屈折率<第1
樹脂層の屈折率<半導体LEDチップの屈折率、という
関係が成り立ち、前記半導体LEDチップを直接に前記
第2樹脂層で覆う場合に比較して、前記半導体LEDチ
ップと前記第1樹脂層との接触面における光の全反射が
減少するので、光の取り出し効率を向上させることがで
きる。
With this configuration, the refractive index of the epoxy resin is higher than the refractive index of most of the silicone resin. Therefore, in most cases, the refractive index of the second resin layer is smaller than the refractive index of the first resin layer.
The relationship of the refractive index of the resin layer <the refractive index of the semiconductor LED chip holds, and the semiconductor LED chip and the first resin layer are compared with the case where the semiconductor LED chip is directly covered with the second resin layer. Since total reflection of light at the contact surface is reduced, light extraction efficiency can be improved.

【0046】また、本発明の請求項13に記載の発光素
子は、本発明の請求項12に記載の発光素子において、
少なくとも基体と導電線との接合部を前記第2樹脂層の
シリコーン樹脂で覆うことを特徴とする。
The light-emitting device according to claim 13 of the present invention is the light-emitting device according to claim 12 of the present invention,
At least the joint between the base and the conductive wire is covered with the silicone resin of the second resin layer.

【0047】このように構成すると、少なくとも基体と
導電線との接合部を前記第2樹脂層のシリコーン樹脂で
覆うので、前記第2樹脂層のシリコーン樹脂で覆われた
部分における導電線の切れ乃至剥がれ等を防止すること
ができる。
According to this structure, at least the joint between the base and the conductive wire is covered with the silicone resin of the second resin layer. Peeling or the like can be prevented.

【0048】また、本発明に係わる発光素子の製造方法
は、基体上に半導体LEDチップが設けられ、前記半導
体LEDチップを覆うように前記基体上に透光性樹脂が
充填されてなる発光素子の製造方法において、少なくと
も基体上に第1樹脂層を構成する材料を塗布することに
よりゲル状の第1樹脂層を形成することと、前記ゲル状
態の第1樹脂層の上に第2樹脂層を構成する材料を塗布
することにより第2樹脂層を形成することと、前記第1
樹脂層と前記第2樹脂層とを同時に硬化させることとを
含むことを特徴とする。
Further, according to a method of manufacturing a light emitting device according to the present invention, a light emitting device comprising a semiconductor LED chip provided on a base and a transparent resin filled on the base so as to cover the semiconductor LED chip. In the manufacturing method, a gel-like first resin layer is formed by applying a material constituting a first resin layer on at least a substrate, and a second resin layer is formed on the first resin layer in the gel state. Forming a second resin layer by applying a constituent material;
Curing the resin layer and the second resin layer at the same time.

【0049】このようにすると、第1樹脂層と、第2樹
脂層と、第1樹脂層と第2樹脂層との間に位置する組成
傾斜層を容易に形成することができる。
In this manner, the first resin layer, the second resin layer, and the composition gradient layer located between the first resin layer and the second resin layer can be easily formed.

【0050】[0050]

【発明の実施の形態】[実施の形態1]以下、図1を参
照しながら本発明に係る実施の形態1のチップタイプの
発光素子について説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS First Embodiment A chip type light emitting device according to a first embodiment of the present invention will be described below with reference to FIG.

【0051】本発明に係る実施の形態1の発光素子は、
パッケージ5の凹部5cの内部に半導体LEDチップ7
が透光性樹脂6でモールドされてなる表面実装が可能な
チップタイプの発光ダイオードであって、以下のように
構成される。
The light emitting device according to the first embodiment of the present invention
The semiconductor LED chip 7 is provided inside the concave portion 5c of the package 5.
Is a chip type light emitting diode molded with the translucent resin 6 and capable of surface mounting, and is configured as follows.

【0052】実施の形態の発光素子において、パッケー
ジ5は、正負の端子である1対の電極端子5a,5b、
半導体LEDチップを収納する凹部とを備えた、例えば
液晶ポリマーなどにより構成される。
In the light emitting device of the embodiment, the package 5 includes a pair of electrode terminals 5a and 5b, which are positive and negative terminals.
It is made of, for example, a liquid crystal polymer having a recess for accommodating a semiconductor LED chip.

【0053】また、半導体LEDチップ7は、例えばサ
ファイア基板上に窒化ガリウム系半導体が成長されてな
り、パッケージ5の凹部5cの底面にダイボンディング
され、その正負の電極がそれぞれ、パッケージ5の電極
端子5a,5bにワイヤーボンディングにより接続され
る。
The semiconductor LED chip 7 is formed, for example, by growing a gallium nitride-based semiconductor on a sapphire substrate, and is die-bonded to the bottom surface of the concave portion 5c of the package 5, and its positive and negative electrodes are respectively connected to the electrode terminals of the package 5. 5a and 5b are connected by wire bonding.

【0054】そして、光散乱層10は、パッケージ5の
凹部5cの底面及び側壁面に形成される。
Then, the light scattering layer 10 is formed on the bottom surface and the side wall surface of the concave portion 5c of the package 5.

【0055】ここで、特に本実施の形態の発光素子で
は、光散乱層10が、TiO2粒子が分散されてなり凹
部5cの底面及び側壁面に接するように形成されたガラ
ス層1と、透光性樹脂6と接するように形成された樹脂
層3と、ガラス層1と樹脂層3との間に位置する組成傾
斜層2からなることを特徴としている。
Here, in particular, in the light emitting device of the present embodiment, the light scattering layer 10 includes the glass layer 1 in which the TiO2 particles are dispersed and formed so as to be in contact with the bottom surface and the side wall surface of the concave portion 5c. It is characterized by comprising a resin layer 3 formed so as to be in contact with the conductive resin 6 and a composition gradient layer 2 located between the glass layer 1 and the resin layer 3.

