JP2002009010A - 熱処理装置及びその方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 縦型の石英製の反応管内に多数の半導体ウエ
ハを搬入し、塩化水素ガスを含む酸化用のガスを用いて
ウエハ上のシリコン表面部を酸化処理するにあたって、
反応管のフランジ部と石英製のキャップ部との接合では
気密性が不十分である点を解決すること。 【解決手段】 反応管の下端開口部を閉じるキャップ部
を金属製の本体と、本体の周縁部よりも内側の表面を覆
う石英製のカバー体により構成すると共に、周縁部の表
面にＯリングを設けてフランジ部との気密性を確保する
一方、Ｏリングよりも内側の両者の対向部位の隙間をＮ
2ガスによりパージして、金属部分に塩化水素ガスが触
れるのを防止すると共にＯリングを冷却する。またＯリ
ングの近傍に冷却水路を設け、これによってもＯリング
を冷却する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体ウエハなど
の複数の被処理体に対して熱処理例えば酸化や拡散処理
を一括して行う熱処理装置及びその方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】多数枚の半導体ウエハ（以下ウエハとい
う）をバッチで熱処理する装置として縦型熱処理装置が
あり、その中にはいわゆる成膜炉と酸化、拡散炉とがあ
る。これらの炉はいずれも石英製の反応管が用いられる
が、処理及びその温度領域が異なるため装置構成が大き
く異なる。成膜炉は処理温度がせいぜい８００℃以下で
行われるため、反応管の下部には、ガス供給管及び排気
管が接続される金属製の筒状のマニホ−ルドが接合さ
れ、このマニホ−ルドの下端の開口部は金属製のキャッ
プ部により開閉されると共に、マニホ−ルドとキャップ
部との接合部には樹脂製のシ−ル部材であるＯリングが
介在して気密性が保たれている。

【０００３】一方酸化、拡散炉は処理温度が８５０℃以
上と高く、またウエハ上のシリコンを酸化する酸化処理
は、通常塩化水素によるゲッタリングを併用して行われ
る。そして水蒸気を用いるウエット酸化の場合だけでな
く、酸素（０2 ）ガス及び塩化水素（ＨＣｌ）ガスを用
いるドライ酸化においても微量ながら水分が生成される
ため、高温下でしかも水分が存在することから塩化水素
の腐食性が大きく、従って金属を用いることができな
い。このため酸化処理が行われる縦型熱処理装置は、石
英製の反応管のフランジ部と石英製のキャップ部とを接
合するようにしているが、石英は輻射光を透過するため
この間にＯリングを介在させるとその温度が耐熱温度を
越えてしまい、また石英の中に冷却水路を形成すること
は加工上無理があることからＯリングは使用できず、従
って石英の面接触により気密性を確保するようにしてい
る。

【０００４】ここで酸化処理を行う縦型熱処理装置にお
ける従来のシ−ル構造について図８を参照しながら述べ
る。図８において１１は下端が開口した石英製の反応管
であり、ガス供給管１１ａ及び排気管１１ｂを備えてい
る。１２はこの反応管１１の周りを囲むように設けられ
たヒ−タ、１３は石英製のキャップ部であり、このキャ
ップ部１３の上には、多数枚のウエハＷが棚状に保持さ
れたウエハボ−ト１４が保温筒１５を介して載置されて
いる。キャップ部１３はボ−トエレベ−タ１０により昇
降され、上昇位置にあるときには周縁部１３ａが反応管
１１のフランジ部１６に接合される。そしてフランジ部
１６の接合面には周方向に沿って溝部１７が形成されて
おり、この溝部１７にパ−ジガス例えば窒素ガスを供給
するようにしている。このようなシ−ル構造によれば、
キャップ部１３の周縁部１３ａ及びフランジ部１６の接
合が不均一であっても、窒素ガスが反応管１１の内外を
仕切るいわばカ−テンの役割を果たし、反応管１１内の
雰囲気ガスが外に漏洩することを防止している。

