JP2002020431A

JP2002020431A - プロピレン・α−オレフィンランダム共重合体

Info

Publication number: JP2002020431A
Application number: JP2000212976A
Authority: JP
Inventors: Minoru Tsuyuki; 実露木; Yasunori Nakamura; 康則中村; Tadashi Sezume; 忠司瀬詰
Original assignee: Japan Polychem Corp
Current assignee: Japan Polychem Corp
Priority date: 2000-07-13
Filing date: 2000-07-13
Publication date: 2002-01-23

Abstract

(57)【要約】【課題】低温ヒートシール性、耐ブロッキング性、滑り
性、透明性の優れたフィルムを与えるプロピレン・α−
オレフィンランダム共重合体の提供。【解決手段】下記の条件（１）〜（６）を充足すること
を特徴とするプロピレン・α−オレフィンランダム共重
合体。（１）ＭＦＲが０．５〜５０ｇ／１０分、（２）ＤＳＣ
で求めた融点［ＴＰ］が１１０〜１５０℃、（３）ＤＳ
Ｃで求めた融解終了温度［ＴＥ］と融点［ＴＰ］との関
係が、［ＴＥ］−［ＴＰ］≦８℃ （４）Ｑ値が２〜４、（５）２３℃キシレン可溶分≦２
重量％、（６）２３℃デカン可溶分≦１重量％

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明はプロピレン・α−オ
レフィンランダム共重合体に関する。さらに詳しくは低
温ヒートシール性、耐ブロッキング性、滑り性、透明性
に優れ、包装用フィルム用途に好適なプロピレン・α−
オレフィンランダム共重合体に関する。

【０００２】

【従来の技術】プロピレン・α−オレフィンランダム共
重合体は、剛性、透明性および防湿性に優れるため、食
品包装用フィルムや容器などの種々の用途に広く用いら
れている。

【０００３】近年はフィルムの二次加工性向上のため、
低温ヒートシール性が強く求められており、これに応え
て、低温ヒートシール性の優れたフィルムを得るため
に、例えば原料プロピレン・α−オレフィンランダム共
重合体のα−オレフィン含量を増加して融点を下げる方
法が提案されている。しかし、この方法によるときは、
プロピレン・α−オレフィンランダム共重合体中の溶媒
可溶分が増加し、これがベタツキの原因となって、フィ
ルムの滑り性、耐ブロッキング性が悪化するという問題
が生じる。

【０００４】このため、低融点でありながら、溶媒可溶
分の少ないプロピレン・α−オレフィンランダム共重合
体やそのフィルムの開発が進められており、例えば、特
表平８−５１０４９２、特開平９−２４１４３９などに
提案されているが、これらの方法においても満足し得る
ものを得ることはできない。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、低温ヒート
シール性、低耐ブロッキング性、滑り性、透明性に優れ
たフィルムを得ることのできるプロピレン・α−オレフ
ィンランダム共重合体を提供することを目的とする。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明はかかる目的を達
成するために鋭意検討をした結果なされたもので、従来
のプロピレン・α−オレフィンランダム共重合体に比し
て、溶媒可溶分の少ないプロピレン・α−オレフィンラ
ンダム共重合体を提供するものである。

【０００７】具体的には、本発明は、下記の要件（１）
〜（６）を充足するプロピレン・α−オレフィンランダ
ム共重合体を提供するものである。

【０００８】（１）ＭＦＲが０．５〜５０ｇ／１０分、
（２）ＤＳＣで求めた融点［ＴＰ］が１１０〜１５０
℃、（３）ＤＳＣで求めた融解終了温度［ＴＥ］と融点
［ＴＰ］との関係が、［ＴＥ］−［ＴＰ］≦８℃ （４）Ｑ値が２．０〜４．０、（５）２３℃キシレン可
溶分≦２．０重量％、（６）２３℃デカン可溶分≦１．
０重量％

【０００９】また、本発明は、下記の触媒成分（Ａ）、
触媒成分（Ｂ）及び必要に応じて触媒成分（Ｃ）からな
る触媒を用いてプロピレンとα−オレフィンとを共重合
することにより得られる上記のプロピレン・α−オレフ
ィンランダム共重合体を提供するものである。

【００１０】触媒成分（Ａ）：一般式（１）で示される
メタロセン化合物Ｑ（Ｃ₅Ｈ_4-aＲ¹ _a）（Ｃ₅Ｈ_4-bＲ² _b）ＭｅＸＹ（１）

【００１１】［ここで、Ｃ₅Ｈ_4-aＲ¹ _aおよびＣ₅Ｈ_4-bＲ
² _bは、それぞれ共役五員環配位子を示し、Ｑは二つの共
役五員環配位子を架橋する結合性基であって、炭素数１
〜２０の２価の炭化水素基、炭素数１〜２０の炭化水素
基を有するシリレン基または炭素数１〜２０の炭化水素
基を有するゲルミレン基を示し、Ｍｅはジルコニウムま
たはハフニウムを示し、Ｘ及びＹは、それぞれ独立し
て、水素、ハロゲン基、炭素数１〜２０の炭化水素基、
炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数１〜２０のアル
キルアミド基、トリフルオロメタンスルホン酸基、炭素
数１〜２０のリン含有炭化水素基または炭素数１〜２０
のケイ素含有炭化水素基を示す。Ｒ¹およびＲ²は、共役
五員環配位子上の置換基であって、それぞれ独立して、
炭素数１〜２０の炭化水素基、ハロゲン、アルコキシ
基、ケイ素含有炭化水素基、リン含有炭化水素基、窒素
含有炭化水素基またはホウ素含有炭化水素基を示す。隣
接する２個のＲ¹または２個のＲ²がそれぞれ結合して環
を形成していてもよい。ａおよびｂは０≦ａ≦４、０≦
ｂ≦４を満足する整数である。ただし、Ｒ¹およびＲ²を
有する２個の五員環配位子は、基Ｑを介しての相対位置
の観点において、Ｍｅを含む平面に関して非対称であ
る。］

【００１２】触媒成分（Ｂ）：イオン交換性層状珪酸塩触媒成分（Ｃ）：有機アルミニウム化合物

【００１３】

【発明の実施の形態】本発明に用いるプロピレン・α−
オレフィンランダム共重合体は、ＭＦＲが０．５〜５０
ｇ／１０ｍｉｎ．、好ましくは１〜３０ｇ／１０ｍｉ
ｎ．、より好ましくは２〜２０ｇ／１０ｍｉｎ．とされ
る。ＭＦＲが上記範囲より低い場合はフィルムの表面性
状に不良が生じるため好適な生産性が得られず、上記範
囲より高い場合は連続的なフィルムの生産が困難とな
る。

【００１４】また、本発明のプロピレン・α−オレフィ
ンランダム共重合体はＤＳＣで求めた融点［ＴＰ］
（℃）が１１０〜１５０℃、好ましくは１１５〜１４５
℃、より好ましくは１２０〜１４０℃とされる。［Ｔ
Ｐ］が上記範囲より低い場合は本発明においても好適な
耐ブロッキング性が得られず、上記範囲より高い場合は
低温ヒートシール特性が得られない。

【００１５】また、本発明のプロピレン・α−オレフィ
ンランダム共重合体はＤＳＣで求めた融解終了温度［Ｔ
Ｅ］（℃）と融点［ＴＰ］（℃）との関係が、［ＴＥ］
−［ＴＰ］≦８、好ましくは［ＴＥ］−［ＴＰ］≦６よ
り好ましくは［ＴＥ］−［ＴＰ］≦５．５を満たすもの
である。［ＴＥ］−［ＴＰ］が８℃を超える場合は、ヒ
ートシール温度が高くなる。

【００１６】また本発明のプロピレン・α−オレフィン
ランダム共重合体のＱ値は、２．０〜４．０、好ましく
は２．３〜３．８、さらに好ましくは２．６〜３．６と
される。Ｑ値が上記範囲より低い場合はフィルムの成形
性が低下し、上記範囲より高い場合はフィルムの表面状
態が悪くなると共に耐ブロッキング性が悪化するため好
ましくない。

【００１７】また本発明のプロピレン・α−オレフィン
ランダム共重合体は、２３℃キシレン可溶分が２．０重
量％以下、好ましくは１．５重量％以下、より好ましく
は１．０重量％以下である。可溶分が上記より多いと、
耐ブロッキング性、滑り性が低下する。

【００１８】また本発明のプロピレン・α−オレフィン
ランダム共重合体は２３℃デカン可溶分が１．０重量％
以下、好ましくは０．７重量％以下、より好ましくは
０．５重量％以下である。可溶分が上記より多いと、耐
ブロッキング性、滑り性が低下する。

【００１９】本発明のプロピレン・α−オレフィンラン
ダム共重合体は、上記の条件を充足することによって、
それぞれに記載した効果が得られる他、溶媒可溶分が少
ないにもかかわらず低温ヒートシール性に優れたフィル
ムを得ることができる。

【００２０】本発明のプロピレン・α−オレフィンラン
ダム共重合体は、上記要件を満たすものであれば、何ら
限定されるものではなく、一成分であっても二成分以上
の混合物であってもよい。

【００２１】プロピレン・α−オレフィンランダム共重
合体におけるα−オレフィンは、プロピレンを除く炭素
数２〜２０のα−オレフィンが挙げられ、例えばエチレ
ン、１−ブテン、１−ペンテン、１−ヘキセン、１−オ
クテン、１−ヘプテン、４−メチル−ペンテン−１、４
−メチル−ヘキセン−１、４，４−ジメチルペンテン−
１等を例示できる。プロピレンと共重合されるα−オレ
フィンは一種類でも二種類以上を用いてもよい。このう
ちエチレン、ブテン−１が好適である。

