JPH0729841A - 熱処理装置 - Google Patents

熱処理装置

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JPH0729841A
JPH0729841A JP5192771A JP19277193A JPH0729841A JP H0729841 A JPH0729841 A JP H0729841A JP 5192771 A JP5192771 A JP 5192771A JP 19277193 A JP19277193 A JP 19277193A JP H0729841 A JPH0729841 A JP H0729841A
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 1台の装置で常圧高温熱処理と減圧熱処理を
行うことができる熱処理装置を提供する。 【構成】 被処理体Wが載置された被処理体収容ボート
12を収容する内管4の外側に同心状に外管6を配置し
て処理容器8を形成し、この下部にガス導入ポート18
とガス排気ポート20を有する筒体状のマニホールド部
34を連設し、このマニホールド部の開口部を密閉する
キャップ部26を設けた熱処理装置において、内管と外
管とマニホールド部を耐熱耐腐食性材料により形成する
と共にこれらを一体的に成形する。そして、キャップ部
の表面にも耐熱耐腐食性材料よりなる保護層42を形成
する。更にキャップ部とマニホールド部の接合部に高温
耐熱シール手段44を形成する。これにより1台の装置
により腐食性ガス等を処理ガスとして使用する常圧高温
熱処理を減圧熱処理とを行うことができるようにする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、常圧高温処理と減圧処
理を行うことができる熱処理装置に関する。
【0002】
【従来の技術】一般に、半導体製品の製造工程において
は、半導体ウエハの如き被処理体に均熱状態において所
定の熱処理を施して、この表面に薄膜を形成したり熱拡
散等を行ったりすることが行われ、このために熱処理装
置が用いられる。
【0003】この熱処理装置としては、ウエハ処理時に
これを常圧、例えば大気圧程度の圧力下において約10
00℃程度の高温のプロセス温度にて熱処理を行う常圧
高温用の熱処理装置や例えば数Torr程度の減圧下に
おいて約800℃程度のプロセス温度にて熱処理を行う
減圧用の熱処理装置が知られている。そして、半導体ウ
エハに施すべき熱処理の種類に応じて熱処理装置が選択
され、常圧高温用の熱処理装置を用いてウエハを処理し
た後に減圧用の熱処理装置を用いて更にウエハに所望の
熱処理を施したり、或いはこの逆の操作が行われてい
る。
【0004】例えば減圧用の熱処理装置を例にとって説
明すると、図6は従来の減圧用の熱処理装置の断面図を
示し、加熱炉2は、下端が開口されて起立された石英製
の内管4とこの外周に同心状に配置された石英製の外管
6とよりなる処理容器8を有し、この外管6の外周には
加熱ヒータ10が巻回されている。この処理容器8内に
は、例えば石英製のウエハボート12がその下方より挿
脱可能に収容されており、このボートにその長さ方向に
沿って所定のピッチでもって多数枚の被処理体、例えば
半導体ウエハWが収容されることになる。
【0005】処理容器8の下部には、ステンレス製の筒
体状のマニホールド部14が連結されている。具体的に
は外管6の下部フランジ部16Aはマニホールド部14
の上部フランジ部14AにOリング16を介して気密に
接続されており、また内管4の下端は、マニホールド部
14の中段に設けたリング状の段部14Bに着脱可能に
載置されている。そして、このマニホールド部14には
この容器8内へ処理ガスを導入するためのガス導入ポー
ト18及び容器内のガスを排気するためのガス排気ポー
ト20がそれぞれ設けられている。
【0006】マニホールド部14の下端開口部には、エ
レベータ等の昇降手段22のアーム24に取り付けたス
テンレス製のキャップ部26がOリング28を介して開
閉可能に気密に取り付けられており、このキャップ部2
6に石英製の保温筒30を介して上記ウエハボート12
