JP2003212861A - ピリミジニルアルコール誘導体の製造方法及びその合成中間体 - Google Patents
ピリミジニルアルコール誘導体の製造方法及びその合成中間体Info
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- C07D239/28—Heterocyclic compounds containing 1,3-diazine or hydrogenated 1,3-diazine rings not condensed with other rings having three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, directly attached to ring carbon atoms
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【課題】工業的に入手可能な原料から、ピリミジニルア
ルコール誘導体を高効率・高収率で合成する方法を提供
すること。 【解決手段】一般式（１） ［式中、Ｘはハロゲン原子を表し、Ｒはアルコキシメチ
ル基を表す。］で表される化合物を、触媒及び塩基性物
質の存在下、接触水素添加することにより、一般式
（２） ［式中、Ｒは前記と同じ意味を表す。］で表されるピリ
ミジニルアルコール誘導体の製造方法。 【効果】優れた除草効果を示すジフルオロメタンスルホ
ンアニリド誘導体の重要な製造中間体である、ピリミジ
ニルアルコール誘導体の新規な製法が提供される。本発
明方法によれば、同一系内でハロゲン原子、ニトロ基、
ケトンの３カ所を１工程で還元して、ピリミジニルアル
コール誘導体（２）を得ることができるのであり、極め
て操作が簡便かつ容易となり、目的物を高効率・高収率
で製造することが可能となるという格別の効果を示す。
ルコール誘導体を高効率・高収率で合成する方法を提供
すること。 【解決手段】一般式（１） ［式中、Ｘはハロゲン原子を表し、Ｒはアルコキシメチ
ル基を表す。］で表される化合物を、触媒及び塩基性物
質の存在下、接触水素添加することにより、一般式
（２） ［式中、Ｒは前記と同じ意味を表す。］で表されるピリ
ミジニルアルコール誘導体の製造方法。 【効果】優れた除草効果を示すジフルオロメタンスルホ
ンアニリド誘導体の重要な製造中間体である、ピリミジ
ニルアルコール誘導体の新規な製法が提供される。本発
明方法によれば、同一系内でハロゲン原子、ニトロ基、
ケトンの３カ所を１工程で還元して、ピリミジニルアル
コール誘導体（２）を得ることができるのであり、極め
て操作が簡便かつ容易となり、目的物を高効率・高収率
で製造することが可能となるという格別の効果を示す。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は新規なピリミジニル
アルコール誘導体の製造方法、及びその合成中間体に関
するものである。
アルコール誘導体の製造方法、及びその合成中間体に関
するものである。
【０００２】
【従来の技術】ピリミジニルアルコール誘導体である
（２−アミノ−３−メトキシメチルフェニル）（４，６
−ジメトキシピリミジン−２−イル）メタノールが除草
剤の合成中間体であることは、例えば、ＷＯ００／０６
５５３号公報に記載されている。しかしながら、その工
業的な製造方法は、これまでに具体的に文献に記載され
たことはない。
（２−アミノ−３−メトキシメチルフェニル）（４，６
−ジメトキシピリミジン−２−イル）メタノールが除草
剤の合成中間体であることは、例えば、ＷＯ００／０６
５５３号公報に記載されている。しかしながら、その工
業的な製造方法は、これまでに具体的に文献に記載され
たことはない。
【０００３】また、接触的水素添加法にて、同一系内
で、ハロゲン原子、ニトロ基、ケトンの３カ所を１工程
で還元する方法は未だ知られていない。
で、ハロゲン原子、ニトロ基、ケトンの３カ所を１工程
で還元する方法は未だ知られていない。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】工業的に入手可能な原
料から、（２−アミノ−３−メトキシメチルフェニル）
（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）メタノー
ルに代表されるピリミジニルアルコール誘導体を高効率
・高収率で合成する方法を見出すことを課題としてなさ
れた。
料から、（２−アミノ−３−メトキシメチルフェニル）
（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）メタノー
ルに代表されるピリミジニルアルコール誘導体を高効率
・高収率で合成する方法を見出すことを課題としてなさ
れた。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を解決するために鋭意検討し、その結果、（５−ハロゲ
ノ−３−アルコキシメチル−２−ニトロフェニル）
（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）ケトン
を、同一系内で、触媒と塩基性物質の存在下、接触水素
添加して、塩素原子、ニトロ基、ケトンの３カ所を１工
程で還元しうる方法を見出し、（２−アミノ−３−メト
キシメチルフェニル）（４，６−ジメトキシピリミジン
−２−イル）メタノールに代表される一般式（２）で表
されるピリミジニルアルコール誘導体を高効率・高収率
で合成できることを知得し、又その中間体が新規物質で
あることを知り、本発明を完成するに至った。
を解決するために鋭意検討し、その結果、（５−ハロゲ
ノ−３−アルコキシメチル−２−ニトロフェニル）
（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）ケトン
を、同一系内で、触媒と塩基性物質の存在下、接触水素
添加して、塩素原子、ニトロ基、ケトンの３カ所を１工
程で還元しうる方法を見出し、（２−アミノ−３−メト
キシメチルフェニル）（４，６−ジメトキシピリミジン
−２−イル）メタノールに代表される一般式（２）で表
されるピリミジニルアルコール誘導体を高効率・高収率
で合成できることを知得し、又その中間体が新規物質で
あることを知り、本発明を完成するに至った。
【０００６】
【発明の実施の形態】即ち、本発明は下記〔１〕乃至
〔４〕記載の発明を提供するものである。
〔４〕記載の発明を提供するものである。
【０００７】〔１〕一般式（１）
【０００８】
【化１８】
【０００９】［式中、Ｘはハロゲン原子を表し、Ｒはア
ルコキシメチル基を表す。］
ルコキシメチル基を表す。］
【００１０】で表される化合物を、触媒及び塩基性物質
の存在下、接触水素添加することを特徴とする、一般式
（２）
の存在下、接触水素添加することを特徴とする、一般式
（２）
【００１１】
【化１９】
［式中、Ｒは前記と同じ意味を表す。］
【００１２】で表されるピリミジニルアルコール誘導体
の製造方法。
の製造方法。
【００１３】〔２〕一般式（１）で表される化合物が、
一般式（４）
一般式（４）
【００１４】
【化２０】
【００１５】［式中、Ｘはハロゲン原子を表し、Ｒはア
ルコキシメチル基を表す。］
ルコキシメチル基を表す。］
【００１６】で表される化合物と、一般式（５）
【００１７】
【化２１】
【００１８】［式中、Ｚはハロゲン原子、置換フェノキ
シ基、又は（ＣＨ３）２ＮＣＳ２を表す。］
シ基、又は（ＣＨ３）２ＮＣＳ２を表す。］
【００１９】で表される化合物とを反応させて、一般式
（６）
（６）
【００２０】
【化２２】
【００２１】［式中、Ｘ、Ｒは前記と同じ意味を表
す。］
す。］
【００２２】で表される化合物とした後、一般式（６）
で表される化合物と式（７）
で表される化合物と式（７）
【００２３】
【化２３】
【００２４】で表される化合物を反応させて、一般式
（８）
（８）
【００２５】
【化２４】
【００２６】［式中、Ｘ、Ｒは前記と同じ意味を表
す。］
す。］
【００２７】で表される化合物とし、さらに一般式
（８）で表される化合物を酸化することにより製造され
たものである、〔１〕項記載のピリミジニルアルコール
誘導体の製造方法。
（８）で表される化合物を酸化することにより製造され
たものである、〔１〕項記載のピリミジニルアルコール
誘導体の製造方法。
【００２８】〔３〕一般式（１）で表される化合物が、
一般式（９）
一般式（９）
【００２９】
【化２５】
【００３０】［式中、Ｘはハロゲン原子を表す。］
【００３１】で表される化合物と、一般式（５）
【００３２】
【化２６】
【００３３】［式中、Ｚはハロゲン原子、置換フェノキ
シ基、又は（ＣＨ３）２ＮＣＳ２を表す。］
シ基、又は（ＣＨ３）２ＮＣＳ２を表す。］
【００３４】で表される化合物とを反応させて、一般式
（１０）
（１０）
【００３５】
【化２７】
【００３６】［式中、Ｘは前記と同じ意味を表す。］
【００３７】で表される化合物とした後、一般式（１
０）で表される化合物をメチル化剤でメチル化して一般
式（１１）
０）で表される化合物をメチル化剤でメチル化して一般
式（１１）
【００３８】
【化２８】
【００３９】［式中、Ｘはハロゲン原子を表す。］
【００４０】で表される化合物とした後、一般式（１
１）で表される化合物を還元して一般式（１２）
１）で表される化合物を還元して一般式（１２）
【００４１】
【化２９】
【００４２】［式中、Ｘは前記と同じ意味を表す。］
【００４３】で表される化合物とし、一般式（１２）で
表される化合物をアセチル化して一般式（１３）
表される化合物をアセチル化して一般式（１３）
【００４４】
【化３０】
【００４５】［式中、Ｘは前記と同じ意味を表す。］
【００４６】で表される化合物とし、一般式（１３）で
表される化合物を式（７）
表される化合物を式（７）
【００４７】
【化３１】
【００４８】で表される化合物と反応させて、一般式
（１４）
（１４）
【００４９】
【化３２】
【００５０】［式中、Ｘは前記と同じ意味を表す。］
【００５１】で表される化合物とした後、一般式（１
４）で表される化合物を酸化して、一般式（１５）
４）で表される化合物を酸化して、一般式（１５）
【００５２】
【化３３】
【００５３】［式中、Ｘは前記と同じ意味を表す。］
【００５４】で表される化合物とし、さらに一般式（１
５）で表される化合物をアルキル化剤でアルキル化する
ことにより製造されたものである、〔１〕項記載のピリ
ミジニルアルコール誘導体の製造方法。
５）で表される化合物をアルキル化剤でアルキル化する
ことにより製造されたものである、〔１〕項記載のピリ
ミジニルアルコール誘導体の製造方法。