【０００５】更に本発明者は、フランジ部１６の接合面
において溝部１７の内側領域を切り欠いてその下面がキ
ャップ部１３から浮いた状態にすることも検討してい
る。即ち、図 の構成において溝部１７の外側の接合面
同士の当たりが内側の接合面同士の当たりよりも弱いと
きには、窒素ガスが外側に流れ、それに引き込まれて雰
囲気ガスが外部に漏洩するおそれがあるが、溝部１７の
内側領域を切り欠けば、内側に向かう窒素ガスの流れが
形成されるので、そのような懸念がなくなる。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】ところで最近において
ウエハをクロ−ズ型カセット（密閉型カセット）に入れ
て搬送することが行われ、これに合わせて縦型熱処理装
置側においても熱処理炉の下方側のウエハの移載領域
（ロ−ダ室）をパ−ジガスの陽圧雰囲気とすることが検
討されている。酸化処理や拡散処理を行うときの反応管
１１内の圧力は常圧付近であるから、この場合には反応
管１１内の圧力が外部よりも低くなる。一方反応管１１
の内部と外部との気密構造は、フランジ部１６とキャッ
プ部１３の周縁部１３ａとの面接触に頼っているが、互
いに接合する両面は石英部材であるため高精度の加工が
困難であるし、高精度に加工できたとしてもわずかな組
み立て誤差により面接触の精度が落ちてしまう。このた
めロ−ダ室内のパ−ジガスがフランジ部１６とキャップ
部１３の周縁部１３ａとの対向部位を通って反応管１１
内に流入するおそれがある。このようにパ−ジガスが反
応管１１内に流入すると、反応管１１の底部付近の温度
が低くなり、ウエハボ−ト１４の下段側のウエハＷのプ
ロセスに対して悪影響を及ぼすことになる。

【０００７】また酸化処理を行う場合にも反応管１１内
を例えば１３３Ｐａ（１Ｔｏｒｒ）〜４６５５０Ｐａ
（３５０Ｔｏｒｒ）程度の微減圧雰囲気にすることも検
討されており、この場合には反応管１１の外部が大気圧
雰囲気であっても空気が前記対向部位を通って反応管１
１内に流入し、ウエハＷ上に自然酸化膜が形成されてし
まうおそれがある。本発明はこのような事情の下になさ
れたものであり、その目的は、腐食性ガスを含む処理ガ
スにより被処理体に対して熱処理を行う縦型の熱処理装
置において高い気密性を確保できる技術を提供すること
にある。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本発明は、複数の被処理
体を棚状に保持させた保持具を、下端にフランジ部を有
する縦型の石英製の反応容器内に下端開口部から搬入す
ると共に反応容器内を所定の熱処理温度に加熱し、腐食
性のガスを含む処理ガスにより被処理体に対して熱処理
を行う熱処理装置において、前記保持具を搭載して反応
容器内の下端開口部を開閉すると共に少なくとも前記反
応容器のフランジ部に接合される周縁部が金属により構
成されたキャップ部と、前記フランジ部との間を気密に
シ−ルするために前記キャップ部の周縁部に周方向に沿
ってリング状に設けられた樹脂製のシ−ル部材と、前記
フランジ部と前記キャップ部の周縁部との対向部位にお
いて前記シ−ル部材よりも内側の領域にパ−ジガスを供
給するためのパ−ジガス供給部と、を備えたことを特徴
とする。

【０００９】この発明は例えば８５０℃以上で行われ
る、シリコン酸化膜を得るための酸化処理に好適であ
り、腐食性のガスとしては例えば被処理体をゲッタリン
グするための塩化水素ガスが挙げられる。