が載置される。この場合、キャップ部26には軸受30
に支持された回転軸が挿通されており、この上端側に上
記保温筒30を支持させてこれを回転するようになって
いる。また、シール部材として用いるOリング16、2
8の近傍には、処理容器が800℃もの高温になること
からOリング自体が溶けることを防止するために、図示
されてないが冷却機構が設けられている。
【0007】このような減圧用の熱処理装置により熱処
理を行う場合には、内部を800℃程度のプロセス温度
に維持すると共に処理容器8内を例えば1Torr程度
の真空減圧状態に維持しつつガス導入ポート18より処
理ガスを導入する。この導入された処理ガスはウエハ領
域をこれと接触しつつ上昇し、更に内管4と外管6との
間を流下してガス排気ポート20から排出されることに
なる。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】ところで、この種の減
圧用の熱処理装置によりウエハに対して特定の熱処理、
例えば薄膜堆積処理を施した後、これに熱拡散処理等を
施す場合には処理済みのウエハを別の常圧高温用の熱処
理装置へ移載し、ウエハに対して更に所望の熱処理を施
すようになっている。このために、ウエハの移載に要す
る時間が必要とされ、スループットが低下するのみなら
ず、移載時に炉外へウエハを取り出してクリーンルーム
の大気中に晒すことから、これに僅かではあるがパーテ
ィクルが付着して汚染されてしまうという問題点があっ
た。更には、必要な熱処理をウエハに対して施すために
は必ず2台の熱処理装置が必要となり、設備費の高騰も
余儀なくされていた。
【0009】そこで、これらの問題点を解決するために
減圧用の熱処理装置或いは常圧高温用の熱処理装置のい
ずれか一方において両方の処理を行うことも考えられ
る。しかしながら、減圧用の熱処理装置を用いて常圧高
温処理を行うと、この場合にはプロセス温度が減圧時の
約800℃から常圧時の約1000℃に上昇し、しかも
HCl等の腐食性のガスも多用することからマニホール
ド部14のステンレスが腐食してしまうことになり好ま
しくない。
【0010】また、常圧高温用の熱処理装置を用いて減
圧処理を行う場合には、この装置は大気圧程度の常圧で
処理することを前提としているためにシール構造として
は例えば排気シールが採用されており、約1Torr程
度の減圧真空状態においてはシール構造が簡単に破れて
しまうという問題点があった。本発明は、以上のような
問題点に着目し、これを有効に解決すべく創案されたも
のである。本発明の目的は1台の装置で常圧高温熱処理
と減圧熱処理を行うことができる熱処理装置を提供する
ことにある。
【0011】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記問題点を
解決するために、下部が開口されて内側に、被処理体収
容ボートに載置された被処理体を収容する内管と下部が
開口されると共に前記内管の外側に同心状に配置された
外管とよりなる処理容器と、前記処理容器に連結される
と共に前記処理容器へ処理ガスを導入するためのガス導
入ポートと前記処理容器内のガスを排気するガス排気ポ
ートを有する筒体状のマニホールド部と、前記マニホー
ルド部の開口部を開閉可能に密閉するキャップ部とを備
えた熱処理装置において、前記内管と前記外管と前記マ
ニホールド部とを耐熱耐腐食性材料により形成すると共
にこれらを一体的に成形し、前記キャップ部の処理容器
側の表面が耐熱耐腐食性材料よりなる保護層により被わ
れると共に前記キャップ部と前記マニホールド部の接合
部に高温耐熱シール手段を形成するように構成したもの
である。
【0012】
【作用】本発明は、以上のように構成したので、内管、
外管及びマニホールド部は耐熱耐腐食性材料、例えば石
英により一体的に構成され、しかもキャップ部の内側表
面にも耐熱耐腐食性材料よりなる保護層が形成されてお
り、更にはシール部分には高温耐熱シール手段が採用さ
れているので、常圧高温処理時に腐食性のガスを流して
も容器やマニホールド部等の材料がこれに腐食されるこ
とがなく、しかも約1000℃の高温に対してもシール
手段が破壊されることもない。また、減圧熱処理時にあ
っては、処理容器内は約1Torr程度の真空状態にお
かれるが、上述のようにシール手段は熱破壊されること
なくシール機能を保持しているので、減圧熱処理操作を
効率的に行うことができる。
【0013】
【実施例】以下に、本発明に係る熱処理装置の一実施例
を添付図面に基づいて詳述する。図1は本発明に係る熱
処理装置の一例を示す構成図、図2は図1に示す装置の
キャップ部のシール構造を示す拡大断面図、図3は図1
に示す装置のガス排気ポートのシール構造を示す拡大断
面図、図4は図1に示す装置のガス導入ポートのシール
構造を示す拡大断面図である。尚、図6に示す従来装置
と同一部分については同一符号を付す。
【0014】図示するようにこの熱処理装置32の加熱
炉33は、下端が開口されて起立された耐熱耐腐食性材
料、例えば石英製の内管4とこの外周に所定の間隙を離
間させて同心状に配置された同じく石英製の外管6とよ
りなる処理容器8を有している。この処理容器8の外周
には例えば抵抗性の加熱ヒータ10が巻回して設けられ
ている。この外管6はドーム状の天井部6Bを有すると
共に外管6の下部にはこの処理容器8内へ処理ガスを導
入するためのガス導入ポート18や処理容器8内のガス
を排気するガス排気ポート20を有する円筒状のマニホ
ールド部34が連結されている。具体的には、このマニ
ホールド部34全体は上述と同じ耐熱耐腐食性材料、例
えば石英により構成されており、石英製のガス導入ポー
ト18及びガス排気ポート20が突出させて形成され、
その下端部は開口されて周辺部には接続用の下部フラン
ジ部34Aが形成されている。上記ガス排気ポート20
は、減圧時の真空引き用のポートの場合には、排気抵抗
を小さくするために直径が大きく、例えば3インチ程度
に設定される。また、これらポート18、20は図示例
にあっては2個記載されているが、必要に応じて複数個
形成される。
【0015】このマニホールド部34の直径は外管6の
直径と同じに設定され、これらは製作時にガラス溶融に
より一体的に接合される。そして、外管6と上記マニホ
ールド部34とを一体的に接合した後に、この中に同じ
く石英製の円筒状の内管4を収容し、その下端部を末広
がり状に拡径して上記マニホールド部34の内壁に、上
述と同様にガラス溶融により一体的に接合する。これに
より、内管4、外管6及びマニホールド部34は、耐熱
耐腐食性材料、すなわち石英により一体的に結合される
ことになる。
【0016】また、内管4の内壁には、この長手方向に
沿って熱電対を収容するための細管よりなる熱電対収容
管35が一体的に取り付けられており、その下端は、マ
ニホールド部34の側壁を貫通して容器外へ延びてい
る。そして、この収容管35内にはヒータのゾーン数に
応じた数の熱電対37が収容されている。処理容器8内
には、例えば石英製の被処理体ボート、すなわちウエハ
ボート12がその下方より挿脱可能に収容されており、
このボートにその長さ方向に沿って所定のピッチでもっ
て多数の被処理体、すなわち半導体ウエハWが収容され
ることになる。
【0017】マニホールド部34の下端開口部には、エ
レベータ等の昇降手段22のアーム24に取り付けたス
テンレス製のキャップ部26が開閉可能に取り付けられ
ており、このキャップ部26に石英製の保温筒30を介
して上記ウエハボート12が載置されることになる。こ
の場合、ウエハWに対する成膜等の面内均一性を確保す
るために処理時にウエハボート12を回転して処理ガス
に均一に晒す必要があるが、そのためにキャップ部26
には例えば磁性シール軸受36に支持された回転軸38
が挿通されており、この上端側に上記保温筒30を支持
させてこれを回転するようになっている。この回転軸3
8の下端には、プーリ40が設けられ、このプーリには
図示しないモータから伝達ベルトが掛け渡されている。
このステンレス製のキャップ部26の上面、すなわち処
理容器側の面には耐熱耐腐食性材料、例えば石英よりな
る保護層42が形成されており、腐食性のガス、例えば
塩化水素(HCl)の使用に対しても耐え得るようにな
っている。また、このマニホールド部34の下部フラン
ジ部34Aとキャップ部26の周縁部との接合部分に
は、炉温約1000℃においてもそのシール性が劣化す
ることのない高温耐熱シール手段44が設けられてお
り、高温処理を可能にしている。
【0018】具体的には図2にも示すようにこの高温耐
熱シール手段44は、キャップ部26の周縁部にリング
状に溝部46を形成しこの中にフッ素ゴム等よりなるO
リング48を配置して構成される。このOリング48は
シール性は高いが耐熱性に劣ることから、これを冷却す
るための冷却機構50が設けられる。具体的には、この
冷却機構として、上記Oリング48の下部にはキャップ
部26の周方向にリング状に成形した第1の冷却水路5
2が形成されると共にマニホールド部34の下部フラン
ジ部34Aを保持する保持部材54にもリング状に成形
した第2の冷却水路56が形成されており、処理時にこ
れら水路52、56に冷却水を流すことによりこのOリ
ング48を効率的に冷却するようになっている。
【0019】一方、上記ガス導入ポート18には図4に
も示すようなボールジョイント58を介してガス供給系
60が接続されており、処理ガス等を供給し得るように
構成される。また、このガス供給系60には途中にて供
給ガス開閉弁62が介設されており、図示されない処理
ガス源へ接続される。このガス供給系60の配管として
は、例えばテフロン製のフレキシブルチューブを用いる
が、このチューブは減圧処理時の真空引きに際して収縮
することから接続部には上述のようなボールジョイント
58を使用する。このジョイント58は、内部に流路を
有する球体状のジョイント本体62とこれを受ける漏斗
状の受部64とにより主に構成されており、これらの間
には例えばテフロンコートされたOリング66が介在さ
れており、耐熱性及び耐シール性を大幅に向上させてい
る。これらジョイント本体62及び受部64にはそれぞ
れクランププレート68、70が固設されており、これ
らクランププレート68、70間をスプリング72を介
在させた締付ボルト74により締付け固定することによ
り、両部材をある程度の自由な角度でもって気密に連結
するようになっている。
【0020】一方、ガス排気ポート20には、高温耐熱
シール部材を介して排気系76が接続される。具体的に
は、このガス排気ポート20にはシール部材としてのメ
タルガスケット78Aを介して例えばハステロイ製のフ
レキシブルチューブ80が接続され、このチューブ80
は同様なメタルガスケット78Bを介して石英パイプ8
2に接続され、更にこの石英パイプ82はテフロンパイ
プ84に接続されている。これらメタルガスケット78
A、78Bの断面図は図3に拡大されて示されており、
例えばハステロイよりなる断面S字状の金属をリング状
に成形することにより構成されており、この両端のシー
ル面86をガス排気ポート18、チューブ80間及びチ
ューブ80、石英パイプ82間に押圧接触させ、低い締
付力でもって高いシール性を確保すると同時に例えば4
00℃程度の高温にも耐え得るように構成されている。
このメタルガスケット78A、78Bに代えてシール性
の高いフッ素ゴムのOリングを用いると高温(400℃
程度)に耐えることができない。
【0021】そして、このテフロンパイプ84は、減圧
熱処理時に使用する真空排気系84Aと常圧高温熱処理
時に使用する常圧排気系84Bとにより2つに分岐され
ている。この真空排気系84Aには、真空側開閉弁8
8、気体置換用の真空ポンプ90及び除害装置92が順
次介設されている。また、常圧排気系84Bには、常圧
側開閉弁94、排気圧コントローラ96、スクラバー9
7が順次介設される。
【0022】次に、以上のように構成された本実施例の
動作について説明する。まず、半導体ウエハWに対して
常圧高温処理を施す場合について説明する。例えば処理
温度を約1000℃とすると、加熱ヒータ10により処
理容器8をそれよりも低い温度、例えば約600℃まで
加熱しておき、この容器内へウエハボート12に載置さ
れたウエハWをロードする。すなわち、昇降手段22を
駆動することにより多数枚のウエハWが搭載されたウエ
ハボート12を処理容器8内に上昇させてこれをロード
し、キャップ部26によりマニホールド部34の下端開
口部を閉じる。この時、このシール部はOリング48を
有する高温耐熱シール手段44によりシールされるの
で、気密性が良好にシールされることになる。
【0023】そして、次にこのロードの際に容器内に取
り込まれた大気を置換するために不活性ガス、例えば窒
素ガスをガス導入ポート8から供給して、この不活性ガ
スと置換させる。このようにして、ガス置換操作が終了
したならば、次に加熱ヒータ10の電力を上げて600
℃の処理容器8をプロセス温度、例えば1000℃まで
昇温し、ガス供給系60を介して処理ガスを供給し、通
常の常圧高温処理を行う。この時、排気系76にあって
は真空排気系84Aの真空側開閉弁88を閉じて真空排
気系84Aを遮断すると共に常圧側開閉弁94を開いて
排気圧コントローラ96を駆動し、処理容器8内を常
圧、すなわち大気圧に維持する。例えば、ガス導入ポー
ト8から処理容器8内へ導入された処理ガスはウエハ領
域を上昇しつつこれと接触し、容器天井部まで上昇した
処理ガスは内管4と外管6との間隙を流下してガス排気
ポート20から排出される。
【0024】この処理時において、キャップ部26及び
ガス排気ポート20等はかなり高温になるが、キャップ
部26のOリング48はこの上下に設けた第2の冷却水
路56及び第1の冷却水路52に冷却水を流すことによ
り冷却される。従って、高熱によりこのOリング48が
溶融したりダメージを受けることがなくてシール機能を
維持することができ、これ以降の減圧熱処理時にシール
が破れることもない。
【0025】また、同様にガス排気ポート20と排気系
76との間に介設されるメタルガスケット78A、78
Bも高温に晒されてしまうが、このガスケットの特性
上、高温に対してもシール性が劣化することがないの
で、上述のようにこれ以降の減圧熱処理時にシールが破
れることもない。このようにして、ウエハの常圧高温処
理が行われることになる。また更に、内管4、外管6及
びマニホールド部34は、石英により一体的に結合され
ており、また、ステンレス製のキャップ部26の表面に
は石英製の保護層42が形成されているので、処理時の
腐食性ガス、例えばHClガスによりこれらが腐食され
ることもなく、安定して常圧高温処理を行うことができ
る。
【0026】次に、ウエハに対して減圧熱処理を施す場
合について説明する。例えば10〜0.1Torrの真
空減圧雰囲気中にて処理温度、約800℃にて熱処理を
施す場合には、例えば常圧高温処理時と同様に容器を予
め600℃程度に加熱しておき、この容器8内へウエハ
ボート12に載置されたウエハWをロードし、マニホー
ルド部34の下端開口部をキャップ部26により密閉す
る。
【0027】次に、常圧側開閉弁94を閉じて常圧排気
系84Bを遮断すると共に真空側開閉弁88を開いて真
空ポンプ90を駆動し、真空排気系84Aを介して処理
容器8内を真空引きし、この中の雰囲気を所定の減圧状
態、例えば1Torr程度に維持しつつガス導入ポート
18より処理ガスを容器8内へ導入し、減圧熱処理をウ
エハに対して施す。この場合、前述と同様にキャップ部
26のOリング48は第1及び第2の冷却水路52、5
6により冷却されており、そのシール性が確実に維持さ
れ、シールが破れることはない。
【0028】また、ガス排気ポート20と排気系76と
の間に介設されるメタルガスケット78A、78Bも、
常圧高温処理時よりも低い温度ではあるが高温に晒され
るが、このガスケットは十分に高いシール性を維持で
き、容器内を減圧雰囲気に維持することができる。更
に、容器8内の真空引きによりガス供給系60も減圧状
態となるが、これとガス導入ポート18にはシール性の
高い図4に示すようなボールジョイント58が介設され
ているのでこのシール部分においても高いシール性を確
保することができる。従って、全体としてウエハに対し
て減圧熱処理を安定して施すことが可能となる。
【0029】また、従来にあってはステンレス製のマニ
ホールド部と外管との接合部にOリングを介設させてこ
れと冷却する冷却機構も設けたことからこの部分が低温
化してパーティクルの原因となる堆積物が生成されてし
まったが、本実施例においては、外管6とマニホールド
部34をともに石英で構成してこれらを一体的に連結し
たのでこの部分を冷却する必要がなくなり、従ってパー
ティクルの原因となる堆積物も生成されず、歩留まりの
向上に寄与することができる。
【0030】このように、本実施例にあっては、同じ熱
処理装置により常圧高温熱処理も減圧熱処理も行うこと
ができるので、上記2つの処理を連続してウエハに対し
て施す場合には、従来装置のようにウエハを別の熱処理
装置へ移載する必要がなくなり、この移載に要する時間
を省くことができるので、スループットを大幅に向上さ
せることができる。この場合、加熱ヒータ10のパワー
を増加すると共に処理容器8等の熱容量を減少させて昇
温速度を例えば100℃/分まで大幅に向上させた、い
わゆる高速熱処理方式を採用すれば、スループットを一
層向上させることかできる。
【0031】また、上述のようにウエハの移載を必要と
しないので、ウエハがクリーンルームの大気中に晒され
ることもなく、これが大気中のパーティクル等により汚
染されることも防止することができる。更には、上記し
た2つの熱処理を行う場合には、従来にあっては2種類
の熱処理装置が必要であったが、本実施例によれば1つ
の装置により2種類の熱処理を行うことができ、設備費
の大幅なコストダウンを図ることが可能となる。また、
熱電対収容管35内へ熱電対37を収容する場合には、
その下端開口部より熱電対37を挿入すればよく、容易
にこれを脱着することが可能となる。
【0032】尚、上記実施例にあってはキャップ部26
の高温耐熱シール手段44としてOリング48とこれを
冷却する冷却水路52、56とにより構成したが、これ
に限定されず、例えば図5に示すようなメタルシートよ
りなる薄板シール部材98を用いるようにしてもよい。
すなわち、この場合にはマニホールド部34の下部フラ
ンジ部34Aの下面には、例えば幅4mmで深さ5mm
程度の環状の環状溝部100が形成され、キャップ部2
6の周縁部の上面には上記環状溝部100と対向する位
置に同様に幅が4mmで深さ5mm程度の環状溝部10
2が形成されている。
【0033】そして、上記環状溝部100、102に
は、それぞれ排気管104A、104Bが設けられると
共にこれら排気管104A、104Bは連結具106
A、106Bを介してそれぞれ共通に真空ポンプ108
に接続され、排気機構110を構成して、上記環状溝部
100、102を減圧排気可能としている。また、真空
ポンプ108と連結具106A、106Bとの間からは
大気開放用の開放管112が分岐されており、この管は
例えば電磁式開閉弁よりなるバルブ114を介して例え
ば図示しないN2 ガス供給源に接続される。そして、こ
の上記マニホールド部の下部フランジ部34Aとキャッ
プ部26の周縁部との間にはそれぞれ上記環状溝部10
0、102の開口部をそれぞれ被うことのできる挿脱自
在の環状の薄板シール部材98が2枚介在されており、
それぞれの内周端をリング状に屈曲させると共に溶接部
98Aで全周を溶接している。これら2枚のシール部材
98、98は、例えばタンタルアモルファスによってコ
ーティングされた厚みが0.15mmのステンレススチ
ールよりなり、それぞれの下部フランジ部34Aとの接
触面及びキャップ部26との接触面は鏡面に仕上げられ
ており、シール性を良好にしている。また、2枚のシー
ル部材98、98間には、例えばリング状の黒鉛シート
よりなるクッション材114が介在されている。
【0034】このような高温耐熱シール手段によれば、
真空ポンプ108を真空引きすることにより両環状溝部
100、102内の雰囲気は真空排気されるのでこれら
の開口部に臨む薄板シール部材98、98はそれぞれ吸
引されて仮想線で示すように吸引側へ突状に屈曲して環
状溝部98、98の開口部を閉塞し、シールすることに
なる。この場合、薄板シール部材98、98の接触面は
鏡面仕上げされているのでこの部分を確実にシールする
ことができ、高温に対してもシール性が劣化することは
ない。この場合、下部フランジ部34A及びキャップ部
26の接触面も予め鏡面仕上げしておけば、そのシール
性を一層向上させることができる。また、シール部材と
してメタルシートシール部材を用いた場合にはこれより
の脱ガスもなく、汚染の可能性を一層抑制することがで
きる。
【0035】尚、以上の実施例にあっては、処理ガスを
内管4内を上昇させて、内管4と外管6との間を流下さ
せるように形成したが、これとは逆に処理ガスを内管4
と外管6との間を上昇させて内管4内を流下させるよう
にしてもよい。この場合には、それに対応させた位置に
ガス導入ポート18やガス排気ポート20を設けるよう
にし、また、ガスの流通方向を任意に選択し得るように
多種多様なポートを設けておくのが好ましい。また更に
は、処理容器8として内管4と外管6を有する2重管構
造としたがこれに限定されず、1重管構造としてもよい
のは勿論である。
【0036】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の熱処理装
置によれば次のように優れた作用効果を発揮することが
できる。耐熱シール性及び耐腐食性を兼ね備えるように
したので1つの装置により常圧高温熱処理も減圧熱処理
も行うことができ、これらの熱処理を連続して被処理体
に施す場合には被処理体の移載を行う必要がなく、その
分、スループットを向上させることができる。また、移
載をなくすことができることから、大気中に含まれるパ
ーティクル等により被処理体が汚染等されることを防止
することができる。上記した2種類の熱処理を行う場合
にも、1つの熱処理装置で済み、設備費の大幅なコスト
ダウンを図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る熱処理装置の一例を示す構成図で
ある。
【図2】図1に示す装置のキャップ部のシール構造を示
す拡大断面図である。
【図3】図1に示す装置のガス排気ポートのシール構造
を示す拡大断面図である。
【図4】図1に示す装置のガス導入ポートのシール構造
を示す拡大断面図である。
【図5】図1に示す装置のキャップ部のシール構造の変
形例を示す拡大断面図である。
【図6】従来の熱処理装置の一例を示す構成図である。
【符号の説明】
4 内管 6 外管 8 処理容器 12 ウエハボート 18 ガス導入ポート 20 ガス排気ポート 26 キャップ部 32 熱処理装置 34 マニホールド部 42 保護層 44 高温耐熱シール手段 48 Oリング 50 冷却機構 52 第1の冷却水路 56 第2の冷却水路 84A 真空排気系 84B 常圧排気系 W 半導体ウエハ(被処理体)

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 下部が開口されて内側に、被処理体収容
    ボートに載置された被処理体を収容する内管と下部が開
    口されると共に前記内管の外側に同心状に配置された外
    管とよりなる処理容器と、前記処理容器に連結されると
    共に前記処理容器へ処理ガスを導入するためのガス導入
    ポートと前記処理容器内のガスを排気するガス排気ポー
    トを有する筒体状のマニホールド部と、前記マニホール
    ド部の開口部を開閉可能に密閉するキャップ部とを備え
    た熱処理装置において、前記内管と前記外管と前記マニ
    ホールド部とを耐熱耐腐食性材料により形成すると共に
    これらを一体的に成形し、前記キャップ部の処理容器側
    の表面が耐熱耐腐食性材料よりなる保護層により被われ
    ると共に前記キャップ部と前記マニホールド部の接合部
    に高温耐熱シール手段を形成するように構成したことを
    特徴とする熱処理装置。
  2. 【請求項2】 前記高温耐熱シール手段は、前記マニホ
    ールド部と前記キヤップ部との間に介在されるOリング
    とこのOリングを冷却するための冷却機構とよりなるこ
    とを特徴とする請求項1記載の熱処理装置。
  3. 【請求項3】 前記高温耐熱シール手段は、前記マニホ
    ールド部と前記キャップ部のそれぞれに設けられた環状
    溝部と、これら環状溝部にそれぞれ接続された排気機構
    と、前記マニホールド部と前記キャップ部との間に介在
    される環状の薄板シール部材とよりなることを特徴とす
    る請求項1記載の熱処理装置。
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