【００２２】プロピレン・α−オレフィンランダム共重
合体におけるα−オレフィンの含有量は、一般に０．１
〜２０重量％、好ましくは０．３〜１５重量％程度であ
る。

【００２３】本発明のプロピレン・α−オレフィンラン
ダム共重合体は、後述する触媒成分（Ａ）、触媒成分
（Ｂ）、並びに、必要に応じて用いられる触媒成分
（Ｃ）からなるいわゆるメタロセン触媒の存在下でプロ
ピレンと少量成分であるα−オレフィンとを共重合させ
ることによって製造することができる。

【００２４】＜触媒成分（Ａ）＞触媒成分（Ａ）として
望ましい化合物は次の一般式（１）で示される化合物で
ある。

【００２５】Ｑ（Ｃ₅Ｈ_4-aＲ¹ _a）（Ｃ₅Ｈ_4-bＲ² _b）ＭｅＸＹ（１）

【００２６】［ここで、Ｃ₅Ｈ_4-aＲ¹ _aおよびＣ₅Ｈ_4-bＲ
² _bは、それぞれ共役五員環配位子を示し、Ｑは二つの共
役五員環配位子を架橋する結合性基であって、炭素数１
〜２０の２価の炭化水素基、炭素数１〜２０の炭化水素
基を有するシリレン基または炭素数１〜２０の炭化水素
基を有するゲルミレン基を示し、Ｍｅはジルコニウムま
たはハフニウムを示し、Ｘ及びＹは、それぞれ独立し
て、水素、ハロゲン基、炭素数１〜２０の炭化水素基、
炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数１〜２０のアル
キルアミド基、トリフルオロメタンスルホン酸基、炭素
数１〜２０のリン含有炭化水素基または炭素数１〜２０
のケイ素含有炭化水素基を示す。Ｒ¹およびＲ²は、共役
五員環配位子上の置換基であって、それぞれ独立して、
炭素数１〜２０の炭化水素基、ハロゲン、アルコキシ
基、ケイ素含有炭化水素基、リン含有炭化水素基、窒素
含有炭化水素基またはホウ素含有炭化水素基を示す。隣
接する２個のＲ¹または２個のＲ²がそれぞれ結合して環
を形成していてもよい。ａおよびｂは０≦ａ≦４、０≦
ｂ≦４を満足する整数である。ただし、Ｒ¹およびＲ²を
有する２個の五員環配位子は、基Ｑを介しての相対位置
の観点において、Ｍｅを含む平面に関して非対称であ
る。］

【００２７】Ｑは、上記したように、二つの共役五員環
配位子Ｃ₅Ｈ_4-aＲ¹ _aおよびＣ₅Ｈ₄Ｒ² _bを架橋する結合性
基であって、具体的には、例えば（イ）炭素数１〜２
０、好ましくは１〜６の２価の炭化水素基、具体的に
は、例えばアルキレン基、シクロアルキレン基、アリー
レン基等、（ロ）炭素数１〜２０、好ましくは１〜１２
の炭化水素基を有するシリレン基、（ハ）炭素数１〜２
０、好ましくは１〜１２、の炭化水素基を有するゲルミ
レン基がある。なお、２価のＱ基の両結合手間の距離
は、その炭素数の如何に関わらず、Ｑが鎖状の場合には
４原子程度以下、就中３原子以下、であることが、Ｑが
環状基を有するものである場合は当該環状基＋２原子程
度以下、就中当該環状基のみであることが、それぞれ好
ましい。

【００２８】従って、Ｑがアルキレンの場合はエチレン
およびイソプロピリデン（結合手間の距離は２原子およ
び１原子）が、シクロアルキレン基の場合はシクロヘキ
シレン（結合手間の距離がシクロヘキシレン基のみ）
が、アルキルシリレンの場合は、ジメチルシリレン（結
合手間の距離が１原子）が、それぞれ好ましい。Ｍｅ
は、ジルコニウムまたはハフニウムである。

【００２９】Ｘ及びＹは、それぞれ独立に、すなわち同
一でも異なってもよく、（イ）水素、（ロ）ハロゲン
（フッ素、塩素、臭素またはヨウ素、好ましくは塩
素）、（ハ）炭素数１〜２０の炭化水素基、（ニ）炭素
数１〜２０のアルコキシ基、（ホ）炭素数１〜２０のア
ルキルアミド基、（ヘ）炭素数１〜２０のリン含有炭化
水素基、（ト）炭素数１〜２０のケイ素含有炭化水素基
または（チ）トリフルオロメタンスルホン酸基を示す。

【００３０】Ｒ¹及びＲ²は、共役五員環配位子上の置換
基であって、それぞれ独立して、炭素数１〜２０の炭化
水素基、ハロゲン、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭
素数３〜２０のケイ素含有炭化水素基、炭素数２〜２０
のリン含有炭化水素基、炭素数２〜２０の窒素含有炭化
水素基または炭素数２〜２０のホウ素含有炭化水素基を
示す。また、隣接する２個のＲ¹同士または２個のＲ²同
士がそれぞれω−端で結合してシクロペンタジエニル基
の一部と共に環を形成していてもよい。

【００３１】そのような場合の代表例としてはシクロペ
ンタジエニル基上の隣接する２つのＲ¹（あるいはＲ²）
が当該シクロペンタジエニル基の二重結合を共有して縮
合六員環を形成しているもの（すなわちインデニル基お
よびフルオレニル基）および縮合七員環を形成している
もの（すなわちアズレニル基）がある。ａおよびｂは０
≦ａ≦４、０≦ｂ≦４を満足する整数である。

【００３２】上記メタロセン化合物の非限定的な例とし
て、下記のものを挙げることができる。なお、これらの
化合物は、単に化学的名称のみで示称されているが、そ
の立体構造が本発明で言う非対称性を持つものであるこ
とはいうまでもない。