【００５５】〔４〕一般式（２）で表されるピリミジニ
ルアルコール誘導体の合成中間体である、一般式（３）
ルアルコール誘導体の合成中間体である、一般式（３）
【００５６】
【化３４】
【００５７】［式中、Ｘはハロゲン原子を示し、Ｘ１は
基−ＣＯＯＲ１（ここで、Ｒ１は水素原子又はアルキル
基を示す。）、基−ＣＨ２ＯＨ、基−ＣＨ２ＯＣＨ３、
基−ＣＨ２ＯＣＯＲ２（ここで、Ｒ２はアルキル基又は
フェニル基を示す。）、Ｙは基−ＣＨ２ＣＮ、ＣＨ（Ｃ
Ｎ）−Ｐｙｍ、又は基−Ｃ（Ｏ）−Ｐｙｍを表し、Ｐｙ
ｍは、４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル基を表
す。］で表されるニトロベンゼン誘導体。
基−ＣＯＯＲ１（ここで、Ｒ１は水素原子又はアルキル
基を示す。）、基−ＣＨ２ＯＨ、基−ＣＨ２ＯＣＨ３、
基−ＣＨ２ＯＣＯＲ２（ここで、Ｒ２はアルキル基又は
フェニル基を示す。）、Ｙは基−ＣＨ２ＣＮ、ＣＨ（Ｃ
Ｎ）−Ｐｙｍ、又は基−Ｃ（Ｏ）−Ｐｙｍを表し、Ｐｙ
ｍは、４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル基を表
す。］で表されるニトロベンゼン誘導体。
【００５８】本明細書において用いるハロゲン原子なる
語は、例えば塩素原子、臭素原子、フッ素原子、ヨウ素
原子を包含するハロゲン原子を意味する。
語は、例えば塩素原子、臭素原子、フッ素原子、ヨウ素
原子を包含するハロゲン原子を意味する。
【００５９】本明細書において用いるアルコキシメチル
基なる語は、例えばメトキシメチル基、エトキシメチル
基を包含する、（炭素数１〜６アルコキシ）メチル基を
意味する。
基なる語は、例えばメトキシメチル基、エトキシメチル
基を包含する、（炭素数１〜６アルコキシ）メチル基を
意味する。
【００６０】本明細書において用いるアルキル基なる語
は、例えばメチル基、エチル基を包含する、炭素数１〜
６アルキル基を意味する。
は、例えばメチル基、エチル基を包含する、炭素数１〜
６アルキル基を意味する。
【００６１】〔１〕項記載の発明について説明する。
【００６２】まず、本発明〔１〕の、（２−アミノ−３
−メトキシメチルフェニル）（４，６−ジメトキシピリ
ミジン−２−イル）メタノールに代表される一般式
（２）で表されるピリミジニルアルコール誘導体の製造
法について説明する。
−メトキシメチルフェニル）（４，６−ジメトキシピリ
ミジン−２−イル）メタノールに代表される一般式
（２）で表されるピリミジニルアルコール誘導体の製造
法について説明する。
【００６３】
【化３５】
【００６４】［式中、Ｘはハロゲン原子を表し、Ｒはア
ルコキシメチル基を表す。］
ルコキシメチル基を表す。］
【００６５】一般式（１）で表される化合物（好ましく
は、式中のＸが塩素原子であり、Ｒがメトキシメチル基
である化合物）を、触媒及び塩基性物質の存在下、溶媒
中で、常圧あるいは加圧下で接触水素添加することで、
同一系内で同一条件下、ハロゲン原子、ニトロ基、ケト
ンの３カ所を１工程で還元して、（２−アミノ−３−メ
トキシメチルフェニル）（４，６−ジメトキシピリミジ
ン−２−イル）メタノールに代表される一般式（２）で
表されるピリミジニルアルコール誘導体を得ることがで
きる（実操作上は、ハロゲン原子、ニトロ基、ケトンの
３カ所を同一反応器内の同一条件下で同時に還元するよ
うに取り扱うことができる）。
は、式中のＸが塩素原子であり、Ｒがメトキシメチル基
である化合物）を、触媒及び塩基性物質の存在下、溶媒
中で、常圧あるいは加圧下で接触水素添加することで、
同一系内で同一条件下、ハロゲン原子、ニトロ基、ケト
ンの３カ所を１工程で還元して、（２−アミノ−３−メ
トキシメチルフェニル）（４，６−ジメトキシピリミジ
ン−２−イル）メタノールに代表される一般式（２）で
表されるピリミジニルアルコール誘導体を得ることがで
きる（実操作上は、ハロゲン原子、ニトロ基、ケトンの
３カ所を同一反応器内の同一条件下で同時に還元するよ
うに取り扱うことができる）。
【００６６】当反応における水素ガス仕込み時の水素圧
は、常圧から加圧条件下、具体的には常圧〜９８００Ｋ
Ｐａ（９．８００ＭＰａ）、好ましくは常圧〜１９６０
ＫＰａ（１．９６０ＭＰａ）の圧力範囲であればよい。
は、常圧から加圧条件下、具体的には常圧〜９８００Ｋ
Ｐａ（９．８００ＭＰａ）、好ましくは常圧〜１９６０
ＫＰａ（１．９６０ＭＰａ）の圧力範囲であればよい。
【００６７】当反応の反応温度は、０℃〜反応系におけ
る還流温度までの任意の温度、好ましくは室温〜２００
℃の温度範囲であり、反応は１〜４８時間で終了する。
る還流温度までの任意の温度、好ましくは室温〜２００
℃の温度範囲であり、反応は１〜４８時間で終了する。
【００６８】触媒としては、パラジウム、ニッケル、白
金、ロジウムなどの遷移金属を含有する、例えばＰｄ／
Ｃ（活性炭担持パラジウム）、ラネーニッケル、酸化白
金等を包含する、接触水素添加反応に一般に用いられる
公知の遷移金属触媒を用いることができ、その使用量
は、一般式（１）で表される化合物１モルに対して、
０．０１〜５０モル％、好ましくは０．１〜１０モル％
である。
金、ロジウムなどの遷移金属を含有する、例えばＰｄ／
Ｃ（活性炭担持パラジウム）、ラネーニッケル、酸化白
金等を包含する、接触水素添加反応に一般に用いられる
公知の遷移金属触媒を用いることができ、その使用量
は、一般式（１）で表される化合物１モルに対して、
０．０１〜５０モル％、好ましくは０．１〜１０モル％
である。
【００６９】塩基性物質としては、例えば水素化ナトリ
ウム等の金属水素化物；ナトリウムアミド又はリチウム
ジイソプロピルアミド等のアルカリ金属アミド類；ピリ
ジン、トリエチルアミン又は１，８−ジアザビシクロ
［５．４．０］−７−ウンデセン等の有機塩基類；水酸
化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属の水酸
化物；水酸化カルシウム又は水酸化マグネシウム等のア
ルカリ土類金属の水酸化物；炭酸ナトリウム又は炭酸カ
リウム等のアルカリ金属の炭酸塩類；炭酸水素ナトリウ
ム又は炭酸水素カリウム等のアルカリ金属の重炭酸塩
類；酢酸ナトリウムやギ酸カリウム等のアルカリ金属カ
ルボン酸塩類；或いはナトリウムメトキシド又はｔｅｒ
ｔ−ブトキシカリウム等のアルコール金属塩類が挙げら
れる。反応に供される塩基性物質の量は、一般式（１）
で表される化合物１当量に対して、１〜１０当量、好ま
しくは１〜２当量である。
ウム等の金属水素化物；ナトリウムアミド又はリチウム
ジイソプロピルアミド等のアルカリ金属アミド類；ピリ
ジン、トリエチルアミン又は１，８−ジアザビシクロ
［５．４．０］−７−ウンデセン等の有機塩基類；水酸
化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属の水酸
化物；水酸化カルシウム又は水酸化マグネシウム等のア
ルカリ土類金属の水酸化物；炭酸ナトリウム又は炭酸カ
リウム等のアルカリ金属の炭酸塩類；炭酸水素ナトリウ
ム又は炭酸水素カリウム等のアルカリ金属の重炭酸塩
類；酢酸ナトリウムやギ酸カリウム等のアルカリ金属カ
ルボン酸塩類；或いはナトリウムメトキシド又はｔｅｒ
ｔ−ブトキシカリウム等のアルコール金属塩類が挙げら
れる。反応に供される塩基性物質の量は、一般式（１）
で表される化合物１当量に対して、１〜１０当量、好ま
しくは１〜２当量である。
【００７０】当反応では、溶媒としては、例えばジオキ
サン、テトラヒドロフラン、ジイソプロピルエーテル
（ＩＰＥ）等のエーテル類；メタノール、エタノール等
のアルコール類；ジクロロエタン、四塩化炭素、クロロ
ベンゼン又はジクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素
類；Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル
ホルムアミド（ＤＭＦ）又はＮ−メチル−２−ピロリド
ン等のアミド類；ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）又
はスルホラン等の硫黄化合物；ベンゼン、トルエン又は
キシレン等の芳香族炭化水素類；メタノール、エタノー
ル、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール又は
ｔｅｒｔ−ブタノール等のアルコール類；アセトニトリ
ル等のニトリル類；水；或いはこれらの混合物が挙げら
れる。また、当反応に供される溶媒の量は、一般式
（１）で表される化合物１モルに対して、０．１〜１０
Ｌ（リットル）、好ましくは１〜４Ｌである。
サン、テトラヒドロフラン、ジイソプロピルエーテル
（ＩＰＥ）等のエーテル類；メタノール、エタノール等
のアルコール類；ジクロロエタン、四塩化炭素、クロロ
ベンゼン又はジクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素
類；Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル
ホルムアミド（ＤＭＦ）又はＮ−メチル−２−ピロリド
ン等のアミド類；ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）又
はスルホラン等の硫黄化合物；ベンゼン、トルエン又は
キシレン等の芳香族炭化水素類；メタノール、エタノー
ル、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール又は
ｔｅｒｔ−ブタノール等のアルコール類；アセトニトリ
ル等のニトリル類；水；或いはこれらの混合物が挙げら
れる。また、当反応に供される溶媒の量は、一般式
（１）で表される化合物１モルに対して、０．１〜１０
Ｌ（リットル）、好ましくは１〜４Ｌである。
【００７１】本発明方法〔１〕の原料である化合物
（１）は新規物質であり、以下に示す方法で製造するこ
とができるが、その製法はこれらに限定されるものでは
ない。
（１）は新規物質であり、以下に示す方法で製造するこ
とができるが、その製法はこれらに限定されるものでは
ない。
【００７２】一般式（１）で表される化合物の製造方法
１
１
【００７３】４−ハロゲノ−２−メトキシメチルニトロ
ベンゼン（４）から、反応ａ〜ｃの３工程を経て、一般
式（１）で表される化合物を製造することができる。
ベンゼン（４）から、反応ａ〜ｃの３工程を経て、一般
式（１）で表される化合物を製造することができる。
【００７４】
【化３６】
【００７５】［式中、Ｘはハロゲン原子を表し、Ｒはア
ルコキシメチル基を表し、Ｚはハロゲン原子、置換フェ
