JP2006040743A - プラズマ処理方法及び装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】第1の電極201を有するプラズマ源と上記被処理物を介して対向となる位置に配置させた第2の電極202に被処理物209を載置し、アクリル製の円筒型容器212と結合させたプラズマ源211を下降させることにより、シール材214が上記被処理物の周辺の全周と密着するとともに、プラズマ源と被処理物が所定の距離になる。この状態で、排気口215から排気装置216によって、容器内を低圧にし、ガス供給装置207およびガス配管206を介し、所定の流量のHeとO2の混合ガスをガス供給口205より供給しつつ、第1の電極201を接地し、第2の電極202に高周波電源204より電力を供給することによってプラズマを発生させ、被処理物の表面を処理することができる。
【選択図】図1
Description
図1は、本発明の実施の形態1におけるプラズマ処理装置の構成を示す断面図である。
図6は本発明の実施の形態2におけるプラズマ処理装置の構成を示す断面図である。
図7は本発明の実施の形態3におけるプラズマ処理装置の構成を示す断面図である。
図9は本発明の実施の形態4におけるプラズマ処理装置の構成を示す断面図である。
図11は本発明の実施の形態5におけるプラズマ処理装置の構成を示す断面図である。
図12は本発明の実施の形態6におけるプラズマ処理装置の構成を示す断面図である。
図13は本発明の実施の形態7におけるプラズマ処理装置の構成を示す断面図である。
202 第2電極
203 放電空間
204 高周波電源
205 ガス供給口
206 ガス配管
207 ガス供給装置
208 開口部
209 被処理物
210 誘電体板
211 プラズマ源
212 容器
213 開放部
214 シール材
215 排気口
216 排気装置
Claims (57)
- 大気圧近傍の圧力において、被処理物の近傍に配置させた第1の電極を有するプラズマ源にプロセスガスを供給しつつ、第1の電極または上記被処理物を介して上記プラズマ源と対向となる位置に配置させた第2の電極または、上記被処理物と導通するように設置させた電力印加機構に電力を供給するプラズマ処理方法であって、
上記プラズマ源と上記被処理物との間に形成する放電空間を容器によって密封して処理すること
を特徴とするプラズマ処理方法。 - 上記容器内外の圧力差が1000Pa以上あることを特徴とする請求項1記載のプラズマ処理方法。
- 上記第2電極または上記被処理物を載置するステージの面積が上記容器と第2電極またはステージと対向する面積よりも大きく、上記容器の一部に被処理物を取り出すための開放部があり、開放部が上記第2の電極またはステージの一部と接触することによって、密封されることを特徴とする請求項1記載のプラズマ処理方法。
- 上記容器の一部に開放部があり、上記開放部が被処理物の一部と接触することによって、密封されることを特徴とする請求項1記載のプラズマ処理方法。
- 上記容器に排気孔が設置され、容器内を排気することにより、上記被処理物近傍の圧力を大気圧よりも低い圧力にできることを特徴とする請求項1記載のプラズマ処理方法。
- 上記プラズマ源の被処理物と対向する部分の周辺又は裏面又は下部からガスを導入することを特徴とする請求項1記載のプラズマ処理方法。
- 上記容器内のガス導入孔と被処理物を挟んで反対側にガス排気口を有することを特徴とする請求項6記載のプラズマ処理方法。
- 上記容器内の被処理物と対向する部分にガス排気口を有することを特徴とする請求項6記載のプラズマ処理方法。
- 大気圧近傍の圧力において、被処理物の近傍に配置させた第1の電極を有するプラズマ源にプロセスガスを供給しつつ、第1の電極または上記被処理物を介して上記プラズマ源と対向となる位置に配置させた第2の電極または、上記被処理物と導通するように設置させた電力印加機構に電力を供給するプラズマ処理方法であって、
上記プラズマ源の上記被処理物と対向する面に設けられた第1のガス導入孔と第1のガス導入孔と別に設けられた第2のガス導入孔から、ガスを供給すること
を特徴とするプラズマ処理方法。 - 上記第1のガス導入孔から放電ガスを導入し、上記第2のガス導入孔からは前記放電ガスと異なる第2のガスを供給することを特徴とする請求項9記載のプラズマ処理方法。
- 上記放電ガスとして、He,Ne,Ar,Xe,Krの少なくとも1種のガスを含んだガスを用いたことを特徴とする請求項10記載のプラズマ処理方法。