【００３３】（Ａ１）シリレン架橋五員環配位子を２個
有する遷移金属化合物、例えば、（１）ジメチルシリレ
ンビス（１−インデニル）ジルコニウムジクロリド、
（２）ジメチルシリレンビス｛１−（４，５，６，７−
テトラヒドロインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、
（３）ジメチルシリレンビス｛１−（２，４−ジメチル
インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、（４）ジメチ
ルシリレンビス｛１−（２−メチル−４−フェニルイン
デニル）｝ジルコニウムジクロリド、（５）ジメチルシ
リレンビス｛１−（２−メチル−４−フェニル−４Ｈ−
アズレニル）｝ジルコニウムジクロリド、（６）ジメチ
ルシリレンビス｛１−（２−メチル−４−フェニル−４
Ｈ−５，６，７，８−テトラヒドロアズレニル）｝ジル
コニウムジクロリド、（７）ジメチルシリレンビス｛１
−（２−メチル−４−（４−クロロフェニル）−４Ｈ−
アズレニル）｝ジルコニウムジクロリド、（８）ジメチ
ルシリレンビス｛１−（２−メチル−４−（４−クロロ
フェニル）−４Ｈ−５，６，７，８−テトラヒドロアズ
レニル）｝ジルコニウムジクロリド、（９）ジメチルシ
リレンビス｛１−（２−メチル−４，５−ベンゾインデ
ニル）｝ジルコニウムジクロリド、（１０）ジメチルシ
リレンビス〔１−｛２−メチル−４−（１−ナフチル）
インデニル｝〕ジルコニウムジクロリド、（１１）ジメ
チルシリレンビス〔１−｛２−メチル−４−（１−ナフ
チル）−４Ｈ−アズレニル｝〕ジルコニウムジクロリ
ド、（１２）ジメチルシリレンビス〔１−｛２−メチル
−４−（１−ナフチル）−４Ｈ−５，６，７，８−テト
ラヒドロアズレニル｝〕ジルコニウムジクロリド、（１
３）メチルフェニルシリレンビス（１−インデニル）ジ
ルコニウムジクロリド、（１４）メチルフェニルシリレ
ンビス｛１−（４，５，６，７−テトラヒドロインデニ
ル）｝ジルコニウムジクロリド、（１５）メチルフェニ
ルシリレンビス｛１−（２，４−ジメチルインデニ
ル）｝ジルコニウムジクロリド、（１６）メチルフェニ
ルシリレンビス｛１−（２−メチル−４−フェニルイン
デニル）｝ジルコニウムジクロリド、（１７）メチルフ
ェニルシリレンビス｛１−（２−メチル−４−フェニル
−４Ｈ−アズレニル）｝ジルコニウムジクロリド、（１
８）メチルフェニルシリレンビス｛１−（２−メチル−
４−フェニル−４Ｈ−５，６，７，８，−テトラヒドロ
アズレニル）｝ジルコニウムジクロリド、（１９）メチ
ルフェニルシリレンビス｛１−（２−メチル−４，５−
ベンゾインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、（２
０）メチルフェニルシリレンビス〔１−｛２−メチル−
４−（１−ナフチル）インデニル｝〕ジルコニウムジク
ロリド、（２１）メチルフェニルシリレンビス〔１−
｛２−メチル−４−（１−ナフチル）−４Ｈ−アズレニ
ル｝〕ジルコニウムジクロリド、（２２）メチルフェニ
ルシリレンビス〔１−｛２−メチル−４−（１−ナフチ
ル）−４Ｈ−５，６，７，８−テトラヒドロアズレニ
ル｝〕ジルコニウムジクロリド、（２３）ジメチルシリ
レンビス｛１−（２−メチル−４，５−ベンゾインデニ
ル）｝ジルコニウムジメチル、（２４）ジメチルシリレ
ンビス｛１−（２−メチル−４，５−ベンゾインデニ
ル）｝ジルコニウムメチルクロリド、（２５）ジメチル
シリレンビス｛１−（２−メチル−４−フェニルインデ
ニル）｝ジルコニウムジメチル、（２６）ジメチルシリ
レンビス｛１−（２−メチル−４−フェニル−４Ｈ−ア
ズレニル）｝ジルコニウムジメチル、（２７）ジメチル
シリレンビス｛１−（２−メチル−４−フェニルインデ
ニル）｝ジルコニウムクロロジメチルアミド、（２８）
ジメチルシリレンビス｛１−（２−エチル−４，５−ベ
ンゾインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、（２９）
ジメチルシリレンビス｛１−（２−エチル−４−フェニ
ルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、（３０）ジ
メチルシリレンビス｛１−（２−エチル−４−フェニル
−４Ｈ−アズレニル）｝ジルコニウムジクロリド、（３
１）ジメチルシリレンビス｛１−（２−エチル−４−フ
ェニル−４Ｈ−５，６，７，８−テトラヒドロアズレニ
ル）｝ジルコニウムジクロリド、（３２）ジメチルシリ
レンビス｛１−（２−エチル−４−（４−クロロフェニ
ル）−４Ｈ−アズレニル）｝ジルコニウムジクロリド、
（３３）ジメチルシリレンビス｛１−（２−エチル−４
−（４−クロロフェニル）−４Ｈ−５，６，７，８−テ
トラヒドロアズレニル）｝ジルコニウムジクロリド、
（３４）ジメチルシリレン｛１−（２−エチル−４−フ
ェニルインデニル）｝｛１−（２，３，５−トリメチル
シクロペンタジエニル）｝ジルコニウムジクロリド、
（３５）ジメチルシリレン｛１−（２−エチル−４−フ
ェニル−４Ｈ−５，６，７，８−テトラヒドロアズレニ
ル）｝｛１−（２，３，５−トリメチルシクロペンタジ
エニル）｝ジルコニウムジクロリド、（３６）ジメチル
シリレンビス｛１−（２−メチル−４，４−ジメチル−
シラ−４，５，６，７−テトラヒドロインデニル）｝ジ
ルコニウムジクロリド、（３７）ジメチルシリレンビス
｛１−（２−エチル−４−フェニルインデニル）｝ジル
コニウムビス（トリフルオロメタンスルホン酸）、（３
８）ジメチルシリレンビス｛１−（２−エチル−４−フ
ェニル−４Ｈ−アズレニル）｝ジルコニウムビス（トリ
フルオロメタンスルホン酸）、（３９）ジメチルシリレ
ンビス｛１−（２−エチル−４−フェニル−４Ｈ−５，
６，７，８−テトラヒドロアズレニル）｝ジルコニウム
ビス（トリフルオロメタンスルホン酸）、（４０）ジメ
チルシリレンビス｛１−（２−エチル−４−（ペンタフ
ルオロフェニル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリ
ド、（４１）ジメチルシリレンビス｛１−（２−エチル
−４−フェニル−７−フルオロインデニル）｝ジルコニ
ウムジクロリド、（４２）ジメチルシリレンビス｛１−
（２−エチル−４−インドリルインデニル）｝ジルコニ
ウムジクロリド、（４３）ジメチルシリレンビス｛１−
（２−ジメチルボラノ−４−インドリルインデニル）｝
ジルコニウムジクロリド、

【００３４】（Ａ２）アルキレン基で架橋した五員環配
位子を２個有する遷移金属化合物、例えば、（１）エチ
レン−１，２−ビス（１−インデニル）ジルコニウムジ
クロリド、（２）エチレン−１，２−ビス｛１−（４，
５，６，７−テトラヒドロインデニル）｝ジルコニウム
ジクロリド、（３）エチレン−１，２−ビス｛１−
（２，４−ジメチルインデニル）｝ジルコニウムジクロ
リド、（４）エチレン−１，２−ビス〔１−｛２−メチ
ル−４−（１−ナフチル）−４Ｈ−アズレニル｝〕ジル
コニウムジクロリド（５）エチレン−１，２−ビス｛１
−（２，４−ジメチル−４Ｈ−アズレニル）｝ジルコニ
ウムジクロリド、（６）エチレン−１，２−ビス｛１−
（２−メチル−４−フェニルインデニル）｝ジルコニウ
ムジクロリド、（７）エチレン−１，２−ビス｛１−
（２−メチル−４−フェニル−４Ｈ−アズレニル）｝ジ
ルコニウムジクロリド、（８）エチレン−１，２−ビス
｛１−（２−メチル−４，５−ベンゾインデニル）｝ジ
ルコニウムジクロリド、（９）エチレン−１，２−ビス
〔１−｛２−メチル−４−（１−ナフチル）インデニ
ル｝〕ジルコニウムジクロリド、（１０）エチレン−
１，２−ビス〔１−｛２−メチル−４−（４−クロロフ
ェニル）−４Ｈ−アズレニル｝〕ジルコニウムジクロリ
ド等が挙げられる。

【００３５】（Ａ３）ゲルマニウム、アルミニウム、ホ
ウ素、リンあるいは窒素を含む炭化水素残基で架橋した
五員環配位子を有する遷移金属化合物、例えば、（１）
ジメチルゲルミレンビス（１−インデニル）ジルコニウ
ムジクロリド、（２）ジメチルゲルミレンビス｛１−
（２−メチル−４−フェニルインデニル）｝ジルコニウ
ムジクロリド、（３）ジメチルゲルミレンビス｛１−
（２−メチル−４−フェニル−４Ｈ−アズレニル）｝ジ
ルコニウムジクロリド、（４）ジメチルゲルミレンビス
｛１−（２−メチル−４，５−ベンゾインデニル）｝ジ
ルコニウムジクロリド、（５）メチルアルミニウムビス
（１−インデニル）ジルコニウムジクロリド、（６）フ
ェニルホスフィノビス（１−インデニル）ジルコニウム
ジクロリド、（７）エチルホラノビス（１−インデニ
ル）ジルコニウムジクロリド、（８）フェニルアミノビ
ス（１−インデニル）ジルコニウムジクロリド（９）ジ
メチルゲルミレンビス〔１−｛２−メチル−４−（４−
クロロフェニル）−４Ｈ−アズレニル｝〕ジルコニウム
ジクロリド等が例示される。

【００３６】これらの錯体の中で特に好ましいものは、
アズレン骨格を有する錯体である。

【００３７】＜触媒成分（Ｂ）＞触媒成分（Ｂ）として
は、イオン交換性層状珪酸塩が用いられる。イオン交換
性層状珪酸塩は、イオン結合等によって構成される面が
互いに弱い結合力で平行に積み重なった結晶構造をとる
珪酸塩化合物であり、含有するイオン交換可能なものを
指称する。

【００３８】大部分のイオン交換性層状珪酸塩は、天然
には主に粘土鉱物の主成分として産出するが、これら、
イオン交換性層状珪酸塩は特に、天然産のものに限ら
ず、人工合成物であってもよい。イオン交換性層状珪酸
塩の具体例としては、例えば、白水晴雄著「粘土鉱物
学」朝倉書店（１９９５年）、等に記載される公知の層
状珪酸塩であって、ディッカイト、ナクライト、カオリ
ナイト、アノーキサイト、メタハロイサイト、ハロイサ
イト等のカオリン族、クリソタイル、リザルダイト、ア
ンチゴライト等の蛇紋石族、モンモリロナイト、ザウコ
ナイト、バイデライト、ノントロナイト、サポナイト、
ヘクトライト、スチーブンサイト、ベントナイト、テニ
オライト等のスメクタイト族、バーミキュライト等のバ
ーミキュライト族、雲母、イライト、セリサイト、海緑
石等の雲母族、アタパルジャイト、セピオライト、パリ
ゴルスカイト、ベントナイト、パイロフィライト、タル
ク、緑泥石群が挙げられる。これらは混合層を形成して
いてもよい。

【００３９】これらの中では、モンモリロナイト、ザウ
コナイト、バイデライト、ノントロナイト、サポナイ
ト、ヘクトライト、スチーブンサイト、ベントナイト、
テニオライト等のスメクタイト族、バーミキュライト
族、雲母族が好ましい。なお、触媒成分（Ｂ）として、
水銀圧入法で測定した半径が２０オングストローム以上
の細孔容積が０．１ｃｃ／ｇ未満の化合物を用いた場合
には、高い重合活性が得られ難い傾向があるので、０．
１ｃｃ／ｇ以上、特には０．３〜５ｃｃ／ｇのものが好
ましい。

【００４０】また、触媒成分（Ｂ）は特に処理を行うこ
となくそのまま用いることができるが、触媒成分（Ｂ）
に化学処理を施すことも好ましい。ここで化学処理と
は、表面に付着している不純物を除去する表面処理と粘
土の構造に影響を与える処理のいずれをも用いることが
できる。具体的には、酸処理、アルカリ処理、塩類処
理、有機物処理等が挙げられる。