ノキシ基、又は（ＣＨ３）２ＮＣＳ２を表す。］
ルコキシメチル基を表し、Ｚはハロゲン原子、置換フェ
ノキシ基、又は（ＣＨ３）２ＮＣＳ２を表す。］
【００７６】反応ａ
【００７７】一般式（４）で表される化合物（好ましく
は、式中のＸが塩素原子であり、Ｒがメトキシメチル基
である化合物）１モルに対して、０．５〜１０Ｌ、好ま
しくは１〜３Ｌの溶媒中、１〜２当量、好ましくは１〜
１．３当量の一般式（５）で表される化合物を、１〜１
０当量、好ましくは２〜５当量の塩基存在下、反応系の
融点〜還流までの任意の温度、好ましくは−５０℃〜２
０℃の温度範囲で、数秒〜２４時間反応させることによ
り、一般式（６）で表される化合物を製造することがで
きる。
は、式中のＸが塩素原子であり、Ｒがメトキシメチル基
である化合物）１モルに対して、０．５〜１０Ｌ、好ま
しくは１〜３Ｌの溶媒中、１〜２当量、好ましくは１〜
１．３当量の一般式（５）で表される化合物を、１〜１
０当量、好ましくは２〜５当量の塩基存在下、反応系の
融点〜還流までの任意の温度、好ましくは−５０℃〜２
０℃の温度範囲で、数秒〜２４時間反応させることによ
り、一般式（６）で表される化合物を製造することがで
きる。
【００７８】当反応ａにおいて使用できる溶媒として
は、例えばジオキサン、テトラヒドロフラン、ジイソプ
ロピルエーテル（ＩＰＥ）等のエーテル類；メタノー
ル、エタノール等のアルコール類；ジクロロエタン、四
塩化炭素、クロロベンゼン又はジクロロベンゼン等のハ
ロゲン化炭化水素類；Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）又はＮ−メチ
ル−２−ピロリドン等のアミド類；ジメチルスルホキシ
ド（ＤＭＳＯ）又はスルホラン等の硫黄化合物；ベンゼ
ン、トルエン又はキシレン等の芳香族炭化水素類；或い
はこれらの混合物が挙げられる。
は、例えばジオキサン、テトラヒドロフラン、ジイソプ
ロピルエーテル（ＩＰＥ）等のエーテル類；メタノー
ル、エタノール等のアルコール類；ジクロロエタン、四
塩化炭素、クロロベンゼン又はジクロロベンゼン等のハ
ロゲン化炭化水素類；Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）又はＮ−メチ
ル−２−ピロリドン等のアミド類；ジメチルスルホキシ
ド（ＤＭＳＯ）又はスルホラン等の硫黄化合物；ベンゼ
ン、トルエン又はキシレン等の芳香族炭化水素類；或い
はこれらの混合物が挙げられる。
【００７９】当反応ａにおいて使用できる塩基として
は、例えば水素化ナトリウム等の金属水素化物；ナトリ
ウムアミド又はリチウムジイソプロピルアミド等のアル
カリ金属アミド類；ピリジン、トリエチルアミン又は
１、８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセ
ン等の有機塩基類；水酸化ナトリウム、水酸化カリウム
等のアルカリ金属の水酸化物；水酸化カルシウム又は水
酸化マグネシウム等のアルカリ土類金属の水酸化物；炭
酸ナトリウム又は炭酸カリウム等のアルカリ金属の炭酸
塩類；炭酸水素ナトリウム又は炭酸水素カリウム等のア
ルカリ金属の重炭酸塩類；酢酸ナトリウムやギ酸カリウ
ム等のアルカリ金属のカルボン酸塩類；或いはナトリウ
ムメトキシド又はｔｅｒｔ−ブトキシカリウム等のアル
コール金属塩類が挙げられる。
は、例えば水素化ナトリウム等の金属水素化物；ナトリ
ウムアミド又はリチウムジイソプロピルアミド等のアル
カリ金属アミド類；ピリジン、トリエチルアミン又は
１、８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセ
ン等の有機塩基類；水酸化ナトリウム、水酸化カリウム
等のアルカリ金属の水酸化物；水酸化カルシウム又は水
酸化マグネシウム等のアルカリ土類金属の水酸化物；炭
酸ナトリウム又は炭酸カリウム等のアルカリ金属の炭酸
塩類；炭酸水素ナトリウム又は炭酸水素カリウム等のア
ルカリ金属の重炭酸塩類；酢酸ナトリウムやギ酸カリウ
ム等のアルカリ金属のカルボン酸塩類；或いはナトリウ
ムメトキシド又はｔｅｒｔ−ブトキシカリウム等のアル
コール金属塩類が挙げられる。
【００８０】当反応ａにおける原料たる化合物（４）
は、公知の化合物であるか、或いは例えばジャーナル
オブ ジ アメリカン ケミカル ソサエティ（Ｊ．Ａ
ｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．），第７４巻，第５３６頁（１
９５２）記載の方法によって対応するベンジルアルコー
ル誘導体を製造した後、その対応するベンジルアルコー
ル誘導体のアルコール部位を常法によりヨウ化メチルに
代表されるハロゲン化アルキル等のアルキル化剤でアル
キル化することにより合成できる化合物である。
は、公知の化合物であるか、或いは例えばジャーナル
オブ ジ アメリカン ケミカル ソサエティ（Ｊ．Ａ
ｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．），第７４巻，第５３６頁（１
９５２）記載の方法によって対応するベンジルアルコー
ル誘導体を製造した後、その対応するベンジルアルコー
ル誘導体のアルコール部位を常法によりヨウ化メチルに
代表されるハロゲン化アルキル等のアルキル化剤でアル
キル化することにより合成できる化合物である。
【００８１】反応ｂ
【００８２】一般式（６）で表される化合物１モルに対
して、１〜２当量、好ましくは１〜１．２当量の４，６
−ジメトキシ−２−メチルスルホニルピリミジン（７）
を、０．５〜１０Ｌの溶媒中、１〜５当量、好ましくは
２〜２．５当量の塩基存在下、０℃〜溶媒の沸点、好ま
しくは０℃〜室温の間で、１０分〜１０時間反応させる
ことにより、一般式（８）で表される化合物を製造する
ことができる。
して、１〜２当量、好ましくは１〜１．２当量の４，６
−ジメトキシ−２−メチルスルホニルピリミジン（７）
を、０．５〜１０Ｌの溶媒中、１〜５当量、好ましくは
２〜２．５当量の塩基存在下、０℃〜溶媒の沸点、好ま
しくは０℃〜室温の間で、１０分〜１０時間反応させる
ことにより、一般式（８）で表される化合物を製造する
ことができる。
【００８３】当反応ｂにおいて使用できる溶媒として
は、例えばジオキサン、テトラヒドロフラン、ジイソプ
ロピルエーテル（ＩＰＥ）等のエーテル類；メタノー
ル、エタノール等のアルコール類；ジクロロエタン、四
塩化炭素、クロロベンゼン又はジクロロベンゼン等のハ
ロゲン化炭化水素類；Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）又はＮ−メチ
ル−２−ピロリドン等のアミド類；ジメチルスルホキシ
ド（ＤＭＳＯ）又はスルホラン等の硫黄化合物；ベンゼ
ン、トルエン又はキシレン等の芳香族炭化水素類；或い
はこれらの混合物が挙げられる。
は、例えばジオキサン、テトラヒドロフラン、ジイソプ
ロピルエーテル（ＩＰＥ）等のエーテル類；メタノー
ル、エタノール等のアルコール類；ジクロロエタン、四
塩化炭素、クロロベンゼン又はジクロロベンゼン等のハ
ロゲン化炭化水素類；Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）又はＮ−メチ
ル−２−ピロリドン等のアミド類；ジメチルスルホキシ
ド（ＤＭＳＯ）又はスルホラン等の硫黄化合物；ベンゼ
ン、トルエン又はキシレン等の芳香族炭化水素類；或い
はこれらの混合物が挙げられる。
【００８４】当反応ｂにおいて使用できる塩基として
は、例えば水素化ナトリウム等の金属水素化物；ナトリ
ウムアミド又はリチウムジイソプロピルアミド等のアル
カリ金属アミド類；ピリジン、トリエチルアミン又は
１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセ
ン等の有機塩基類；水酸化ナトリウム、水酸化カリウム
等のアルカリ金属の水酸化物；水酸化カルシウム又は水
酸化マグネシウム等のアルカリ土類金属の水酸化物；炭
酸ナトリウム又は炭酸カリウム等のアルカリ金属の炭酸
塩類；炭酸水素ナトリウム又は炭酸水素カリウム等のア
ルカリ金属の重炭酸塩類；酢酸ナトリウムやギ酸カリウ
ム等のアルカリ金属カルボン酸塩類；或いはナトリウム
メトキシド又はｔｅｒｔ−ブトキシカリウム等のアルコ
ール金属塩類が挙げられる。
は、例えば水素化ナトリウム等の金属水素化物；ナトリ
ウムアミド又はリチウムジイソプロピルアミド等のアル
カリ金属アミド類；ピリジン、トリエチルアミン又は
１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセ
ン等の有機塩基類；水酸化ナトリウム、水酸化カリウム
等のアルカリ金属の水酸化物；水酸化カルシウム又は水
酸化マグネシウム等のアルカリ土類金属の水酸化物；炭
酸ナトリウム又は炭酸カリウム等のアルカリ金属の炭酸
塩類；炭酸水素ナトリウム又は炭酸水素カリウム等のア
ルカリ金属の重炭酸塩類；酢酸ナトリウムやギ酸カリウ
ム等のアルカリ金属カルボン酸塩類；或いはナトリウム
メトキシド又はｔｅｒｔ−ブトキシカリウム等のアルコ
ール金属塩類が挙げられる。
【００８５】反応ｃ
【００８６】一般式（８）で表される化合物１モルに対
して、０〜５０モル％、好ましくは１〜１０モル％の触
媒存在下、０．１〜１０Ｌ、好ましくは０．５〜２Ｌの
溶媒中にて１〜５当量、好ましくは１〜１．５当量の酸
化剤と反応させた後、中性あるいはアルカリ性にするこ
とにより、一般式（１）で表される化合物を製造するこ
とができる。
して、０〜５０モル％、好ましくは１〜１０モル％の触
媒存在下、０．１〜１０Ｌ、好ましくは０．５〜２Ｌの
溶媒中にて１〜５当量、好ましくは１〜１．５当量の酸
化剤と反応させた後、中性あるいはアルカリ性にするこ
とにより、一般式（１）で表される化合物を製造するこ
とができる。
【００８７】当反応ｃにおいて使用できる溶媒として
は、例えばジオキサン、テトラヒドロフラン、ジイソプ
ロピルエーテル（ＩＰＥ）等のエーテル類；メタノー
ル、エタノール等のアルコール類；ジクロロエタン、四
塩化炭素、クロロベンゼン又はジクロロベンゼン等のハ
ロゲン化炭化水素類；Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）又はＮ−メチ
ル−２−ピロリドン等のアミド類；ジメチルスルホキシ
ド（ＤＭＳＯ）又はスルホラン等の硫黄化合物；ベンゼ
ン、トルエン又はキシレン等の芳香族炭化水素類；或い
はこれらの混合物が挙げられる。
は、例えばジオキサン、テトラヒドロフラン、ジイソプ
ロピルエーテル（ＩＰＥ）等のエーテル類；メタノー
ル、エタノール等のアルコール類；ジクロロエタン、四
塩化炭素、クロロベンゼン又はジクロロベンゼン等のハ