【0056】本実施の形態において、組成傾斜層2は、
ガラス層1と接する部分では主としてガラス層1を構成
するガラス材料からなり、樹脂層3と接する部分では主
として樹脂層3を構成する樹脂材料からなり、ガラス層
1と接する部分から樹脂層3と接する部分に向かってガ
ラス材料から樹脂材料へと組成が徐徐に変化する層であ
る。
In this embodiment, the composition gradient layer 2
The portion in contact with the glass layer 1 is mainly made of the glass material forming the glass layer 1, the portion in contact with the resin layer 3 is mainly made of the resin material forming the resin layer 3, and the portion in contact with the glass layer 1 is in contact with the resin layer 3. This is a layer whose composition gradually changes from a glass material to a resin material toward a portion.

【0057】以上のように構成された実施の形態の発光
素子において、半導体LEDチップ7から出射された光
は、上方(前方)に出射された光に加え、光散乱層10
の方向に出射された光も光散乱層10で散乱されて上方
(前方)に出射される。
In the light emitting device of the embodiment configured as described above, the light emitted from the semiconductor LED chip 7 is not only the light emitted upward (forward) but also the light scattering layer 10.
Is emitted by the light scattering layer 10 and emitted upward (forward).

【0058】これにより、半導体LEDチップ7から出
射された光は、上方(前方)に効率良く出射される。
Thus, the light emitted from the semiconductor LED chip 7 is efficiently emitted upward (forward).

【0059】また、本実施の形態の発光素子では、光散
乱層10において散乱粒子であるTiO2(酸化チタ
ン)粒子を無機物であるガラス層1に分散させて樹脂材
料が直接酸化チタン材料に接していないので、酸化チタ
ンの酸化分解作用により樹脂を劣化させることがなく、
長期間にわたって安定した光散乱特性が得られる。
In the light emitting device of the present embodiment, TiO 2 (titanium oxide) particles as scattering particles are dispersed in the glass layer 1 as an inorganic material in the light scattering layer 10 so that the resin material is in direct contact with the titanium oxide material. Because there is no, without deteriorating the resin by the oxidative decomposition action of titanium oxide,
Light scattering characteristics stable over a long period of time can be obtained.

【0060】また、本実施の形態の発光素子では、ガラ
ス層1と樹脂層3との間に組成傾斜層2を設けているの
で、酸化チタン粒子と樹脂との接触をより効果的に防止
でき、組成傾斜層を形成していない場合に比較してさら
に樹脂の劣化を効果的に防止できる。すなわち、ガラス
層1と樹脂層3とを直接接触させると、その境界におい
て酸化チタン粒子と樹脂とが接触する場合があり、その
接触部分で樹脂が劣化することがある。
Further, in the light emitting device of the present embodiment, since the composition gradient layer 2 is provided between the glass layer 1 and the resin layer 3, the contact between the titanium oxide particles and the resin can be more effectively prevented. In addition, the deterioration of the resin can be more effectively prevented as compared with the case where the composition gradient layer is not formed. That is, when the glass layer 1 and the resin layer 3 are brought into direct contact, the titanium oxide particles may come into contact with the resin at the boundary, and the resin may be deteriorated at the contact portion.

【0061】しかしながら、本発明は、組成傾斜層2が
存在する場合に限定されるものではなく、少なくとも光
散乱粒子を含むガラス層とその上に形成された樹脂層と
を備えていればよく、ガラス層と樹脂層とに分離するこ
とにより、従来例に比較して飛躍的に樹脂の劣化を防止
することができる。
However, the present invention is not limited to the case where the composition gradient layer 2 is present, as long as it has at least a glass layer containing light scattering particles and a resin layer formed thereon. By separating into a glass layer and a resin layer, the deterioration of the resin can be significantly prevented compared to the conventional example.

【0062】また、本実施の形態の発光素子では、ガラ
ス層1と樹脂層3との間に組成傾斜層2を設けているの
で、ガラス層1と樹脂層3とを直接接触させた場合に比
較して、ガラス層1と樹脂層3とをより強固に接合する
ことができる。
Further, in the light emitting device of the present embodiment, since the composition gradient layer 2 is provided between the glass layer 1 and the resin layer 3, when the glass layer 1 and the resin layer 3 are brought into direct contact, In comparison, the glass layer 1 and the resin layer 3 can be more firmly joined.

【0063】また、本実施の形態の発光素子では、ガラ
ス層1と樹脂層3との間に組成傾斜層2を形成している
ので、比較的屈折率の大きいガラス層1と屈折率の小さ
い樹脂層3との間において屈折率を徐徐に変化させるこ
とができる。これにより、ガラス層1と樹脂層3との間
に不連続に屈折率が変化する境界が存在しないので、ガ
ラス層1と樹脂層3との間の光の反射を防止できる。
In the light emitting device of this embodiment, since the composition gradient layer 2 is formed between the glass layer 1 and the resin layer 3, the glass layer 1 having a relatively large refractive index and the glass layer 1 having a relatively small refractive index are used. The refractive index with the resin layer 3 can be gradually changed. Accordingly, since there is no boundary between the glass layer 1 and the resin layer 3 where the refractive index changes discontinuously, reflection of light between the glass layer 1 and the resin layer 3 can be prevented.

【0064】したがって、酸化チタン粒子によって反射
散乱された光が、ガラス層1と樹脂層3との間で反射さ
れることなく、透光性樹脂6を介して発光素子の上方に
出射できるので、光取りだし効率(出射効率)をより高
くできる。
Therefore, the light reflected and scattered by the titanium oxide particles can be emitted above the light emitting element via the light transmitting resin 6 without being reflected between the glass layer 1 and the resin layer 3. Light extraction efficiency (emission efficiency) can be further increased.

【0065】次に、本実施の形態の発光素子における光
散乱層10の形成方法について説明する。 (1)まず、シリカを含むゾル又はシロキサンを骨格と
する無機物ゾルをバインダーとして酸化チタンを混合す
ることにより、酸化チタン含を含む無機コーティング剤
を作製する。 (2)次に、酸化チタンを含む無機コーティング剤を半
導体LEDチップが搭載されたパッケージ5の凹部5c
の底面及び側壁面に所定の厚さに塗布することにより、
無機コーティング層を形成する。 (3)次に、塗布された無機コーティング層を乾燥して
ゲル状態とし、その上にエポキシ樹脂又はシリコーン樹
脂等の有機物である樹脂をコーティングすることによ
り、樹脂層を形成する。 (4)そして、その樹脂層の硬化温度で無機コーティン
グ層と樹脂層とを同時に硬化する。
Next, a method for forming the light scattering layer 10 in the light emitting device of the present embodiment will be described. (1) First, an inorganic coating agent containing titanium oxide is produced by mixing titanium oxide with a sol containing silica or an inorganic sol having a siloxane skeleton as a binder. (2) Next, an inorganic coating agent containing titanium oxide is applied to the concave portion 5c of the package 5 on which the semiconductor LED chip is mounted.
By applying a predetermined thickness to the bottom and side walls of the
Form an inorganic coating layer. (3) Next, the applied inorganic coating layer is dried to a gel state, and an organic resin such as an epoxy resin or a silicone resin is coated thereon to form a resin layer. (4) Then, the inorganic coating layer and the resin layer are simultaneously cured at the curing temperature of the resin layer.