【００４１】酸処理は表面の不純物を取り除く他、結晶
構造中のＡｌ、Ｆｅ、Ｍｇ等の陽イオンを溶出させるこ
とによって表面積を増大させる。アルカリ処理では粘土
の結晶構造が破壊され、粘土の構造の変化をもたらす。
また塩類処理、有機物処理では、イオン複合体、分子複
合体、有機誘導体等を形成し、表面積や層間距離を変え
ることができる。イオン交換性を利用し、層間の交換性
イオンを別の大きな嵩高いイオンと置換することによ
り、層間が拡大した状態の層状物質を得ることもでき
る。すなわち、嵩高いイオンが層状構造を支える支柱的
な役割を担っており、ピラーと呼ばれる。また層状物質
層間に別の物質を導入することをインターカレーション
という。

【００４２】インターカレーションするゲスト化合物と
しては、ＴｉＣｌ₄、ＺｒＣｌ₄等の陽イオン性無機化合
物、Ｔｉ（ＯＲ）₄、Ｚｒ（ＯＲ）₄、ＰＯ（ＯＲ）₃、
Ｂ（ＯＲ）₃［Ｒはアルキル、アリール等］等の金属ア
ルコラート、［Ａｌ₁₃Ｏ₄（ＯＨ）₂₄］⁷⁺、［Ｚｒ₄（Ｏ
Ｈ）₁₄］²⁺、［Ｆｅ₃Ｏ（ＯＣＯＣＨ₃）₆］⁺等の金属水
酸化物イオン等が挙げられる。これらの化合物は、単一
で用いても、また２種類以上共存させて用いてもよい。
これらの化合物をインターカレーションする際に、Ｓｉ
（ＯＲ）₄、Ａｌ（ＯＲ）₃、Ｇｅ（ＯＲ）₄等の金属ア
ルコラート等を加水分解して得た重合物、ＳｉＯ₂等の
コロイド状無機化合物等を共存させることもできる。ま
た、ピラーの例としては上記水酸化物イオンを層間にイ
ンターカレーションした後に加熱脱水することにより生
成する酸化物等が挙げられる。触媒成分（Ｂ）はそのま
ま用いてもよいし、加熱脱水処理した後用いてもよい。
また、単独で用いても、上記固体の２種以上を混合して
用いてもよい。

【００４３】本発明において使用されるイオン交換性層
状珪酸塩としては、塩類で処理される前の、イオン交換
性層状珪酸塩の含有する交換可能な１族金属陽イオンの
４０％以上、好ましくは６０％以上を、下記に示す塩類
より解離した陽イオンと、イオン交換することが好まし
い。

【００４４】このようなイオン交換を目的とした塩類処
理で用いられる塩類は、２〜１４族原子から成る群より
選ばれた少なくとも一種の原子を含む陽イオンを含有す
る化合物であり、好ましくは、２〜１４族原子から成る
群より選ばれた少なくとも一種の原子を含む陽イオン
と、ハロゲン原子、無機酸および有機酸から成る群より
選ばれた少なくとも一種の陰イオンとから成る化合物で
あり、更に好ましくは、２〜１４族原子から成る群より
選ばれた少なくとも一種の原子を含む陽イオンと、Ｃ
ｌ、Ｂｒ、Ｉ、Ｆ、ＰＯ４、ＳＯ₄、ＮＯ₃、ＣＯ₃、Ｃ₂
Ｏ₄、ＯＣＯＣＨ₃、ＣＨ₃ＣＯＣＨＣＯＣＨ₃、ＯＣ
ｌ₃、Ｏ（ＮＯ₃）、Ｏ（ＣｌＯ₄）₂、Ｏ（ＳＯ₄）、Ｏ
Ｈ、Ｏ₂、Ｃｌ₂、ＯＣｌ₃、ＯＣＯＨ、ＯＣＯＣＨ₂ＣＨ
₃、Ｃ₂Ｈ₄Ｏ₄およびＣ₆Ｈ₅Ｏ₇から成る群より選ばれる
少なくとも一種の陰イオンとから成る化合物である。

【００４５】具体的には、ＣａＣｌ₂、ＣａＳＯ₄、Ｃａ
Ｃ₂Ｏ₄、Ｃａ（ＮＯ₃）₂、Ｃａ₃（Ｃ₆Ｈ₅Ｏ₇）₂、Ｍｇ
Ｃｌ₂、ＭｇＢｒ₂、ＭｇＳＯ₄、Ｍｇ（ＰＯ₄）₂、Ｍｇ
（ＣｌＯ₄）₂、ＭｇＣ₂Ｏ₄、Ｍｇ（ＮＯ₃）₂、Ｍｇ（Ｏ
ＣＯＣＨ₃）₂、ＭｇＣ₄Ｈ₄Ｏ₄、Ｓｃ（ＯＣＯＣ
Ｈ₃）₂、Ｓｃ₂（ＣＯ₃）₃、Ｓｃ₂（Ｃ₂Ｏ₄）₃、Ｓｃ
（ＮＯ₃）₃、Ｓｃ₂（ＳＯ₄）₃、ＳｃＦ₃、ＳｃＣｌ₃、
ＳｃＢｒ₃、ＳｃＩ₃、Ｙ（ＯＣＯＣＨ₃）₃、Ｙ（ＣＨ₃
ＣＯＣＨＣＯＣＨ₃）₃、Ｙ₂（ＣＯ₃）₃、Ｙ₂（Ｃ₂Ｏ₄）
₃、Ｙ（ＮＯ₃）₃、Ｙ（ＣｌＯ₄）₃、ＹＰＯ₄、Ｙ₂（Ｓ
Ｏ₄）₃、ＹＦ₃、ＹＣｌ₃、Ｌａ（ＯＯＣＨ₃）₃、Ｌａ
（ＣＨ₃ＣＯＣＨＣＯＣＨ₃）₃、Ｌａ₂（ＣＯ₃）₃、Ｌａ
（ＮＯ₃）₃、Ｌａ（ＣｌＯ₄）₃、Ｌａ₂（Ｃ₂Ｏ₄）₃、Ｌ
ａＰＯ₄、Ｌａ₂（ＳＯ₄）₃、ＬａＦ₃、ＬａＣｌ₃、Ｌａ
Ｂｒ₃、ＬａＩ₃、Ｓｍ（ＯＣＯＣＨ₃）₃、Ｓｍ（ＣＨ₃
ＣＯＣＨＣＯＣＨ₃）₃、Ｓｍ₂（ＣＯ₃）₃、Ｓｍ（Ｎ
Ｏ₃）₃、Ｓｍ（ＣｌＣＯ₄）₃、Ｓｍ₂（Ｃ₂Ｏ₄）₃、Ｓｍ
ＰＯ₄、Ｓｍ₂（ＳＯ₄）₃、ＳｍＦ₃、ＳｍＣｌ₃、ＳｍＢ
ｒ₃、ＳｍＩ₃、Ｙｂ（ＯＣＯＣＨ₃）₃、Ｙｂ（Ｎ
Ｏ₃）₃、Ｙｂ（ＣｌＯ₄）₃、Ｙｂ（Ｃ₂Ｏ₄）₃、Ｙｂ
（ＳＯ₄）₃、ＹｂＦ₃、ＹｂＣｌ₃、Ｔｉ（ＯＣＯＣ
Ｈ₃）₄、Ｔｉ（ＣＯ₃）₂、Ｔｉ（ＮＯ₃）₄、Ｔｉ（ＳＯ
₄）₂、ＴｉＦ₄、ＴｉＣｌ₄、ＴｉＢｒ₄、ＴｉＩ₄、Ｚｒ
（ＯＣＯＣＨ₃）₄、Ｚｒ（ＣＯ₃）₂、Ｚｒ（ＮＯ₃）₄、
Ｚｒ（ＳＯ₄）₂、ＺｒＦ₄、ＺｒＣｌ₄、ＺｒＢｒ₄、Ｚ
ｒＩ₄、ＺｒＯＣｌ₂、ＺｒＯ（ＮＯ₃）₂、ＺｒＯ（Ｃｌ
Ｏ₄）₂、ＺｒＯ（ＳＯ₄）、Ｈｆ（ＯＣＯＣＨ₃）₄、Ｈ
ｆ（ＣＯ₃）₂、Ｈｆ（ＮＯ₃）₄、Ｈｆ（ＳＯ₄）₂、Ｈｆ
ＯＣｌ₂、ＨｆＦ₄、ＨｆＣｌ₄、ＨｆＢｒ₄、ＨｆＩ₄、
Ｖ（ＣＨ₃ＣＯＣＨＣＯＣＨ₃）₃、ＶＯＳＯ₄、ＶＯＣｌ
₃、ＶＣｌ₃、ＶＣｌ₄、ＶＢｒ₃、Ｎｂ（ＣＨ₃ＣＯＣＨ
ＣＯＣＨ₃）₅、Ｎｂ₂（ＣＯ₃）₅、Ｎｂ（ＮＯ₃）₅、Ｎ
ｂ₂（ＳＯ₄）₅、ＺｒＦ₅、ＺｒＣｌ₅、ＮｂＢｒ₅、Ｎｂ
Ｉ₅、Ｔａ（ＯＣＯＣＨ₃）₅、Ｔａ₂（ＣＯ₃）₅、Ｔａ
（ＮＯ₃）₅、Ｔａ₂（ＳＯ₄）₅、ＴａＦ₅、ＴａＣｌ₅、
ＴａＢｒ₅、ＴａＩ₅、Ｃｒ（ＯＯＣＨ₃）₂ＯＨ、Ｃｒ
（ＣＨ₃ＣＯＣＨＣＯＣＨ₃）₃、Ｃｒ（ＮＯ₃）₃、Ｃｒ
（ＣｌＯ₄）₃、ＣｒＰＯ₄、Ｃｒ₂（ＳＯ₄）₃、ＣｒＯ₂
Ｃｌ₂、ＣｒＦ₃、ＣｒＣｌ₃、ＣｒＢｒ₃、ＣｒＩ₃、Ｍ
ｏＯＣｌ₄、ＭｏＣｌ₃、ＭｏＣｌ₄、ＭｏＣｌ₅、ＭｏＦ
₆、ＭｏＩ₂、ＷＣｌ₄、ＷＣｌ₆、ＷＦ₆、ＷＢｒ₅、Ｍｎ
（ＯＯＣＨ₃）₂、Ｍｎ（ＣＨ₃ＣＯＣＨＣＯＣＨ₃）₂、
ＭｎＣＯ₃、Ｍｎ（ＮＯ₃）₂、ＭｎＯ、Ｍｎ（ＣｌＯ₄）
₂、ＭｎＦ₂、ＭｎＣｌ₂、ＭｎＢｒ₂、ＭｎＩ₂、Ｆｅ
（ＯＣＯＣＨ₃）₂、Ｆｅ（ＣＨ₃ＣＯＣＨＣＯＣ
Ｈ₃）₃、ＦｅＣＯ₃、Ｆｅ（ＮＯ₃）₃、Ｆｅ（ＣｌＯ₄）
₃、ＦｅＰＯ₄、ＦｅＳＯ₄、Ｆｅ₂（ＳＯ₄）₃、Ｆｅ
Ｆ₃、ＦｅＣｌ₃、ＦｅＢｒ₃、ＦｅＩ₂、ＦｅＣ₆Ｈ
₅Ｏ₇、Ｃｏ（ＯＣＯＣＨ₃）₂、Ｃｏ（ＣＨ₃ＣＯＣＨＣ
ＯＣＨ₃）₃、ＣｏＣＯ₃、Ｃｏ（ＮＯ₃）₂、ＣｏＣ
₂Ｏ₄、Ｃｏ（ＣｌＯ₄）₂、Ｃｏ₃（ＰＯ₄）₂、ＣｏＳ
Ｏ₄、ＣｏＦ₂、ＣｏＣｌ₂、ＣｏＢｒ₂、ＣｏＩ₂、Ｎｉ
ＣＯ₃、Ｎｉ（ＮＯ₃）₂、ＮｉＣ₂Ｏ₄、Ｎｉ（ＣｌＯ₄）
₂、ＮｉＳＯ₄、ＮｉＣｌ₂、ＮｉＢｒ₂、Ｐｂ（ＯＣＯＣ
Ｈ₃）₄、Ｐｂ（ＯＯＣＨ₃）₂、ＰｂＣＯ₃、Ｐｂ（Ｎ
Ｏ₃）₂、ＰｂＳＯ₄、ＰｂＨＰＯ₄、Ｐｂ（ＣｌＯ₄）₂、
ＰｂＦ₂、ＰｂＣｌ₂、ＰｂＢｒ₂、ＰｂＩ₂、ＣｕＩ₂、
ＣｕＢｒ₂、Ｃｕ（ＮＯ₃）₂、ＣｕＣ₂Ｏ₄、Ｃｕ（Ｃｌ
Ｏ₄）₂、ＣｕＳＯ₄、Ｃｕ（ＯＣＯＣＨ₃）₂、Ｚｎ（Ｏ
ＯＣＨ₃）₂、Ｚｎ（ＣＨ₃ＣＯＣＨＣＯＣＨ₃）₂、Ｚｎ
ＣＯ₃、Ｚｎ（ＮＯ₃）₂、Ｚｎ（ＣｌＯ₄）₂、Ｚｎ₃（Ｐ
Ｏ₄）₂、ＺｎＳＯ₄、ＺｎＦ₂、ＺｎＣｌ₂、ＺｎＢｒ₂、
ＺｎＩ₂、Ｃｄ（ＯＣＯＣＨ₃）₂、Ｃｄ（ＣＨ₃ＣＯＣＨ
ＣＯＣＨ₃）₂、Ｃｄ（ＯＣＯＣＨ₂ＣＨ₃）₂、Ｃｄ（Ｎ
Ｏ₃）₂、Ｃｄ（ＣｌＯ₄）₂、ＣｄＳＯ₄、ＣｄＦ₂、Ｃｄ
Ｃｌ₂、ＣｄＢｒ₂、ＣｄＩ₂、ＡｌＦ₃、ＡｌＣｌ₃、Ａ
ｌＢｒ₃、ＡｌＩ₃、Ａｌ₂（ＳＯ₄）₃、Ａｌ₂（Ｃ₂Ｏ₄）
₃、Ａｌ（ＣＨ₃ＣＯＣＨＣＯＣＨ₃）₃、Ａｌ（Ｎ
Ｏ₃）₃、ＡｌＰＯ₄、ＧｅＣｌ₄、ＧｅＢｒ₄、ＧｅＩ₄、
Ｓｎ（ＯＣＯＣＨ₃）₄、Ｓｎ（ＳＯ₄）₂、ＳｎＦ₄、Ｓ
ｎＣｌ₄、ＳｎＢｒ₄、ＳｎＩ₄等が挙げられる。酸処理
は表面の不純物を除くほか、結晶構造のＡｌ、Ｆｅ、Ｍ
ｇ等の陽イオンの一部または全部を溶出させることがで
きる。