ロゲン化炭化水素類；Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）又はＮ−メチ
ル−２−ピロリドン等のアミド類；ジメチルスルホキシ
ド（ＤＭＳＯ）又はスルホラン等の硫黄化合物；ベンゼ
ン、トルエン又はキシレン等の芳香族炭化水素類；或い
はこれらの混合物が挙げられる。
【００８８】当反応ｃにおいて使用できる触媒として
は、例えば二酸化セレン、酸化バナジウム、タングステ
ン酸ナトリウム等のタングステン酸塩、モリブデン酸塩
などの遷移金属塩類が挙げられる。
は、例えば二酸化セレン、酸化バナジウム、タングステ
ン酸ナトリウム等のタングステン酸塩、モリブデン酸塩
などの遷移金属塩類が挙げられる。
【００８９】当反応ｃにおいて使用できる酸化剤として
は、例えば過酸化水素、過酢酸、ｍ−クロロ過安息香酸
などの有機過酸が挙げられる。
は、例えば過酸化水素、過酢酸、ｍ−クロロ過安息香酸
などの有機過酸が挙げられる。
【００９０】当反応ｃにおける中和あるいはアルカリ性
にするために用いる物質は、例えば水素化ナトリウム等
の金属水素化物；ナトリウムアミド又はリチウムジイソ
プロピルアミド等のアルカリ金属アミド類；ピリジン、
トリエチルアミン又は１，８−ジアザビシクロ［５．
４．０］−７−ウンデセン等の有機塩基類；水酸化ナト
リウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属の水酸化物；
水酸化カルシウム又は水酸化マグネシウム等のアルカリ
土類金属の水酸化物；炭酸ナトリウム又は炭酸カリウム
等のアルカリ金属の炭酸塩類；炭酸水素ナトリウム又は
炭酸水素カリウム等のアルカリ金属の重炭酸塩類；酢酸
ナトリウムやギ酸カリウム等アルカリ金属のカルボン酸
塩類；或いはナトリウムメトキシド又はｔｅｒｔ−ブト
キシカリウム等アルコールの金属塩類が挙げられる。
にするために用いる物質は、例えば水素化ナトリウム等
の金属水素化物；ナトリウムアミド又はリチウムジイソ
プロピルアミド等のアルカリ金属アミド類；ピリジン、
トリエチルアミン又は１，８−ジアザビシクロ［５．
４．０］−７−ウンデセン等の有機塩基類；水酸化ナト
リウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属の水酸化物；
水酸化カルシウム又は水酸化マグネシウム等のアルカリ
土類金属の水酸化物；炭酸ナトリウム又は炭酸カリウム
等のアルカリ金属の炭酸塩類；炭酸水素ナトリウム又は
炭酸水素カリウム等のアルカリ金属の重炭酸塩類；酢酸
ナトリウムやギ酸カリウム等アルカリ金属のカルボン酸
塩類；或いはナトリウムメトキシド又はｔｅｒｔ−ブト
キシカリウム等アルコールの金属塩類が挙げられる。
【００９１】一般式（１）で表される化合物の製造方法
２
２
【００９２】５−ハロゲノ−２−ニトロ安息香酸（９）
を出発物質とし、反応ｅ〜ｋの７工程を経て、一般式
（１）で表される化合物を製造できる。
を出発物質とし、反応ｅ〜ｋの７工程を経て、一般式
（１）で表される化合物を製造できる。
【００９３】
【化３７】
【００９４】［式中、Ｘはハロゲン原子を表し、Ｒ１は
アルコキシメチル基を表し、Ｚはハロゲン原子、置換フ
ェノキシ基、又は（ＣＨ３）２ＮＣＳ２を表す。］
アルコキシメチル基を表し、Ｚはハロゲン原子、置換フ
ェノキシ基、又は（ＣＨ３）２ＮＣＳ２を表す。］
【００９５】反応ｅ
【００９６】当反応ｅにおいて、一般式（９）で表され
る化合物（式中、Ｘは、好ましくは塩素原子。）１モル
に対して、１〜２当量、好ましくは１〜１．３当量の一
般式（５）で表される化合物を用いて、反応ａと同様に
して、一般式（１０）で表される化合物を製造すること
ができる。一般式（９）で表される化合物は、市販され
ている。
る化合物（式中、Ｘは、好ましくは塩素原子。）１モル
に対して、１〜２当量、好ましくは１〜１．３当量の一
般式（５）で表される化合物を用いて、反応ａと同様に
して、一般式（１０）で表される化合物を製造すること
ができる。一般式（９）で表される化合物は、市販され
ている。
【００９７】反応ｆ
【００９８】当反応ｆにおいて、一般式（１０）で表さ
れる化合物とメチル化剤を、溶媒中、０℃〜溶媒の沸点
の間、好ましくは１０〜３０℃で、１〜２４時間反応さ
せることにより、一般式（１１）で表される化合物を製
造することができる。
れる化合物とメチル化剤を、溶媒中、０℃〜溶媒の沸点
の間、好ましくは１０〜３０℃で、１〜２４時間反応さ
せることにより、一般式（１１）で表される化合物を製
造することができる。
【００９９】当反応ｆにおいて、一般式（１０）で表さ
れる化合物１モルに対して、メチル化剤としては、例え
ば１〜１０Ｌのメタノールと０〜５０モル％、好ましく
は１〜１０モル％の酸触媒、もしくは１〜３当量、好ま
しくは１〜１．２当量のヨウ化メチル等のハロゲン化メ
チルあるいはジメチル硫酸と１〜３当量、好ましくは１
〜１．２当量の塩基の組み合わせを選ぶことができる。
この際、０．１〜５０モル％、好ましくは１〜１０モル
％の相関移動触媒も使用できる。
れる化合物１モルに対して、メチル化剤としては、例え
ば１〜１０Ｌのメタノールと０〜５０モル％、好ましく
は１〜１０モル％の酸触媒、もしくは１〜３当量、好ま
しくは１〜１．２当量のヨウ化メチル等のハロゲン化メ
チルあるいはジメチル硫酸と１〜３当量、好ましくは１
〜１．２当量の塩基の組み合わせを選ぶことができる。
この際、０．１〜５０モル％、好ましくは１〜１０モル
％の相関移動触媒も使用できる。
【０１００】当反応ｆにおいて使用できる相関移動触媒
としては、例えばテトラブチルアンモニウムブロマイド
あるいはベンジルトリエチルアンモニウムクロライドの
ような四級アンモニウム塩などが挙げられる。
としては、例えばテトラブチルアンモニウムブロマイド
あるいはベンジルトリエチルアンモニウムクロライドの
ような四級アンモニウム塩などが挙げられる。
【０１０１】当反応ｆにおいて使用できる酸触媒として
は、例えば塩酸、硫酸等の鉱酸；酢酸、メタンスルホン
酸、パラトルエンスルホン酸等の有機酸を挙げられる。
は、例えば塩酸、硫酸等の鉱酸；酢酸、メタンスルホン
酸、パラトルエンスルホン酸等の有機酸を挙げられる。
【０１０２】当反応ｆにおいて使用できる塩基として
は、例えば水素化ナトリウム等の金属水素化物；ナトリ
ウムアミド又はリチウムジイソプロピルアミド等のアル
カリ金属アミド類；ピリジン、トリエチルアミン又は
１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセ
ン等の有機塩基類；水酸化ナトリウム、水酸化カリウム
等のアルカリ金属の水酸化物；水酸化カルシウム又は水
酸化マグネシウム等のアルカリ土類金属の水酸化物；炭
酸ナトリウム又は炭酸カリウム等のアルカリ金属の炭酸
塩類；炭酸水素ナトリウム又は炭酸水素カリウム等のア
ルカリ金属の重炭酸塩類；酢酸ナトリウムやギ酸カリウ
ム等のアルカリ金属カルボン酸塩類；或いはナトリウム
メトキシド又はｔｅｒｔ−ブトキシカリウム等のアルコ
ール金属塩類が挙げられる。
は、例えば水素化ナトリウム等の金属水素化物；ナトリ
ウムアミド又はリチウムジイソプロピルアミド等のアル
カリ金属アミド類；ピリジン、トリエチルアミン又は
１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセ
ン等の有機塩基類；水酸化ナトリウム、水酸化カリウム
等のアルカリ金属の水酸化物；水酸化カルシウム又は水
酸化マグネシウム等のアルカリ土類金属の水酸化物；炭
酸ナトリウム又は炭酸カリウム等のアルカリ金属の炭酸
塩類；炭酸水素ナトリウム又は炭酸水素カリウム等のア
ルカリ金属の重炭酸塩類；酢酸ナトリウムやギ酸カリウ
ム等のアルカリ金属カルボン酸塩類；或いはナトリウム
メトキシド又はｔｅｒｔ−ブトキシカリウム等のアルコ
ール金属塩類が挙げられる。
【０１０３】当反応ｆにおいて使用できる溶媒として
は、例えばジオキサン、テトラヒドロフラン、ジイソプ
ロピルエーテル（ＩＰＥ）等のエーテル類；メタノー
ル、エタノール等のアルコール類；水；ジクロロエタ
ン、四塩化炭素、クロロベンゼン又はジクロロベンゼン
等のハロゲン化炭化水素類；Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトア
ミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）又はＮ
−メチル−２−ピロリドン等のアミド類；ジメチルスル
ホキシド（ＤＭＳＯ）又はスルホラン等の硫黄化合物；
ベンゼン、トルエン又はキシレン等の芳香族炭化水素
類；或いはこれらの混合物が挙げられる。また、反応に
供される溶媒の量は一般式（１０）で表される化合物１
モルに対して、０．１〜１０Ｌ、好ましくは０．５〜２
Ｌである。
は、例えばジオキサン、テトラヒドロフラン、ジイソプ
ロピルエーテル（ＩＰＥ）等のエーテル類；メタノー
ル、エタノール等のアルコール類；水；ジクロロエタ
ン、四塩化炭素、クロロベンゼン又はジクロロベンゼン
等のハロゲン化炭化水素類；Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトア
ミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）又はＮ
−メチル−２−ピロリドン等のアミド類；ジメチルスル
ホキシド（ＤＭＳＯ）又はスルホラン等の硫黄化合物；
ベンゼン、トルエン又はキシレン等の芳香族炭化水素
類；或いはこれらの混合物が挙げられる。また、反応に
供される溶媒の量は一般式（１０）で表される化合物１
モルに対して、０．１〜１０Ｌ、好ましくは０．５〜２
Ｌである。
【０１０４】反応ｇ
【０１０５】一般式（１１）で表される化合物を溶媒
中、０．５〜３当量の還元剤と、−５０℃〜溶媒の沸点
の間、好ましくは室温〜６０℃で、１０分〜５時間反応
させることにより一般式（１２）で表される化合物を製
造することができる。
中、０．５〜３当量の還元剤と、−５０℃〜溶媒の沸点
の間、好ましくは室温〜６０℃で、１０分〜５時間反応
させることにより一般式（１２）で表される化合物を製
造することができる。
【０１０６】当反応ｇにおいて使用できる溶媒として
は、例えばジオキサン、テトラヒドロフラン、ジイソプ
ロピルエーテル（ＩＰＥ）等のエーテル類；メタノー
ル、エタノール等のアルコール類；ジクロロエタン、四
塩化炭素、クロロベンゼン又はジクロロベンゼン等のハ
ロゲン化炭化水素類；Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）又はＮ−メチ