【００１０】この発明によれば、石英製の反応容器のフ
ランジ部に接合されるキャップ部の周縁部は金属製であ
るから、シ−ル部材を設けても石英の場合よりも昇温が
抑えられ、またシ−ル部材を嵌め込む溝を高精度で加工
することができ、従って樹脂製のシ−ル部材を用いたシ
−ル構造を実現できる。そしてパ−ジガスによりフラン
ジ部及びキャップ部の周縁部間をパ−ジしているから、
キャップ部の金属部分に腐食性ガスが触れるのを防止で
きると共にこのパ−ジガスにより前記シ−ル部材を冷却
できる。なおシ−ル部材を冷却するためにキャップ部の
前記周縁部に周方向に沿って冷却流体の流路を設けるこ
とが好ましい。

【００１１】キャップ部は、例えば金属製のキャップ部
本体と、周縁部よりも内側部位のキャップ部本体の表面
を覆うように設けられたセラミックス製例えば石英製の
カバ−部と、を備えた構成とされる。この場合パ−ジガ
ス供給部は、キャップ部本体とカバ−部との間の隙間に
開口するパ−ジガス供給路を備え、当該隙間に供給され
たパ−ジガスがキャップ部本体の表面に沿って外側に流
れて前記対向部位に供給される。なおパ−ジガス供給部
は反応容器に設けてもよい。

【００１２】本発明は熱処理方法においても成立するも
のであり、その方法は、複数の被処理体を棚状に保持さ
せた保持具を、少なくとも周縁部が金属により構成され
たキャップ部の上に搭載して、縦型の石英製の反応容器
内に下端開口部から搬入し、前記キャップ部の周縁部と
反応容器の下端のフランジ部とを接合する工程と、前記
キャップ部の周縁部に周方向に沿ってリング状に設けら
れた樹脂製のシ−ル部材により、前記キャップ部の周縁
部と反応容器のフランジ部との対向部位を気密にシ−ル
すると共に、前記対向部位におけるシ−ル部材よりも内
側の領域にパ−ジガスを供給してこのパ−ジガスにより
前記周縁部と処理ガスとの接触を防ぎかつ前記シ−ル部
材を冷却する工程と、この工程を行いながら、所定の熱
処理温度の雰囲気下にて腐食性のガスを含む処理ガスに
より被処理体に対して熱処理を行う工程と、を含むこと
を特徴とする。

【００１３】

【発明の実施の形態】以下に本発明の熱処理装置の実施
の形態を説明するが、先ず熱処理装置の全体構成につい
て図１及び図２を参照しながら述べておく。この熱処理
装置は一般に縦型熱処理装置と呼ばれているものであ
り、縦型の熱処理炉２を備えている。この熱処理炉２
は、下端が開口部している円筒状の石英製の反応容器で
ある反応管２１と、この反応管２１を囲むように設けら
れた抵抗発熱体などからなる加熱手段であるヒ−タ２２
と、前記反応管２１及びヒ−タ２２の間にて断熱体２３
に支持されて設けられた均熱用容器２４と、ガス供給管
２５と、前記反応管２１に接続された排気管２６とを備
えている。前記反応管２１は下端が開口すると共に、上
面２１ａの少し下方側に多数のガス穴２１ｂを有するガ
ス拡散板２１ｃが設けられている。また前記ガス供給管
２５は前記反応管２１と均熱用容器２４との間にて垂直
に立ち上げられており、その先端部は反応管３１の上面
２１ａとガス拡散板２１ｃとの間の空間に突入されてい
ると共に、基端側は反応管２１の底部付近にてＬ字に屈
曲されて外部に配管されている。

【００１４】更にこの熱処理装置は、ボ−トエレベ−タ
４０の上に設けられたキャップ部３を備えており、この
キャップ部３はボ−トエレベ−タ４０が上がりきった位
置にて反応管２１のフランジ部５にその周縁部３１の上
面が接合して反応管２１の下端開口部２７を閉じ、ボ−
トエレベ−タ４０が下がったときに前記開口部２７を開
くように構成されている。なお図１及び図２ではキャッ
プ部３及びフランジ部５は簡略して記載してある。