【００４６】酸処理で用いられる酸は、好ましくは塩
酸、硫酸、硝酸、シュウ酸、リン酸、酢酸から選択され
る。処理に用いる塩類および酸は２種以上であってもよ
い。塩類処理と酸処理を組み合わせる場合においては、
塩類処理を行った後、酸処理を行う方法、酸処理を行っ
た後、塩類処理を行う方法、および塩類処理と酸処理を
同時に行う方法がある。

【００４７】塩類および酸による処理条件は、特には制
限されないが、通常、塩類および酸濃度は０．１〜３０
重量％、処理温度は室温〜沸点、処理時間は５分〜２４
時間の条件を選択して、イオン交換性層状珪酸塩に含有
される少なくとも一種の化合物の少なくとも一部を溶出
する条件で行うことが好ましい。また、塩類および酸
は、一般的には水溶液で用いられる。

【００４８】本発明では、好ましくは上記塩類処理およ
び／または酸処理を行うが、処理前、処理間、処理後に
粉砕や造粒等で形状制御を行ってもよい。また、アルカ
リ処理や有機物処理などの化学処理を併用してもよい。
これらイオン交換性層状珪酸塩には、通常吸着水および
層間水が含まれる。本発明においては、これらの吸着水
および層間水を除去して触媒成分（Ｂ）として使用する
のが好ましい。

【００４９】ここで吸着水とは、イオン交換性層状珪酸
塩化合物粒子の表面あるいは結晶破面に吸着された水
で、層間水は結晶の層間に存在する水である。本発明で
は、加熱処理によりこれらの吸着水および／または層間
水を除去して使用することができる。

【００５０】イオン交換性層状珪酸塩の吸着水および層
間水の加熱処理方法は特に制限されないが、加熱脱水、
気体流通下の加熱脱水、減圧下の加熱脱水および有機溶
媒との共沸脱水等の方法が用いられる。加熱の際の温度
は、イオン交換性層状珪酸塩および層間イオンの種類に
よるために一概に規定できないが、層間水が残存しない
ように、１００℃以上、好ましくは１５０℃以上である
が、構造破壊を生じるような高温条件（加熱時間にもよ
るが例えば８００℃以上）は好ましくない。また、空気
流通下での加熱等の架橋構造を形成させるような加熱脱
水方法は、触媒の重合活性が低下し、好ましくない。加
熱時間は０．５時間以上、好ましくは１時間以上であ
る。その際、除去した後の触媒成分（Ｂ）の水分含有率
が、温度２００℃、圧力１ｍｍＨｇの条件下で２時間脱
水した場合の水分含有率を０重量％とした時、３重量％
以下、好ましくは１重量％以下であることが好ましい。

【００５１】以上のように、本発明において、触媒成分
（Ｂ）として、特に好ましいものは、塩類処理および／
または酸処理を行って得られた、水分含有率が１重量％
以下の、イオン交換性層状珪酸塩である。

【００５２】また触媒成分（Ｂ）は、平均粒径が５μｍ
以上の球状粒子を用いるのが好ましい。より好ましく
は、平均粒径が１０μｍ以上の球状粒子を用いる。更に
好ましくは平均粒径が１０μｍ以上１００μｍ以下の球
状粒子を用いる。ここでいう平均粒径は、粒子の光学顕
微鏡写真（倍率１００倍）を画像処理して算出した数平
均の粒径で表す。また触媒成分（Ｂ）は、粒子の形状が
球状であれば天然物あるいは市販品をそのまま使用して
もよいし、粉砕、造粒、分級等により粒子の形状および
粒径を制御したものを用いてもよい。

【００５３】ここで用いられる造粒法は例えば攪拌造粒
法、噴霧造粒法、転動造粒法、ブリケッティング、コン
パクティング、押出造粒法、流動層造粒法、乳化造粒
法、液中造粒法、圧縮成型造粒法等が挙げることができ
触媒成分（Ｂ）を造粒することが可能な方法であれば特
に限定されない。造粒法として好ましくは、攪拌造粒
法、噴霧造粒法、転動造粒法、流動層造粒法が挙げら
れ、特に好ましくは攪拌造粒法、噴霧造粒法が挙げられ
る。なお、噴霧造粒を行う場合、原料スラリーの分散媒
として水あるいはメタノール、エタノール、クロロホル
ム、塩化メチレン、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、ト
ルエン、キシレン等の有機溶媒を用いる。好ましくは水
を分散媒として用いる。