ル−２−ピロリドン等のアミド類；ジメチルスルホキシ
ド（ＤＭＳＯ）又はスルホラン等の硫黄化合物；ベンゼ
ン、トルエン又はキシレン等の芳香族炭化水素類；或い
はこれらの混合物が挙げられる。また、反応に供される
溶媒の量は一般式（１１）で表される化合物１モルに対
して、０．１〜１０Ｌ、好ましくは０．５〜２Ｌであ
る。
は、例えばジオキサン、テトラヒドロフラン、ジイソプ
ロピルエーテル（ＩＰＥ）等のエーテル類；メタノー
ル、エタノール等のアルコール類；ジクロロエタン、四
塩化炭素、クロロベンゼン又はジクロロベンゼン等のハ
ロゲン化炭化水素類；Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）又はＮ−メチ
ル−２−ピロリドン等のアミド類；ジメチルスルホキシ
ド（ＤＭＳＯ）又はスルホラン等の硫黄化合物；ベンゼ
ン、トルエン又はキシレン等の芳香族炭化水素類；或い
はこれらの混合物が挙げられる。また、反応に供される
溶媒の量は一般式（１１）で表される化合物１モルに対
して、０．１〜１０Ｌ、好ましくは０．５〜２Ｌであ
る。
【０１０７】当反応ｇにおいて使用できる還元剤として
は、例えばナトリウムボロハイドレート（水素化ホウ素
ナトリウム）などのホウ素水素化物；リチウムアルミニ
ウムハイドレート（水素化リチウムアルミニウム）など
のアルミニウム水素化物などが挙げられる。
は、例えばナトリウムボロハイドレート（水素化ホウ素
ナトリウム）などのホウ素水素化物；リチウムアルミニ
ウムハイドレート（水素化リチウムアルミニウム）など
のアルミニウム水素化物などが挙げられる。
【０１０８】反応ｈ
【０１０９】一般式（１２）で表される化合物を溶媒
中、１〜２当量、好ましくは１〜１．２当量のアセチル
化剤と、１〜１０当量、好ましくは１〜１．３当量の塩
基と、０〜５０モル％、好ましくは１〜１０モル％の触
媒の存在下、−３０℃〜溶媒の沸点の間で、１０分〜５
時間反応させることにより、一般式（１３）で表される
化合物を製造することができる。
中、１〜２当量、好ましくは１〜１．２当量のアセチル
化剤と、１〜１０当量、好ましくは１〜１．３当量の塩
基と、０〜５０モル％、好ましくは１〜１０モル％の触
媒の存在下、−３０℃〜溶媒の沸点の間で、１０分〜５
時間反応させることにより、一般式（１３）で表される
化合物を製造することができる。
【０１１０】当反応ｈにおけるアセチル化剤としては、
例えばアセチルクロライド等のアセチルハライドあるい
は無水酢酸などが挙げられる。
例えばアセチルクロライド等のアセチルハライドあるい
は無水酢酸などが挙げられる。
【０１１１】当反応ｈにおいて使用できる溶媒として
は、例えばジオキサン、テトラヒドロフラン、ジイソプ
ロピルエーテル（ＩＰＥ）等のエーテル類；メタノー
ル、エタノール等のアルコール類；ジクロロエタン、四
塩化炭素、クロロベンゼン又はジクロロベンゼン等のハ
ロゲン化炭化水素類；Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）又はＮ−メチ
ル−２−ピロリドン等のアミド類；ジメチルスルホキシ
ド（ＤＭＳＯ）又はスルホラン等の硫黄化合物；ベンゼ
ン、トルエン又はキシレン等の芳香族炭化水素類；或い
はこれらの混合物が挙げられる。また、反応に供される
溶媒の量は一般式（１２）で表される化合物１モルに対
して、０．２〜１０Ｌ、好ましくは０．５〜２Ｌであ
る。
は、例えばジオキサン、テトラヒドロフラン、ジイソプ
ロピルエーテル（ＩＰＥ）等のエーテル類；メタノー
ル、エタノール等のアルコール類；ジクロロエタン、四
塩化炭素、クロロベンゼン又はジクロロベンゼン等のハ
ロゲン化炭化水素類；Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）又はＮ−メチ
ル−２−ピロリドン等のアミド類；ジメチルスルホキシ
ド（ＤＭＳＯ）又はスルホラン等の硫黄化合物；ベンゼ
ン、トルエン又はキシレン等の芳香族炭化水素類；或い
はこれらの混合物が挙げられる。また、反応に供される
溶媒の量は一般式（１２）で表される化合物１モルに対
して、０．２〜１０Ｌ、好ましくは０．５〜２Ｌであ
る。
【０１１２】当反応ｈにおいて使用できる塩基として
は、例えば水素化ナトリウム等の金属水素化物；ナトリ
ウムアミド又はリチウムジイソプロピルアミド等のアル
カリ金属アミド類；ピリジン、トリエチルアミン又は
１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセ
ン等の有機塩基類；水酸化ナトリウム、水酸化カリウム
等のアルカリ金属の水酸化物；水酸化カルシウム又は水
酸化マグネシウム等のアルカリ土類金属の水酸化物；炭
酸ナトリウム又は炭酸カリウム等のアルカリ金属の炭酸
塩類；炭酸水素ナトリウム又は炭酸水素カリウム等のア
ルカリ金属の重炭酸塩類；酢酸ナトリウムやギ酸カリウ
ム等のアルカリ金属カルボン酸塩類；或いはナトリウム
メトキシド又はｔｅｒｔ−ブトキシカリウム等のアルコ
ール金属塩類が挙げられる。
は、例えば水素化ナトリウム等の金属水素化物；ナトリ
ウムアミド又はリチウムジイソプロピルアミド等のアル
カリ金属アミド類；ピリジン、トリエチルアミン又は
１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセ
ン等の有機塩基類；水酸化ナトリウム、水酸化カリウム
等のアルカリ金属の水酸化物；水酸化カルシウム又は水
酸化マグネシウム等のアルカリ土類金属の水酸化物；炭
酸ナトリウム又は炭酸カリウム等のアルカリ金属の炭酸
塩類；炭酸水素ナトリウム又は炭酸水素カリウム等のア
ルカリ金属の重炭酸塩類；酢酸ナトリウムやギ酸カリウ
ム等のアルカリ金属カルボン酸塩類；或いはナトリウム
メトキシド又はｔｅｒｔ−ブトキシカリウム等のアルコ
ール金属塩類が挙げられる。
【０１１３】当反応ｈにおいて使用できる触媒として
は、例えば４−ジメチルアミノピリジン（ＤＭＡＰ）な
どが挙げられる。
は、例えば４−ジメチルアミノピリジン（ＤＭＡＰ）な
どが挙げられる。
【０１１４】反応ｉ
【０１１５】一般式（１３）で表される化合物１モルに
対して、反応ｂと同様に１〜２当量、好ましくは１〜
１．２当量の４，６−ジメトキシ−２−メチルスルホニ
ルピリミジン（以下、ＤＭＳＰと略記することがあ
る。）（７）を反応させることにより、一般式（１４）
で表される化合物を製造することができる。
対して、反応ｂと同様に１〜２当量、好ましくは１〜
１．２当量の４，６−ジメトキシ−２−メチルスルホニ
ルピリミジン（以下、ＤＭＳＰと略記することがあ
る。）（７）を反応させることにより、一般式（１４）
で表される化合物を製造することができる。
【０１１６】反応ｊ
【０１１７】一般式（１４）で表される化合物を反応ｃ
と同様に酸化剤と反応させた後、１〜１０当量、好まし
くは１〜２当量のアルカリで処理することにより、一般
式（１５）で表される化合物を製造することができる。
と同様に酸化剤と反応させた後、１〜１０当量、好まし
くは１〜２当量のアルカリで処理することにより、一般
式（１５）で表される化合物を製造することができる。
【０１１８】当反応ｊにおいて使用できるアルカリとし
ては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のア
ルカリ金属の水酸化物；水酸化カルシウム又は水酸化マ
グネシウム等のアルカリ土類金属の水酸化物；炭酸ナト
リウム又は炭酸カリウム等のアルカリ金属の炭酸塩類；
炭酸水素ナトリウム又は炭酸水素カリウム等のアルカリ
金属の重炭酸塩類が挙げられる。
ては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のア
ルカリ金属の水酸化物；水酸化カルシウム又は水酸化マ
グネシウム等のアルカリ土類金属の水酸化物；炭酸ナト
リウム又は炭酸カリウム等のアルカリ金属の炭酸塩類；
炭酸水素ナトリウム又は炭酸水素カリウム等のアルカリ
金属の重炭酸塩類が挙げられる。
【０１１９】反応ｋ
【０１２０】一般式（１５）で表される化合物とアルキ
ル化剤を、溶媒中、０℃〜溶媒の沸点の間、好ましくは
０℃〜室温で、１〜２４時間反応させることにより一般
式（１）で表される化合物を製造することができる。
ル化剤を、溶媒中、０℃〜溶媒の沸点の間、好ましくは
０℃〜室温で、１〜２４時間反応させることにより一般
式（１）で表される化合物を製造することができる。
【０１２１】当反応ｋにおいて使用できるアルキル化剤
としては、例えば１〜１０当量、好ましくは１〜２当量
のヨウ化メチル、ヨウ化エチル等のハロゲン化アルキル
あるいはジメチル硫酸と、１〜１０当量、好ましくは１
〜３当量の塩基の組み合わせを選ぶことができる。この
際、０．１〜５０モル％、好ましくは１〜１０モル％の
相関移動触媒も使用できる。
としては、例えば１〜１０当量、好ましくは１〜２当量
のヨウ化メチル、ヨウ化エチル等のハロゲン化アルキル
あるいはジメチル硫酸と、１〜１０当量、好ましくは１
〜３当量の塩基の組み合わせを選ぶことができる。この
際、０．１〜５０モル％、好ましくは１〜１０モル％の
相関移動触媒も使用できる。
【０１２２】当反応ｋにおいて使用できる相関移動触媒
としては、例えばテトラブチルアンモニウムブロマイド
あるいはベンジルトリエチルアンモニウムクロライドの
ような四級アンモニウム塩などが挙げられる。
としては、例えばテトラブチルアンモニウムブロマイド
あるいはベンジルトリエチルアンモニウムクロライドの
ような四級アンモニウム塩などが挙げられる。
【０１２３】当反応ｋにおいて使用できる塩基として
は、例えば水素化ナトリウム等の金属水素化物；ナトリ
ウムアミド又はリチウムジイソプロピルアミド等のアル
カリ金属アミド類；ピリジン、トリエチルアミン又は
１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセ
ン等の有機塩基類；水酸化ナトリウム、水酸化カリウム
等のアルカリ金属の水酸化物；水酸化カルシウム又は水
酸化マグネシウム等のアルカリ土類金属の水酸化物；炭
酸ナトリウム又は炭酸カリウム等のアルカリ金属の炭酸
塩類；炭酸水素ナトリウム又は炭酸水素カリウム等のア
ルカリ金属の重炭酸塩類；酢酸ナトリウムやギ酸カリウ
ム等のアルカリ金属カルボン酸塩類；或いはナトリウム
メトキシド又はｔｅｒｔ−ブトキシカリウム等のアルコ
ール金属塩類が挙げられる。
は、例えば水素化ナトリウム等の金属水素化物；ナトリ
ウムアミド又はリチウムジイソプロピルアミド等のアル
カリ金属アミド類；ピリジン、トリエチルアミン又は
１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセ
ン等の有機塩基類；水酸化ナトリウム、水酸化カリウム
等のアルカリ金属の水酸化物；水酸化カルシウム又は水
酸化マグネシウム等のアルカリ土類金属の水酸化物；炭
酸ナトリウム又は炭酸カリウム等のアルカリ金属の炭酸
塩類；炭酸水素ナトリウム又は炭酸水素カリウム等のア
ルカリ金属の重炭酸塩類；酢酸ナトリウムやギ酸カリウ
ム等のアルカリ金属カルボン酸塩類；或いはナトリウム
メトキシド又はｔｅｒｔ−ブトキシカリウム等のアルコ
ール金属塩類が挙げられる。
【０１２４】当反応ｋにおいて使用できる溶媒として
は、例えばジオキサン、テトラヒドロフラン、ジイソプ
ロピルエーテル（ＩＰＥ）等のエーテル類；メタノー
ル、エタノール等のアルコール類；水；ジクロロエタ
ン、四塩化炭素、クロロベンゼン又はジクロロベンゼン
等のハロゲン化炭化水素類；Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトア
ミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）又はＮ
−メチル−２−ピロリドン等のアミド類；ジメチルスル
ホキシド（ＤＭＳＯ）又はスルホラン等の硫黄化合物、
ベンゼン、トルエン又はキシレン等の芳香族炭化水素
類；或いはこれらの混合物が挙げられる。また、反応に
供される溶媒の量は一般式（１５）で表される化合物１
モルに対して、０．５〜１０Ｌである。
は、例えばジオキサン、テトラヒドロフラン、ジイソプ
ロピルエーテル（ＩＰＥ）等のエーテル類；メタノー
ル、エタノール等のアルコール類；水；ジクロロエタ
ン、四塩化炭素、クロロベンゼン又はジクロロベンゼン
等のハロゲン化炭化水素類；Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトア
ミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）又はＮ
−メチル−２−ピロリドン等のアミド類；ジメチルスル
ホキシド（ＤＭＳＯ）又はスルホラン等の硫黄化合物、
ベンゼン、トルエン又はキシレン等の芳香族炭化水素
類；或いはこれらの混合物が挙げられる。また、反応に
供される溶媒の量は一般式（１５）で表される化合物１
モルに対して、０．５〜１０Ｌである。
【０１２５】
【発明の効果】本発明により、優れた除草効果を示すジ
フルオロメタンスルホンアニリド誘導体の重要な製造中
間体である、ピリミジニルアルコール誘導体の新規な製
法が提供される。本発明方法によれば、同一系内でハロ
ゲン原子、ニトロ基、ケトンの３カ所を１工程で還元し
て、（２−アミノ−３−メトキシメチルフェニル）
（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）メタノー
ルに代表されるピリミジニルアルコール誘導体（２）を
得ることができるのであり、実操作上は、原料化合物の
ハロゲン原子、ニトロ基、ケトンの３カ所を、同一反応
器内の同一条件下で同時に還元するように取り扱うこと
ができるため、極めて操作が簡便かつ容易となり、目的
物を高効率・高収率で製造することが可能となるという
格別の効果を示し、（２−アミノ−３−メトキシメチル
フェニル）（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イ
ル）メタノールに代表されるピリミジニルアルコール誘
導体（２）を工業的規模で生産するのに適した方法であ
る。
フルオロメタンスルホンアニリド誘導体の重要な製造中
間体である、ピリミジニルアルコール誘導体の新規な製
法が提供される。本発明方法によれば、同一系内でハロ
ゲン原子、ニトロ基、ケトンの３カ所を１工程で還元し
て、（２−アミノ−３−メトキシメチルフェニル）
（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）メタノー
ルに代表されるピリミジニルアルコール誘導体（２）を
得ることができるのであり、実操作上は、原料化合物の
ハロゲン原子、ニトロ基、ケトンの３カ所を、同一反応
器内の同一条件下で同時に還元するように取り扱うこと
ができるため、極めて操作が簡便かつ容易となり、目的
物を高効率・高収率で製造することが可能となるという
格別の効果を示し、（２−アミノ−３−メトキシメチル
フェニル）（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イ
ル）メタノールに代表されるピリミジニルアルコール誘
導体（２）を工業的規模で生産するのに適した方法であ
る。
【０１２６】
【実施例】次に、実施例をあげて本発明化合物の製造法
を具体的に説明する。
を具体的に説明する。
【０１２７】＜実施例１＞（２−アミノ−３−メトキシ
メチルフェニル）（４，６−ジメトキシピリミジン−２
−イル）メタノール（２）の合成
メチルフェニル）（４，６−ジメトキシピリミジン−２
−イル）メタノール（２）の合成
【０１２８】（５−クロロ−３−メトキシメチル−２−
ニトロフェニル）（４，６−ジメトキシピリミジン−２
−イル）ケトン（１）（１．０ｇ，２．７２ｍｍｏ
ｌ）、１０％Ｐｄ／Ｃ（活性炭担持パラジウム）（０．
１ｇ）、酢酸ナトリウム（０．４５ｇ，５．４ｍｍｏ
ｌ）とアセトニトリル（５．４ｍＬ）をステンレスの封
管に入れ、水素圧１．９６ＭＰａ（約２０kｇ／ｃ
ｍ２）で室温で１５時間撹拌した。反応終了後、Ｐｄ／
Ｃと不溶物をろ過した後水にあけジイソプロピルエーテ
ル（ＩＰＥ）で抽出し、水洗、乾燥した。溶媒を減圧で
濃縮し、目的物０．８０ｇ（収率＝９６％）を淡褐色粘
調液体（▲ｎＤ ２０▼＝１．５６４２）として得た。こ
のものはシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エ
チル−ヘキサン）で精製すると、融点４０〜４２℃の固
体となった。
ニトロフェニル）（４，６−ジメトキシピリミジン−２
−イル）ケトン（１）（１．０ｇ，２．７２ｍｍｏ
ｌ）、１０％Ｐｄ／Ｃ（活性炭担持パラジウム）（０．
１ｇ）、酢酸ナトリウム（０．４５ｇ，５．４ｍｍｏ
ｌ）とアセトニトリル（５．４ｍＬ）をステンレスの封
管に入れ、水素圧１．９６ＭＰａ（約２０kｇ／ｃ
ｍ２）で室温で１５時間撹拌した。反応終了後、Ｐｄ／
Ｃと不溶物をろ過した後水にあけジイソプロピルエーテ
ル（ＩＰＥ）で抽出し、水洗、乾燥した。溶媒を減圧で
濃縮し、目的物０．８０ｇ（収率＝９６％）を淡褐色粘
調液体（▲ｎＤ ２０▼＝１．５６４２）として得た。こ
のものはシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エ
チル−ヘキサン）で精製すると、融点４０〜４２℃の固
体となった。
【０１２９】＜実施例２＞５−クロロ−３−メトキシメ
チル−２−ニトロフェニルアセトニトリル（６）の合成
チル−２−ニトロフェニルアセトニトリル（６）の合成
【０１３０】メカニカルスタラーを付した４つ口フラス
コにｔｅｒｔ−ブトキシカリウム（１６．７ｇ，１４９
ｍｍｏｌ）とＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）
（７０ｍＬ）を入れ、−５０℃に冷却した。４−クロロ
−２−メトキシメチルニトロベンゼン（４）（１０ｇ，
４９．６ｍｍｏｌ）と４−クロロフェノキシアセトニト
リル（９．１ｇ，５４．６ｍｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチ
ルホルムアミド（７０ｍＬ）溶液を−５０℃〜−４０℃
で加え、滴下終了後−２０℃で３０分撹拌した。反応液
を濃塩酸（１２．５ｍＬ，０．１５ｍｏｌ）を含んだ氷
水中にあけ、酢酸エチルで抽出した。有機層を水洗、乾
燥、濃縮した。粗製物をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー（酢酸エチル−ヘキサン）で精製し、目的物２．
７５ｇ（収率＝２３％）を褐色液体（▲ｎＤ ２０▼＝
１．５５５３）として得た。
コにｔｅｒｔ−ブトキシカリウム（１６．７ｇ，１４９
ｍｍｏｌ）とＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）
（７０ｍＬ）を入れ、−５０℃に冷却した。４−クロロ
−２−メトキシメチルニトロベンゼン（４）（１０ｇ，
４９．６ｍｍｏｌ）と４−クロロフェノキシアセトニト
リル（９．１ｇ，５４．６ｍｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチ
ルホルムアミド（７０ｍＬ）溶液を−５０℃〜−４０℃
で加え、滴下終了後−２０℃で３０分撹拌した。反応液
を濃塩酸（１２．５ｍＬ，０．１５ｍｏｌ）を含んだ氷
水中にあけ、酢酸エチルで抽出した。有機層を水洗、乾
燥、濃縮した。粗製物をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー（酢酸エチル−ヘキサン）で精製し、目的物２．
７５ｇ（収率＝２３％）を褐色液体（▲ｎＤ ２０▼＝
１．５５５３）として得た。
【０１３１】＜実施例３＞（５−クロロ−３−メトキシ
メチル−２−ニトロフェニル）（４，６−ジメトキシピ
リミジン−２−イル）アセトニトリル（８）の合成
メチル−２−ニトロフェニル）（４，６−ジメトキシピ
リミジン−２−イル）アセトニトリル（８）の合成
【０１３２】６０％水素化ナトリウム（０．４ｇ，９．
９８ｍｍｏｌ）をN，N−ジメチルホルムアミド（ＤＭ
Ｆ）（８ｍＬ）に分散させ、５−クロロ−３−メトキシ
メチル−２−ニトロフェニルアセトニトリル（６）
（１．０ｇ，４．１６ｍｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルホ
ルムアミド（２ｍＬ）溶液を４０℃以下で加えた。滴下
終了後、室温で１時間撹拌し、４，６−ジメトキシ−２
−メチルスルホニルピリミジン（７）（０．９５ｇ，
４．３７ｍｍｏｌ）を４０℃以下で加え、室温で２時間
撹拌した。反応終了後、反応液を水にあけ酢酸エチルで
抽出し、希塩酸、水の順に洗った。乾燥、濃縮、乾固
し、粗製の固体をイソプロピルエーテル（ＩＰＥ）で洗
い、目的物１．５ｇ（収率＝９６％）を淡褐色結晶（融
点７７〜７８℃）として得た。
９８ｍｍｏｌ）をN，N−ジメチルホルムアミド（ＤＭ
Ｆ）（８ｍＬ）に分散させ、５−クロロ−３−メトキシ
メチル−２−ニトロフェニルアセトニトリル（６）
（１．０ｇ，４．１６ｍｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルホ
ルムアミド（２ｍＬ）溶液を４０℃以下で加えた。滴下
終了後、室温で１時間撹拌し、４，６−ジメトキシ−２
