JP2001191457A

JP2001191457A - 積層熱可塑性樹脂フィルム

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Publication number: JP2001191457A
Application number: JP2000000774A
Authority: JP
Inventors: Tatsuya Ogawa; 達也小川; Hirobumi Murooka; 博文室岡
Original assignee: Teijin Ltd
Current assignee: Teijin Ltd
Priority date: 2000-01-06
Filing date: 2000-01-06
Publication date: 2001-07-17
Anticipated expiration: 2020-01-06
Also published as: JP3933360B2

Abstract

(57)【要約】【課題】耐ブロッキング性、巻き取り性、加工適性に
優れ、また金属蒸着薄膜型磁気記録媒体の支持体として
使用すると電磁変換特性に優れる、積層熱可塑性樹脂フ
ィルムを提供する。【解決手段】熱可塑性樹脂層Ｂの一方の面に熱可塑性
樹脂層Ａが積層され、他方の面にバイイダー樹脂、不活
性粒子Ｃ、界面活性剤及びシロキサン共重合アクリル樹
脂からなる皮膜層Ｃが積層されてなるフィルムであっ
て、該熱可塑性樹脂層Ａが、平均粒径１００〜２，００
０ｎｍの不活性粒子Ａを０．００１〜５重量％（層Ａ
に対して）および炭素数が８個以上の脂肪族モノカルボ
ン酸および多価アルコールからなる、部分ケン化してい
ても良い、エステルワックスを０．００１〜１０重量％
（層Ａに対して）含有し、かつ上記層Ａの、層Ｂと接
していない表面の水接触角が７０〜９０°であることを
特徴とする積層熱可塑性樹脂フィルム。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は積層熱可塑性樹脂フ
ィルムに関し、さらに詳しくは耐ブロッキング性、巻き
取り性及び加工適性に優れ、また金属蒸着薄膜型磁気記
録媒体の支持体に使用すると電磁変換特性に優れる、積
層熱可塑性樹脂フィルムに関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、磁気記録媒体の高密度化の進歩は
めざましく、例えば強磁性金属薄膜を、真空蒸着やスパ
ッタリングなどの物理沈着法またはメッキ法により、非
磁性支持体上に形成させた強磁性金属薄膜型磁気記録媒
体の開発実用化が進められている。例えば、Ｃｏの蒸着
テープ（特開昭５４−１４７０１０号公報）、Ｃｏ−Ｃ
ｒ合金からなる垂直磁気記録媒体（特開昭５２−１３４
７０６号公報）が知られている。

【０００３】従来の塗布型磁気記録媒体（磁性粉末を有
機高分子バインダーに混入させて非磁性支持体上に塗布
してなる磁気記録媒体）は、記録密度が低く、記録波長
も長いために、磁性層の厚みが２μｍ程度以上と厚い。
これに対し、真空蒸着、スパッタリングまたはイオンプ
レーティングなどの薄膜形成手段によって形成される金
属薄膜は、厚みが０．２μｍ以下と非常に薄くなってい
る。

【０００４】このため、上記の高密度磁気記録媒体にお
いては、非磁性支持体（ベースフィルム）の表面状態が
磁気記録層の表面性に大きな影響を及ぼす。すなわち、
非磁性支持体の表面状態が、そのまま磁気記録層表面の
凹凸として発現し、それが記録・再生信号の雑音の原因
となる。従って、非磁性支持体の表面はできるだけ平滑
であることが望ましい。

【０００５】一方、非磁性支持体の製膜、加工工程での
搬送、傷つき、巻き取り、巻出しといったハンドリング
の観点からは、フィルム表面が平滑過ぎると、フィルム
の滑り性、例えばフィルム−フィルム相互の滑り性が悪
化し、製品歩留りの低下、ひいては製品の製造コストの
上昇をきたす。従って、製造コストという観点では、非
磁性支持体の表面はできるだけ粗いことが好ましい。

【０００６】このように、非磁性支持体の表面は、電磁
変換特性という観点からは平滑であることが要求され、
ハンドリング性及び製造コストの観点からは粗いことが
要求される。