【００１５】キャップ部３の上には保温部材２８を介し
て保持具であるウエハボ−ト４が搭載されている。ウエ
ハボ−ト４は、図２において例えば天板４１及び底板４
２の間に複数の支柱４３を設け、この支柱４３に上下方
向に形成された溝にウエハＷの周縁を挿入して保持する
ように構成されている。保温部材２８はこの例では石英
製の保温筒として記載してあるが、石英製のフィンを多
段に積層したものなどであってもよい。

【００１６】次にこの実施の形態の要部である前記フラ
ンジ部５及びキャップ部３のシ−ル構造について図３を
参照しながら述べるが、キャップ部３がフランジ部５か
ら離れた状態についても図４に示しておく。キャップ部
３は金属製例えばステンレス製のキャップ部本体３０と
石英製の第１及び第２のカバ−体６１、６２と、石英製
のタ−ンテ−ブル６３とを備えている。キャップ部本体
３０の周縁部３１は図５にも示すようにその内側の領域
よりも高い段部になっており、周縁部３１の上面（フラ
ンジ部５との対向部位）には周方向に沿ってリング状に
溝３２が形成されている。この溝３２内には、前記フラ
ンジ部５との間を気密にシ−ルするためにＯリングと呼
ばれているリング状の樹脂製のシ−ル部材（以下Ｏリン
グという）３３が嵌め込まれている。

【００１７】前記周縁部３１における前記溝３２の下方
側には、前記Ｏリング３３を冷却するための冷却流体例
えば冷却水を通流させるための冷却水路（冷却流体流
路）７１が周方向に沿って形成されており、この冷却水
路７１には給水管７２及び排水管７３が接続されてい
る。給水管７２及び排水管７３はキャップ部３の下面側
を通ってボ−トエレベ−タ４０内に配管されている。

【００１８】一方反応管２１のフランジ部５はベ−スプ
レ−ト５０に固定されており、前記周縁部３１に対向す
る対向部位はＯリング３３を潰すように平らな接合面と
して構成されている。なお前記ガス供給管２５は、この
例では反応管２１の底部に一体化された水平管２５ａに
垂直管２５ｂを接続して構成されている。

【００１９】前記キャップ部本体３０の周縁部３１より
も内側部位は低くなっていてリング状の凹部３４が形成
されており、その凹部３４の底面は外側寄りに対して内
側寄りの方が高い段差になっている。前記石英製の第１
及び第２のカバ−体６１、６２は夫々この凹部３４の外
側寄り及び内側寄りに嵌め込まれており、第１のカバ−
体６１の外縁側の表面は前記フランジ部５の内縁側の下
面と接合されることとなる。またキャップ部本体３０に
は、前記第１のカバ−体６の底面の一部と凹部３４の底
面（キャップ部本体３０の表面）との隙間に開口するよ
うに窒素ガス（Ｎ2 ガス）供給路７３が厚さ方向に貫通
して設けられ、この窒素ガス供給路７３には、窒素ガス
供給管７４が接続されている。窒素ガス供給管７４の基
端側には図示しない窒素ガス供給源が接続され、ここか
ら供給されるパージガスである窒素ガスはキャップ部３
の金属部分を腐食性ガスから保護すると共に前記Ｏリン
グ３３を冷却するために用いられるものである。この例
では窒素ガス供給路７３及び窒素ガス供給管７４により
パ−ジガス供給部をなす窒素ガス供給部が構成される。

【００２０】前記保温部材２８は前記タ−ンテ−ブル６
３の上に載置されており、このタ−ンテ−ブル６３は、
キャップ部本体３０の下部に連続するハウジング３５に
軸受された回転軸６４の上に取り付けられている。回転
軸６４は、モ−タＭ、プ−リＰ１，Ｐ２及びベルトＢか
らなる駆動部６５により回転される。なお６６は、ボ−
トエレベ−タ４０に対してキャップ部３を支持する支持
部分である。