【００５４】球状粒子が得られる噴霧造粒の原料スラリ
ー液の触媒成分（Ｂ）の濃度は０．１〜７０％、好まし
くは１〜５０％、特に好ましくは５〜３０％である。球
状粒子が得られる噴霧造粒の熱風の入り口の温度は、分
散媒により異なるが、水を例にとると８０〜２６０℃、
好ましくは１００〜２２０℃で行う。

【００５５】また造粒の際に有機物、無機溶媒、無機
塩、各種バインダーを用いてもよい。用いられるバイン
ダーとしては例えば砂糖、デキストローズ、コーンシロ
ップ、ゼラチン、グルー、カルボキシメチルセルロース
類、ポリビニルアルコール、水ガラス、塩化マグネシウ
ム、硫酸アルミニウム、塩化アルミニウム、硫酸マグネ
シウム、アルコール類、グリコール、澱粉、カゼイン、
ラテックス、ポリエチレングリコール、ポリエチレンオ
キシド、タール、ピッチ、アルミナゾル、シリカゲル、
アラビアゴム、アルギン酸ソーダ等が挙げられる。

【００５６】上記のように得られた球状粒子は、重合工
程での破砕や微粉発生の抑制をするためには０．２ＭＰ
ａ以上の圧縮破壊強度を有することが好ましい。このよ
うな粒子強度の場合には、特に予備重合を行う場合に、
粒子性状改良効果が有効に発揮される。

【００５７】＜触媒成分（Ｃ）＞触媒成分（Ｃ）は有機
アルミニウム化合物である。本発明で触媒成分（Ｃ）と
して用いられる有機アルミニウム化合物は、一般式（Ａ
ｌＲ⁴ _nＸ_3-n）_mで示される化合物が適当である。本発明
ではこの式で表される化合物を単独で、複数種混合して
あるいは併用して使用することができることはいうまで
もない。また、この使用触媒調製時だけでなく、予備重
合あるいは重合時にも可能である。

【００５８】この式中、Ｒ⁴は炭素数１〜２０の炭化水
素基を示し、Ｘは、ハロゲン、水素、アルコキシ基、ア
ミノ基を示す。ｎは１〜３の、ｍは１〜２の整数であ
る。Ｒ⁴としてはアルキル基が好ましく、またＸは、そ
れがハロゲンの場合には塩素が、アルコキシ基の場合に
は炭素数１〜８のアルコキシ基が、アミノ基の場合には
炭素数１〜８のアミノ基が好ましい。したがって、好ま
しい化合物の具体例としては、トリメチルアルミニウ
ム、トリエチルアルミニウム、トリノルマルプロピルア
ルミニウム、トリノルマルブチルアルミニウム、トリイ
ソブチルアルミニウム、トリノルマルヘキシルアルミニ
ウム、トリノルマルオクチルアルミニウム、トリノルマ
ルデシルアルミニウム、ジエチルアルミニウムクロライ
ド、エチルアルミニウムセスキクロライド、ジエチルア
ルミニウムヒドリド、ジエチルアルミニウムエトキシ
ド、ジエチルアルミニウムジメチルアミド、ジイソブチ
ルアルミニウムヒドリド、ジイソブチルアルミニウムク
ロライド等が挙げられる。これらのうち、好ましくは、
ｍ＝１、ｎ＝３のトリアルキルアルミニウムおよびジア
ルキルアルミニウムヒドリドである。さらに好ましくは
Ｒ⁴が炭素数１〜８であるトリアルキルアルミニウムで
ある。

【００５９】＜触媒の形成＞上記のプロピレン・α−オ
レフィンランダム共重合体を製造する際に用いられる触
媒としては、上記の触媒成分（Ａ）、触媒成分（Ｂ）な
らびに必要に応じて用いられる触媒成分（Ｃ）からなる
触媒を、重合槽内であるいは重合槽外で、重合させるべ
きモノマーの存在下あるいは不存在下に接触させること
により調製することができる。

【００６０】また、上記触媒は、オレフィンの存在下で
予備重合を行ったものであってもよい。予備重合に用い
られるオレフィンとしては、プロピレン、エチレン、１
−ブテン、３−メチルブテン−１、スチレン、ジビニル
ベンゼン等が用いられるが、これらと他のオレフィンと
の混合物であってもよい。

【００６１】上記触媒の調製において使用される触媒成
分（Ａ）、触媒成分（Ｂ）、触媒成分（Ｃ）の使用量は
任意の比で使用することができる。

【００６２】＜重合＞本発明に用いるプロピレン系重合
体の重合は、触媒成分（Ａ）、触媒成分（Ｂ）、並びに
必要に応じて触媒成分（Ｃ）からなる触媒とプロピレン
とエチレンまたは炭素数４〜２０のα−オレフィンとを
混合接触させることにより行われる。

【００６３】反応系中の各モノマーの量比は経時的に一
定である必要はなく、各モノマーを一定の混合比で供給
することも便利であるし、供給するモノマーの混合比を
経時的に変化させることも可能である。また、共重合反
応比を考慮してモノマーのいずれかを分割添加すること
もできる。

【００６４】重合様式は、触媒成分と各モノマーが効率
よく接触するならば、あらゆる様式の方法を採用するこ
とができる。具体的には、不活性溶媒を用いるスラリー
法、不活性溶媒を実質的に用いずプロピレンを溶媒とし
て用いるバルク法、溶液重合法あるいは実質的に液体溶
媒を用いず各モノマーを実質的にガス状に保って行なわ
れる気相法を採用することができる。

【００６５】また、連続重合、回分式重合にも適用され
る。スラリー法の場合には、不活性溶媒としてヘキサ
ン、ヘプタン、ペンタン、シクロヘキサン、ベンゼン、
トルエン等の飽和脂肪族または芳香族炭化水素の単独あ
るいは混合物を用いることができる。

【００６６】重合条件としては重合温度が−７８℃〜１
６０℃、好ましくは０℃〜１５０℃である。重合の際の
分子量調節剤として補助的に水素を用いることができ
る。

【００６７】また、重合圧力は０〜９０ｋｇ／ｃｍ²・
Ｇ、好ましくは０〜６０ｋｇ／ｃｍ²・Ｇ、特に好まし
くは１〜５０ｋｇ／ｃｍ²・Ｇが適当である。

【００６８】本発明のプロピレン・α−オレフィンラン
ダム共重合体には本発明の目的が損なわれない範囲で、
各種添加剤、例えば造核剤、耐熱安定剤、酸化防止剤、
耐候安定剤、帯電防止剤、スリップ剤、抗ブロッキング
剤、防曇剤、着色剤、充填剤、エラストマーなどを配合
することができる。配合は通常溶融混練機を用いて１９
０℃〜３５０℃で加熱溶融混練し、粒状に裁断されたペ
レット状態で成形材料として提供される。

【００６９】本発明のプロピレン・α−オレフィンラン
ダム共重合体は、包装用フィルム用途に好適に用いられ
る。フィルムへの成形は上述のプロピレン・α−オレフ
ィンランダム共重合体をキャスト法、インフレーション
成形法などの溶融押出し成形法により製膜することがで
きる。該フィルムの厚みは通常５〜５００μｍ程度であ
る。またフィルムは単層での使用だけでなく、共押出し
製膜法による複層フィルムにも好適に使用できる。さら
に得られたフィルムを二軸延伸して用いることもでき
る。複層フィルムの場合、本発明のプロピレン・α−オ
レフィンランダム共重合体は、フィルムの表面層に用い
ることが好ましい。

【００７０】

【実施例】ａ．ＭＦＲの測定ＪＩＳ−Ｋ６７５８に準拠し測定した（条件：温度／２
３０℃、荷重２．１６ｋｇｆ）。

【００７１】ｂ．ＤＳＣで求めた融点［ＴＰ］、［Ｔ
Ｅ］の測定セイコー社製ＤＳＣを用い、サンプル量５ｍｇを採り、
２００℃で５分間保持した後、４０℃まで１０℃／分の
降温速度で冷却して結晶化させ、更に１０℃／分の昇温
速度で融解させたときに描かれる曲線のピーク位置をＤ
ＳＣで求めた融点［ＴＰ］、ピーク位置を越えベースラ
インとの接点をＤＳＣで求めた融点［ＴＥ］とする。

【００７２】ｃ．Ｑ値の測定ＧＰＣにより測定した重量平均分子量と数平均分子量と
の比をＱ値とした。測定条件はつぎの通りである。

【００７３】装置：ウオーターズ社製ＧＰＣ１５０Ｃ型カラム：昭和電工社製ＡＤ８０Ｍ／Ｓ３本測定温度：１４０℃ 濃度：２０ｍｇ／１０ｍｌ溶媒：オルソジクロロベンゼン

【００７４】ｄ．２３℃キシレン可溶分の測定１４０℃のキシレン３００ミリリットルに１ｇのサンプ
ルを一時間かけて溶解した後、２３℃まで冷却したとき
に、２３℃キシレンに溶解しているプロピレン・α−オ
レフィンランダム共重合体の重量を測定して求める。

【００７５】ｅ．２３℃デカン可溶分の測定１７０℃のデカン３００ミリリットルに５ｇのサンプル
を一時間かけて完全に溶解した後、２３℃まで冷却した
ときに２３℃デカンに溶解しているプロピレン・α−オ
レフィンランダム共重合体の重量を測定して求める。