【０００７】さらに、金属薄膜型磁気記録媒体の場合に
は、金属薄膜とベースフィルムとの密着性を良好にする
ため、金属薄膜成形前にイオンボンバード処理と呼ばれ
る、ベースフィルム表面をイオンにより活性化する処理
が施される。そして、金属薄膜成形時には、フィルム表
面に高温の熱がかかり、ベースフィルムが融解してしま
ったり、あるいは機械特性などの物性の低下を招かぬよ
うに、背面冷却を施している。背面冷却の方法として
は、ドラム状冷却体にベースフィルムを巻き付けて実施
する場合が多く、その際ドラム表面に金属薄膜が形成さ
れないように、ベースフィルム両端をマスキングしてい
る。

【０００８】従って、金属薄膜の蒸着工程を通過したフ
ィルムロールの両端部には、上記イオンボンバード処理
によって表面が活性化され、かつ金属薄膜が形成されな
い部分が長手方向に連続的に存在することになる。この
部分は、ロール状に巻き上げられた状態では、反対面側
と高い圧力で接触することになり、ブロッキングを引き
起しやすい。

【０００９】金属薄膜型磁気記録媒体を製造する際に
は、通常、金属薄膜を蒸着した後にバックコート層、お
よび必要に応じてトップコート層を設けるが、これらの
加工工程において蒸着フィルムロールに上記ブロッキン
グが発生していると、該ロールからフィルムを巻き出す
時フィルムの切断やしわが発生しやすくなり、収率が大
幅に低下してしまう、という問題が生じる。

【００１０】上記のような問題を解決するために、例え
ば特開平９−２０７２９０号公報、特開平９−２２６０
６３号公報には、樹脂層Ａ、Ｂの２層からなり、Ａ層表
面よりもＢ層表面の方が粗い積層フィルムが提案されて
いる。しかしながら、このような方法では、電磁変換特
性とハンドリング性及び巻き取り性とのバランスはある
程度取れるものの、まだ不充分であり、かつ上記ブロッ
キングの発生を抑制することができない。

【００１１】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、この
ような従来技術の欠点を解消し、耐ブロッキング性、巻
き取り性及び加工適性に優れ、また金属蒸着薄膜型磁気
記録媒体の支持体に使用すると電磁変換特性に優れる、
積層熱可塑性樹脂フィルムを提供することにある。

【００１２】

【課題を解決するための手段】本発明の目的は、本発明
によれば、熱可塑性樹脂層Ｂの一方の面に熱可塑性樹脂
層Ａが積層され、他方の面にバインダー樹脂、不活性粒
子Ｃ、界面活性剤及びシロキサン共重合アクリル樹脂か
らなる皮膜層Ｃが塗設されてなる積層フィルムであっ
て、該熱可塑性樹脂層Ａが平均粒径１００〜２，０００
ｎｍの不活性粒子Ａを０．００１〜５重量％（層Ａに対
して）、及び炭素数が８個以上の脂肪族モノカルボン酸
および多価アルコールからなる、部分ケン化していても
良い、エステルワックスを０．００１〜１０重量％（層
Ａに対して）含有し、かつ該熱可塑性樹脂層Ａの、熱可
塑性樹脂層Ｂと接していない表面の水接触角が７０〜９
０°であることを特徴とする積層熱可塑性樹脂フィルム
によって達成される。

【００１３】

【発明の実施の形態】本発明において、熱可塑性樹脂層
Ａ、熱可塑性樹脂層Ｂを構成する熱可塑性樹脂Ａ、Ｂと
しては、それぞれ、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系
樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリエーテル系樹脂、ポリカ
ーボネート系樹脂、ポリビニル系樹脂、ポリオレフィン
系樹脂などを例示することができる。これらのうち、ポ
リエステル系樹脂、特に芳香族ポリエステルが好まし
い。上記熱可塑性樹脂Ａ、Ｂは異なる種類であっても良
いが、同種類の方が好ましい。

【００１４】上記芳香族ポリエステルとしては、ポリエ
チレンテレフタレート、ポリエチレンイソフタレート、
ポリテトラメチレンテレフタレート、ポリ−１，４−シ
クロヘキシレンジメチレンテレフタレート、ポリエチレ
ン−２，６−ナフタレート（ポリエチレン−２，６−ナ
フタレンジカルボキシレート）などを例示することがで
きる。これらのうち、ポリエチレンテレフタレート、ポ
リエチレン−２，６−ナフタレートが特に好ましい。