【0066】このようにして、TiO2粒子が分散され
たガラス層1と、樹脂層3と、ガラス層1と樹脂層3と
の間に位置する組成傾斜層2からなる光散乱層10を、
凹部5cの底面及び側壁面に形成することができる。
As described above, the light scattering layer 10 composed of the glass layer 1 in which the TiO 2 particles are dispersed, the resin layer 3, and the composition gradient layer 2 located between the glass layer 1 and the resin layer 3 is formed.
It can be formed on the bottom surface and the side wall surface of the concave portion 5c.

【0067】ここで、本発明において、ガラス層1を形
成するための無機バインダーは、低温加熱又は常温乾燥
によりガラス層を形成することができる、例えばシリカ
を含むゾル又はシロキサンを骨格とする無機物ゾルを主
成分とする無機バインダーを用いることができる。
Here, in the present invention, the inorganic binder for forming the glass layer 1 can form a glass layer by heating at a low temperature or drying at room temperature. For example, a sol containing silica or an inorganic sol having a siloxane skeleton is used. Can be used.

【0068】尚、本発明において、低温加熱とは、樹脂
層3を構成する樹脂を硬化させる硬化温度又はそれ以下
の温度をいう。
In the present invention, the low-temperature heating refers to a curing temperature at which the resin constituting the resin layer 3 is cured or a temperature lower than the curing temperature.

【0069】以上の実施の形態では、光散乱・拡散性を
有する酸化チタンを例に説明したが、本発明はこれに限
られるものではなく、光散乱・拡散性を有しかつ光触媒
作用する他の無機材料を用いた場合においても、本発明
と同様の作用効果を有する。
In the above embodiment, titanium oxide having light scattering / diffusion has been described as an example. However, the present invention is not limited to this. The same operation and effect as those of the present invention can be obtained even when the inorganic material is used.

【0070】また、本発明では、光散乱・拡散性を有し
光触媒作用を持たない、例えば、チタン酸バリウム、酸
化アルミニウム、酸化ケイ素、酸化亜鉛等の種々の無機
材料を用いることもできる。
In the present invention, various inorganic materials such as barium titanate, aluminum oxide, silicon oxide and zinc oxide which have light scattering / diffusion properties and do not have a photocatalytic action can be used.

【0071】また、以上の実施の形態では、樹脂層3の
材料としてエポキシ樹脂及びシリコーン樹脂を好ましい
例として挙げたが、本発明はこれに限らず、ポリアミド
やUV硬化樹脂等他の樹脂を用いてもよい。
In the above embodiments, epoxy resin and silicone resin are mentioned as preferable examples of the material of the resin layer 3. However, the present invention is not limited to this, and other resins such as polyamide and UV curing resin may be used. You may.

【0072】以上の実施の形態では、凹部5cを有する
パッケージ5を用いた例で説明したが、本発明はこれに
限らず、基板等の他の基体を用いた場合にも適用でき
る。
In the above embodiment, an example was described in which the package 5 having the concave portion 5c was used. However, the present invention is not limited to this, and can be applied to a case where another substrate such as a substrate is used.

【0073】例えば、基板上に半導体LEDチップが設
けられ、その半導体LEDチップと該LEDチップの周
りの基板上を覆うように透光性樹脂を形成した発光素子
において、その基板に接するように酸化チタン等の無機
材料が分散されたガラス層を形成し、該ガラス層の上に
樹脂層を形成して、その上に透光性樹脂を形成するよう
にしてもよい。以上のようにしても実施の形態1の発光
素子と同様の作用効果を有する。 [実施の形態2]以下、図2を参照しながら本発明に係
る実施の形態2のチップタイプの発光素子について説明
する。
For example, in a light-emitting element in which a semiconductor LED chip is provided on a substrate and a light-transmitting resin is formed so as to cover the semiconductor LED chip and the substrate around the LED chip, an oxidizing element is formed so as to be in contact with the substrate. A glass layer in which an inorganic material such as titanium is dispersed may be formed, a resin layer may be formed on the glass layer, and a light-transmitting resin may be formed thereon. Even in the case described above, the same operation and effect as those of the light emitting element of Embodiment 1 can be obtained. [Second Embodiment] A chip type light emitting device according to a second embodiment of the present invention will be described below with reference to FIG.

【0074】本発明に係る実施の形態2の発光素子は、
パッケージ15の凹部15cの内部に、例えば実施の形
態1に記載の半導体LEDチップ7が透光性樹脂でモー
ルドされてなる表面実装が可能なチップタイプの発光ダ
イオードであって、以下のように構成される。
The light emitting device according to the second embodiment of the present invention
A chip-type light emitting diode in which the semiconductor LED chip 7 described in the first embodiment is molded with a translucent resin, for example, inside the concave portion 15c of the package 15, and has the following configuration. Is done.

【0075】実施の形態2の発光素子において、パッケ
ージ15は、正負の端子である1対の電極端子15a,
15bと、半導体LEDチップを収納する凹部とを備え
た、例えば液晶ポリマー等により構成される。
In the light emitting device of the second embodiment, the package 15 includes a pair of electrode terminals 15a, which are positive and negative terminals.
15b and a recess for accommodating a semiconductor LED chip, for example, a liquid crystal polymer or the like.