【００２１】前記第１のカバ−体６１の上面及び保温部
材２８の下面には夫々リング状突起６１ａ及び２８ａが
設けられ、互いに重なり合ってラビリンスが形成されて
いると共に、前記第２のカバ−体６２の上面及びタ−ン
テ−ブル６３の下面にも夫々リング状突起６２ａ及び６
３ａが設けられ、互いに重なり合ってラビリンスが形成
されている。これらラビリンスは、反応管２１内の処理
ガスがキャップ部６１の内側の金属部分に回り込むのを
防止する役割を果たしている。

【００２２】次に上述実施の形態の作用について説明す
る。先ず多数枚例えば６０枚のウエハＷをウエハボ−ト
４に棚状に保持させ、ヒ−タ２２により予め所定の温度
に加熱された反応管２１内にボ−トエレベ−タ４０によ
り搬入し、炉口である開口部２７をキャップ部４４によ
り気密に閉じる（図１の状態）。続いて反応管３１内を
所定の温度に昇温すると共に、反応管３１内を例えば１
３３Ｐａ（１Ｔｏｒｒ）〜４６５５０Ｐａ（３５０Ｔｏ
ｒｒ）程度の微減圧状態にし、この状態でウエハＷの温
度を安定させてから酸化処理を行う。

【００２３】この酸化処理において、例えばいわゆるド
ライ酸化の場合には酸素ガス及び塩化水素ガスよりなる
処理ガスが用いられ、いわゆるウエット酸化の場合には
酸素ガス、水蒸気及び塩化水素ガスよりなる処理ガスが
用いられる。処理ガスはガス供給管２５を介して反応管
２１の上部に流入し、ガス孔２１ｂから反応管２１内の
処理領域に供給され、下部の排気管２６から排気され
る。このときウエハボ−ト４はタ−ンテ−ブル６３によ
り回転し、処理ガスは棚状に積まれたウエハＷの間に入
り込み、酸素ガスによりウエハＷ表面部のシリコン層が
酸化されかつ塩化水素ガスによりゲッタリングされなが
らシリコン酸化膜が生成される。

【００２４】一方キャップ部３がフランジ部５に押し付
けられることによりＯリング３３が潰れて反応管２１内
と外部とが気密にシ−ルされる。そして図６に示すよう
にキャップ部本体３０に設けられたガス供給路７３から
窒素ガスが当該キャップ部本体３０の表面と石英製のカ
バ−体６１との間に例えば２〜３ｓｌｍの流量で供給さ
れ、更に両者の隙間に沿って外側に流れる。そしてこの
窒素ガスはフランジ部５の下面に当たり、当該下面とキ
ャップ部本体３０の周縁部３１の表面との間の隙間に沿
って外側に広がって、この隙間をパ−ジすると共に、当
該下面と前記カバ−体６１の表面との隙間に沿って内側
に広がって反応管２１内の雰囲気に流出し、排気管２６
から排気される。

【００２５】上述の実施の形態によれば、キャップ部３
と接合される反応管２１のフランジ部５は石英製として
いるが、キャップ部３の周縁部３１を金属製としている
ため、Ｏリング３３を設けても石英の場合よりも昇温が
抑えられ、またＯリング３３を嵌め込む溝３２を高精度
で加工することができる。仮に石英の中にＯリング３３
を嵌め込もうとすると溝３２を高精度で加工することが
難しく、Ｏリング３３を嵌め込んだときに全周に渡って
均一な気密性を得ることが困難になる。

【００２６】従ってキャップ部３側にＯリング３３を設
けることができるので、石英同士の接合の場合に比べて
組み立て許容誤差も緩和され、確実にシ−ルすることが
できる。そして従来技術の項目で述べたように、熱処理
炉２の下方側のウエハの移載領域（ロ−ダ室）をパ−ジ
ガスの陽圧雰囲気としたりあるいは反応管２１内を微減
圧にして酸化処理を行う場合であっても外気が反応管２
１内に流入することを防止でき、石英同士の接合に比べ
て有利である。