- 上記第2のガスにHe及びArより放電開始電圧の高いガスを用いたことを特徴とする請求項11記載のプラズマ処理方法。
- 上記第2のガスにN2又は空気を用いたことを特徴とする請求項12記載のプラズマ処理方法。
- 上記第2のガスを放電ガスと同等以上の流量で供給することを特徴とする請求項12記載のプラズマ処理方法。
- 上記第2のガスをプラズマ源の周辺またはプラズマ源が上記被処理物と対向する面の裏側に供給することを特徴とする請求項12記載のプラズマ処理方法。
- 上記プラズマ源および第2のガスの供給されるエリアを容器によって取り囲むことを特徴とする請求項12記載のプラズマ処理方法。
- 大気圧近傍の圧力において、被処理物の近傍に配置させた第1の電極を有するプラズマ源にプロセスガスを供給しつつ、第1の電極または上記被処理物を介して上記プラズマ源と対向となる位置に配置させた第2の電極または、上記被処理物と導通するように設置させた電力印加機構に電力を供給するプラズマ処理方法であって、
上記プラズマ源が上記被処理物の被処理面と対向する部分がほぼ一定の距離に保たれていること
を特徴とするプラズマ処理方法。 - 上記プラズマ源が上記被処理物と対向する部分の距離が2mm以下であることを特徴とする請求項17記載のプラズマ処理方法。
- 上記プラズマ源を移動させて処理を行なうことを特徴とする請求項18記載のプラズマ処理方法。
- 上記プラズマ源を回転させて処理を行なうことを特徴とする請求項18記載のプラズマ処理方法。
- 上記プラズマ源の中心が偏芯回転して処理を行なうことを特徴とする請求項20記載のプラズマ処理方法。
- 大気圧近傍の圧力において、被処理物の近傍に配置させた第1の電極を有するプラズマ源にプロセスガスを供給しつつ、上記被処理物を介して上記プラズマ源と対向となる位置に配置させた第2の電極または、上記被処理物と導通するように設置させた電力印加機構に電力を供給することによって発生するプラズマ処理方法であって、
個々に電極を有する複数個のプラズマ源を用いて処理すること
を特徴とするプラズマ処理方法。 - 上記複数個のプラズマ源のそれぞれを上記被処理物に対して相対的に移動させることを特徴とする請求項22記載のプラズマ処理方法。
- 上記複数個のプラズマ源を上記被処理物と対向する位置と、裏側に対向する位置の双方に持つこと特徴とする請求項22記載のプラズマ処理方法。
- 上記複数個のプラズマ源を同時に動作させることを特徴とする請求項23または24に記載のプラズマ処理方法。
- 大気圧近傍の圧力において、被処理物の近傍に配置させた第1の電極を有するプラズマ源にプロセスガスを供給しつつ、第1の電極または第1の電極と対向となる位置に配置させた第2の電極または、上記被処理物と導通するように設置させた電力印加機構に電力を供給するプラズマ処理方法であって、
上記被処理物を絶縁体板上に載置して処理すること
を特徴とするプラズマ処理方法。 - 大気圧近傍の圧力において、被処理物の近傍に配置させた第1の電極を有するプラズマ源にプロセスガスを供給しつつ、第1の電極または第1の電極と対向となる位置に配置させた第2の電極または、上記被処理物と導通するように設置させた電力印加機構に電力を供給するプラズマ処理方法であって、
上記被処理物をステージに設置させた加熱機構により加熱を行い、上記被処理物を処理すること
を特徴とするプラズマ処理方法。 - 上記加熱機構が複数に分割しており、上記被処理物の所定の部分のみを加熱して処理を行なうことを特徴とする請求項27記載のプラズマ処理方法。
- 大気圧近傍の圧力において、被処理物の近傍に配置させた第1の電極を有するプラズマ源にプロセスガスを供給しつつ、第1の電極または第1の電極と対向となる位置に配置させた第2の電極または、上記被処理物と導通するように設置させた電力印加機構に電力を供給するプラズマ処理方法であって、
上記被処理物をレーザによって加熱すること
を特徴とするプラズマ処理方法。 - 上記レーザの焦点径を調整することを特徴とする請求項29記載のプラズマ処理方法。
- 上記レーザを走査させることを特徴とする請求項29記載のプラズマ処理方法。
- 大気圧近傍の圧力において、被処理物の近傍に配置させたプラズマ源にプロセスガスを供給しつつ、第1の電極または上記被処理物を介して上記プラズマ源と対向となる位置に配置させた第2の電極または、上記被処理物と導通するように設置させた電力印加機構に電力を供給するプラズマ処理装置であって、