【0076】また、半導体LEDチップ7は、パッケー
ジ15の凹部15cの底面に、接着剤16を介してダイ
ボンディングされ、その正負の電極はそれぞれ金線等の
導電線14を介してパッケージ15の電極端子15a,
15bに接続される。そして、例えば、半導体LEDチ
ップ7上に、順に、第1樹脂層11と、組成傾斜層12
と、第2樹脂層13が形成される。
The semiconductor LED chip 7 is die-bonded to the bottom of the concave portion 15c of the package 15 via an adhesive 16, and its positive and negative electrodes are respectively connected to the electrodes of the package 15 via conductive wires 14 such as gold wires. Terminal 15a,
15b. Then, for example, the first resin layer 11 and the composition gradient layer 12 are sequentially formed on the semiconductor LED chip 7.
Then, the second resin layer 13 is formed.

【0077】ここで、特に本実施の形態の発光素子で
は、半導体LEDチップ7の上に、順に、第1樹脂層1
1と第1樹脂層11の上に形成される第2樹脂層13が
形成され、かつ第1樹脂層11と第2樹脂層13との間
に位置する組成傾斜層12を有することを特徴としてい
る。
Here, in particular, in the light emitting device of the present embodiment, the first resin layer 1 is formed on the semiconductor LED chip 7 in order.
1 and a second resin layer 13 formed on the first resin layer 11, and a composition gradient layer 12 located between the first resin layer 11 and the second resin layer 13. I have.

【0078】本実施の形態において、組成傾斜層12
は、第1樹脂層11と接する部分では主として第1樹脂
層11を構成する樹脂材料からなり、第2樹脂層13と
接する部分では主として第2樹脂層13を構成する樹脂
材料からなり、第1樹脂層11と接する部分から第2樹
脂層13と接する部分に向かって第1樹脂層11を形成
する材料から第2樹脂層13を形成する材料へと組成が
徐徐に変化する層である。
In this embodiment, the composition gradient layer 12
Is mainly composed of the resin material constituting the first resin layer 11 in a portion in contact with the first resin layer 11, and is mainly composed of the resin material constituting the second resin layer 13 in a portion in contact with the second resin layer 13. It is a layer whose composition gradually changes from a material forming the first resin layer 11 to a material forming the second resin layer 13 from a portion in contact with the resin layer 11 to a portion in contact with the second resin layer 13.

【0079】以上のように構成された実施の形態2の発
光素子において、第1樹脂層11と第2樹脂層13との
界面においては、不連続に屈折率が変化する境界が存在
しないので、その境界により光を反射することなく、よ
り良い光の取り出し効率を得ることができる。また、第
1樹脂層11と第2樹脂層13とをより強固に接合する
ことができるので、第1樹脂層11と第2樹脂層13の
材料に係わらず、第1樹脂層11と第2樹脂層13との
界面にて剥離乃至ボイドが発生することを防止すること
ができる。
In the light emitting device of Embodiment 2 configured as described above, there is no discontinuous boundary where the refractive index changes at the interface between the first resin layer 11 and the second resin layer 13. Better light extraction efficiency can be obtained without reflecting light at the boundary. Further, since the first resin layer 11 and the second resin layer 13 can be more firmly joined, regardless of the materials of the first resin layer 11 and the second resin layer 13, The occurrence of peeling or voids at the interface with the resin layer 13 can be prevented.

【0080】さらに、第2樹脂層13の屈折率<第1樹
脂層11の屈折率<半導体LEDチップ7の屈折率、と
いう関係が成り立つ場合は、半導体LEDチップ7を第
2樹脂層13のみで覆う場合に比較して、光の取り出し
効率を向上させることができる。
Further, when the relationship of “refractive index of the second resin layer 13 <refractive index of the first resin layer 11 <refractive index of the semiconductor LED chip 7” is satisfied, the semiconductor LED chip 7 is formed only by the second resin layer 13. Light extraction efficiency can be improved as compared with the case of covering.

【0081】また、少なくとも金線等の導電線と電極端
子15a、15bとの接合部を、シリコーン樹脂等の線
膨張係数の小さい樹脂層で覆うことにより、その部分に
おける導電線の切れ等を防止することができる。
Further, by covering at least the joint between the conductive wire such as a gold wire and the electrode terminals 15a and 15b with a resin layer having a small linear expansion coefficient such as a silicone resin, the conductive wire is prevented from being cut at that portion. can do.

【0082】次に、本実施の形態の発光素子における、
組成傾斜層12の形成方法について説明する。 (1)まず、パッケージ15の凹部15cの底面にダイ
ボンディングされた半導体LEDチップ7を覆うように
第1樹脂層11の材料を所定の厚さに塗布することによ
り、第1樹脂層11を形成する。
Next, in the light emitting device of the present embodiment,
A method for forming the composition gradient layer 12 will be described. (1) First, the first resin layer 11 is formed by applying a material of the first resin layer 11 to a predetermined thickness so as to cover the semiconductor LED chip 7 die-bonded to the bottom surface of the recess 15 c of the package 15. I do.

【0083】ここで、第1樹脂層11の材料の量等を調
整することにより、導電線と電極端子15a、15bと
の接合部を第1樹脂層11の材料で覆うか否かを決定す
ることができる。 (2)次に、第1樹脂層11を硬化させずに、すなわち
ゲル状態時に、第1樹脂層11の上にさらに第2樹脂層
13の材料を塗布し、第2樹脂層13を形成する。 (3)そして、両層が硬化する温度乃至時間で第1樹脂
層11と第2樹脂層13を同時に硬化させる。
Here, by adjusting the amount of the material of the first resin layer 11 and the like, it is determined whether or not the joint between the conductive wire and the electrode terminals 15a and 15b is covered with the material of the first resin layer 11. be able to. (2) Next, the material of the second resin layer 13 is further applied on the first resin layer 11 without curing the first resin layer 11, that is, in a gel state, to form the second resin layer 13. . (3) Then, the first resin layer 11 and the second resin layer 13 are simultaneously cured at a temperature or time at which both layers are cured.

【0084】このようにすると、第1樹脂層11と、第
2樹脂層13と、第1樹脂層11と第2樹脂層13との
間に位置する組成傾斜層12とを容易に形成することが
できる。
In this manner, the first resin layer 11, the second resin layer 13, and the composition gradient layer 12 located between the first resin layer 11 and the second resin layer 13 can be easily formed. Can be.