【００７６】（フィルムの製造）樹脂パウダー１００重
量部に以下の添加剤を処方し混合の後、池貝製作所製二
軸押出機ＰＣＭ（スクリュー径３０ｍｍ）を用いて、造
粒を行なう。Ｉｒ１０１０／Ｉｒ１６８／ＣａＳｔ／合
成シリカ（平均粒径２．７μｍ）／エルカ酸アミド＝
０．０５／０．０５／０．０５／０．１５／０．０８
［重量部］

【００７７】得られたペレットを使用し、プラコー社製
Ｔダイ成形機（３５ｍｍφ）を使用し、厚み２５ミクロ
ンの単層フイルムを得た。なお、この際の冷却ロールの
表面温度は３０℃であった。得られたフィルムの片面に
４０ｄｙｎｅ／ｃｍのコロナ処理を行なった。

【００７８】（試験方法）ａ．透明性（Ｈａｚｅ）の測定ＡＳＴＭ−Ｄ１００３に準拠して、得られたフィルムを
ヘイズメータにて測定した（単位：％）。この値が小さ
い程透明性が優れていることを意味する。

【００７９】ｂ．ブロッキング強度ＡＳＴＭＤ１８９３（ＣＴ法）に準拠して次の通り行な
った。

【００８０】得られたフィルムから、幅２ｃｍ、長さ１
５ｃｍの試料を採取し、コロナ処理面同士を長さ５ｃｍ
にわたって重ね、５０ｇ／ｃｍ²の荷重下で温度４０℃
の雰囲気下に２４時間静置した後、荷重を除き、温度２
３℃、湿度５０％ＲＨ下に充分調整した後、引張試験機
を用いて重ねた部分を５００ｍｍ／ｍｉｎの速度で開い
た際の剥離に要する力を求めた。この値が小さいほど、
耐ブロッキング性はよい。

【００８１】ｃ．滑り性の測定得られたフィルムを温度４０℃の雰囲気下に７日間、次
いで温度２３℃、湿度５０％ＲＨの雰囲気下に７日間状
態調整した試料を、ＡＳＴＭ−Ｄ１８９４に準拠して、
スリップテスター法によってコロナ処理面同士の静摩擦
係数を測定した。この値が小さい程、滑り性が優れてい
ることを意味する。

【００８２】ｄ．ヒートシール性の測定５ｍｍ×２００ｍｍのヒートシールバーを用い、各温度
設定においてヒートシール圧力２ｋｇ／ｃｍ²、ヒート
シール時間１秒の条件下でシールした試料から１５ｍｍ
幅のサンプルを取り、ショッパー型試験機を用いて引張
速度５００ｍｍ／分にて引き離し、その荷重を読みとっ
た。荷重３００ｇになるシール温度をヒートシール性の
指標とした。この値が小さい程、ヒートシール性が優れ
ていることを意味する。

【００８３】実施例１［プロピレン系ランダム共重合体の製造］（ｉ）ジメチルシリレンビス［１−｛２−メチル−４−
（４−クロロフェニル）−４Ｈ−アズレニル｝］ジルコ
ニウムジクロリドのラセミ体の合成（ａ）ラセミ・メソ混合物の合成１−ブロモ−４−クロロベンゼン１．８４ｇ（９．６ｍ
ｍｏｌ）のｎ−ヘキサン（１０ｍｌ）とジエチルエーテ
ル（１０ｍｌ）との溶液に−７８℃でｔ−ブチルリチウ
ムのペンタン溶液（１．６４Ｍ）１１．７ｍｌ（１９．
２ｍｍｏｌ）を滴下した。得られた溶液を−５℃で１．
５時間攪拌後、この溶液に２−メチルアズレン１．２ｇ
（８．６ｍｍｏｌ）を添加して反応を行った。この反応
溶液を徐々に室温まで戻しながら１．５時間攪拌した。
その後、反応溶液を０℃に冷却し、１−メチルイミダゾ
ール１５μｌ（０．１９ｍｍｏｌ）を添加し、更に、ジ
クロロジメチルシラン０．５２ｍｌ（４．３ｍｍｏｌ）
を添加した。反応溶液を室温で１．５時間攪拌後、希塩
酸を添加して反応を停止し、分液した有機相を減圧下に
濃縮し、ジクロロメタンを添加した後、硫酸マグネシウ
ムで乾燥した。減圧下に溶媒を留去した後、シリカゲル
カラムクロマトグラフィーで精製し、アモルファス状の
固体２．１ｇを得た。

【００８４】次に、上記の反応生成物１．２７ｇをジエ
チルエーテル１５ｍｌに溶解し、これに−７８℃でｎ−
ブチルリチウムのｎ−ヘキサン溶液（１．６６Ｍ）２．
８ｍｌ（４．５ｍｍｏｌ）を滴下した。滴下終了後、反
応溶液を徐々に室温まで戻しながら１２時間攪拌した。
減圧下に溶媒を留去した後、トルエンとジエチルエーテ
ルの混合溶媒（４０：１）５ｍｌを添加して−７８℃に
冷却し、これに四塩化ジルコニウム０．５３ｇ（２．３
ｍｍｏｌ）を添加した。

【００８５】その後、直ちに室温まで戻し、室温で４時
間攪拌して反応を行った。得られた反応液をセライト上
で濾過し、濾別された固体をトルエン３ｍｌで洗浄して
回収した。回収した固体をジクロロメタンで抽出し、抽
出液から溶媒を留去し、ジメチルシリレンビス［１−
｛２−メチル−４−（４−クロロフェニル）−４Ｈ−ア
ズレニル｝］ジルコニウムジクロリのラセミ・メソ混合
物９０６ｍｇ（収率５６％）を得た。

【００８６】（ｂ）ラセミ体の精製更に、ジクロロメタン２０ｍｌに上記のラセミ・メソ混
合物９００ｍｇを溶解し、１００Ｗの高圧水銀灯を４０
分照射することによりラセミ体の比率を高め、その後、
不溶分を濾別し、回収した濾液を濃縮乾固した。次い
で、得られた固体成分をトルエン２２ｍｌと共に攪拌
し、静置後に上澄み液を除去した、斯かる精製操作を４
回繰り返し、残った固体成分を乾燥し、ジメチルシリレ
ンビス［１−｛２−メチル−４−（４−クロロフェニ
ル）−４Ｈ−アズレニル｝］ジルコニウムジクロリのラ
セミ体２７５ｍｇを得た。

【００８７】（ｉｉ）粘土鉱物の化学処理硫酸（９６％）２１８．１ｇと硫酸マグネシウム１３
０．４ｇを脱塩水９０９ミリリットルと混合した水溶液
に市販のモンモリロナイト（クニミネ工業製、クニピア
Ｆ）２００．０３ｇを分散させ、１００℃で２時間攪拌
した。このモンモリロナイトの水スラリー液を固形分濃
度１２％に調製し、スプレードライヤーにより噴霧造粒
を行って、粒子を得た。その後、この粒子を２００℃で
２時間減圧乾燥した。

【００８８】（ｉｉｉ）固体触媒成分の調製内容積１リットルの攪拌式オートクレーブ内をプロピレ
ンで充分に置換した後、脱水・脱酸素したヘプタン２３
０ミリリットルを導入し、系内温度を４０℃に維持し
た。ここに、トルエンにてスラリー化した化学処理粘土
１０ｇを添加した。更に別容器にてトルエン下で混合し
たジメチルシリレンビス［１−｛２−メチル−４−（４
−クロロフェニル）−４Ｈ−アズレニル｝］ジルコニウ
ムジクロリドのラセミ体０．１５ミリモルとトリイソブ
チルアルミニウム１．５ミリモルを添加した。ここでプ
ロピレンを１０ｇ／ｈｒの速度で１２０分導入し、その
後１２０分重合を継続した。さらに、窒素下で溶媒を除
去・乾燥し、固体触媒成分を得た。この固体触媒成分
は、固体成分１ｇあたり１．９ｇのポリプロピレンを含
有していた。

【００８９】（ｉｖ）重合内容積２００リットルの攪拌式オートクレーブ内をプロ
ピレンで十分に置換した後、十分に脱水した液化プロピ
レン４５ｋｇを導入した。これにトリイソブチルアルミ
ニウム・ｎ−ヘプタン溶液５００ｍｌ（０．１２ｍｏ
ｌ）、エチレン１．２２ｋｇ、水素５．２リットル（標
準状態の体積として）を加え、内温を３０℃に維持し
た。次いで、上記固体触媒成分２．４ｇをアルゴンで圧
入して重合を開始させ、３０分かけて７０℃に昇温し、
１時間その温度を維持した。ここでエタノール１００ｍ
ｌを添加して反応を停止させた。残ガスをパージし、プ
ロピレン−エチレンランダム共重合体（ＰＣＰ−Ａ）を
１９ｋｇ得た。

【００９０】［評価］プロピレン−エチレンランダム共
重合体（ＰＣＰ−Ａ）およびプロピレン−エチレンラン
ダム共重合体（ＰＣＰ−Ａ）から得られたフィルムを評
価した結果を表１に示す。

【００９１】実施例２エチレンと水素の導入量及び触媒の使用量を変更し、実
施例１と同様の方法でプロピレン−エチレンランダム共
重合体（ＰＣＰ−Ｂ）を製造した。プロピレン−エチレ
ンランダム共重合体（ＰＣＰ−Ｂ）およびそれから得ら
れたフィルムの評価結果は表１の通りであった。