【００２７】また石英の場合には熱伝導が悪いこと及び
冷却水路の形成が困難なことから、冷却水による冷却効
果を狙うことが実質できないが、前記周縁部３１を金属
製としているのでここに冷却水を流すことによりＯリン
グ３３の冷却効果が得られる。ここで前記周縁部３１を
金属製にするだけであれば、腐食の問題が残るが、この
実施の形態ではパ−ジガスによりフランジ部５及びキャ
ップ部３の周縁部３１間をパ−ジしているから、キャッ
プ部３の金属部分に腐食性ガスが触れるのを防止できる
と共にこのパ−ジガスにより前記Ｏリング３３を冷却で
きる。またキャップ部本体３０は金属製としているが、
周縁部３１よりも内側においては石英製のカバ−体６
１、６２を設けているので、金属部分に腐食性ガスが触
れることを防止できる。

【００２８】既述のように、例えば８５０℃以上の温度
で酸化処理を行う装置では反応管２１の下に金属性のマ
ニホ−ルドを設けることができないので、この実施の形
態は有効であり、外気の流入や処理ガスの流出を確実に
防止できる。

【００２９】上述の実施の形態ではパ−ジガス供給部を
キャップ部３側に設けたが、本発明は反応管２１のフラ
ンジ部５に設けてもよい。図７はこのような実施の形態
を示すものであり、フランジ部５におけるキャップ部３
との対向部位であってＯリング３３よりも内側寄りに周
方向に溝８０を形成すると共に、この溝８０内に開口す
るようにキャップ部３内に窒素ガス供給路８１を形成
し、当該窒素ガス供給路８１に窒素ガス供給管８２を接
続している。この例では、窒素ガス供給路８１及び窒素
ガス供給管８２により窒素ガス供給部が構成され、窒素
ガスは溝８０からフランジ部５及びキャップ部３の間の
微小な隙間をパ−ジして反応管２１内に流出する。

【００３０】以上において前記パ−ジガス供給部から供
給されるパージガスとしては窒素ガスに限らずアルゴン
ガスなどの不活性ガスであってもよい。またキャップ部
本体３０の表面を覆うカバ−体（６１、６２）としては
石英に限らず炭化ケイ素（ＳｉＣ）などのセラミックス
であってもよい。更にまたキャップ部３が金属製のキャ
ップ部本体とカバ−体とに分離されずに例えば周縁部３
１以外はセラミックスで構成されるような一体的なもの
も本発明の権利範囲に入るものである。

【００３１】

【発明の効果】本発明によれば、腐食性ガスを含む処理
ガスにより被処理体に対して熱処理を行い、金属製のマ
ニホ−ルドが使用できない縦型の熱処理装置において高
い気密性を確保できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の熱処理装置の実施の形態の全体構成を
略解して示す縦断側面図である。

【図２】図１の熱処理装置を示す概観図である。

【図３】上記実施の形態に用いられるシール構造部分
を、キャップ部が閉じた状態として示す断面図である。

【図４】上記実施の形態に用いられるシール構造部分
を、キャップ部が開いた状態として示す断面図である。

【図５】キャップ部の一部を示す分解斜視図である。

【図６】パージガスが流れる様子を示す説明図である。

【図７】本発明の熱処理装置の他の実施の形態に用いら
れるシール構造部分を、キャップ部が閉じた状態として
示す断面図である。

【図８】従来の熱処理装置を示す縦断側面図である。

【符号】

２１ 反応管 ２２ ヒータ ３ キャップ部 ３０ キャップ部本体 ３１ 周縁部 ３２ 溝部 ３３ Ｏリング ４ ウエハボート ４０ ボートエレベータ ５ フランジ部 ６１、６２ カバー体 ６３ ターンテーブル ７１ 冷却水路 ７３ Ｎ2ガス供給路 ７４ Ｎ2ガス供給管 ８１ Ｎ2ガス供給路 ８２ Ｎ2ガス供給管