【0085】また、実施の形態2では、第1樹脂層11
乃至第2樹脂層13の材料として、エポキシ樹脂、シリ
コーン樹脂、非晶性ポリアミド、UV硬化樹脂等の樹脂
を用いることができる。
In the second embodiment, the first resin layer 11
As a material of the second resin layer 13, a resin such as an epoxy resin, a silicone resin, an amorphous polyamide, and a UV curable resin can be used.

【0086】また、実施の形態2では、第1樹脂層11
の形状は例えば図2に示すような滑らかな凸状であるこ
とが好ましい。これは、第1樹脂層11と第2樹脂層1
3との界面に入射する光はその入射角が小さくなるた
め、全反射することなく第2樹脂層13に出射し易いか
らである。しかしながら、実施の形態2においては、例
えば、第1樹脂層11を半導体LEDチップ7の外形と
平行な形状で設けられても同様の効果を有する。
In the second embodiment, the first resin layer 11
Is preferably a smooth convex shape as shown in FIG. 2, for example. This is because the first resin layer 11 and the second resin layer 1
This is because light incident on the interface with No. 3 has a small angle of incidence, and is easily emitted to the second resin layer 13 without being totally reflected. However, in the second embodiment, for example, the same effect is obtained even if the first resin layer 11 is provided in a shape parallel to the outer shape of the semiconductor LED chip 7.

【0087】また、第1樹脂層11と第2樹脂層13と
の量には、特に限定されない。
The amounts of the first resin layer 11 and the second resin layer 13 are not particularly limited.

【0088】さらに、実施の形態2では、凹部15cを
有するパッケージ15を用いた例で説明したが、本発明
はこれに限らず、基体等の他の実装基板を用いた場合に
も適用できる。
Further, in the second embodiment, the example in which the package 15 having the concave portion 15c is used has been described. However, the present invention is not limited to this, and can be applied to a case where another mounting substrate such as a base is used.

【0089】例えば、図3に示すように、実施の形態1
に記載の半導体LEDチップ7が接着剤22により基体
21にダイボンディングされると共に、導電線20を介
して基体21における電極端子21a、21bと電気的
に接続されており、さらに半導体LEDチップ7上に、
順に、第1樹脂層17と、組成傾斜層18と、第2樹脂
層19を形成してもよい。 [実施例1]MOCVD(有機金属気相成長)法によ
り、サファイア基板上にダブルへテロ構造の窒化物半導
体層が積層され、その窒化物半導体層の同一面側にp電
極とn電極とが形成された青色(470nm)LEDチ
ップを多数用意する。
For example, as shown in FIG.
The semiconductor LED chip 7 described in 1 above is die-bonded to the base 21 with the adhesive 22 and is electrically connected to the electrode terminals 21 a and 21 b on the base 21 via the conductive wire 20. To
The first resin layer 17, the composition gradient layer 18, and the second resin layer 19 may be formed in this order. [Example 1] A nitride semiconductor layer having a double hetero structure was stacked on a sapphire substrate by MOCVD (metal organic chemical vapor deposition), and a p-electrode and an n-electrode were formed on the same surface side of the nitride semiconductor layer. A large number of formed blue (470 nm) LED chips are prepared.

【0090】次に、このLEDチップをダイボンダーに
セットし、電極端子を有するパッケージの凹部にフェイ
スアップしてダイボンドする。ダイボンド後、パッケー
ジをワイヤーボンダーに移送し、LEDチップのn電極
をそれに対応するパッケージの電極端子に金線でワイヤ
ーボンドし、p電極をもう一方の電極端子にワイヤーボ
ンドする。
Next, this LED chip is set on a die bonder, and face-up is performed on the concave portion of the package having the electrode terminals, and die bonding is performed. After die bonding, the package is transferred to a wire bonder, the n-electrode of the LED chip is wire-bonded to the corresponding electrode terminal of the package with a gold wire, and the p-electrode is wire-bonded to the other electrode terminal.

【0091】次に、モールド装置に移送し、圧力補正式
ディスペンサーでパッケージの凹部に、真空脱泡が行わ
れた酸化チタンを50wt%混合したシリカ溶液を、半
導体LEDチップが搭載されたパッケージの凹部の底面
及び側壁面に所定の厚さに塗布する。
Next, a silica solution containing 50% by weight of titanium oxide mixed with vacuum degassed titanium oxide was transferred to a concave portion of the package by a pressure compensating dispenser. Is applied to a predetermined thickness on the bottom surface and side wall surfaces of the substrate.

【0092】次に、その酸化チタンが混合されたシリカ
溶液を硬化反応させる前のゲル状態時に、さらにその上
に同じく圧力補正式ディスペンサーで無色透明のシリコ
ーン樹脂Aを注入する。なお、シリコーン樹脂Aは、屈
折率1.41、硬度45shore(A)、粘度400
0mPa・sである。
Next, when the silica solution mixed with the titanium oxide is in a gel state before a curing reaction, a colorless and transparent silicone resin A is further poured into the gel state by a pressure compensating dispenser. The silicone resin A has a refractive index of 1.41, a hardness of 45 shore (A), and a viscosity of 400.
0 mPa · s.

【0093】その後、これを150℃×4時間で、シリ
カ溶液及びシリコーン樹脂Aを同時に硬化し、実施例1
のLEDとする。
Thereafter, the silica solution and the silicone resin A were simultaneously cured at 150 ° C. for 4 hours.
LED.

【0094】次に、光散乱層を設けず、LEDチップ上
を屈折率が1.41のシリコーン樹脂Aのみで覆う以外
は実施例1の発光素子と同様に構成された比較のための
発光素子を基準として、実施例1の発光素子の光出力比
を求めたところ1.2倍となった。この実験結果より、
光散乱層を設けることで、光出力は確実に向上すること
が明らかになった。 [実施例2]まず、実施例1と同様の青色(470n
m)LEDチップを多数用意し、実施例1と同様の操作
で電極端子を有するパッケージに金線を介して前記LE
Dチップをダイボンドする。
Next, a light emitting device for comparison having the same structure as the light emitting device of Example 1 except that the light scattering layer was not provided and the LED chip was covered only with silicone resin A having a refractive index of 1.41. The light output ratio of the light emitting device of Example 1 was found to be 1.2 times based on the above. From this experimental result,
It became clear that the light output was surely improved by providing the light scattering layer. [Embodiment 2] First, the same blue color (470 n
m) A large number of LED chips are prepared, and the above-described LE is connected to a package having electrode terminals through a gold wire by the same operation as in the first embodiment.
D-die is die-bonded.