【００９２】比較例１（ｉ）触媒調製充分にチッソ置換したフラスコに脱水及び脱酸素したｎ
−ヘプタン２００ミリリットルを導入し、ついでＭｇＣ
ｌ₂０．４モル、Ｔｉ（Ｏ−ｎ−Ｃ₄Ｈ₉）₄を０．８モル
導入し、９５℃に保ちながら２時間反応させた。反応終
了後、４０℃に温度を下げ、次いでメチルハイドロジェ
ンポリシロキサン（２０センチストークス）を４８ミリ
リットル導入し、３時間反応させた。生成した固体成分
をｎ−ヘプタンで洗浄した。

【００９３】次いで、充分にチッソ置換したフラスコに
精製したｎ−ヘプタンを５０ミリリットル導入し、上記
で合成した固体成分をＭｇ原子換算で０．２４モル導入
した。さらに、ｎ−ヘプタン２５ミリリットルＳｉＣｌ
₄０．４モルを混合して３０℃に保ちながら６０分間か
けてフラスコへ導入し、９０℃で３時間反応させた。

【００９４】これに、さらにｎ−ヘプタン２５ミリリッ
トルにフタル酸クロライド０．０１６モルを混合して、
９０℃に保ちながら３０分間かけてフラスコに導入し、
９０℃で１時間反応させた。

【００９５】反応終了後、ｎ−ヘプタンで洗浄した。次
いでこれらにＳｉＣｌ₄０．２４ミリモルを導入して、
１００℃で３時間反応させた。反応終了後、ｎ−ヘプタ
ンで充分洗浄した。充分にチッソ置換したフラスコに充
分精製したｎ−ヘプタン５０ミリリットルを導入し、つ
いで上記で得た個体成分を５グラム導入し、さらに（Ｃ
Ｈ₃）₃ＣＳｉ（ＣＨ₃）（ＯＣＨ₃）₂を０．８１ミリリ
ットル導入し、３０℃で２時間接触させた。接触終了後
ｎ−ヘプタンで洗浄した。さらに、プロピレンをフロー
させて予備重合を実施し、固体触媒を得た。

【００９６】（ｉｉ）重合内容積２００リットルの攪拌式オートクレーブ内をプロ
ピレンで十分に置換した後、精製したｎ−ヘプタン６０
リットルを導入し、これにトリエチルアルミニウム１５
ｇ、上述の固体触媒１．８ｇ（予備重合ポリマーを除い
た量として）を５５℃でプロピレン雰囲気下で導入し
た。さらに気相部水素濃度を６．０容量％に保ちながら
プロピレンを５．８Ｋｇ／時間のフィード速度で導入
し、重合を開始した。１５分後、温度を６０℃に昇温
し、さらにエチレンを１５５ｇ／時間のフィード速度で
導入し、さらに１−ブテンを重合開始２７０分後まで５
７０ｇ／時間のフィード速度で導入して６時間重合を実
施した。その後、全モノマーの供給を停止し１時間重合
を継続した。その後、ブタノールにより触媒を分解し、
生成物のろ過、乾燥を行なって、表１に示すようなプロ
ピレン−エチレン−１−ブテンランダム共重合体（ＰＣ
Ｐ−Ｃ）を２９．８Ｋｇ得た。プロピレン−エチレンラ
ンダム共重合体（ＰＣＰ−Ｃ）及びそれから得られたフ
ィルムの評価結果は表１の通りであった。

【００９７】比較例２内容積２００リットルの攪拌式オートクレーブをプロピ
レンで充分に置換した後、脱水・脱酸素ｎ−ヘプタン６
０Ｌを導入し、ジエチルアルミニウムクロリド１６ｇ、
三塩化チタン触媒（エム・アンド・エス社製）４．１ｇ
を５５℃でプロピレン雰囲気下で導入した。更に気相水
素濃度を６．０容量％に保ちながら、５５℃の温度で、
プロピレン５．７ｋｇ／時及びエチレン０．２８ｋｇ／
時の速度で４時間フィードした後、更に１時間重合を継
続した。その後、残ガスをパージし、生成物を濾過・乾
燥して、表１に示す様なプロピレン−エチレンランダム
共重合体（ＰＣＰ−Ｄ）を２ｋｇ得た。プロピレン−エ
チレンランダム共重合体（ＰＣＰ−Ｄ）およびフィルム
の評価は実施例１に従った。その結果は表１の通りであ
った。

【００９８】比較例３内容積２００リットルの攪拌式オートクレーブ内をプロ
ピレンで十分に置換した後、精製したｎ−ヘプタン６０
リットルを導入し、これにジエチルアルミニウムクロラ
イド１６ｇ、三塩化チタン触媒（エム・アンド・エス社
製）４．１ｇを５０℃でプロピレン雰囲気下で導入し
た。さらに気相部水素濃度を５．１容量％に保ちながら
プロピレンを５．１Ｋｇ／時間のフィード速度で導入
し、重合を開始した。１０分後、温度を５５℃に昇温
し、さらにエチレンを１００ｇ／時間、１−ブテンを７
９０ｇ／時間のフィード速度で導入して６時間重合を実
施した。

【００９９】その後、全モノマーの供給を停止し、１時
間重合を継続した。その後、ブタノールにより触媒を分
解し、生成物のろ過、乾燥を行なって、共重合体（ＰＣ
Ｐ−Ｅ）を１０．７Ｋｇ得た。なお、プロピレン−エチ
レンランダム共重合体（ＰＣＰ−Ｅ）およびフィルム評
価は実施例１に従った。その結果は表１の通りであっ
た。

【０１００】比較例４比較例２において、重合を終了して残ガスをパージした
後、８５℃に加熱し、８５℃で重合体と可溶性ポリマー
を含有する重合溶媒とを分離し、重合体を乾燥してプロ
ピレン−エチレンランダム共重合体（ＰＣＰ−Ｆ）を得
た。

【０１０１】比較例５触媒に、ｒａｃ−ジメチルシリレンビス｛１−（２−メ
チル−４−フェニルインデニル）｝ジルコニウムジクロ
リドを、助触媒にメチルアルモキサンを使用した以外は
実施例２に従って重合を行ないプロピレン−エチレンラ
ンダム共重合体（ＰＣＰ−Ｇ）を得た。

【０１０２】

【表１】

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の理解を助けるためのフローチャート図

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者瀬詰忠司三重県四日市市東邦町１番地日本ポリケム株式会社材料開発センター内Ｆターム(参考） 4J028 AA01A AB00A AC01A AC27A AC28A BA00A BA01B BB00A BB01B BC15B BC16B BC19B BC24B CA30C EA01 EB04 EB05 EB08 EB09 EB10 EC02 FA02 4J100 AA02Q AA03P AA04Q AA07Q AA16Q AA17Q AA19Q CA04 DA04 DA24 DA40 DA43 FA10

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】下記の要件（１）〜（６）を充足すること
を特徴とするプロピレン・α−オレフィンランダム共重
合体。（１）ＭＦＲが０．５〜５０ｇ／１０分、（２）ＤＳＣで求めた融点［ＴＰ］が１１０〜１５０
℃、（３）ＤＳＣで求めた融解終了温度［ＴＥ］と融点［Ｔ
Ｐ］との関係が、［ＴＥ］−［ＴＰ］≦８℃ （４）Ｑ値が２．０〜４．０、（５）２３℃キシレン可溶分≦２．０重量％、（６）２３℃デカン可溶分≦１．０重量％
【請求項２】下記の触媒成分（Ａ）、触媒成分（Ｂ）及
び必要に応じて触媒成分（Ｃ）からなる触媒を用いてプ
ロピレンとα−オレフィンとを共重合することにより得
られたものである請求項１記載のプロピレン・α−オレ
フィンランダム共重合体。触媒成分（Ａ）：一般式（１）で示されるメタロセン化
合物Ｑ（Ｃ₅Ｈ_4-aＲ¹ _a）（Ｃ₅Ｈ_4-bＲ² _b）ＭｅＸＹ（１）［ここで、Ｃ₅Ｈ_4-aＲ¹ _a及びＣ₅Ｈ_4-bＲ² _bは、それぞれ
共役五員環配位子を示し、Ｑは二つの共役五員環配位子
を架橋する結合性基であって、炭素数１〜２０の２価の
炭化水素基、炭素数１〜２０の炭化水素基を有するシリ
レン基または炭素数１〜２０の炭化水素基を有するゲル
ミレン基を示し、Ｍｅはジルコニウムまたはハフニウム
を示し、Ｘ及びＹは、それぞれ独立して、水素、ハロゲ
ン基、炭素数１〜２０の炭化水素基、炭素数１〜２０の
アルコキシ基、炭素数１〜２０のアルキルアミド基、ト
リフルオロメタンスルホン酸基、炭素数１〜２０のリン
含有炭化水素基または炭素数１〜２０のケイ素含有炭化
水素基を示す。Ｒ¹およびＲ²は、共役五員環配位子上の
置換基であって、それぞれ独立して、炭素数１〜２０の
炭化水素基、ハロゲン、アルコキシ基、ケイ素含有炭化
水素基、リン含有炭化水素基、窒素含有炭化水素基また
はホウ素含有炭化水素基を示す。隣接する２個のＲ¹ま
たは２個のＲ²がそれぞれ結合して環を形成していても
よい。ａおよびｂは０≦ａ≦４、０≦ｂ≦４を満足する
整数である。ただし、Ｒ¹およびＲ²を有する２個の五員
環配位子は、基Ｑを介しての相対位置の観点において、
Ｍｅを含む平面に関して非対称である。］触媒成分（Ｂ）：イオン交換性層状珪酸塩触媒成分（Ｃ）：有機アルミニウム化合物