−メチルスルホニルピリミジン（７）（０．９５ｇ，
４．３７ｍｍｏｌ）を４０℃以下で加え、室温で２時間
撹拌した。反応終了後、反応液を水にあけ酢酸エチルで
抽出し、希塩酸、水の順に洗った。乾燥、濃縮、乾固
し、粗製の固体をイソプロピルエーテル（ＩＰＥ）で洗
い、目的物１．５ｇ（収率＝９６％）を淡褐色結晶（融
点７７〜７８℃）として得た。
【０１３３】＜実施例４＞（５−クロロ−３−メトキシ
メチル−２−ニトロフェニル）（４，６−ジメトキシピ
リミジン−２−イル）ケトン（１）の合成
メチル−２−ニトロフェニル）（４，６−ジメトキシピ
リミジン−２−イル）ケトン（１）の合成
【０１３４】（５−クロロ−３−メトキシメチル−２−
ニトロフェニル）（４，６−ジメトキシピリミジン−２
−イル）アセトニトリル（８）（０．５ｇ，１．３ｍｍ
ｏｌ）を酢酸（３ｍＬ）に溶かし、過酸化水素（０．３
２ｇ，３．１ｍｍｏｌ）、タングステン酸ナトリウム
（４３ｍｇ，０．１３ｍｍｏｌ）を加え６０℃で５時間
加熱した。反応終了後、反応液を水にあけ酢酸エチルで
抽出し、水、重曹水、水の順に洗浄した。乾燥、濃縮、
乾固し、得られた固体をジイソプロピルエーテル（ＩＰ
Ｅ）で洗浄し目的物０．３５ｇ（収率＝７１％）を淡黄
色結晶（融点１２４〜１２６℃）として得た。得られた
（５−クロロ−３−メトキシメチル−２−ニトロフェニ
ル）（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）ケト
ンは、実施例１と同じ反応に供することにより、（２−
アミノ−３−メトキシメチルフェニル）（４，６−ジメ
トキシピリミジン−２−イル）メタノールに誘導でき
た。
ニトロフェニル）（４，６−ジメトキシピリミジン−２
−イル）アセトニトリル（８）（０．５ｇ，１．３ｍｍ
ｏｌ）を酢酸（３ｍＬ）に溶かし、過酸化水素（０．３
２ｇ，３．１ｍｍｏｌ）、タングステン酸ナトリウム
（４３ｍｇ，０．１３ｍｍｏｌ）を加え６０℃で５時間
加熱した。反応終了後、反応液を水にあけ酢酸エチルで
抽出し、水、重曹水、水の順に洗浄した。乾燥、濃縮、
乾固し、得られた固体をジイソプロピルエーテル（ＩＰ
Ｅ）で洗浄し目的物０．３５ｇ（収率＝７１％）を淡黄
色結晶（融点１２４〜１２６℃）として得た。得られた
（５−クロロ−３−メトキシメチル−２−ニトロフェニ
ル）（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）ケト
ンは、実施例１と同じ反応に供することにより、（２−
アミノ−３−メトキシメチルフェニル）（４，６−ジメ
トキシピリミジン−２−イル）メタノールに誘導でき
た。
【０１３５】＜実施例５＞５−クロロ−３−シアノメチ
ル−２−ニトロ安息香酸（１０）の合成
ル−２−ニトロ安息香酸（１０）の合成
【０１３６】メカニカルスタラーを付した４つ口フラス
コにｔｅｒｔ−ブトキシカリウム（１３３．４ｇ，１．
１９ｍｏｌ）とＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（４００
ｍＬ）を入れ、−５０℃に冷却した。５−クロロ−２−
ニトロ安息香酸（９）（６０．０ｇ，０．２９８ｍｏ
ｌ）と４−クロロフェノキシアセトニトリル（５２．４
ｇ，０．３１３ｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミ
ド（ＤＭＦ）（２００ｍＬ）溶液を−５０℃〜−４０℃
で加え、滴下終了後−２０℃で３０分撹拌した。反応液
を濃塩酸（１００ｍＬ，１．２ｍｏｌ）を含んだ氷水中
にあけ、酢酸エチルで抽出した（２回）。有機層を炭酸
水素ナトリウム（ＮａＨＣＯ３）水溶液２５０ｍＬ×２
で抽出し、水相を濃塩酸で中和、酢酸エチルで抽出し
た。有機層を飽和食塩水で洗い、乾燥、濃縮、乾固し
た。得られた粗製の固体をクロロホルム（ＣＨＣｌ３）
で洗浄し、目的物４７ｇ（収率＝６６％）を淡褐色粉末
（融点１９３〜１９６℃）として得た。
コにｔｅｒｔ−ブトキシカリウム（１３３．４ｇ，１．
１９ｍｏｌ）とＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（４００
ｍＬ）を入れ、−５０℃に冷却した。５−クロロ−２−
ニトロ安息香酸（９）（６０．０ｇ，０．２９８ｍｏ
ｌ）と４−クロロフェノキシアセトニトリル（５２．４
ｇ，０．３１３ｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミ
ド（ＤＭＦ）（２００ｍＬ）溶液を−５０℃〜−４０℃
で加え、滴下終了後−２０℃で３０分撹拌した。反応液
を濃塩酸（１００ｍＬ，１．２ｍｏｌ）を含んだ氷水中
にあけ、酢酸エチルで抽出した（２回）。有機層を炭酸
水素ナトリウム（ＮａＨＣＯ３）水溶液２５０ｍＬ×２
で抽出し、水相を濃塩酸で中和、酢酸エチルで抽出し
た。有機層を飽和食塩水で洗い、乾燥、濃縮、乾固し
た。得られた粗製の固体をクロロホルム（ＣＨＣｌ３）
で洗浄し、目的物４７ｇ（収率＝６６％）を淡褐色粉末
（融点１９３〜１９６℃）として得た。
【０１３７】＜実施例６＞５−クロロ−３−シアノメチ
ル−２−ニトロ安息香酸 メチルエステル（１１）の合
成
ル−２−ニトロ安息香酸 メチルエステル（１１）の合
成
【０１３８】５−クロロ−３−シアノメチル−２−ニト
ロ安息香酸（１０）（４６ｇ，０．１９１ｍｏｌ）を
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（９５ｍＬ）に溶解し、
炭酸水素ナトリウム（２０．９ｇ，０．２４９ｍｏｌ）
とヨウ化メチル（３２．６ｇ，０．２３０ｍｏｌ）を加
えて室温下１５時間撹拌した。反応終了後、反応液を水
にあけ酢酸エチル／ヘキサン１：１で抽出した。有機層
を水洗、乾燥、濃縮し、目的物４７ｇ（収率＝９７％）
を淡褐色粘調液体として得た。
ロ安息香酸（１０）（４６ｇ，０．１９１ｍｏｌ）を
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（９５ｍＬ）に溶解し、
炭酸水素ナトリウム（２０．９ｇ，０．２４９ｍｏｌ）
とヨウ化メチル（３２．６ｇ，０．２３０ｍｏｌ）を加
えて室温下１５時間撹拌した。反応終了後、反応液を水
にあけ酢酸エチル／ヘキサン１：１で抽出した。有機層
を水洗、乾燥、濃縮し、目的物４７ｇ（収率＝９７％）
を淡褐色粘調液体として得た。
【０１３９】＜実施例７＞５−クロロ−３−ヒドロキシ
メチル−２−ニトロフェニルアセトニトリル（１２）の
合成
メチル−２−ニトロフェニルアセトニトリル（１２）の
合成
【０１４０】５−クロロ−３−シアノメチル−２−ニト
ロ安息香酸 メチルエステル（１１）（１０ｇ，３９．
３ｍｍｏｌ）、水素化ホウ素ナトリウム（２．２３ｇ，
５９ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（４０ｍＬ）に加
え、穏やかに還流させながらメタノール（３．８ｇ，１
１８ｍｍｏｌ）を少しずつ加え、３０分撹拌した。反応
終了を薄層クロマトグラフィーで確認後、反応液を、濃
塩酸５ｍＬを含んだ氷水中にあけ、酢酸エチル／ヘキサ
ン１：１で抽出した。有機層を水洗、乾燥、濃縮し、シ
リカゲルカラムクロマトグラフィー（３０〜４０％酢酸
エチル／ヘキサングラジエント）で精製し目的物６．７
ｇを無色結晶（融点６５〜６６℃）として（収率＝７６
％）を得た。
ロ安息香酸 メチルエステル（１１）（１０ｇ，３９．
３ｍｍｏｌ）、水素化ホウ素ナトリウム（２．２３ｇ，
５９ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（４０ｍＬ）に加
え、穏やかに還流させながらメタノール（３．８ｇ，１
１８ｍｍｏｌ）を少しずつ加え、３０分撹拌した。反応
終了を薄層クロマトグラフィーで確認後、反応液を、濃
塩酸５ｍＬを含んだ氷水中にあけ、酢酸エチル／ヘキサ
ン１：１で抽出した。有機層を水洗、乾燥、濃縮し、シ
リカゲルカラムクロマトグラフィー（３０〜４０％酢酸
エチル／ヘキサングラジエント）で精製し目的物６．７
ｇを無色結晶（融点６５〜６６℃）として（収率＝７６
％）を得た。
【０１４１】＜実施例８＞３−アセトキシメチル−５−
クロロ−２−ニトロフェニルアセトニトリル（１３）の
合成
クロロ−２−ニトロフェニルアセトニトリル（１３）の
合成
【０１４２】５−クロロ−３−ヒドロキシメチル−２−
ニトロフェニルアセトニトリル（１０）（５．０ｇ，２
２．１ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（２２ｍＬ）に
溶かし、無水酢酸（２．４８ｇ，２４．３ｍｍｏｌ）、
ピリジン（１．９２ｇ，２４．３ｍｍｏｌ）、４−ジメ
チルアミノピリジン（ＤＭＡＰ）（０．１３ｇ，１．１
ｍｍｏｌ）を加え室温で１時間撹拌した。反応終了後、
反応液を水にあけ酢酸エチル／ヘキサン１：１で抽出し
た。有機層を炭酸水素ナトリウム水溶液、水で洗浄し
た。乾燥後、減圧で濃縮し、目的物５．９ｇ（収率＝９
９％）を淡褐色粘調液体として得た。
ニトロフェニルアセトニトリル（１０）（５．０ｇ，２
２．１ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（２２ｍＬ）に
溶かし、無水酢酸（２．４８ｇ，２４．３ｍｍｏｌ）、
ピリジン（１．９２ｇ，２４．３ｍｍｏｌ）、４−ジメ
チルアミノピリジン（ＤＭＡＰ）（０．１３ｇ，１．１
ｍｍｏｌ）を加え室温で１時間撹拌した。反応終了後、
反応液を水にあけ酢酸エチル／ヘキサン１：１で抽出し
た。有機層を炭酸水素ナトリウム水溶液、水で洗浄し
た。乾燥後、減圧で濃縮し、目的物５．９ｇ（収率＝９
９％）を淡褐色粘調液体として得た。
【０１４３】＜実施例９＞（３−アセトキシメチル−５
−クロロ−２−ニトロフェニル）（４，６−ジメトキシ
ピリミジン−２−イル）アセトニトリル（１４）の合成
−クロロ−２−ニトロフェニル）（４，６−ジメトキシ
ピリミジン−２−イル）アセトニトリル（１４）の合成
【０１４４】３−アセトキシメチル−５−クロロ−２−
ニトロフェニルアセトニトリル（１３）（５．９ｇ，２
２ｍｍｏｌ）と４，６−ジメトキシ−２−メチルスルホ
ニルピリミジン（ＤＭＳＰ）（５．０５ｇ，２３．２ｍ
ｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（３０ｍＬ）に溶解し
た。氷冷下、粉末にした水酸化ナトリウム（ＮａＯＨ）
（２．３２ｇ，５５．２ｍｍｏｌ）を加え、室温で２時
間撹拌した。反応終了後、反応液を水にあけ酢酸エチル
で抽出し、希塩酸、水の順に洗い、乾燥、濃縮、乾固し
た。粗製の固体をイソプロピルエーテル（ＩＰＥ）で洗
浄し、目的物８．５ｇ（収率＝９５％）を無色結晶（融