【0095】次に、モールド装置に移送し、圧力補正式
ディスペンサーでパッケージの凹部に無色透明のシリコ
ーン樹脂BをLEDチップ及び金線全体を覆うように、
凸状に注入する。シリコーン樹脂Bは、屈折率1.5
2、硬度25shore(A)、粘度1800mPa・
sである。
Next, it is transferred to a molding apparatus, and a colorless and transparent silicone resin B is applied to the concave portion of the package with a pressure-compensating dispenser so as to cover the entire LED chip and the gold wire.
Inject in a convex shape. Silicone resin B has a refractive index of 1.5
2. Hardness 25shore (A), viscosity 1800mPa.
s.

【0096】次に、シリコーン樹脂Bを硬化反応させる
前のゲル状態時に、さらにその上に同じく圧力補正式デ
ィスペンサーで無色透明の屈折率が1.41のシリコー
ン樹脂Aを注入する。その後、これを150℃×4時間
で、各樹脂層を同時に硬化し、実施例2のLEDとす
る。
Next, when the silicone resin B is in a gel state before the curing reaction, a colorless and transparent silicone resin A having a refractive index of 1.41 is injected onto the silicone resin B by the same pressure compensating dispenser. Thereafter, this is cured at 150 ° C. for 4 hours to simultaneously cure each resin layer, thereby obtaining an LED of Example 2.

【0097】次に、実施例1に示す比較のための発光素
子を基準として、実施例2の発光素子の光出力比を求め
たところ1.1倍となった。この実験結果より、実施例
2の発光素子のように構成することで、光出力は確実に
向上することが明らかになった。
Next, the light output ratio of the light emitting device of Example 2 was determined to be 1.1 times based on the light emitting device for comparison shown in Example 1 as a reference. From this experimental result, it has been clarified that the light output is surely improved by configuring the light emitting device like the light emitting device of Example 2.

【0098】さらに、実施例2の発光素子を100個製
造し、熱衝撃試験を行った。熱衝撃試験を−40℃×1
5分と100℃×15分とを1040サイクルの条件で
行ったところ、100個全てにおいて、金線の切れ乃至
剥がれは発生しなかった。 [実施例3]実施例3における発光素子は、第1樹脂層
として屈折率が1.52のシリコーン樹脂B、第2樹脂
層として屈折率が1.50のエポキシ樹脂を使用する以
外は、実施例2と同様に構成される。ここで、特に、実
施例3における発光素子では、金線を前記第2樹脂層の
エポキシ樹脂で覆うことなく、金線全体を前記第1樹脂
層のシリコーン樹脂Bで覆うことを特徴としている。
Further, 100 light emitting devices of Example 2 were manufactured and subjected to a thermal shock test. Thermal shock test at -40 ° C x 1
When 5 minutes and 100 ° C. × 15 minutes were performed under the conditions of 1040 cycles, no break or peeling of the gold wire occurred in all 100 pieces. [Example 3] The light emitting device in Example 3 was manufactured in the same manner as in Example 3, except that the first resin layer used was a silicone resin B having a refractive index of 1.52, and the second resin layer was an epoxy resin having a refractive index of 1.50. The configuration is the same as in Example 2. Here, in particular, in the light emitting device of the third embodiment, the entire gold wire is covered with the silicone resin B of the first resin layer without covering the gold wire with the epoxy resin of the second resin layer.

【0099】次に、実施例1に示す比較のための発光素
子を基準として、実施例3の発光素子の光出力比を求め
たところ1.2倍となった。この実験結果より、実施例
3の発光素子のように構成することで、光出力は確実に
向上することが明らかになった。
Next, the light output ratio of the light emitting device of Example 3 was found to be 1.2 times based on the light emitting device for comparison shown in Example 1 as a reference. From this experimental result, it has been clarified that the light output is surely improved by configuring the light emitting device like the light emitting device of Example 3.

【0100】さらに、実施例3の発光素子を100個製
造し、実施例2に示す熱衝撃試験を行ったところ、10
0個全てにおいて、金線の切れ乃至剥がれは発生しなか
った。 [実施例4]実施例4における発光素子は、第1樹脂層
として屈折率が1.60のエポキシ樹脂、第2樹脂層と
して屈折率が1.41のシリコーン樹脂Aを使用する以
外は、実施例2の発光素子と同様に構成される。ここで
特に、実施例4における発光素子では、金線と電極端子
との接合部を前記第1樹脂層のエポキシ樹脂で覆わず、
前記第2樹脂層のシリコーン樹脂Aで覆うことを特徴と
している。
Further, 100 light emitting devices of Example 3 were manufactured and subjected to the thermal shock test shown in Example 2.
No break or peeling of the gold wire occurred in all 0 pieces. Example 4 The light emitting device of Example 4 was manufactured in the same manner as in Example 4, except that the first resin layer was made of an epoxy resin having a refractive index of 1.60, and the second resin layer was made of a silicone resin A having a refractive index of 1.41. It has the same configuration as the light emitting element of Example 2. Here, in particular, in the light emitting element in Example 4, the bonding portion between the gold wire and the electrode terminal was not covered with the epoxy resin of the first resin layer,
The second resin layer is covered with a silicone resin A.

【0101】次に、実施例1に示す比較のための発光素
子を基準として、実施例4の発光素子の光出力比を求め
たところ1.1倍となった。この実験結果より、実施例
4の発光素子のように構成することで、光出力は確実に
向上することが明らかになった。
Next, the light output ratio of the light emitting element of Example 4 was calculated to be 1.1 times based on the light emitting element for comparison shown in Example 1 as a reference. From this experimental result, it has been clarified that the light output is surely improved by configuring the light emitting device like the light emitting device of Example 4.