【００１５】これら芳香族ポリエステルは、ホモポリエ
ステルであっても、コポリエステルであっても良い。コ
ポリエステルの場合、例えばポリエチレンテレフタレー
トまたはポリエチレン−２，６−ナフタレートの共重合
成分としては、ジエチレングリコール、プロピレングリ
コール、テトラメチレングリコール、ヘキサメチレング
リコール、ネオペンチルグリコール、ポリエチレングリ
コール、１，４−シクロヘキサンジメタノール、ｐ−キ
シリレングリコールなどの他のジオール成分、アジピン
酸、セバシン酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル
酸（ただし、ポリエチレン−２，６−ナフタレートの場
合）、２，６−ナフタレンジカルボン酸（ただし、ポリ
エチレンテレフタレートの場合）、５−ナトリウムスル
ホイソフタル酸などの他のジカルボン酸成分、ｐ−オキ
シエトキシ安息香酸などのオキシカルボン酸成分などを
例示することができる。これら共重合成分の量は、ポリ
マーを形成する全酸成分に対して、２０モル％以下、さ
らには１０モル％以下であることが好ましい。

【００１６】さらにトリメリット酸、ピロメリット酸な
どの３官能以上の多官能化合物を共重合させることもで
きる。この場合、ポリマーが実質的に線状である量、例
えば２モル％以下で共重合させるのが良い。

【００１７】ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレ
ン−２，６−ナフタレート以外の他のポリエステルの場
合の共重合成分についても、上記と同様に考えてよい。

【００１８】上記熱可塑性樹脂Ａ、Ｂはそれ自体公知で
あり、かつそれ自体公知の方法で製造することができ
る。

【００１９】本発明における熱可塑性樹脂層Ａは、平均
粒径１００〜２，０００ｎｍの不活性粒子（以下、不活
性粒子Ａという）を０．００１〜５重量％（層Ａに対し
て）含有する。

【００２０】上記不活性粒子Ａの好ましいものとして
は、例えば（１）耐熱性ポリマー粒子（例えば、架橋シ
リコーン樹脂、架橋ポリスチレン、架橋アクリル樹脂、
メラミン−ホルムアルデヒド樹脂、芳香族ポリアミド樹
脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、架橋ポリ
エステル樹脂などの一種からなる粒子）、そのほか
（２）金属酸化物（例えば、三二酸化アルミニウム、二
酸化チタン、二酸化ケイ素、酸化マグネシウム、酸化亜
鉛、酸化ジルコニウムなど）、（３）金属の炭酸塩（例
えば、炭酸マグネシウム、炭酸カルシウムなど）、
（４）金属の硫酸塩（例えば、硫酸カルシウム、硫酸バ
リウムなど）、（５）炭素（例えば、カーボンブラッ
ク、グラファイト、ダイアモンドなど）、および（６）
粘土鉱物（例えば、カオリン、クレー、ベントナイトな
ど）などのような無機化合物からなる微粒子が挙げられ
る。これらのうち、架橋シリコーン樹脂粒子、架橋ポリ
スチレン樹脂粒子、メラミン−ホルムアルデヒド樹脂粒
子、ポリアミドイミド樹脂粒子、その他三二酸化アルミ
ニウム（アルミナ）、二酸化チタン、二酸化ケイ素、酸
化ジルコニウム、合成炭酸カルシウム、硫酸バリウム、
ダイアモンド、およびカオリンからなる微粒子が好まし
い。さらに好ましくは、架橋シリコーン樹脂粒子、架橋
ポリスチレン樹脂粒子、その他三二酸化アルミニウム
（アルミナ）、二酸化チタン、二酸化ケイ素、および炭
酸カルシウムからなる微粒子である。