点１１８〜１１９℃）として得た。
ニトロフェニルアセトニトリル（１３）（５．９ｇ，２
２ｍｍｏｌ）と４，６−ジメトキシ−２−メチルスルホ
ニルピリミジン（ＤＭＳＰ）（５．０５ｇ，２３．２ｍ
ｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（３０ｍＬ）に溶解し
た。氷冷下、粉末にした水酸化ナトリウム（ＮａＯＨ）
（２．３２ｇ，５５．２ｍｍｏｌ）を加え、室温で２時
間撹拌した。反応終了後、反応液を水にあけ酢酸エチル
で抽出し、希塩酸、水の順に洗い、乾燥、濃縮、乾固し
た。粗製の固体をイソプロピルエーテル（ＩＰＥ）で洗
浄し、目的物８．５ｇ（収率＝９５％）を無色結晶（融
点１１８〜１１９℃）として得た。
【０１４５】＜実施例１０＞（５−クロロ−３−ヒドロ
キシメチル−２−ニトロフェニル）（４，６−ジメトキ
シピリミジン−２−イル）ケトン（１５）の合成
キシメチル−２−ニトロフェニル）（４，６−ジメトキ
シピリミジン−２−イル）ケトン（１５）の合成
【０１４６】（３−アセトキシメチル−５−クロロ−２
−ニトロフェニル）（４，６−ジメトキシピリミジン−
２−イル）アセトニトリル（１４）（９．３ｇ，２２．
１ｍｍｏｌ）を酢酸（２２ｍＬ）に溶かし、過酸化水素
（４．３ｇ，４４．２ｍｍｏｌ）、タングステン酸ナト
リウム（０．７３ｇ，２．２ｍｍｏｌ）を加え７０℃で
２時間加熱した。反応終了を薄層クロマトグラフィーで
確認し、エバポレーターで酢酸を留去し、痕跡の酢酸を
除くためにメタノールを加えてさらに濃縮した。残査を
メタノール２２ｍＬ，テトラヒドロフラン２２ｍＬで溶
解し、２５％ＮａＯＨ（５．３ｇ，３３．２ｍｍｏｌ）
を加えて室温で１時間撹拌した。反応終了後、酢酸エチ
ルを加え、水、重曹水、水の順に洗浄し、乾燥、濃縮、
乾固した。得られた固体をＩＰＥで洗浄し目的物６．２
ｇ（収率＝７９％）を淡黄色結晶（融点１６６〜１６８
℃）として得た。
−ニトロフェニル）（４，６−ジメトキシピリミジン−
２−イル）アセトニトリル（１４）（９．３ｇ，２２．
１ｍｍｏｌ）を酢酸（２２ｍＬ）に溶かし、過酸化水素
（４．３ｇ，４４．２ｍｍｏｌ）、タングステン酸ナト
リウム（０．７３ｇ，２．２ｍｍｏｌ）を加え７０℃で
２時間加熱した。反応終了を薄層クロマトグラフィーで
確認し、エバポレーターで酢酸を留去し、痕跡の酢酸を
除くためにメタノールを加えてさらに濃縮した。残査を
メタノール２２ｍＬ，テトラヒドロフラン２２ｍＬで溶
解し、２５％ＮａＯＨ（５．３ｇ，３３．２ｍｍｏｌ）
を加えて室温で１時間撹拌した。反応終了後、酢酸エチ
ルを加え、水、重曹水、水の順に洗浄し、乾燥、濃縮、
乾固した。得られた固体をＩＰＥで洗浄し目的物６．２
ｇ（収率＝７９％）を淡黄色結晶（融点１６６〜１６８
℃）として得た。
【０１４７】＜実施例１１＞（５−クロロ−３−メトキ
シメチル−２−ニトロフェニル）（４，６−ジメトキシ
ピリミジン−２−イル）ケトン（１）の合成
シメチル−２−ニトロフェニル）（４，６−ジメトキシ
ピリミジン−２−イル）ケトン（１）の合成
【０１４８】（５−クロロ−３−ヒドロキシメチル−２
−ニトロフェニル）（４，６−ジメトキシピリミジン−
２−イル）ケトン（１５）（１．７８ｇ，５．０３ｍｍ
ｏｌ）の塩化メチレン溶液（８０ｍＬ）にジメチル硫酸
（１．２７ｇ，１０．１ｍｍｏｌ）、２５％水酸化ナト
リウム水溶液（２．４２ｇ，１５．１ｍｍｏｌ）とトリ
エチルベンジルアンモニウムクロリド（０．１１ｇ，
０．５０ｍｍｏｌ）を加え室温下１５時間攪拌した。反
応溶液を濃縮し、水にあけアンモニア水（５ｍＬ）を加
えた。１時間攪拌した後、酢エチで抽出した。有機層を
水、希塩酸、水の順に洗浄し無水硫酸マグネシウムで乾
燥した。濃縮後，得られた粗生成物をＩＰＥで洗浄し目
的物１．４３ｇ（収率＝７７％）を無色結晶（融点１２
４〜１２６℃）として得た。得られた（５−クロロ−３
−メトキシメチル−２−ニトロフェニル）（４，６−ジ
メトキシピリミジン−２−イル）ケトンは、実施例１と
同じ反応に供することにより、（２−アミノ−３−メト
キシメチルフェニル）（４，６−ジメトキシピリミジン
−２−イル）メタノールに誘導できた。
−ニトロフェニル）（４，６−ジメトキシピリミジン−
２−イル）ケトン（１５）（１．７８ｇ，５．０３ｍｍ
ｏｌ）の塩化メチレン溶液（８０ｍＬ）にジメチル硫酸
（１．２７ｇ，１０．１ｍｍｏｌ）、２５％水酸化ナト
リウム水溶液（２．４２ｇ，１５．１ｍｍｏｌ）とトリ
エチルベンジルアンモニウムクロリド（０．１１ｇ，
０．５０ｍｍｏｌ）を加え室温下１５時間攪拌した。反
応溶液を濃縮し、水にあけアンモニア水（５ｍＬ）を加
えた。１時間攪拌した後、酢エチで抽出した。有機層を
水、希塩酸、水の順に洗浄し無水硫酸マグネシウムで乾
燥した。濃縮後，得られた粗生成物をＩＰＥで洗浄し目
的物１．４３ｇ（収率＝７７％）を無色結晶（融点１２
４〜１２６℃）として得た。得られた（５−クロロ−３
−メトキシメチル−２−ニトロフェニル）（４，６−ジ
メトキシピリミジン−２−イル）ケトンは、実施例１と
同じ反応に供することにより、（２−アミノ−３−メト
キシメチルフェニル）（４，６−ジメトキシピリミジン
−２−イル）メタノールに誘導できた。
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(51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考）
Ｃ０７Ｃ 255/38 Ｃ０７Ｃ 255/38
255/41 255/41
// Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００ Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００
Ｆターム(参考） 4H006 AA01 AA02 AB84 AC22 AC41
AC48 AC54 QN02 QN30
4H039 CA60 CA62 CB20 CC30
Claims (4)
- 【請求項１】一般式（１） 【化１】 ［式中、Ｘはハロゲン原子を表し、Ｒはアルコキシメチ
ル基を表す。］で表される化合物を、触媒及び塩基性物
質の存在下、接触水素添加することを特徴とする、一般
式（２） 【化２】 ［式中、Ｘ、Ｒは前記と同じ意味を表す。］で表される
ピリミジニルアルコール誘導体の製造方法。 - 【請求項２】一般式（１）で表される化合物が、一般式
（４） 【化３】 ［式中、Ｘはハロゲン原子を表し、Ｒはアルコキシメチ
ル基を表す。］で表される化合物と、一般式（５） 【化４】 ［式中、Ｚはハロゲン原子、置換フェノキシ基、又は
（ＣＨ３）２ＮＣＳ２を表す。］で表される化合物とを
反応させて、一般式（６） 【化５】 ［式中、Ｘ、Ｒは前記と同じ意味を表す。］で表される
化合物とした後、一般式（６）で表される化合物を式
（７） 【化６】 で表される化合物と反応させて、一般式（８） 【化７】 ［式中、Ｘ、Ｒは前記と同じ意味を表す。］で表される
化合物とし、さらに一般式（８）で表される化合物を酸
化することにより製造されたものである、請求項１記載
のピリミジニルアルコール誘導体の製造方法。 - 【請求項３】一般式（１）で表される化合物が、一般式
（９） 【化８】 ［式中、Ｘはハロゲン原子を表す。］で表される化合物
と、一般式（５） 【化９】 ［式中、Ｚはハロゲン原子、置換フェノキシ基、又は
（ＣＨ３）２ＮＣＳ２を表す。］で表される化合物とを
反応させて、一般式（１０） 【化１０】 ［式中、Ｘは前記と同じ意味を表す。］で表される化合
物とした後、一般式（１０）で表される化合物をメチル
化剤でメチル化して一般式（１１） 【化１１】 ［式中、Ｘは前記と同じ意味を表す。］で表される化合
物とした後、一般式（１１）で表される化合物を還元し
て一般式（１２） 【化１２】 ［式中、Ｘは前記と同じ意味を表す。］で表される化合
物とし、一般式（１２）で表される化合物をアセチル化
して一般式（１３） 【化１３】 ［式中、Ｘは前記と同じ意味を表す。］で表される化合
物とし、一般式（１３）で表される化合物を式（７） 【化１４】 で表される化合物と反応させて、一般式（１４） 【化１５】 ［式中、Ｘは前記と同じ意味を表す。］で表される化合
物とした後、一般式（１４）で表される化合物を酸化し
て、一般式（１５） 【化１６】 ［式中、Ｘは前記と同じ意味を表す。］で表される化合
物とし、さらに一般式（１５）で表される化合物をアル
キル化剤でアルキル化することにより製造されたもので
ある、請求項１記載のピリミジニルアルコール誘導体の
製造方法。 - 【請求項４】一般式（２）で表されるピリミジニルアル
コール誘導体の合成中間体である、一般式（３） 【化１７】 ［式中、Ｘはハロゲン原子を示し、Ｘ１は基−ＣＯＯＲ
１（ここで、Ｒ１は水素原子又はアルキル基を示
す。）、基−ＣＨ２ＯＨ、基−ＣＨ２ＯＣＨ３、基−Ｃ
Ｈ２ＯＣＯＲ２（ここで、Ｒ２はアルキル基又はフェニ
ル基を示す。）、Ｙは基−ＣＨ２ＣＮ、ＣＨ（ＣＮ）−
Ｐｙｍ、又は基−Ｃ（Ｏ）−Ｐｙｍを表し、Ｐｙｍは、
４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル基を表す。］
で表されるニトロベンゼン誘導体。
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|---|---|---|---|
| JP2002012838A JP4161290B2 (ja) | 2002-01-22 | 2002-01-22 | ピリミジニルアルコール誘導体の製造方法及びその合成中間体 |
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002012838A JP4161290B2 (ja) | 2002-01-22 | 2002-01-22 | ピリミジニルアルコール誘導体の製造方法及びその合成中間体 |
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- 2002-01-22 JP JP2002012838A patent/JP4161290B2/ja not_active Expired - Fee Related
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2003
- 2003-01-21 WO PCT/JP2003/000476 patent/WO2003062210A1/ja active Application Filing
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