【0102】さらに、実施例3の発光素子を100個製
造し、実施例2に示す熱衝撃試験を行ったところ、10
0個全てにおいて、金線の切れ乃至剥がれは発生しなか
った。 [実施例5]実施例5における発光素子は、実施例1で
述べた酸化チタンが50wt%混合されたシリカ溶液の
光散乱層と、実施例2で述べた屈折率が1.52のシリ
コーン樹脂Bからなる第1樹脂層と屈折率が1.41の
シリコーン樹脂Aからなる第2樹脂層、及び前記第1樹
脂層と前記第2樹脂層との界面にて組成傾斜層が形成さ
れる以外は、実施例1と同様に構成される。
Further, 100 light emitting devices of Example 3 were manufactured and subjected to a thermal shock test shown in Example 2.
No break or peeling of the gold wire occurred in all 0 pieces. [Example 5] The light emitting device of Example 5 is a light scattering layer of a silica solution mixed with 50 wt% of titanium oxide described in Example 1, and a silicone resin having a refractive index of 1.52 described in Example 2. Except that a first resin layer made of B and a second resin layer made of silicone resin A having a refractive index of 1.41 and a composition gradient layer formed at an interface between the first resin layer and the second resin layer Is configured similarly to the first embodiment.

【0103】ここで、特に、実施例5における発光素子
では、光散乱層で覆われた以外の金線の部分を前記第1
樹脂層のシリコーン樹脂Bで覆っている。
Here, in particular, in the light emitting device of Example 5, the portion of the gold wire other than the portion covered with the light scattering layer is the first wire.
The resin layer is covered with silicone resin B.

【0104】次に、実施例1に示す比較のための発光素
子を基準として、実施例5の発光素子の光出力比を求め
たところ1.3倍となった。この実験結果より、実施例
5の発光素子のように構成することで、光出力は飛躍的
に向上することが明らかになった。
Next, the light output ratio of the light emitting device of Example 5 was calculated to be 1.3 times based on the light emitting device for comparison shown in Example 1 as a reference. From this experimental result, it has been clarified that the light output is dramatically improved by configuring the light emitting device like the light emitting device of Example 5.

【0105】[0105]

【発明の効果】以上説明したことから明らかなように、
本発明の発光素子によれば、長期間安定した高い光取り
出し効率をえることができる発光素子を提供することが
できる。
As is apparent from the above description,
According to the light emitting element of the present invention, it is possible to provide a light emitting element capable of obtaining high light extraction efficiency that is stable for a long time.

【0106】また、本発明の発光素子の製造方法によれ
ば、長期間安定した高い光取り出し効率をえることがで
きる発光素子を容易に製造することができる。
Further, according to the method for manufacturing a light emitting device of the present invention, a light emitting device capable of obtaining a stable and high light extraction efficiency for a long time can be easily manufactured.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 本発明に係る実施の形態1の発光素子の構成
を示す断面図である。
FIG. 1 is a cross-sectional view illustrating a configuration of a light-emitting element according to Embodiment 1 of the present invention.

【図2】 本発明に係る実施の形態2の発光素子の構成
を示す断面図である。
FIG. 2 is a cross-sectional view illustrating a configuration of a light emitting device according to a second embodiment of the present invention.

【図3】 本発明に係る他の発光素子の構成を示す断面
図である。
FIG. 3 is a cross-sectional view illustrating a configuration of another light emitting device according to the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…ガラス層 2,12,18…組成傾斜層 3…樹脂層 5,15…パッケージ 5a,5b,15a,15b,21a,21b…電極端
子 5c,15c…凹部 6…透光性樹脂 7…半導体LEDチップ 10…光散乱層 11,17…第1樹脂層 13,19…第2樹脂層 14,20…導電線 16,22…接着剤 21…基体
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Glass layer 2, 12, 18 ... Gradient composition layer 3 ... Resin layer 5, 15 ... Package 5a, 5b, 15a, 15b, 21a, 21b ... Electrode terminal 5c, 15c ... Concave part 6 ... Translucent resin 7 ... Semiconductor LED chip 10 light scattering layer 11, 17 first resin layer 13, 19 second resin layer 14, 20 conductive wire 16, 22 adhesive 21 base