上記プラズマ源と被処理物を覆う容器によって、上記被処理物近傍を隔離し、隔離させた被処理物近傍の空間が容器外部との圧力差を保持するように密封できる構造を有すること
を特徴とするプラズマ処理装置。 - 上記第2電極または基板を載置するステージの面積が上記被処理物を覆う容器が第2電極またはステージと対向する面積よりも大きく、上記被処理物を覆う容器の一部に開放部があり、上記開放部が上記第2の電極またはステージの一部と接触することによって密封されること特徴とする請求項32記載のプラズマ処理装置。
- 上記容器に排気孔を有し、容器内を排気する排気装置を有することを特徴とする請求項32に記載のプラズマ処理装置。
- 上記被処理物を覆う容器がプラズマ源に固定させており、容器が固定させたプラズマ源を昇降させる機構を有することを特徴とする請求項33もしくは34に記載のプラズマ処理装置。
- 上記被処理物を覆う容器が可視光の透過率50%以上の材質でできていることを特徴とする請求項32記載のプラズマ処理装置。
- 上記被処理物を覆う容器がガラス又は石英又はアクリル又はPETでできていることを特徴とする請求項36記載のプラズマ処理装置。
- 上記プラズマ源の被処理物と対向する部分の周辺又は裏面又は下部にガス導入孔を有し、ガス導入孔と被処理物を挟んで対向となる部分にガス排気口を有するか、被処理物と対向する部分にガス排気口を有することを特徴とする請求項32記載のプラズマ処理装置。
- 大気圧近傍の圧力において、被処理物の近傍に配置させたプラズマ源にプロセスガスを供給しつつ、第1の電極または上記被処理物を介して上記プラズマ源と対向となる位置に配置させた第2の電極または、上記被処理物と導通するように設置させた電力印加機構に電力を供給するプラズマ処理装置であって、
上記プラズマ源の上記被処理物と対向する面に第1のガス導入孔を有し、第1のガス導入孔とは別に設けられた第2の導入孔を有すこと
を特徴とするプラズマ処理装置。 - 上記第2のガス導入孔をプラズマ源の周辺または上記被処理物と対向する面の裏面に有することを特徴とする請求項39記載のプラズマ処理装置。
- 上記プラズマ源および第2のガスの供給されるエリアを取り囲む容器を有することを特徴とする請求項39記載のプラズマ処理装置。
- 大気圧近傍の圧力において、被処理物の近傍に配置させた第1の電極を有するプラズマ源にプロセスガスを供給しつつ、第1の電極または上記被処理物を介して上記プラズマ源と対向となる位置に配置させた第2の電極または、上記被処理物と導通するように設置させた電力印加機構に電力を供給するプラズマ処理装置であって、
上記プラズマ源の左右の動作及び回転動作を行なう移動機構を有すること
を特徴とするプラズマ処理装置。 - 上記移動機構が、偏芯回転機構であることを特徴とする請求項42記載のプラズマ処理装置。
- 大気圧近傍の圧力において、被処理物の近傍に配置させた第1の電極を有するプラズマ源にプロセスガスを供給しつつ、上記被処理物を介して上記プラズマ源と対向となる位置に配置させた第2の電極または、上記被処理物と導通するように設置させた電力印加機構に電力を供給することができるプラズマ処理装置であって、
上下左右に移動可能な第1の電極と同電位の電極を有する複数個のプラズマ源を有すること
を特徴とするプラズマ処理装置。 - 上記複数個のプラズマ源を上記被処理物と対向する位置と、裏側に対向する位置の双方に持つことを特徴とする請求項44記載のプラズマ処理装置。
- 大気圧近傍の圧力において、被処理物の近傍に配置させた第1の電極を有するプラズマ源にプロセスガスを供給しつつ、第1の電極または上記プラズマ源と対向となる位置に配置させた第2の電極または、上記被処理物と導通するように設置させた電力印加機構に電力を供給するプラズマ処理装置であって、
上記被処理物を載置する絶縁体板を有すること
を特徴とするプラズマ処理装置。 - 上記絶縁体板が熱伝導率0.3W/cm・deg以下の材質であることを特徴とする請求項46記載のプラズマ処理装置。
- 上記絶縁体板の厚みが1mm以上あることを特徴とする請求項47記載のプラズマ処理装置。
- 上記絶縁体板が融点200℃以上の材質であることを特徴とする請求項46記載のプラズマ処理装置。
- 上記絶縁体板が線膨張率5×10-5以下の材質であることを特徴とする請求項46記載のプラズマ処理装置。
- 上記絶縁体板がフッ素樹脂、セラミック、石英、ガラスであることを特徴とする請求項46記載のプラズマ処理装置。
