JP2002001882A

JP2002001882A - 積層熱可塑性樹脂フィルム

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Publication number: JP2002001882A
Application number: JP2000189248A
Authority: JP
Inventors: Takeshi Ishida; 剛石田; Hirobumi Murooka; 博文室岡
Original assignee: Teijin Ltd
Current assignee: Teijin Ltd
Priority date: 2000-06-23
Filing date: 2000-06-23
Publication date: 2002-01-08
Anticipated expiration: 2020-06-23
Also published as: JP3856626B2

Abstract

(57)【要約】【課題】耐ブロッキング性、巻き取り性、加工適性に
優れ、金属蒸着薄膜型磁気記録媒体としたときに、電磁
変換特性に優れた積層熱可塑性樹脂フィルムを提供す
る。【解決手段】熱可塑性樹脂層Ｂの片面に、炭素数が８
個以上の脂肪族モノカルボン酸および多価アルコールか
らなる（部分ケン化）エステルワックスを含有する熱可
塑性樹脂層Ａが積層され、かつＢ層のＡ層と接しない表
面に塗膜層Ｃが積層されてなるフィルムであって、Ｃ層
の表面粗さＷＲａが０．１〜４ｎｍであり、Ａ層が平均
粒径５０〜１，５００ｎｍの不活性粒子Ａを０．００１
〜５重量％含有し、（部分ケン化）エステルワックスの
含有量が０．００１〜１重量％であり、かつＡ層のＢ層
と接していない表面の水接触角が６０〜８０°であるこ
とを特徴とする積層熱可塑性樹脂フィルム。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は積層熱可塑性樹脂フ
ィルムに関する。さらに詳しくは、耐ブロッキング性、
巻取り性、加工適性にすぐれ、特に金属蒸着薄膜型磁気
記録媒体としたときに電磁変換特性に優れた積層熱可塑
性樹脂フィルムに関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、磁気記録媒体の高密度化の進歩は
めざましく、例えば、強磁性金属薄膜を真空蒸着やスパ
ッタリングなどの物理沈着法またはメッキ法により非磁
性支持体上に形成させた強磁性金属薄膜型磁気記録媒体
の開発実用化が、進められている。例えば、Ｃｏの蒸着
テープ（特開昭５４―１４７０１０号公報）、Ｃｏ―Ｃ
ｒ合金からなる垂直磁気記録媒体（特開昭５２―１３４
７０６号公報）が知られている。

【０００３】従来の塗布型磁気記録媒体（磁性粉末を有
機高分子バインダーに混入させて非磁性支持体上に塗布
してなる磁気記録媒体）は、記録密度が低く、記録波長
も長いために、磁性層の厚みが２μｍ程度以上と厚い。
これに対し、真空蒸着、スパッタリングまたはイオンプ
レーティングなどの薄膜形成手段によって形成される金
属薄膜は、厚みが０．２μｍ以下と非常に簿くなってい
る。

【０００４】このため、磁気記録層の薄い高密度磁気記
録媒体においては、非磁性支持体（ベースフィルム）の
表面状態が磁気記録層の表面性に大きな影響を及ぼして
いる。すなわち、非磁性支持体の表面状態が、そのまま
磁気記録層表面の凹凸として発現し、それが記録・再生
信号の雑音の原因となる。従って、非磁性支持体の表面
は、できるだけ平滑であることが望ましい。

【０００５】一方、非磁性支持体の製膜、製膜工程での
搬送、傷つき、巻き取り、巻出しといったハンドリング
の観点からは、フィルム表面が平滑過ぎるとフィルム―
フィルム相互の滑り性が悪化し、製品歩留りの低下、ひ
いては、製品の製造コストの上昇をきたす。従って、製
造コストという観点では、非磁性支持体の表面は、でき
るだけ粗いことが好ましい。

【０００６】このように、非磁性支持体の表面は、電磁
変換特性という観点からは平滑であることが要求され、
ハンドリング性、製造コストの観点からは、粗いことが
要求される。

【０００７】さらに、金属薄膜型磁気記録媒体の場合に
は、金属薄膜のベースフィルム表面への蒸着を真空中の
工程で実施するが、この工程で巻き取られたフィルムは
真空中で巻き取られるためフィルム層間の密着性が高
く、しばしばブロッキングを起こし、次工程以降で切断
やしわが発生しやすくなり、収率が大幅に低下してしま
うという問題がある。

【０００８】上記のような問題を解決するために、例え
ば特開平９−２０７２９０号公報、特開平９−２２６０
６３号公報には、Ａ、Ｂ層の２層からなり、Ａ層表面よ
りもＢ層表面の方が粗い積層フィルムが提案されてい
る。しかしながら、このような方法では、電磁変換特性
とハンドリング性、巻き取り性のバランスはある程度取
れるものの、まだ不充分であり、かつ上記ブロッキング
の発生を抑制することができない。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、この
ような従来技術の欠点を解消し、耐ブロッキング性、巻
き取り性、加工適性に優れ、金属蒸着薄膜型磁気記録媒
体としたときに電磁変換特性に優れた積層熱可塑性樹脂
フィルムを提供することにある。

【００１０】

【課題を解決するための手段】本発明の目的は、本発明
によれば、熱可塑性樹脂層Ｂの片面に炭素数が８個以上
の脂肪族モノカルボン酸および多価アルコールからなる
（部分ケン化）エステルワックスを含有する熱可塑性樹
脂層Ａが積層され、かつＢ層のＡ層と接しない表面に塗
膜層Ｃが積層されてなる積層フィルムであって、該Ｃ層
の表面粗さＷＲａが０．１〜４ｎｍであり、該Ａ層が平
均粒径５０〜１，５００ｎｍの不活性粒子Ａを０．００
１〜５重量％（Ａ層に対し）含有し、該（部分ケン化）
エステルワックスの含有量が０．００１〜１重量％（Ａ
層に対し）であり、かつ該Ａ層のＢ層と接していない表
面の水接触角が６０〜８０°であることを特徴とする積
層熱可塑性樹脂フィルムによって達成される。

【００１１】本発明は、好ましい態様として、上記塗膜
層Ｃが平均粒径１０〜５０ｎｍ、体積形状係数０．１〜
π／６の不活性粒子Ｃを０．５〜３０重量％（Ｃ層に対
し）含有すること、上記熱可塑性樹脂層Ｂが実質的に粒
子を含有しないか、体積形状係数０．１〜π／６、平均
粒径３０〜４００ｎｍの不活性粒子Ｂを０．００１〜
０．２重量％（Ｂ層に対し）含有すること、上記熱可塑
性樹脂層Ａがポリエチレンテレフタレートまたはポリエ
チレン−２，６−ナフタレートからなること等を包含す
る。

【００１２】

【発明の実施の形態】本発明において、熱可塑性樹脂層
Ａ、Ｂを形成する熱可塑性樹脂Ａ、Ｂとしては、ポリエ
ステル系樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリ
エーテル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリビニル
系樹脂、ポリオレフィン系樹脂などを例示することがで
きる。これらのうち、ポリエステル系樹脂、特に芳香族
ポリエステルが好ましい。熱可塑性樹脂Ａ、Ｂは、異な
る種類を用いても良いが、同種類の方が好ましい。