Claims (14)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 基体上に半導体LEDチップが設けら
れ、その半導体LEDチップと該LEDチップの少なく
とも周りの基体上を覆うように透光性樹脂が形成された
発光素子において、 上記基体と上記透光性樹脂との間に上記半導体LEDか
らの光を散乱させる無機材料が分散された光散乱層を備
え、かつ上記光散乱層は、上記無機材料が分散されたガ
ラス層と、該ガラス層の上に形成された樹脂層とを有し
てなることを特徴とする発光素子。
1. A light emitting element comprising: a semiconductor LED chip provided on a base; and a light-transmitting resin formed so as to cover the semiconductor LED chip and at least a base surrounding the LED chip. A light scattering layer in which an inorganic material that scatters light from the semiconductor LED is dispersed between the light emitting resin and the light scattering layer, and the light scattering layer is a glass layer in which the inorganic material is dispersed, and a glass layer in which the inorganic material is dispersed. A light-emitting element comprising: a resin layer formed thereon.
【請求項2】 パッケージの凹部に半導体LEDチップ
が設けられ、その半導体LEDチップを覆うように上記
凹部に透光性樹脂が充填されてなるチップ型の発光素子
において、 上記凹部と上記透光性樹脂との間に上記半導体LEDか
らの光を散乱させる無機材料が分散された光散乱層を備
え、かつ上記光散乱層は、上記無機材料が分散されたガ
ラス層と、該ガラス層の上に形成された樹脂層とを有し
てなることを特徴とする発光素子。
2. A chip-type light emitting device in which a semiconductor LED chip is provided in a concave portion of a package, and the concave portion is filled with a translucent resin so as to cover the semiconductor LED chip. A resin is provided with a light scattering layer in which an inorganic material for scattering light from the semiconductor LED is dispersed between the resin and the resin, and the light scattering layer has a glass layer in which the inorganic material is dispersed and a glass layer on which the inorganic material is dispersed. A light-emitting element comprising: a formed resin layer.
【請求項3】 上記ガラス層と上記樹脂層との間に、上
記ガラス層を構成するガラス材料から上記樹脂層を構成
する樹脂材料へと組成が徐徐に変化する組成傾斜層を有
する請求項1又は2記載の発光素子。
3. A composition gradient layer between the glass layer and the resin layer, the composition gradient of which gradually changes from a glass material forming the glass layer to a resin material forming the resin layer. Or the light-emitting element according to 2.
【請求項4】 上記樹脂は、エポキシ樹脂又はシリコー
ン樹脂である請求項1〜3のうちのいずれか1つに記載
の発光素子。
4. The light emitting device according to claim 1, wherein the resin is an epoxy resin or a silicone resin.
【請求項5】 上記無機材料が酸化チタンである請求項
1〜4のうちのいずれか1項に記載の発光素子。
5. The light emitting device according to claim 1, wherein the inorganic material is titanium oxide.
【請求項6】 パッケージの凹部に半導体LEDチップ
が設けられ、その半導体LEDチップを覆うように上記
凹部に透光性樹脂が充填されてなるチップ型の発光素子
の製造方法において、 シリカ又はシロキサンを骨格とする無機物ゾルに上記半
導体LEDからの光を散乱させる無機材料を混合するこ
とにより無機コーティング剤を作製することと、 上記無機コーティング剤を上記パッケージの壁面に塗布
して乾燥することによりゲル状の無機コーティング層を
形成することと、 上記ゲル状態の無機コーティング層の上に樹脂をコーテ
ィングすることにより樹脂層を形成すること、 上記無機コーティング層と樹脂層とを硬化させることと
を含む発光素子の製造方法。
6. A method for manufacturing a chip-type light-emitting device, wherein a semiconductor LED chip is provided in a recess of a package, and the recess is filled with a translucent resin so as to cover the semiconductor LED chip. Preparing an inorganic coating agent by mixing an inorganic material that scatters light from the semiconductor LED into an inorganic sol serving as a skeleton; and applying the inorganic coating agent to the wall surface of the package and drying the gel. Forming a resin layer by coating a resin on the inorganic coating layer in the gel state, and curing the inorganic coating layer and the resin layer. Manufacturing method.
【請求項7】 基体上に半導体LEDチップが設けら
れ、前記半導体LEDチップと前記半導体LEDチップ
の少なくとも周りの基体上を覆うように透光性樹脂が形
成された発光素子において、 前記透光性樹脂が、少なくとも前記基体上に形成される
第1樹脂層と前記第1樹脂層の上に形成される第2樹脂
層より成り、かつ前記第1樹脂層と前記第2樹脂層との
間に、前記第1樹脂層を構成する材料から前記第2樹脂
層を構成する材料へと組成が徐徐に変化する組成傾斜層
を有することを特徴とする発光素子。
7. A light-emitting element comprising: a semiconductor LED chip provided on a base; and a light-transmitting resin formed to cover at least the semiconductor LED chip and the base surrounding the semiconductor LED chip. The resin is composed of at least a first resin layer formed on the base and a second resin layer formed on the first resin layer, and between the first resin layer and the second resin layer. A light-emitting element having a composition gradient layer in which a composition gradually changes from a material forming the first resin layer to a material forming the second resin layer.
【請求項8】 前記第1樹脂層が前記半導体LEDチッ
プを覆うように形成される請求項7に記載の発光素子。
8. The light emitting device according to claim 7, wherein the first resin layer is formed so as to cover the semiconductor LED chip.
【請求項9】 前記第1樹脂層と前記第2樹脂層が共に
シリコーン樹脂からなる請求項7〜8に記載の発光素
子。
9. The light emitting device according to claim 7, wherein both the first resin layer and the second resin layer are made of a silicone resin.
【請求項10】 前記第1樹脂層と前記第2樹脂層がそ
れぞれシリコーン樹脂とエポキシ樹脂からなる請求項7
〜8に記載の発光素子。
10. The first resin layer and the second resin layer are made of a silicone resin and an epoxy resin, respectively.
9. The light emitting device according to any one of items 1 to 8.
【請求項11】 基体と半導体LEDチップとが導電線
を介してワイヤーボンディングされた請求項10に記載
の発光素子において、前記第1樹脂層のシリコーン樹脂
が少なくとも基体と導電線との接合部を覆う発光素子。
11. The light emitting device according to claim 10, wherein the base and the semiconductor LED chip are wire-bonded via a conductive wire, wherein the silicone resin of the first resin layer forms at least a joint between the base and the conductive wire. Light emitting element to cover.
【請求項12】 前記第1樹脂層と前記第2樹脂層がそ
れぞれエポキシ樹脂とシリコーン樹脂からなる請求項7
〜8に記載の発光素子。
12. The first resin layer and the second resin layer are made of an epoxy resin and a silicone resin, respectively.
9. The light emitting device according to any one of items 1 to 8.
【請求項13】 基体と半導体LEDチップとが導電線
を介してワイヤーボンディングされた請求項12に記載
の発光素子において、前記第2樹脂層のシリコーン樹脂
が少なくとも基体と導電線との接合部を覆う発光素子。
13. The light emitting device according to claim 12, wherein the base and the semiconductor LED chip are wire-bonded via a conductive wire, wherein the silicone resin of the second resin layer forms at least a joint between the base and the conductive wire. Light emitting element to cover.
【請求項14】基体上に半導体LEDチップが設けら
れ、前記半導体LEDチップを覆うように前記基体上に
透光性樹脂が充填されてなる発光素子の製造方法におい
て、 少なくとも基体上に第1樹脂層を構成する材料を塗布す
ることによりゲル状の第1樹脂層を形成することと、 前記ゲル状態の第1樹脂層の上に第2樹脂層を構成する
材料を塗布することにより第2樹脂層を形成すること
と、 前記第1樹脂層と前記第2樹脂層を同時に硬化させるこ
ととを含む発光素子の製造方法。
14. A method of manufacturing a light-emitting element, comprising: a semiconductor LED chip provided on a base; and a translucent resin filled on the base so as to cover the semiconductor LED chip. Forming a gel-like first resin layer by applying a material constituting a layer; and applying a material constituting a second resin layer on the first resin layer in the gel state, thereby forming a second resin. A method for manufacturing a light emitting device, comprising: forming a layer; and simultaneously curing the first resin layer and the second resin layer.
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