- 大気圧近傍の圧力において、被処理物の近傍に配置させた第1の電極を有するプラズマ源にプロセスガスを供給しつつ、第1の電極または上記プラズマ源と対向となる位置に配置させた第2の電極または、上記被処理物と導通するように設置させた電力印加機構に電力を供給することによって発生するプラズマを用いたプラズマ処理装置であって、
上記被処理物を載置するステージに加熱機構を有すること
を特徴とするプラズマ処理装置。 - 上記加熱機構が独立して調節可能な複数の加熱機構に分割させていることを特徴とする請求項52記載のプラズマ処理装置。
- 大気圧近傍の圧力において、被処理物の近傍に配置させた第1の電極を有するプラズマ源にプロセスガスを供給しつつ、第1の電極または上記プラズマ源と対向となる位置に配置させた第2の電極または、上記被処理物と導通するように設置させた電力印加機構に電力を供給するプラズマ処理装置であって、
上記被処理物にレーザを照射するためのレーザ発信機を有すること
を特徴とするプラズマ処理装置。 - 上記レーザの焦点径を調整する焦点調整機構を有することを特徴とするプラズマ処理装置。
- 上記レーザを走査させるための走査機構を有することを特徴とするプラズマ処理装置。
- 上記レーザがレーザダイオード励起のレーザであることを特徴とするプラズマ処理装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Applications Claiming Priority (1)
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JP2006040743A true JP2006040743A (ja) | 2006-02-09 |
JP4604591B2 JP4604591B2 (ja) | 2011-01-05 |
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Date | Code | Title | Description |
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A621 | Written request for application examination |
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RD01 | Notification of change of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7421 Effective date: 20070712 |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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A521 | Written amendment |
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RD01 | Notification of change of attorney |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100202 |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100526 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100615 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100624 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100713 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100726 |
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TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
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LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |