JP2002003467A - 置換ベンゾイルチオエーテル化合物の製造方法 - Google Patents
置換ベンゾイルチオエーテル化合物の製造方法Info
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Abstract
1,3−シクロヘキサンジオン化合物のチオエノールエ
ーテル化合物を効率よく製造する方法を提供する。 【解決手段】式IIの化合物と、一般式IIIのチオール化
合物を、疎水性有機溶媒中で水と塩基の存在下、触媒と
して第三級アミンを用いて反応させる式Iのチオエーテ
ル化合物の製造方法。 (R1及びR2は独立して置換されてもよいC1〜C8
のアルキル基を表わすか、R1及びR2が一緒になって (R4〜R9は独立して水素またはC1〜C4のアルキ
ル基を表わし、またはR4とR6、R6とR8もしくは
R4とR8が一緒になってC1〜C3のアルキレン基を
表わす。)置換されてもよいプロピレン基を表わし、R
10は置換されてもよいフェニレン基などを表わす。
Description
して有用な一般式(I)
エーテル化合物の製造方法に関する。
−1,3−シクロヘキサンジオン化合物のチオエノール
エーテル類が農薬、特に除草剤として有用であることが
報告されている。例えば、特開昭62-292755号公報に
は、3−クロロ−2−ベンゾイルシクロヘキス−2−エ
ノンをテトラヒドロフランのような不活性溶媒に溶解
し、1.0から2.0当量のチオールおよび1.0から2.0当量の
塩基(トリエチルアミン等)を加えて反応させることに
より農薬として有用な3−(置換チオ)−2−ベンゾイ
ルシクロヘキス−2−エノン類を製造する方法が記載さ
れている。
たはC1〜C4アルキル等を表わし、R7AおよびR8Aは
独立に水素、ハロゲン、C1〜C4アルキル、C1〜C
4アルコキシ、トリフルオロメトキシ、シアノ、ニト
ロ、C1〜C4ハロアルキル、RbASOn−(nは整数
0、1又は2、RbAはC1〜C4アルキル等)等を表わ
し、R9AはC1〜C4アルキル、フェニル、置換フェニ
ル等を表わす(記号の定義は必要な部分のみを抜粋し
た。)。
きる化合物を、対応するクロロ体を不活性有機溶媒に溶
かしトリエチルアミンのような塩基(1.0当量以上)の
存在下でチオールを反応させて製造する方法が、特開平
6-25144号公報、特開平7-82240号公報、特開平7-196585
号公報、特開平10-109972号公報に開示されている。し
かしながら、これら従来の製造方法は、非水系で反応を
行なう必要があること、中間体である塩化物の単離を必
要とすること、トリエチルアミン等の幾分高価な有機塩
基を当量以上の量使用すること、生成物の溶解性を考慮
して汎用されるテトラヒドロフラン等の水溶性有機溶媒
に起因して後処理が煩雑となること等の問題があり、工
業的な製造方法としてはいずれも実用的ではなかった。
ベンズアルデヒドとアルカンチオールを相間移動触媒を
用いて、塩基と水の存在下、不均一系で反応させ、アル
キルチオベンズアルデヒドを製造する方法が開示されて
いる。
〜4のアルキル基を表わす。)
用することも可能であるが、4級アンモニウム塩(テト
ラブチルアンモニウムブロマイド等)、4級ホスホニウ
ム塩、クラウンエーテルなど高価な相間移動触媒を用い
る必要があるため工業的生産には不向きである。
ベンゾイル基を有するチオエーテル化合物を効率よく製
造する方法を提供することにある。
に鑑み鋭意検討した結果、ハロゲン化物とチオールを、
疎水性溶媒と水とからなる不均一溶媒中、水酸化ナトリ
ウムなどの塩基の存在下、触媒量の第三級アミンを用い
て反応させることにより、短時間の反応で高収率、高純
度で目的化合物が得られることを見出し本発明を完成し
た。
合物の製造方法を提供する。 1)一般式(II)
いてもよいC1〜C8のアルキル基を表わすか、R1お
よびR2が一緒になって
立して水素原子またはC1〜C4のアルキル基を表わ
し、またはR4とR6、R6とR8もしくはR4とR8が一緒
になってC1〜C3のアルキレン基を表わす。)で示さ
れる置換されていてもよいプロピレン基を表わし、n個
のR3は、それぞれ独立して(1)ハロゲン原子、
(2)C1〜C4のアルキル基、(3)C1〜C4のア
ルコキシ基、(4)C1〜C4のアルキルチオ基、
(5)C2〜C5のアルコキシメチル基、(6)C2〜
C5のアルコキシカルボニル基、(7)C1〜C3のア
ルカンスルホニル基、(8)C1〜C3のアルカンスル
ホニルオキシ基、または(9)ニトロ基を表わし、R3
中のアルキル部分は、1または2以上のハロゲン原子で
置換されていてもよく、Xはハロゲン原子を表わし、n
は0〜5の整数である。)で示される化合物と、一般式
(III)
ルケニル基、C2〜C8アルキニル基、C3〜C7シク
ロアルキル基、置換されていてもよいフェニル基、また
は置換されていてもよいベンジル基を表わす。)で示さ
れるチオール化合物を、疎水性有機溶媒中で水と塩基の
存在下、触媒として第三級アミンを用いて反応させるこ
とを特徴とする一般式(I)
チオエーテル化合物の製造方法。
を表わす。)で示される化合物をハロゲン化剤でハロゲ
ン化して得られる一般式(II)
の記号は前記と同じ意味を表わす。)で示される化合物
を使用する前記1に記載のチオエーテル化合物の製造方
法。 3)第三級アミンを、一般式(II)で示される化合物に
対して0.1〜10モル%使用する前記1または2に記載
の製造方法。 4)第三級アミンがトリエチルアミンまたはピリジンで
ある前記1乃至3のいずれかに記載の製造方法。 5)塩基がアルカリ金属の水酸化物である前記1乃至4
のいずれかに記載の製造方法。
になって
の記載と同じ意味を表わす。)で示される置換されてい
てもよいプロピレン基を表わし、
〜3個のフッ素原子によって置換されていてもよいC1
〜C2のアルキル基、C1〜C2のアルキルスルホニル
基を表わし、R12は水素原子、ハロゲン原子、C1〜C
2のアルキル基、C1〜C4のアルコキシ基、C2〜C
4のアルコキシメチル基、C2〜C5のアルコキシカル
ボニル基を表わし、R13は水素原子、ハロゲン原子、1
〜3個のフッ素原子によって置換されていてもよいC1
〜C3のアルコキシ基、C1〜C3のアルキルチオ基、
1〜6個のフッ素原子によって置換されていてもよいC
1〜C3のアルキルスルホニル基またはアルキルスルホ
ニルオキシ基を表わす。)を表わし、R10が
たはC1〜C2アルキル基を表わし、mは0〜5の整数
である。)で示される基を表わす化合物から一般式(I
A)
るチオエーテル化合物を製造する前記1または2に記載
の製造方法。
R9、およびR12が水素原子を表わし、R 4とR8が一緒
になってエチレン基を表わし、R11が塩素原子を表わ
し、R13がメタンスルホニル基(メシル基)を表わし、
R10がフェニル基を表わす式(IB)
の製造方法。
発明の製造方法の工程を下記の反応工程式に示す。
をチオエーテル化することによる一般式(I)で示され
る化合物の製造方法、および一般式(IV)で示される化
合物をハロゲン化して一般式(II)で示される化合物を
得、次いでチオエーテル化することによる一般式(I)
で示される化合物の製造方法に関する。一般式(IV)の
化合物を出発原料とする方法では、ハロゲン化工程およ
びチオエーテル化工程を連続して行なうことができ、中
間体である一般式(II)の化合物を単離せずにワンポッ
トで一般式(I)の化合物を製造することができる。
一般式(IV)で示されるケトン化合物をハロゲン化剤を
用いてハロゲン化することにより容易に製造することが
できる。ハロゲン化剤としては、塩化チオニル、オキサ
リルクロリド等が使用できる。使用量は一般式(IV)で
示される化合物(基質)に対して1〜2当量、好ましく
は1.1〜1.3当量である。
温度(沸点)の温度で、必要に応じてN,N−ジメチル
ホルムアミド(DMF)等の塩基性触媒を添加して行な
うことができる。塩基性触媒は、必ずしも必要ないが、
反応を円滑かつ短時間で安定的に進行させるために、基
質に対し10〜50モル%程度加えることが好ましい。
エタン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素系溶媒、
ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素系溶媒、テトラ
ヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジオキサン等のエー
テル系溶媒等が使用可能である。チオエーテル化の工程
まで連続して行なう場合には、チオエーテル化工程で使
用する疎水性有機溶媒、特にハロゲン化炭化水素系溶媒
が好ましい。
テル化することにより一般式(I)で示されるチオエー
テル化合物を得ることができる。チオエーテル化工程で
は、疎水性有機溶媒と水からなる不均一系溶媒中、塩基
の存在下、触媒として第三級アミンを用いハロゲン化物
(II)と一般式(III)
チオール化合物とを反応させる。
より、反応が短時間で完結し、かつ目的物を高収率で得
ることができる。第三級アミンとしては、トリエチルア
ミン等のトリアルキルアミン、ピリジン、4−ジメチル
アミノピリジン(DMAP)、N−メチルイミダゾール
等のヘテロサイクリックアミン、トリエタノールアミン
等のトリアルカノールアミン、N,N−ジメチルアニリ
ン等のアニリン類等が挙げられ、中でもトリエチルアミ
ン、ピリジンが好ましい。その使用量は一般式(II)で
示されるハロゲン化合物(基質)に対して0.1〜10モ
ル%、好ましくは1〜5モル%である。触媒を使用しな
い場合には、反応の進行が遅い上、副生成物が生成し易
く、収率も不充分となる。
て不活性な有機溶媒が使用できる。ジクロロメタン、ジ
クロロエタン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素系
溶媒が好ましい。
ム、カリウム等)の水酸化物、炭酸塩、アルコキシレー
トなどが用いられる。中でもアルカリ金属の水酸化物が
好ましく、特に入手が容易で安価な水酸化ナトリウムが
好ましい。
H11以下、さらに好ましくはpH9〜10程度であ
る。強アルカリ側で反応を行なうと、基質が加水分解し
てトリケトン体(原料(IV))が生成しやすい。また、
反応を連続して行なう場合には、ハロゲン化の触媒とし
て使用した残存DMFが加水分解してジメチルアミンと
なり、これとハロゲン化物(II)が反応してジメチルア
ミン体(副生成物)を生ずることもある。
加える際には反応溶液のpHを上記の範囲内にコントロ
ールしながら添加することが望ましい。塩基としてアル
カリ金属の水酸化物を用いる場合は、20〜30%の水
溶液を滴下することにより反応液のpH調製が容易に行
なえる。
でかつ上記のpH範囲に調整できる量である。アルカリ
金属の水酸化物の場合には、通常1〜1.2当量である。
ハロゲン化工程から連続して反応させる場合には、過剰
に用いたハロゲン化剤の残存により、またハロゲン化に
伴う酸性ガスの発生により反応溶液が強酸性となってい
るので、上記のpH範囲に調整するために塩基の使用量
を適宜増量する。アルカリ金属の水酸化物を用いる場
合、概ね1.2〜2当量使用する。
ばよい。好ましくは5〜15℃程度である。反応の終点
は高速液体クロマトグラフィー(HPLC)等による原
料の消失により確認できる。
液の二層系の不均一溶媒中で反応が進む。反応生成物は
必要に応じて有機溶媒で希釈後有機溶媒層を分液するこ
とにより容易に抽出できる。この際、水層のpHを弱酸
性、好ましくはpH5〜7に再調整することにより分液
しやすくなり、操作性が向上する。また生成物が安定と
なり副生成物の生成が抑制される。
媒から晶析させて容易に単離することができる。例え
ば、3−(2−クロロ−4−メシルベンゾイル)−2−
フェニルチオビシクロ[3.2.1]オクタ−2−エン
−4−オンの場合の適当な有機溶媒はアセトンであり、
抽出溶媒を濃縮後アセトンにて晶析、ろ過、洗浄するこ
とにより高純度の目的物を得ることができる。
を有する化合物を製造することができるが、一般式
(I)の化合物の中でも、本出願人が特願平5-84063号
(特開平6-25144号公報)に開示している農薬(除草
剤)として有用な一般式(IA)
る化合物、特に下記式(IB)
−2−フェニルチオビシクロ[3.2.1]オクタ−2
−エン−4−オンを高収率、高純度で製造することがで
きる。
知の方法またはそれに準じた方法で製造することができ
る。例えば、3−(2−クロロ−4−メシルベンゾイ
ル)−2−フェニルチオビシクロ[3.2.1]オクタ
−2−エン−4−オンの製造原料となる3−(2−クロ
ロ−4−メシルベンゾイル)−ビシクロ[3.2.1]
オクタン−2,4−ジオンを以下の工程により製造する
ことができる。
を第二級アミンおよびカルボン酸の存在下にホルムアル
デヒドと反応させることによりメチレンノルカンファー
を得ることができる(工程(a);特開平10-265415号
公報)。メチレンノルカンファーを酸化開裂反応に付
し、酸化開裂反応と同時あるいはこれに続いてアルコー
ルと反応させることにより3−アセチル−シクロペンタ
ンカルボン酸エステルとすることができる(工程
(b);特開平10-265441号公報)。工程(c)は、3
−アセチル−シクロペンタンカルボン酸エステルに塩基
(金属アルコラート、金属水素化物等)および触媒(D
MF等)の存在下に反応させることにより容易に行なわ
れる(特開平10-265441号公報)。次いで、環状1,3
−ジケトンとベンゾイルクロリドを無水塩化アルミニウ
ムの存在下で反応させることにより、目的化合物を得る
ことができる(工程(d);特開平10-265432号公
報)。
時間の反応で目的物を高収率で得ることができる理由の
詳細は明らかではないが、特開平5-331134号公報に記載
のハロベンズアルデヒドとアルカンチオールとの反応
を、触媒として第三級アミンを用いて行なっても反応が
進行しないことから、第三級アミンは相間移動触媒的な
働きをしているのではなくブレンステッド塩基としての
役割を果たしているものと考えられる。すなわち、第三
級アミンは有機層でハロゲン化物(基質)に塩基として
作用し、その際生じる第三級アンモニウム塩を水酸化ナ
トリウムがフリーの第三級アミンに戻し、その第三級ア
ミンが再び有機層で塩基として働いて反応を促進させる
ものと考えられる。
体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるもので
はない。
ベンゾイル)−2−フェニルチオビシクロ[3.2.
1]オクタ−2−エン−4−オンの製造方法 16.0g(45.13mmol)の3−(2−クロロ−4−メ
シルベンゾイル)ビシクロ[3.2.1]オクタン−
2,4−ジオンを120gのクロロホルムに溶解し、
N,N−ジメチルホルムアミド0.33g(4.51mmol)
を加えた。さらに塩化チオニル5.9g(49.59mmol)
を滴下し、溶媒の還流温度で2時間撹拌した。HPLC
にて反応の完結を確認した後、反応溶液を放冷した。減
圧濃縮により溶媒を留去し、2−クロロ−3−(2−ク
ロロ−4−メシルベンゾイル)ビシクロ[3.2.1]
オクタ−2−エン−4−オンを定量的に得た。
ウム水溶液8.0g(50.00mmol)を加え、室温下にチ
オフェノール4.97g(45.13mmol)を滴下し、チオ
フェノールのナトリウム塩水溶液を調製した。この水溶
液に0.09g(0.89mmol)のトリエチルアミンを添加
した後、上述で得た2−クロロ−3−(2−クロロ−4
−メシルベンゾイル)ビシクロ[3.2.1]オクタ−
2−エン−4−オンのクロロホルム溶液(50ml)を
室温下30分で滴下した。滴下後室温で1時間撹拌し、
HPLCで中間体クロロ化物ピークの消失を確認して反
応を終了した(この時の組成はHPLCの面積百分率で
目的物98%、その他2%であった。)。反応溶液に水
(50ml)を加え、クロロホルムにて抽出し、抽出液
を水洗後系内質量が約35gとなるまで減圧濃縮した。
濃縮液にアセトン(50ml)を加え晶析した後、結晶
を減圧ろ過、アセトン洗浄および乾燥することにより、
目的化合物18.7g(41.83mmol)を得た。単離収率
は93%、HPLCによる面積百分率(純度)は99%
以上であった。
ベンゾイル)−2−フェニルチオビシクロ[3.2.
1]オクタ−2−エン−4−オンの製造方法 実施例1と同様の操作により、中間体2−クロロ−3−
(2−クロロ−4−メシルベンゾイル)ビシクロ[3.
2.1]オクタ−2−エン−4−オンおよびチオフェノ
ールのナトリウム塩水溶液を調製し、トリエチルアミン
の代わりにピリジン0.07g(0.89mmol)を添加した
後、中間体クロロ化物のクロロホルム溶液(50ml)
を室温下30分で滴下した。滴下後室温で1時間撹拌
し、HPLCで中間体クロロ化物ピークの消失を確認し
て反応を終了した(この時の組成はHPLC面積百分率
で目的物95%、その他5%であった。)。実施例1と
同様に後処理して、目的化合物18.3g(40.94mmo
l)を得た。単離収率は91%、HPLCによる面積百
分率(純度)は99%以上であった。
ベンゾイル)−2−フェニルチオビシクロ[3.2.
1]オクタ−2−エン−4−オンの製造方法 実施例1と同様の操作により、中間体2−クロロ−3−
(2−クロロ−4−メシルベンゾイル)ビシクロ[3.
2.1]オクタ−2−エン−4−オンおよびチオフェノ
ールのナトリウム塩水溶液を調製し、第三級アミンを添
加せずに、中間体クロロ化物のクロロホルム溶液(50
ml)を室温下30分で滴下した。滴下後、室温で3時
間撹拌し、HPLCにて反応の停止を確認した(この時
の組成はHPLCの面積百分率で目的物82%、中間体
クロロ化物10%、その他8%であった。)。実施例1
と同様に後処理して、目的化合物16.0g(35.79mmo
l)を得た。単離収率は79%、HPLCによる面積百
分率(純度)は99%以上であった。
ベンゾイル)−2−フェニルチオビシクロ[3.2.
1]オクタ−2−エン−4−オンの製造方法 16.0g(45.13mmol)の3−(2−クロロ−4−メ
シルベンゾイル)ビシクロ[3.2.1]オクタン−
2,4−ジオンを120gのクロロホルムに溶解し、
N,N−ジメチルホルムアミド0.33g(4.51mmol)
を加えた。さらに塩化チオニル5.9g(49.59mmol)
を滴下し、溶媒の還流温度で2時間撹拌した。HPLC
にて反応の完結を確認し、中間体2−クロロ−3−(2
−クロロ−4−メシルベンゾイル)ビシクロ[3.2.
1]オクタ−2−エン−4−オンを得た。反応溶液をそ
のまま氷冷し、水(30ml)を加えて30分撹拌し
た。氷冷下トリエチルアミン0.09g(0.89mmol)を
添加し、次いでチオフェノール4.97g(45.13mmo
l)を加えた。さらに25質量%水酸化ナトリウム水溶
液を徐々に滴下し、反応系内を弱アルカリ性(pH=9
〜10)にコントロールしながら反応させた。反応開始
1時間後、HPLCにて中間体クロロ化物ピークの消失
を確認して反応を終了した(この時の組成はHPLCの
面積百分率で目的物99%、その他1%であった。)。
反応に要した25質量%水酸化ナトリウム水溶液は9.0
g(56.25mmol)であった。
て弱酸性とした後、水(80ml)を加えてクロロホル
ムで抽出した。抽出液を水洗し、系内質量が約35gと
なるまで減圧濃縮した。濃縮液にアセトン(50ml)
を加え晶析した後、結晶を減圧ろ過、アセトン洗浄およ
び乾燥することにより、目的化合物19.2g(42.95mm
ol)を得た。単離収率は95%、HPLCによる面積
百分率(純度)は99%以上であった。
ベンゾイル)−2−フェニルチオビシクロ[3.2.
1]オクタ−2−エン−4−オンの製造方法 トリエチルアミンを添加せずに、実施例3と同様の操作
を行なった。この時要した25質量%水酸化ナトリウム
水溶液は11.0g(68.75mmol)であった。反応は2
4時間実施したが、中間体クロロ化物は完全には消費さ
れず、しかもチオフェノールとの置換反応と競争する加
水分解による原料トリケトン体の生成が認められた(こ
の時の組成はHPLCの面積百分率で目的物84%、中
間体クロロ化物3%、原料トリケトン体10%、その他
3%であった。)。実施例3と同様に後処理して、目的
化合物16.2g(36.24mmol)を得た。単離収率は8
0%、HPLCによる面積百分率(純度)は99%以上
であった。
ベンゾイル)−2−フェニルチオビシクロ[3.2.
1]オクタ−2−エン−4−オンの製造方法 16.0g(45.13mmol)の3−(2−クロロ−4−メ
シルベンゾイル)ビシクロ[3.2.1]オクタン−
2,4−ジオンを120gのクロロホルムに溶解し、
N,N−ジメチルホルムアミド0.33g(4.51mmol)
を加えた。さらに塩化チオニル5.9g(49.59mmol)
を滴下し、溶媒の還流温度で2時間撹拌した。HPLC
にて反応の完結を確認し、中間体2−クロロ−3−(2
−クロロ−4−メシルベンゾイル)ビシクロ[3.2.
1]オクタ−2−エン−4−オンを得た。反応溶液をそ
のまま氷冷し、水(30ml)を加え30分撹拌した。
氷冷下トリエチルアミン0.09g(0.89mmol)を添加
し、次いでチオフェノール4.97g(45.13mmol)を
加えた。さらに、25質量%水酸化ナトリウム水溶液を
HPLCにて中間体クロロ化物ピークが消失するまで一
定間隔で滴下し続けた(この時の組成はHPLC面積百
分率で目的物99%、その他1%)。反応完結まで1.5
時間を要し、25質量%水酸化ナトリウム水溶液の使用
量は9.0g(56.25mmol)であった。
(80ml)を加えクロロホルムにて抽出した。抽出液
を水洗し、系内質量約35gとなるまで減圧濃縮した。
濃縮液にアセトン(50ml)を加えて晶析した後、結
晶を減圧ろ過、アセトン洗浄および乾燥することによ
り、目的化合物19.3g(43.18mmol)を得た。単離
収率は96%、HPLCによる面積百分率(純度)は9
9%以上であった。
ベンゾイル)−2−フェニルチオビシクロ[3.2.
1]オクタ−2−エン−4−オンの製造方法 トリエチルアミンを添加することなく、実施例3と同様
の操作を行なった。反応完結まで4.5時間を要し、25
質量%水酸化ナトリウム水溶液の使用量は27.0g(168.
75mmol)であった。反応系内のpHは強アルカリ性
であり、このため中間体クロロ化物の調製に使用した
N,N−ジメチルホルムアミドの加水分解で生じたジメ
チルアミンが中間体クロロ化物と反応したジメチルアミ
ン体(副生成物)のピーク、および中間体クロロ化物が
加水分解して生成した原料トリケトン体のピークが認め
られた(この時の組成はHPLCの面積百分率で目的物
77%、中間体クロロ化物2%、原料トリケトン体9
%、副成物ジメチルアミン体7%、その他5%であっ
た。)。実施例4と同様に後処理して、目的化合物15.0
g(33.56mmol)を得た。単離収率は74%、HP
LCによる面積百分率(純度)は99%以上であった。
ベンゾイル)−3−フェニルチオシクロヘキサ−2−エ
ン−1−オンの製造方法 7.1g(20.94mmol)の2−(4−メシル−2−ニト
ロベンゾイル)−1,3−シクロヘキサンジオンを60
gのジクロロメタンに溶解し、N,N−ジメチルホルム
アミド0.30g(4.10mmol)を加えた。さらにオキサ
リルクロリド4.0g(31.52mmol)を滴下し、溶媒の
還流温度で1時間撹拌した。HPLCにて反応の完結を
確認し、中間体3−クロロ−2−(4−メシル−2−ニ
トロベンゾイル)シクロヘキサ−2−エン−1−オンを
得た。反応溶液をそのまま氷冷し、水(30ml)を加
えて30分撹拌した。氷冷下トリエチルアミン0.04g
(0.40mmol)を添加し、次いでチオフェノール2.31
g(20.94mmol)を加えた。さらに25質量%水酸
化ナトリウム水溶液を徐々に滴下し、反応系内を弱アル
カリ性(pH=9〜10)にコントロールしながら反応
させた。反応開始1時間後、HPLCにて中間体クロロ
化物ピークの消失を確認して反応を終了した(この時の
組成はHPLC面積百分率で目的物90%、その他10
%であった。)。反応に要した25質量%水酸化ナトリ
ウム水溶液は5.0g(31.25mmol)であった。
(40ml)を加えてジクロロメタンで抽出した。抽出
液を水洗し、系内質量が約15gとなるまで減圧濃縮し
た。濃縮液にアセトン/メタノール混合液を加え晶析し
た後、結晶を減圧ろ過、メタノール洗浄および乾燥する
ことにより、目的化合物7.9g(18.33mmol)を得
た。単離収率は88%、HPLCによる面積百分率(純
度)は99%以上であった。
ベンゾイル)−3−フェニルチオシクロヘキサ−2−エ
ン−1−オンの製造方法 実施例5と同様の操作によりクロロ化を実施し、中間体
3−クロロ−2−(4−メシル−2−ニトロベンゾイ
ル)シクロヘキサ−2−エン−1−オンを得た。反応溶
液を氷冷し、水(30ml)を加えて30分撹拌した
後、トリエチルアミンを添加することなくチオフェノー
ル2.31g(20.94mmol)のみを加えた。さらに25
質量%水酸化ナトリウム水溶液を徐々に滴下し、反応系
内を弱アルカリ性(pH=9〜10)にコントロールし
ながら反応させた。反応開始5時間後、HPLCにて中
間体クロロ化物ピークの消失をもって反応の完結を確認
した(この時のHPLC組成は面積百分率で目的物79
%、原料トリケトン体11%、その他10%)。反応に
要した25質量%水酸化ナトリウム水溶液は6.0g(37.
50mmol)であった。実施例5と同様に後処理して、
目的化合物6.2g(14.39mmol)を得た。単離収率は
69%、HPLCによる面積百分率(純度)は99%以
上であった。
て示す。表1から明らかなように、トリエチルアミン、
ピリジン等の第三級アミンを触媒として用いることによ
り副生成物の生成が抑えられ、短時間の反応で、目的化
合物を高収率、高純度で得ることができる。
Claims (7)
- 【請求項1】 一般式(II) 【化1】 (式中、R1およびR2は、それぞれ独立して置換されて
いてもよいC1〜C8のアルキル基を表わすか、R1お
よびR2が一緒になって 【化2】 (基中、R4、R5、R6、R7、R8およびR9は、各々独
立して水素原子またはC1〜C4のアルキル基を表わ
し、またはR4とR6、R6とR8もしくはR4とR8が一緒
になってC1〜C3のアルキレン基を表わす。)で示さ
れる置換されていてもよいプロピレン基を表わし、n個
のR3は、それぞれ独立して(1)ハロゲン原子、
(2)C1〜C4のアルキル基、(3)C1〜C4のア