【００１３】上記芳香族ポリエステルとしては、ポリエ
チレンテレフタレート、ポリエチレンイソフタレート、
ポリテトラメチレンテレフタレート、ポリ−１，４−シ
クロヘキシレンジメチレンテレフタレート、ポリエチレ
ン−２，６−ナフタレート（ポリエチレン−２，６−ナ
フタレンジカルボキシレート）などを例示することがで
きる。これらのうち、ポリエチレンテレフタレート、ポ
リエチレン−２，６−ナフタレートが好ましい。

【００１４】これらポリエステルは、ホモポリエステル
であっても、コポリエステルであっても良い。コポリエ
ステルの場合、例えば、ポリエチレンテレフタレートま
たはポリエチレン−２，６−ナフタレートの共重合成分
としては、例えばジエチレングリコール、プロピレング
リコール、テトラメチレングリコール、ヘキサメチレン
グリコール、ネオペンチルグリコール、ポリエチレング
リコール、１，４−シクロヘキサンジメタノール、ｐ−
キシリレングリコールなどの他のジオール成分、アジピ
ン酸、セバシン酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタ
ル酸（ただし、ポリエチレン−２，６−ナフタレートの
場合）、２，６−ナフタレンジカルボン酸（ただし、ポ
リエチレンテレフタレートの場合）、５−ナトリウムス
ルホイソフタル酸などの他のジカルボン酸成分、ｐ−オ
キシエトキシ安息香酸などのオキシカルボン酸成分など
が挙げられる。これら共重合成分の量は、２０モル％以
下、さらには１０モル％以下であることが好ましい。

【００１５】さらにトリメリット酸、ピロメリット酸な
どの３官能以上の多官能化合物を、共重合させることも
出来る。この場合、ポリマーが実質的に線状である量、
例えば２モル％以下で、共重合させるのが良い。

【００１６】ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレ
ン−２，６−ナフタレート以外の他のポリエステルの場
合の共重合成分についても、上記と同様に考えてよい。

【００１７】上記ポリエステルは、それ自体公知であ
り、かつそれ自体公知の方法で製造することができる。

【００１８】本発明の積層熱可塑性樹脂フィルムは、熱
可塑性樹脂層Ａに炭素数が８個以上の脂肪族モノカルボ
ン酸および多価アルコールからなる（部分ケン化）エス
テルワックスを０．００１〜１重量％含有する。

【００１９】前記脂肪族モノカルボン酸の炭素数は８個
以上、好ましくは８〜３４個である。この炭素数が８個
未満であると、得られたエステル生成物の耐熱性が不充
分で、熱可塑性樹脂Ａに分散させる際の加熱条件で、脂
肪族モノカルボン酸が容易に分解されてしまうため、不
適切である。

【００２０】前記脂肪族モノカルボン酸としては、例え
ばペラルゴン酸、カプリン酸、ウンデシル酸、ラウリン
酸、トリデシル酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パ
ルミチン酸、ヘプタデシル酸、ステアリン酸、ノナデカ
ン酸、アラキン酸、ペヘン酸、リグノセリン酸、セロチ
ン酸、モンタン酸、メリシン酸、ヘントリアコンタン
酸、ペトロセリン酸、オレイン酸、エルカ酸、リノール
酸およびこれらを含む酸混合物などが挙げられる。

【００２１】前記（部分ケン化）エステルワックスのア
ルコール成分は、水酸基を２個以上有する多価アルコー
ルであり、耐熱性の観点から、水酸基を３個以上有する
多価アルコールであることが好ましい。このアルコール
成分として、モノアルコールを用いたのでは、生成した
（部分ケン化）エステルワックスの耐熱性が不足する。
前記水酸基を２個有する多価アルコールとしては、エチ
レングリコール、プロピレングリコール、トリメチレン
グリコール、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタ
ンジオール、１，６−ヘキサンジオール、１，７−ヘプ
タンジオール、１，８−オクタンジオール、１，９−ノ
ナンジオール、１，１０−デカンジオール、ジエチレン
グリコール、トリエチレングリコール、ポリエチレング
リコールなどを好ましく例示することができる。水酸基
を３個以上有する多価アルコールとしては、グリセリ
ン、エリスリット、トレイット、ペンタエリスリット、
アラビット、キシリット、タリット、ソルビット、マン
ニットなどを好ましく例示することができる。

【００２２】上記脂肪族モノカルボン酸および多価アル
コールから得られるエステルワックスとしては、多価ア
ルコールの水酸基の数にもよるが、モノエステル、ジエ
ステル、トリエステルなどが挙げられる。耐熱性の観点
から、モノエステルよりもジエステルが、ジエステルよ
りもトリエステルが好ましい。好ましいエステルワック
スとしては、具体的にはソルビタントリステアレート、
ペンタエリスリットトリペヘネート、グリセリントリパ
ルミテート、ポリオキシエチレンジステアレートなどを
例示することができる。

【００２３】上記脂肪族モノカルボン酸および多価アル
コールからなる部分ケン化エステルワックスは、炭素数
が８個以上の高級脂肪酸を多価アルコールで部分エステ
ル化したのち、２価以上の金属水酸化物でケン化するこ
とにより得られる。具体的には、モンタン酸ジオールエ
ステルを水酸化カルシウムでケン化した、ワックスＥ、
ワックスＯＰ、ワックスＯ、ワックスＯＭ、ワックスＦ
Ｌ（全て、ヘキスト（株）社製商品名）などが挙げられ
る。

【００２４】前記（部分ケン化）エステルワックスは、
１種単独で使用してもよいし、２種以上を使用してもよ
い。

【００２５】本発明において、熱可塑性樹脂層Ａに含有
させる前記（部分ケン化）エステルワックスの量は、Ａ
層に対し、０．００１〜１重量％、好ましくは０．００
３〜０．８重量％、さらに好ましくは０．００５〜０．
５重量％、特に好ましくは０．０１〜０．３重量％含有
する。（部分ケン化）エステルワックスの含有量が、
０．００１重量％未満であると、ブロッキング改良効果
が得られない。一方、１重量％を超えると、加工工程で
滑りやすくハンドリング性が劣るという問題や、フィル
ム製造工程でロール上に巻き上げたときに接する反対面
側に、ブリードアウトによってワックス成分が多量に転
写し、金属蒸着層とベースフィルムの接着性を妨げるな
どの問題がある。

【００２６】本発明において、前記熱可塑性樹脂層Ａ
の、Ｂ層と接していない表面の水接触角は６０〜８０
°、好ましくは６５〜７８°、さらに好ましくは６８〜
７５°である。この水接触角が６０°未満では、ブロッ
キング改良効果が得られない。一方、８０°を超える
と、バックコート層を塗布する工程で、塗布斑などの問
題が発生する。

【００２７】本発明における熱可塑性樹脂層Ａは、表面
粗さ（ＷＲａ）が４〜８ｎｍ、さらには５〜７ｎｍであ
ることが好ましい。それには、該熱可塑性樹脂層Ａに不
活性粒子Ａを含有させることが好ましい。該不活性粒子
Ａの平均粒径（ｄＡ）は５０〜１，５００ｎｍ、好まし
くは１００〜１，０００ｎｍ、さらに好ましくは１５０
〜８００ｎｍ、特に好ましくは１８０〜７００ｎｍであ
る。また、かかる不活性粒子Ａの含有量は、Ａ層に対
し、０．００１〜５重量％、好ましくは０．０１〜４重
量％、さらに好ましくは０．０２〜２重量％、特に好ま
しくは０．０３〜１重量％である。

【００２８】前記不活性粒子Ａの平均粒径が５０ｎｍ未
満、または含有量が０．００１重量％未満では巻取り
性、耐ブロッキング性が不良となる。一方、平均粒径が
１，５００ｎｍを超えるか、または含有量が５重量％を
超えると、反対面のＢ層表面への突起の形状転写や、Ｂ
層の下からの突起の突き上げによって電磁変換特性を悪
化させる。

【００２９】前記不活性粒子Ａとして好ましい粒子は、
例えば（１）耐熱性ポリマー粒子（例えば、架橋シリコ
ーン樹脂、架橋ポリスチレン、架橋アクリル樹脂、メラ
ミン−ホルムアルデヒド樹脂、芳香族ポリアミド樹脂、
ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、架橋ポリエス
テルなどの１種以上からなる粒子）や、（２）金属酸化
物（例えば、三二酸化アルミニウム、二酸化チタン、二
酸化ケイ素（シリカ）、酸化マグネシウム、酸化亜鉛、
酸化ジルコニウムなど）、（３）金属の炭酸塩（例え
ば、炭酸マグネシウム、炭酸カルシウムなど）、（４）
金属の硫酸塩（例えば、硫酸カルシウム、硫酸バリウム
など）、（５）炭素（例えば、カーボンブラック、グラ
ファイト、ダイアモンドなど）、（６）粘土鉱物（例え
ば、カオリン、クレー、ベントナイトなど）などの無機
化合物からなる微粒子が挙げられる。これらのうち、架
橋シリコーン樹脂粒子、架橋ポリスチレン樹脂粒子、メ
ラミン−ホルムアルデヒド樹脂粒子、ポリアミドイミド
樹脂粒子、三二酸化アルミニウム（アルミナ）粒子、二
酸化チタン粒子、二酸化ケイ素粒子、酸化ジルコニウム
粒子、合成炭酸カルシウム粒子、硫酸バリウム粒子、ダ
イアモンド粒子、およびカオリン粒子が好ましい。さら
に好ましくは、架橋シリコーン樹脂粒子、架橋ポリスチ
レン樹脂粒子、三二酸化アルミニウム（アルミナ）粒
子、二酸化チタン粒子、二酸化ケイ素粒子、および炭酸
カルシウム粒子である。

【００３０】前記不活性粒子Ａは、１種または２種以上
のものを混合して使用してもよい。不活性粒子Ａが２種
以上の粒子からなる場合、不活性粒子Ａの平均粒径ｄＡ
よりも小さい平均粒径の第２、第３の粒子（微細粒子）
として、例えば、コロイダルシリカ、α、γ、δ、θな
どの結晶形態を有するアルミナなどの微粒子を好ましく
用いることができる。また、平均粒径ｄＡを有する不活
性粒子Ａとして例示した粒子種のうち、平均粒径の小さ
い微細粒子も、第２、第３の粒子（微細粒子）として用
いることができる。

【００３１】この微細粒子の平均粒径は、好ましくは５
〜４００ｎｍ、さらに好ましくは１０〜３００ｎｍ、特
に好ましくは３０〜２５０ｎｍの範囲にある。また、第
２、第３の粒子（微細粒子）の含有量は、Ａ層に対し、
好ましくは０．００５〜１重量％、さらに好ましくは
０．０１〜０．７重量％、特に好ましくは０．０５〜
０．５重量％である。

【００３２】本発明における積層熱可塑性樹脂フィルム
は、磁気テープとした場合の諸特性向上のため、磁性層
を設ける側の面が塗膜層Ｃからなる。この塗膜層Ｃは、
平均粒径１０〜５０ｎｍ、体積形状係数０．１〜π／６
の不活性粒子Ｃを０．５〜３０重量％（Ｃ層に対し）含
有していることが好ましい。

【００３３】前記塗膜層Ｃの表面粗さＷＲａは、０．１
〜４ｎｍ、好ましくは０．２〜３．５ｎｍ、さらに好ま
しくは０．３〜３．０ｎｍ、特に好ましくは０．４〜
２．５ｎｍである。このＷＲａが０．１ｎｍ未満である
と、フィルムの製造が極めて困難であり、一方、ＷＲａ
が４ｎｍを超えると、電磁変換特性が悪化する。

【００３４】この表面粗さ（ＷＲａ）は、塗膜層Ｃに含
有させる不活性粒子Ｃの粒径と量、および／または、熱
可塑性樹脂層Ｂに含有させる不活性粒子Ｂの粒径と量に
よって調整することができる。

【００３５】前記塗膜層Ｃを形成する樹脂としては、例
えば、水性ポリエステル樹脂、水性アクリル樹脂、水性
ポリウレタン樹脂などが好ましく挙げられ、特に水性ポ
リエステル樹脂が好ましい。

【００３６】この水性ポリエステル樹脂としては、酸成
分が、例えばイソフタル酸、フタル酸、１，４−シクロ
ヘキサンジカルボン酸、２，６−ナフタレンジカルボン
酸、４，４′−ジフェニルジカルボン酸、アジピン酸、
セバシン酸、ドデカンジカルボン酸、コハク酸、５−ス
ルホイソフタル酸ナトリウム、２−スルホテレフタル酸
カリウム、トリメリット酸、トリメシン酸、トリメリッ
ト酸モノカリウム塩、ｐ−ヒドロキシ安息香酸などの多
価カルボン酸の１種以上よりなり、グリコール成分が、
例えばエチレングリコール、ジエチレングリコール、プ
ロピレングリコール、１，４−ブタンジオール、１，６
−ヘキサンジオール、１，４−シクロヘキサンジメタノ
ール、ｐ−キシリレングリコール、ジメチロールプロパ
ン、ビスフェノールＡのエチレンオキサイド付加物など
の多価ヒドロキシ化合物の１種以上より主としてなるポ
リエステル樹脂が好ましく用いられる。また、ポリエス
テル鎖にアクリル重合体鎖を結合させたグラフトポリマ
ーまたはブロックコポリマー、あるいは２種のポリマー
がミクロな粒子内で特定の物理的構成（ＩＰＮ（相互侵
入高分子網目）型、コアシェル型など）を形成したアク
リル変性ポリエステル樹脂であってもよい。この水性ポ
リエステル樹脂としては、水に溶解、乳化、微分散する
タイプを自由に用いることができるが、水に乳化、微分
散するタイプのものが好ましい。また、これらは親水性
を付与するため、分子内に例えばスルホン酸塩基、カル
ボン酸塩基、ポリエーテル単位などが導入されていても
よい。

【００３７】前記塗膜層Ｃに含有させる不活性粒子Ｃと
しては、特に限定されないが、塗液中で沈降しにくい、
比較的低比重のものが好ましい。例えば、架橋シリコー
ン樹脂、アクリル樹脂、架橋ポリスチレン、メラミン−
ホルムアルデヒド樹脂、芳香族ポリアミド樹脂、ポリア
ミドイミド樹脂、架橋ポリエステル、全芳香族ポリエス
テルなどのポリマーからなる微粒子、二酸化ケイ素（シ
リカ）、炭酸カルシウムなどからなる微粒子が好ましく
挙げられる。なかでも、特に好ましくは架橋シリコーン
樹脂粒子、アクリル樹脂粒子、シリカ粒子、コアシェル
型有機粒子（コア：架橋ポリスチレン、シェル：ポリメ
チルメタクリレートの粒子など）が挙げられる。

【００３８】前記不活性粒子Ｃの平均粒径ｄＣは１０〜
５０ｎｍ、さらに１２〜４５ｎｍ、特に１５〜４０ｎｍ
であることが好ましい。この平均粒径が１０ｎｍ未満で
は、フィルムの滑り性が不良となることがあり、一方５
０ｎｍを超えると、磁気記録媒体の電磁変換特性が不良
となることがあるため好ましくない。

【００３９】前記不活性粒子Ｃの形状は、下式（Ｉ）で
表わされる体積形状係数（ｆ）が０．１〜π／６、さら
には０．２〜π／６、特に０．４〜π／６であることが
好ましい。

【００４０】

【数１】ｆ＝Ｖ／Ｒ³ ・・・（Ｉ）〔ここで、ｆは体積形状係数、Ｖは粒子の体積（μ
ｍ³）、Ｒは粒子の平均粒径（μｍ）である。〕

【００４１】なお、体積形状係数（ｆ）がπ／６である
粒子の形状は、球（真球）である。従って、体積形状係
数（ｆ）が０．４〜π／６のものは、実質的に球ないし
は真球、ラグビーボールのような楕円球を含むものであ
り、不活性粒子Ｃとして好ましい。体積形状係数（ｆ）
が０．１未満の粒子、例えば薄片状の粒子では、走行耐
久性が低下してしまうので好ましくない。

【００４２】前記不活性粒子Ｃの含有量は、塗膜層Ｃの
固形分に対して０．５〜３０重量％、さらには２〜２０
重量％、特に３〜１０重量％であることが好ましい。こ
の含有量が０．５重量％未満であると、フィルムの滑り
性が不良となることがあり、一方３０重量％を超える
と、磁気記録媒体の電磁変換特性が不良となることがあ
るため、好ましくない。

【００４３】本発明における熱可塑性樹脂層Ｂは、実質
的に粒子を含有しないものでもよく、不活性粒子Ｂを含
有するものでもよい。前記熱可塑性樹脂層Ｂが実質的に
粒子を含有しない場合、より優れた電磁変換特性が得ら
れ、一方熱可塑性樹脂層Ｂに電磁変換特性に悪影響を与
えない範囲の粒子を含有させると、走行耐久性の向上を
図ることができる。具体的には、体積形状係数０．１〜
π／６、平均粒径３０〜４００ｎｍの不活性粒子Ｂを、
Ｂ層に対し、０．００１〜０．２重量％含有させること
が好ましい。

【００４４】好ましい不活性粒子Ｂの種類としては、前
記不活性粒子Ａと同様のものが挙げられる。不活性粒子
Ｂの形状は、前記式（Ｉ）で表わされる体積形状係数
（ｆ）が０．１〜π／６、さらには０．２〜π／６、特
に０．４〜π／６であることが好ましい。この体積形状
係数（ｆ）が０．１未満の粒子、例えば薄片状の粒子で
は、走行耐久性が低下してしまうので好ましくない。

【００４５】前記不活性粒子Ｂの平均粒径ｄＢは３０〜
４００ｎｍ、さらには４０〜２００ｎｍ、特に５０〜１
００ｎｍであることが好ましい。この平均粒径ｄＢが３
０ｎｍ未満であると、フィルムの滑り性が不良となるこ
とがあり、一方４００ｎｍを超えると、磁気記録媒体の
電磁変換特性が不良となることがあるため、好ましくな
い。

【００４６】前記不活性粒子Ｂは１種または２種以上の
ものを混合して使用してもよい。

【００４７】前記不活性粒子Ｂを熱可塑性樹脂層Ｂに配
合する場合の含有量は、Ｂ層に対し、０．００１〜０．
２重量％、好ましくは０．０１〜０．１重量％、さらに
好ましくは０．０２〜０．０５重量％である。この含有
量が０．００１重量％未満であると、フィルムの滑り性
が不良となることがあり、一方０．２重量％を超える
と、磁気記録媒体の電磁変換特性が不良となることがあ
るため、好ましくない。

【００４８】本発明における積層熱可塑性樹脂フィルム
の全厚みは、通常２．５〜２０μｍ、好ましくは３．０
〜１０μｍ、さらに好ましくは４．０〜１０μｍであ
る。熱可塑性樹脂層Ａと熱可塑性樹脂層Ｂの厚み構成
は、好ましくはＡ層の厚みが積層熱可塑性樹脂フィルム
の全厚みの１／２以下、さらに好ましくは１／３以下、
特に好ましくは１／４以下である。塗膜層Ｃの厚みは、
通常１〜１００ｎｍ、好ましくは２〜５０ｎｍ、さらに
好ましくは３〜１０ｎｍ、特に好ましくは３〜８ｎｍで
ある。

【００４９】本発明の積層熱可塑性樹脂フィルムは、従
来から知られている、または当業界に蓄積されている方
法に準じて製造することができる。そのうち、熱可塑性
樹脂層Ａと熱可塑性樹脂層Ｂとの積層構造は、共押し出
し法により製造するのが好ましく、塗膜層Ｃの積層は塗
布法により行うのが好ましい。

【００５０】例えば、二軸配向ポリエステルフィルムで
説明すると、押出し口金内または口金以前（一般に、前
者はマルチマニホールド方式、後者はフィードブロック
方式と呼ぶ）で（部分ケン化）エステルワックス及び不
活性粒子Ａを微分散、含有させた熱可塑性樹脂Ａと、必
要に応じて不活性粒子Ｂを含有する熱可塑性樹脂Ｂと
を、それぞれさらに高精度ろ過したのち、溶融状態にて
積層複合し、上記好適な厚み比の積層構造となし、次い
で口金より融点（Ｔｍ）〜（Ｔｍ＋７０）℃の温度でフ
ィルム状に共押出ししたのち、４０〜９０℃の冷却ロー
ルで急冷固化し、未延伸積層フィルムを得る。その後、
該未延伸積層フィルムを常法に従い、一軸方向（縦方向
または横方向）に（Ｔｇ−１０）〜（Ｔｇ＋７０）℃の
温度（ただし、Ｔｇ：ポリエステルのガラス転移温度）
で２．５〜８．０倍の倍率で、好ましくは３．０〜７．
５倍の倍率で延伸し、次いで上記延伸方向とは直角方向
（一段目延伸が縦方向の場合には、二段目延伸は横方向
となる）に（Ｔｇ）〜（Ｔｇ＋７０）℃の温度で２．５
〜８．０倍の倍率で、好ましくは３．０〜７．５倍の倍
率で延伸する。さらに、必要に応じて、縦方向および／
または横方向に再度延伸してもよい。すなわち、２段、
３段、４段あるいは多段の延伸を行うとよい。全延伸倍
率としては、通常９倍以上、好ましくは１０〜３５倍、
さらに好ましくは１２〜３０倍である。

【００５１】さらに、前記二軸配向フィルムは、（Ｔｇ
＋７０）〜（Ｔｍ−１０）℃の温度、例えばポリエチレ
ンテレフタレートフィルムの場合１８０〜２５０℃の温
度で熱固定結晶化することによって、優れた寸法安定性
が付与される。また、熱固定時間は１〜６０秒が好まし
い。

【００５２】なお、積層熱可塑性樹脂フィルムの製造に
際し、熱可塑性樹脂Ａ、Ｂに所望により上記不活性粒子
以外の添加剤、例えば安定剤、着色剤、溶融ポリマーの
固有抵抗調整剤などを添加含有させることができる。

【００５３】本発明における塗膜層Ｃの積層は、熱可塑
性樹脂層Ｂの上に、水性塗液を塗布する方法で行う。

【００５４】塗布は、最終延伸処理を施す以前の熱可塑
性樹脂層Ｂの表面に行い、塗布後にはフィルムを少なく
とも一軸方向に延伸するのが好ましい。この延伸の前な
いし途中で塗膜は乾燥される。その中で、塗布は未延伸
積層フィルムまたは縦（一軸）延伸積層フィルム、特に
縦（一軸）延伸積層フィルムに行うのが好ましい。塗布
方法としては特に限定されないが、例えばロールコート
法、ダイコート法などが挙げられる。

【００５５】上記塗液、特に水性塗液の固形分濃度は
０．２〜８重量％、さらには０．３〜６重量％、特に
０．５〜４重量％であることが好ましい。そして、水性
塗液には、本発明の効果を妨げない範囲で、他の成分、
例えば他の界面活性剤、安定剤、分散剤、紫外線吸収
剤、増粘剤などを添加することができる。

【００５６】本発明における積層熱可塑性樹脂フィルム
は、磁気記録媒体としてのヘッドタッチ、走行耐久性を
始めとする各種性能を向上させ、同時に薄膜化を達成す
るには、該フィルムのヤング率を、縦方向および横方向
でそれぞれ、４，５００Ｎ／ｍｍ²以上および６，００
０Ｎ／ｍｍ²以上、さらには４，８００Ｎ／ｍｍ²以上お
よび６，８００Ｎ／ｍｍ²以上、特に５，５００Ｎ／ｍ
ｍ²以上および８，０００Ｎ／ｍｍ²以上、就中５，５０
０Ｎ／ｍｍ²以上および１０，０００Ｎ／ｍｍ²以上とす
るのが好ましい。かかるヤング率の上限は、１８，００
０Ｎ／ｍｍ²、さらには１５，０００Ｎ／ｍｍ²である
ことが好ましい。

【００５７】また、熱可塑性樹脂層Ａ、Ｂの結晶化度
は、熱可塑性樹脂がポリエチレンテレフタレートの場合
は３０〜５０％、ポリエチレン−２，６−ナフタレート
の場合は２８〜３８％であることが望ましい。いずれも
下限を下回ると、熱収縮率が大きくなるし、一方上限を
上回ると、フィルムの耐摩耗性が悪化し、ロールやガイ
ドピン表面と摺動した場合に白粉が生じやすくなる。

【００５８】本発明によれば、前記熱可塑性樹脂層Ｂの
片面に前記熱可塑性樹脂層Ａが積層され、かつ該熱可塑
性樹脂層Ｂの層Ａと接していない表面に塗膜層Ｃが積層
されている積層熱可塑性樹脂フィルムをベースフィルム
とする磁気記録媒体が、同様に提供される。

【００５９】本発明の積層熱可塑性樹脂フィルムから磁
気記録媒体を製造する実施態様は、下記のとおりであ
る。

【００６０】すなわち、本発明の積層熱可塑性樹脂フィ
ルムは、塗膜層Ｃの表面に、真空蒸着、スパッタリン
グ、イオンプレーティング等の方法により、鉄、コバル
ト、クロムまたはこれらを主成分とする合金もしくは酸
化物よりなる強磁性金属薄膜層を形成し、またその表面
に、目的、用途、必要に応じてダイアモンドライクカー
ボン（ＤＬＣ）などの保護層、含フッ素カルボン酸系潤
滑層を順次設け、さらに必要により、熱可塑性樹脂層Ａ
の表面に、公知の方法でバックコート層を設けることに
より、特に短波長領域での出力、Ｓ／Ｎ、Ｃ／Ｎなどの
電磁変換特性に優れ、ドロップアウト、エラーレートの
少ない高密度記録用蒸着型磁気記録媒体とすることがで
きる。この蒸着型磁気記録媒体は、アナログ信号記録用
Ｈｉ８、ディジタル信号記録用ディジタルビデオカセッ
トレコーダー（ＤＶＣ）、データ８ミリ、ＤＤＳＩＶ用
磁気テープ媒体として極めて有用である。

【００６１】また、本発明の積層熱可塑性樹脂フィルム
は、塗膜層Ｃの表面に、鉄または鉄を主成分とする針状
微細磁性粉（メタル粉）をポリ塩化ビニル、塩化ビニル
・酢酸ビニル共重合体などのバインダーに均一に分散
し、磁性層厚みが１μｍ以下、好ましくは０．１〜１μ
ｍとなるように塗布し、さらに必要により、熱可塑性樹
脂層Ａの表面に、公知の方法でバックコート層を設ける
ことにより、特に短波長領域での出力、Ｓ／Ｎ、Ｃ／Ｎ
などの電磁変換特性に優れ、ドロップアウト、エラーレ
ートの少ない高密度記録用メタル塗布型磁気記録媒体と
することができる。また、必要に応じて塗膜層Ｃの表面
に、上記メタル粉含有磁性層の下地層として微細な酸化
チタン粒子などを含有する非磁性層を磁性層と同様の有
機バインダー中に分散し、塗設することもできる。この
メタル塗布型磁気記録媒体は、アナログ信号記録用８ミ
リビデオ、Ｈｉ８、βカムＳＰ、Ｗ−ＶＨＳ、ディジタ
ル信号記録用ディジタルビデオカセットレコーダー（Ｄ
ＶＣ）、データ８ミリ、ＤＤＳＩＶ、ディジタルβカ
ム、Ｄ２、Ｄ３、ＳＸなど用磁気テープ媒体として極め
て有用である。

【００６２】さらに、本発明の積層熱可塑性樹脂フィル
ムは、塗膜層Ｃの表面に、酸化鉄または酸化クロムなど
の針状微細磁性粉、またはバリウムフェライトなどの板
状微細磁性粉をポリ塩化ビニル、塩化ビニル・酢酸ビニ
ル共重合体などのバインダーに均一に分散し、磁性層厚
みが１μｍ以下、好ましくは０．１〜１μｍとなるよう
に塗布し、さらに必要により、熱可塑性樹脂層Ａの表面
に、公知の方法でバックコート層を設けることにより、
特に短波長領域での出力、Ｓ／Ｎ、Ｃ／Ｎ等の電磁変換
特性に優れ、ドロップアウト、エラーレートの少ない高
密度記録用酸化物塗布型磁気記録媒体とすることができ
る。また、必要に応じて、塗膜層Ｃの表面に、上記酸化
物粉末含有磁性層の下地層として微細な酸化チタン粒子
などを含有する非磁性層を磁性層と同様の有機バインダ
ー中に分散し、塗設することもできる。この酸化物塗布
型磁気記録媒体は、ディジタル信号記録用データストリ
ーマー用ＱＩＣなどの高密度記録用酸化物塗布型磁気記
録媒体として有用である。

【００６３】上述のＷ−ＶＨＳはアナログのＨＤＴＶ信
号記録用ＶＴＲであり、またＤＶＣはディジタルのＨＤ
ＴＶ信号記録用として適用可能なものである。それ故、
本発明の積層フィルムは、これらＨＤＴＶ対応ＶＴＲ用
磁気記録媒体に極めて有用なベースフィルムと言うこと
ができる。

【００６４】

【実施例】以下、実施例を挙げ、本発明をさらに具体的
に説明するが、本発明はこれら実施例により限定される
ものではない。なお、実施例および比較例における
「部」および「％」は、特に断らない限り重量部および
重量％である。また、本発明における物性値および特性
は、それぞれ下記の方法で測定し、かつ、定義されるも
のである。

【００６５】（１）固有粘度オルソクロロフェノール溶媒中３５℃で測定した値から
求める。

【００６６】（２）粒子の平均粒径（Ｉ）（平均粒径：
６０ｎｍ以上）株式会社島津製作所製「ＣＰ−５０型セントリヒューグ
ルパーティクルサイズアナライザー（Ｃｅｎｔｒ
ｉｆｕｇａｌＰａｒｔｉｃｌｅＳｉｚｅＡｎａｌｙ
ｚｅｒ）」を用いて測定する。得られる遠心沈降曲線を
基に算出した各粒径の粒子とその存在量との積算曲線か
ら、５０マスパーセントに相当する粒径「等価球直径」
を読み取り、この値を上記平均粒径（ｎｍ）とする
（「粒度測定技術」日刊工業新聞社発行、１９７５年、
頁２４２〜２４７）。

【００６７】（３）粒子の平均粒径（II）（平均粒径：
６０ｎｍ未満）小突起を形成する平均粒径６０ｎｍ未満の粒子は光散乱
法を用いて測定する。すなわち、ニコンプインストゥル
メント株式会社（ＮｉｃｏｍｐＩｎｓｔｒｕｍｅｎｔ
ｓＩｎｃ．）製の商品名「ＮＩＣＯＭＰＭＯＤＥＬ
２７０ＳＵＢＭＩＣＲＯＮＰＡＲＴＩＣＬＥＳ
ＩＺＥＲ」により求められる全粒子の５０％の点にある
粒子の「等価球直径」をもって、平均粒径（ｎｍ）とす
る。

【００６８】（４）体積形状係数（ｆ）走査型電子顕微鏡により、用いたサイズに応じた倍率に
て各粒子の写真を撮影し、画像解析処理装置ルーゼック
ス５００（日本レギュレーター社製）を用い、投影面最
大径（Ｄ）（μｍ）および粒子の体積（Ｖ）（μｍ³）
を算出し、下記式（II）により計算する。

【００６９】

【数２】ｆ＝Ｖ／Ｄ³ ・・・（II）

【００７０】（５）熱可塑性樹脂層Ａ、Ｂの厚み、およ
びフィルム全体の厚みフィルム全体の厚みはマイクロメーターにてランダムに
１０点測定し、その平均値を用いる。熱可塑性樹脂層
Ａ、Ｂの層厚については、薄い熱可塑性樹脂層の層厚み
を下記に述べる方法にて測定し、厚い熱可塑性樹脂層の
層厚みは、全厚みより塗膜層および薄い熱可塑性樹脂層
の層厚を引き算して求める。すなわち、二次イオン質量
分析装置（ＳＩＭＳ）を用いて、被覆層を除いた表層か
ら深さ５，０００ｎｍの範囲のフィルム中の粒子の内最
も高濃度の粒子に起因する金属元素（Ｍ⁺）と熱可塑性
樹脂（ポリエステル）の炭化水素（Ｃ⁺）の濃度比（Ｍ⁺
／Ｃ⁺）を粒子濃度とし、表面から深さ５，０００ｎｍ
まで厚さ方向の分析を行う。表層では表面という界面の
ために粒子濃度は低く、表面から遠ざかるにつれて粒子
濃度は高くなる。本発明の場合、粒子濃度は一旦安定値
１になったのち、上昇して安定値２になる場合と、単調
に減少する場合とがある。この分布曲線をもとに、前者
の場合は、（安定値１＋安定値２）／２の粒子濃度を与
える深さをもって、また後者の場合は粒子濃度が安定値
１の１／２になる深さ（この深さは安定値１を与える深
さよりも深い）をもって、薄い熱可塑性樹脂層の厚み
（μｍ）とする。

【００７１】測定条件は、以下のとおりである。（ａ）測定装置二次イオン質量分析装置（ＳＩＭＳ）；パーキン・エル
マー株式会社（ＰＥＲＫＩＮＥＬＭＥＲＩＮＣ．）
製、「６３００」（ｂ）測定条件一次イオン種：Ｏ²⁺ 一次イオン加速電圧：１２ＫＶ一次イオン電流：２００ｎＡラスター領域：４００μｍ分析領域：ゲート３０％測定真空度：６．０×１０^-9ＴｏｒｒＥ−ＧＵＮＮ：０．５ＫＶ−３．０Ａ

【００７２】なお、表層から５，０００ｎｍの範囲に最
も多く存在する粒子がシリコーン樹脂以外の有機高分子
粒子の場合はＳＩＭＳでは測定が難しいので、表面から
エッチングしながらＦＴ−ＩＲ（フーリエトランスフォ
ーム赤外分光法）、粒子によってはＸＰＳ（Ｘ線光電分
光法）などで上記同様の濃度分布曲線を測定し、層厚
（μｍ）を求める。

【００７３】（６）塗膜層Ｃの厚みフィルムの小片をエポキシ樹脂にて固定成形し、ミクロ
トームにて約６００オングストロームの厚みの超薄切片
（フィルムの流れ方向に平行に切断する）を作成した。
この試料を透過型電子顕微鏡（株式会社日立製作所製：
Ｈ−８００型）にて観察し、塗膜層Ｃの境界面を探して
塗膜層の厚み（ｎｍ）を求める。

【００７４】（７）接触角協和科学（株）製、接触角測定装置を用いて測定した。
フィルムサンプルを、温度２５℃、湿度５０％の環境下
に２４時間以上置いたのち、フィルム上に蒸留水を５ｍ
ｇ滴下し、水平の方向から２０秒後に写真を撮影した。
フィルムと水滴の接線が形成する角度を接触角（°）と
する。

【００７５】（８）中心線平均粗さ（表面粗さ）（ＷＲ
ａ）ＷＹＫＯ株式会社製の非接触三次元粗さ計、商品名「Ｔ
ＯＰＯ−３Ｄ」を用いて、測定倍率４０倍、測定面積２
４２μｍ×２３９μｍ（０．０５８ｍｍ²）の条件にて
測定を行い、表面粗さのプロフィル（オリジナルデー
タ）を得る。上記粗さ計内蔵ソフトによる表面解析によ
り、下記式（III）によって定義される中心線平均粗さ
（ＷＲａ）を得る。

【００７６】

【数３】

【００７７】また、Ｚjkは、測定方向（２４２μｍ）、
それと直行する方向（２３９μｍ）を、それぞれＭ分
割、Ｎ分割したときの各方向のｊ番目、ｋ番目の位置に
おける三次元粗さチャート上の高さである。

【００７８】（９）ヤング率東洋ボールドウィン株式会社製の引っ張り試験機、商品
名「テンシロン」を用いて、温度２０℃、湿度５０％に
調節された室内において、長さ３００ｎｍ、幅１２．７
ｍｍの試料フィルムを１０％／分のひずみ速度で引っ張
り、引っ張り応力−ひずみ曲線の初めの直線部分を用い
て下記式（IV）によって計算する。

【００７９】

【数４】Ｅ＝Δσ／Δε ・・・（IV）ここで、Ｅはヤング率、Δσは直線上の２点間の元の平
均断面積による応力差、Δεは同じ２点間のひずみ差で
ある。

【００８０】（１０）ブロッキング剥離力ロール状フィルムの長手方向に１００ｍｍ、幅方向に２
００ｍｍの長方形にサンプリングし、熱可塑性樹脂層Ａ
（ベースフィルム）側に、室温２０±２℃、湿度４０±
５％の環境下で、コロナ処理を施す。

【００８１】上記コロナ処理は、春日電気株式会社製、
商品名「ＣＧ−１０２」型の高周波電源を用いて、以下
の条件にて処理する。電流；４．５Ａ電極間距離；１．０ｍｍ処理時間；１．２ｍ／分の速度で、電極間を通過させて
処理する。

【００８２】フィルムの処理した面を、直ちにフィルム
の熱可塑性樹脂層Ａと反対側の面と接触させ、１００ｋ
ｇ／ｃｍ²の圧力にて温度６０℃、湿度８０％の環境下
で１７時間エイジングさせたのち、上記引っ張り試験
機、商品名「テンシロン」を用いて、幅１００ｍｍ当り
の剥離力を求める。

【００８３】（１１）巻き取り性スリット時の巻き取り条件を最適化したのち、幅６００
ｍｍ×１２，０００ｍのサイズで、３０ロールを速度１
００ｍ／分でスリットし、スリット後のフィルム表面
に、ブツ状、突起やシワのないロールを良品として、以
下の基準にて巻き取り性を評価する。 ◎；良品ロールの本数２８本以上 ○；良品ロールの本数２５〜２７本 ×；良品ロールの本数２４本以下

【００８４】（１２）バックコート塗布適性（加工適
性）下記磁気テープの製造加工工程において、バックコート
塗布後の熱可塑性樹脂層Ａの表面を目視観察し、以下の
基準にて評価する。 ○；バックコート層に、塗布斑、ハジキがない。 ×；バックコート層に、塗布斑か、ハジキが認められ
る。

【００８５】（１３）磁気テープの製造および特性（電
磁変換特性）評価積層熱可塑性樹脂フィルムの塗膜層Ｃの表面に、真空蒸
着法により、コバルト１００％の強磁性薄膜を０．２μ
ｍの厚みになるように２層（各層厚約０．１μｍ）形成
する。形成した強磁性薄膜の表面にダイヤモンドライク
カーボン（ＤＬＣ）膜、さらに含フッ素カルボン酸系潤
滑層を順次設け、さらに熱可塑性樹脂層Ａの表面に、公
知の方法でバックコート層を設ける。その後、８ｍｍ幅
にスリットし、市販の８ｍｍビデオカセットにローディ
ングした。次いで、下記の市販の機器を用いてテープの
特性（Ｃ／Ｎ）を測定する。使用機器８ｍｍビデオテープレコーダー、ソニー株式会社製、商
品名「ＥＤＶ−６０００」Ｃ／Ｎ測定：株式会社シバソク製、ノイズメーターを用
い、記録波長０．５μｍ（周波数約７．４ＭＨｚ）の信
号を記録し、その再生信号の６．４ＭＨｚと７．４ＭＨ
ｚの値の比をそのテープのＣ／Ｎとし、市販８ｍｍビデ
オ用蒸着テープのＣ／Ｎを０ｄＢとし、相対値で評価す
る。

【００８６】（１４）（部分ケン化）エステルワックス
の調製炭素数が８個以上の脂肪族モノカルボン酸および多価ア
ルコールからなる（部分ケン化）エステルワックスとし
て、下記のものを使用する。（ａ）；ソルビタントリステアレート（融点５５℃）（ｂ）；モンタン酸ジオールエステルを水酸化カルシウ
ムでケン化したもの、ヘキスト株式会社製、商品名「ワ
ックスＥ」、（融点８６℃）

【００８７】［実施例１］ジメチルテレフタレートとエ
チレングリコールとを、エステル交換触媒として酢酸マ
ンガン、重合触媒としてトリメリット酸チタン、安定剤
として亜リン酸を用い、さらに滑剤（不活性粒子Ｂ）と
して平均粒径６０ｎｍの球状シリカ（体積形状係数０．
５）を０．０３％（ポリマーに対し）添加して、常法に
より重合し、固有粘度０．６０の熱可塑性樹脂層Ｂ用の
ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）（樹脂Ｂ１）を
得た。

【００８８】さらに、上記と同様の方法で、滑剤（不活
性粒子Ａ）として、平均粒径３００ｎｍの真球状シリカ
および平均粒径６０ｎｍのθ型アルミナを、それぞれ
０．０５％（ポリマーに対し）および０．２％（ポリマ
ーに対し）添加して、常法により重合し、固有粘度０．
６０のポリエチレンテレフタレートを得た。

【００８９】得られたポリエチレンテレフタレート９
９．９％に、ソルビタントリステアレート（ａ）の粉末
０．１％をまぶし、ベント付き二軸ルーダーにて練り込
み、固有粘度０．５９の熱可塑性樹脂層Ａ用のポリエチ
レンテレフタレート（ＰＥＴ）（樹脂Ａ１）得た。

【００９０】得られた樹脂Ａ１、樹脂Ｂ１を、それぞれ
１７０℃で３時間乾燥後、２台の押出機に供給し、溶融
温度２８０〜３００℃にて溶融し、平均目開き１１μｍ
の鋼線フィルターで高精度ろ過したのち、マルチマニホ
ールド型共押出しダイを用いて、樹脂層Ａの片面に樹脂
層Ｂを積層させ、急冷して厚さ８９μｍの未延伸積層熱
可塑性樹脂フィルムを得た。

【００９１】得られた積層未延伸フィルムを予熱し、さ
らに低速・高速のロール間でフィルム温度１００℃にて
３．３倍に延伸し、急冷して縦延伸フィルムを得た。次
いで縦延伸フィルムの層Ｂ面側に下記に示す組成（固形
分換算）の水性塗液（全固形分濃度１．０％）をキスコ
ート法により塗布した。バインダー：アクリル変性ポリエステル（高松油脂株式会社製、ＩＮ−１７０ −６）６７％不活性粒子Ｃ：アクリルフィラー（平均粒径３０ｎｍ）（体積形状係数０．４０）（日本触媒株式会社製、エポスター）６％界面活性剤Ｘ：（日本油脂株式会社製、ノニオンＮＳ−２０８．５）１％界面活性剤Ｙ：（日本油脂株式会社製、ノニオンＮＳ−２４０）２６％Ｃ層厚み（乾燥後）：５ｎｍ

【００９２】続いてステンターに供給し、１１０℃にて
横方向に４．２倍に延伸した。得られた二軸延伸フィル
ムを、２２０℃の熱風で４秒間熱固定し、全厚み６．４
μｍで、ベース層（熱可塑性樹脂層Ａ）厚み１．０μｍ
の積層二軸配向ポリエステルフィルムを得た。このフィ
ルムの熱可塑性樹脂層Ａ、Ｂの厚みについては、２台の
押出機の吐出量により調整した。このフィルムのヤング
率は縦方向５，０００Ｎ／ｍｍ²、横方向６，５００Ｎ
／ｍｍ²であった。この積層フィルムのその他の特性、
およびこのフィルムを用いた強磁性薄膜蒸着型磁気テー
プの特性を表１に示す。

【００９３】［実施例２］熱可塑性樹脂層Ａに含有させ
る不活性粒子Ａの種類、平均粒径、添加量、および（部
分ケン化）エステルワックスの種類、添加量を表１に示
すとおり変更し、熱可塑性樹脂Ｂに粒子を含有させない
以外は、実施例１と同様にして積層熱可塑性樹脂フィル
ムを得た。得られたフィルムの特性、およびそのフィル
ムを用いた強磁性薄膜蒸着型磁気テープの特性を表１に
示す。

【００９４】［実施例３］熱可塑性樹脂層Ａに含有させ
る不活性粒子Ａの種類、平均粒径、添加量および（部分
ケン化）エステルワックスの種類、添加量を表１に示す
とおり変更し、ジメチルテレフタレートの代わりに２，
６−ナフタレンジカルボン酸ジメチルを同モル量使用し
た以外は、実施例１と同様にして熱可塑性樹脂層Ａ、Ｂ
用のポリエチレン−２，６−ナフタレート（ＰＥＮ）
（樹脂Ａ３、Ｂ３）を得た。

【００９５】この樹脂Ａ３、Ｂ３を、それぞれ１７０℃
で６時間乾燥後、実施例１と同様にして、各層厚みを調
整し、厚さ８９μｍの未延伸積層熱可塑性樹脂フィルム
を得た。

【００９６】得られた積層未延伸フィルムを予熱し、さ
らに低速・高速のロール間でフィルム温度１３５℃にて
３．６倍に延伸し、急冷して縦延伸フィルムを得た。次
いで縦延伸フィルムの層Ｂ面側に、不活性粒子Ｃをコア
シェルフィラー（コア；架橋ポリスチレン、シェル；ポ
リメチルメタクリレート）（平均粒径；３０ｎｍ、体積
形状係数０．４５）ジェイエスアール株式会社製、「Ｓ
Ｘ８７２１」に変更した以外は実施例１と同じ組成（固
形分換算）の水性塗液（全固形分濃度１．０％）を実施
例１と同様に塗布した。

【００９７】続いてステンターに供給し、１５５℃にて
横方向に５．７倍に延伸した。得られた二軸延伸フィル
ムを、２００℃の熱風で４秒間熱固定し、全厚み４．４
μｍ、ベース層（熱可塑性樹脂層Ａ）厚み０．６μｍの
積層二軸配向ポリエステルフィルムを得た。このフィル
ムの熱可塑性樹脂層Ａ、Ｂの厚みについては、２台の押
し出し機の吐出量により調整した。このフィルムのヤン
グ率は縦方向５，５００Ｎ／ｍｍ²、横方向１０，５０
０Ｎ／ｍｍ²であった。この積層フィルムのその他の特
性、およびこのフィルムを用いた強磁性薄膜蒸着型磁気
テープの特性を表１に示す。

【００９８】［比較例１］熱可塑性樹脂層Ａに（部分ケ
ン化）エステルワックスを含有させない以外は、実施例
１と同様にして積層熱可塑性樹脂フィルムを得た。得ら
れたフィルムは、ブロッキング剥離力を測定する際に、
フィルムが密着しており、むりやり剥がそうとすると破
れてしまった。その他の特性、およびそのフィルムを用
いた強磁性薄膜蒸着型磁気テープの特性を表４に示す。

【００９９】［比較例２］ソルビタントリステアレート
（ａ）の添加量を５％にした以外は、実施例１と同様に
して積層熱可塑性樹脂フィルムを得た。得られたフィル
ムは、磁気テープの製造工程においてバックコートに塗
布する際、ハジキが発生してしまい、通常の塗布ができ
なかった。その他の特性、およびそのフィルムを用いた
強磁性薄膜蒸着型磁気テープの特性を表１に示す。

【０１００】［比較例３］熱可塑性樹脂層Ｂに添加する
不活性粒子Ｂとして、平均粒径２００ｎｍの真球状シリ
カ（体積形状係数；０．５）を０．２％添加する以外
は、実施例１と同様にして積層熱可塑性樹脂フィルムを
得た。得られたフィルムは、Ｃ層の表面粗さＷＲａが本
発明の範囲外となり、電磁変換特性に劣っていた。その
他の特性、およびそのフィルムを用いた強磁性薄膜蒸着
型磁気テープの特性を表１に示す。

【０１０１】

【表１】

【０１０２】表１から明らかなように、本発明の積層熱
可塑性樹脂フィルムは、片面が非常に平坦で、優れた電
磁変換特性を示すとともに、巻き取り性が極めて良好で
あり、かつ耐ブロッキング性が良好である。一方、本発
明の要件を満たさないものは、これらの特性を同時に満
足できない。

【０１０３】

【発明の効果】本発明によれば、耐ブロッキング性、巻
き取り性、加工適性に優れ、特に金属蒸着薄膜型磁気記
録媒体としたときに電磁変換特性に優れた積層熱可塑性
樹脂フィルムを得ることができる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続きＦターム(参考） 4F100 AA01B AA01C AA20H AA25 AH02B AJ11B AK01A AK01B AK42B AL05B AL06 BA03 BA07 BA10B BA10C CA19 CC00C DD07C DE01B DE01C EH20 EJ37 GB41 JB16A JK14B JL00 JL01 JL05 YY00B YY00C 5D006 CB01 CB05 CB07 CB08

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】熱可塑性樹脂層Ｂの片面に炭素数が８個
以上の脂肪族モノカルボン酸および多価アルコールから
なる（部分ケン化）エステルワックスを含有する熱可塑
性樹脂層Ａを積層し、かつＢ層のＡ層と接しない表面に
塗膜層Ｃを積層してなる積層フィルムであって、下記
（１）〜（４）を満足することを特徴とする積層熱可塑
性樹脂フィルム。（１）Ｃ層の表面粗さＷＲａ：０．１〜４ｎｍ（２）Ａ層の平均粒径５０〜１，５００ｎｍの不活性粒
子Ａの含有量：０．００１〜５重量％（Ａ層に対し）（３）Ａ層の（部分ケン化）エステルワックスの含有
量：０．００１〜１重量％（Ａ層に対し）（４）Ａ層のＢ層と接していない表面の水接触角：６０
〜８０°
【請求項２】塗膜層Ｃが平均粒径１０〜５０ｎｍ、体
積形状係数０．１〜π／６の不活性粒子Ｃを０．５〜３
０重量％（Ｃ層に対し）含有する請求項１に記載の積層
熱可塑性樹脂フィルム。
【請求項３】熱可塑性樹脂層Ｂが実質的に粒子を含有
しない請求項１または２に記載の積層熱可塑性樹脂フィ
ルム。
【請求項４】熱可塑性樹脂層Ｂが体積形状係数０．１
〜π／６、平均粒径３０〜４００ｎｍの不活性粒子Ｂを
０．００１〜０．２重量％（Ｂ層に対し）含有する請求
項１または２に記載の積層熱可塑性樹脂フィルム。
【請求項５】熱可塑性樹脂層Ａがポリエチレンテレフ
タレートからなる請求項１〜４のいずれかに記載の積層
熱可塑性樹脂フィルム。
【請求項６】熱可塑性樹脂層Ａがポリエチレン−２、
６−ナフタレートからなる請求項１〜４のいずれかに記
載の積層熱可塑性樹脂フィルム。