Claims (12)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 複数の被処理体を棚状に保持させた保持
   具を、下端にフランジ部を有する縦型の石英製の反応容
   器内に下端開口部から搬入すると共に反応容器内を所定
   の熱処理温度に加熱し、腐食性のガスを含む処理ガスに
   より被処理体に対して熱処理を行う熱処理装置におい
   て、 前記保持具を搭載して反応容器内の下端開口部を開閉す
   ると共に少なくとも前記反応容器のフランジ部に接合さ
   れる周縁部が金属により構成されたキャップ部と、 前記フランジ部との間を気密にシ−ルするために前記キ
   ャップ部の周縁部に周方向に沿ってリング状に設けられ
   た樹脂製のシ−ル部材と、 前記フランジ部と前記キャップ部の周縁部との対向部位
   において前記シ−ル部材よりも内側の領域にパ−ジガス
   を供給するためのパ−ジガス供給部と、 を備えたことを特徴とする熱処理装置。
2. 【請求項２】 シ−ル部材を冷却するためにキャップ部
   の前記周縁部に周方向に沿って冷却流体の流路を設けた
   ことを特徴とする請求項１記載の熱処理装置。
3. 【請求項３】 キャップ部は、金属製のキャップ部本体
   と、周縁部よりも内側部位のキャップ部本体の表面を覆
   うように設けられたセラミックス製のカバ−部と、を備
   えたことを特徴とする請求項１または２記載の熱処理装
   置。
4. 【請求項４】 カバ−部は石英製であることを特徴とす
   る請求項３記載の熱処理装置。
5. 【請求項５】 パ−ジガス供給部はキャップ部に設けら
   れていることを特徴とする請求項１ないし４のいずれか
   に記載の熱処理装置。
6. 【請求項６】 パ−ジガス供給部は、キャップ部本体と
   カバ−部との間の隙間に開口するパ−ジガス供給路を備
   え、当該隙間に供給されたパ−ジガスがキャップ部本体
   の表面に沿って外側に流れて前記対向部位に供給される
   ことを特徴とする請求項３または４記載の熱処理装置。
7. 【請求項７】 パ−ジガス供給部は反応容器に設けられ
   ていることを特徴とする請求項１ないし４のいずれかに
   記載の熱処理装置。
8. 【請求項８】 熱処理温度は８５０℃以上であることを
   特徴とする請求項１ないし７のいずれかに記載の熱処理
   装置。
9. 【請求項９】 腐食性ガスは塩化水素であることを特徴
   とする請求項１ないし８のいずれかに記載の熱処理装
   置。
10. 【請求項１０】 被処理体に対して行われる熱処理はシ
    リコン酸化膜を得るための酸化処理であることを特徴と
    する請求項１ないし９のいずれかに記載の熱処理装置。
11. 【請求項１１】 複数の被処理体を棚状に保持させた保
    持具を、少なくとも周縁部が金属により構成されたキャ
    ップ部の上に搭載して、縦型の石英製の反応容器内に下
    端開口部から搬入し、前記キャップ部の周縁部と反応容
    器の下端のフランジ部とを接合する工程と、 前記キャップ部の周縁部に周方向に沿ってリング状に設
    けられた樹脂製のシ−ル部材により、前記キャップ部の
    周縁部と反応容器のフランジ部との対向部位を気密にシ
    −ルすると共に、前記対向部位におけるシ−ル部材より
    も内側の領域にパ−ジガスを供給してこのパ−ジガスに
    より前記周縁部と処理ガスとの接触を防ぎかつ前記シ−
    ル部材を冷却する工程と、 この工程を行いながら、所定の熱処理温度の雰囲気下に
    て腐食性のガスを含む処理ガスにより被処理体に対して
    熱処理を行う工程と、 を含むことを特徴とする熱処理方法。
12. 【請求項１２】 パ−ジガスの冷却に加えて、キャップ
    部の中に冷却流体を流すことによりシ−ル部材を冷却す
    ることを特徴とする請求項１１記載の熱処理方法。