ルコキシ基、(4)C1〜C4のアルキルチオ基、
(5)C2〜C5のアルコキシメチル基、(6)C2〜
C5のアルコキシカルボニル基、(7)C1〜C3のア
ルカンスルホニル基、(8)C1〜C3のアルカンスル
ホニルオキシ基、または(9)ニトロ基を表わし、R3
中のアルキル部分は、1または2以上のハロゲン原子で
置換されていてもよく、Xはハロゲン原子を表わし、n
は0〜5の整数である。)で示される化合物と、一般式
(III) 【化3】R10−SH (III) (式中、R10は、C1〜C8アルキル基、C2〜C8ア
ルケニル基、C2〜C8アルキニル基、C3〜C7シク
ロアルキル基、置換されていてもよいフェニル基、また
は置換されていてもよいベンジル基を表わす。)で示さ
れるチオール化合物を、疎水性有機溶媒中で水と塩基の
存在下、触媒として第三級アミンを用いて反応させるこ
とを特徴とする一般式(I) 【化4】 (式中の記号は前記と同じ意味を表わす。)で示される
チオエーテル化合物の製造方法。 - 【請求項2】 一般式(IV) 【化5】 (式中、R1、R2およびR3は請求項1の記載と同じ意
味を表わす。)で示される化合物をハロゲン化剤でハロ
ゲン化して得られる一般式(II) 【化6】 (式中、Xは請求項1の記載と同じ意味を表わし、その
他の記号は前記と同じ意味を表わす。)で示される化合
物を使用する請求項1に記載のチオエーテル化合物の製
造方法。 - 【請求項3】 第三級アミンを、一般式(II)で示され
る化合物に対して0.1〜10モル%使用する請求項1ま
たは2に記載の製造方法。 - 【請求項4】 第三級アミンがトリエチルアミンまたは
ピリジンである請求項1乃至3のいずれかに記載の製造
方法。 - 【請求項5】 塩基がアルカリ金属の水酸化物である請
求項1乃至4のいずれかに記載の製造方法。 - 【請求項6】 一般式(I)中、R1およびR2が一緒に
なって 【化7】 (基中、R4、R5、R6、R7、R8およびR9は、請求項
1の記載と同じ意味を表わす。)で示される置換されて
いてもよいプロピレン基を表わし、 【化8】 (基中、R11は水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、1
〜3個のフッ素原子によって置換されていてもよいC1
〜C2のアルキル基、C1〜C2のアルキルスルホニル
基を表わし、R12は水素原子、ハロゲン原子、C1〜C
2のアルキル基、C1〜C4のアルコキシ基、C2〜C
4のアルコキシメチル基、C2〜C5のアルコキシカル
ボニル基を表わし、R13は水素原子、ハロゲン原子、1
〜3個のフッ素原子によって置換されていてもよいC1
〜C3のアルコキシ基、C1〜C3のアルキルチオ基、
1〜6個のフッ素原子によって置換されていてもよいC
1〜C3のアルキルスルホニル基またはアルキルスルホ
ニルオキシ基を表わす。)を表わし、R10が 【化9】 (基中、m個のR14はそれぞれ独立してハロゲン原子ま
たはC1〜C2アルキル基を表わし、mは0〜5の整数
である。)で示される基を表わす化合物から一般式(I
A) 【化10】 (式中の記号は、前記と同じ意味を表わす。)で示され
るチオエーテル化合物を製造する請求項1または2に記
載の製造方法。 - 【請求項7】 一般式(IA)中、R5、R6、R7、R9、
およびR12が水素原子を表わし、R4とR8が一緒になっ
てエチレン基を表わし、R11が塩素原子を表わし、R13
がメタンスルホニル基を表わし、R10がフェニル基を表
わす式(IB) 【化11】 で示されるチオエーテル化合物を製造する請求項6に記
載の製造方法。
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JP2000190633A JP4608054B2 (ja) | 2000-06-26 | 2000-06-26 | 置換ベンゾイルチオエーテル化合物の製造方法 |
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-
2000
- 2000-06-26 JP JP2000190633A patent/JP4608054B2/ja not_active Expired - Lifetime
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