【００２１】上記不活性粒子Ａの平均粒径（ｄＡ）は１
００〜２，０００ｎｍ、好ましくは２００〜１，５００
ｎｍ、さらに好ましくは２００〜１，０００ｎｍ、特に
好ましくは２００〜８００ｎｍである。また、不活性粒
子Ａの含有量は、層Ａに対して、０．００１〜５重量
％、好ましくは０．０１〜４重量％、さらに好ましくは
０．０３〜３重量％、特に好ましくは０．０５〜２．０
重量％である。不活性粒子Ａの平均粒径が１００ｎｍ未
満、または含有量が０．００１重量％未満（層Ａに対し
て）の場合、フィルムの巻き取り性、耐ブロッキング性
が不良となる。一方、不活性粒子Ａの平均粒径が２，０
００ｎｍを超えるか、または含有量が５重量％（層Ａ
に対して）を超えると、反対面（層Ｂ表面）への突起の
形状転写や、層Ｂの下からの突起の突き上げによって層
Ｂ表面が粗くなってしまい、電磁変換特性を悪化させ
る。

【００２２】上記不活性粒子Ａは単独使用、または他の
微細粒子の１種以上と組み合せて使用してもよい。他の
微細粒子を併用する場合、該粒子は不活性粒子Ａの平均
粒径ｄＡよりも小さい平均粒径の粒子である。かかる微
細粒子、例えば第２の粒子、第３の粒子としては、例え
ば、コロイダルシリカ、α、γ、δ、θなどの結晶形態
を有するアルミナなどの微粒子を好ましく用いることが
できる。また、平均粒径ｄＡを有する不活性粒子Ａとし
て例示した粒子種のうち、平均粒径の小さい微細粒子
も、第２の粒子、第３の粒子として用いることができ
る。

【００２３】上記微細粒子の平均粒径は５〜４００ｎ
ｍ、さらには１０〜３００ｎｍ、特に３０〜２５０ｎｍ
の範囲にあり、かつ平均粒径ｄＡよりも５０ｎｍ以上、
さらには１００ｎｍ以上、特に１５０ｎｍ以上小さいこ
とが好ましい。この微細粒子の含有量は、層Ａに対し
て、好ましくは０．００５〜１重量％、さらに好ましく
は０．０１〜０．７重量％、特に好ましくは０．０５〜
０．５重量％である。

【００２４】本発明における熱可塑性樹脂層Ａは、炭素
数が８個以上の脂肪族モノカルボン酸および多価アルコ
ールからなる、部分ケン化していても良い、エステルワ
ックスを、層Ａに対して、０．００１〜１０重量％含有
する。この「部分ケン化していても良い、エステルワッ
クス」とは、エステルワックス、部分ケン化エステルワ
ックスを包含する表現として用いられ、（部分ケン化）
エステルワックスということがある。

【００２５】上記脂肪族モノカルボン酸の炭素数は８個
以上、好ましくは８〜３４個である。炭素数が７個以下
であると、（部分ケン化）エステル化合物の耐熱性が不
充分であり、熱可塑性樹脂Ａに分散含有させる際の加熱
条件で、該化合物の分解が容易に進むため不適切であ
る。

【００２６】上記炭素数が８個以上の脂肪族モノカルボ
ン酸としては、ペラルゴン酸、カプリン酸、ウンデシル
酸、ラウリン酸、トリデシル酸、ミリスチン酸、ペンタ
デシル酸、パルミチン酸、ヘプタデシル酸、ステアリン
酸、ノナデカン酸、アラキン酸、ペヘン酸、リグノセリ
ン酸、セロチン酸、モンタン酸、メリシン酸、ヘントリ
アコンタン酸、ペトロセリン酸、オレイン酸、エルカ
酸、リノール酸およびこれらを含む酸混合物などを例示
できる。

【００２７】上記（部分ケン化）エステルワックスのア
ルコール成分は、水酸基を２個以上有する多価アルコー
ルである。耐熱性の観点からは、水酸基を３個以上有す
る多価アルコールが好ましい。モノアルコールを用いた
のでは、（部分ケン化）エステル化合物の耐熱性が不足
し、本発明におけるワックスとしての使用に耐えない。

【００２８】水酸基を２個有する多価アルコールとして
は、エチレングリコール、プロピレングリコール、トリ
メチレングリコール、１，４−ブタンジオール、１，５
−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、１，
７−ヘプタンジオール、１，８−オクタンジオール、
１，９−ノナンジオール、１，１０−デカンジオール、
ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ポリ
エチレングリコールなどを好ましく例示できる。水酸基
を３個以上有する多価アルコールとしては、グリセリ
ン、エリスリット、トレイット、ペンタエリスリット、
アラビット、キシリット、タリット、ソルビット、マン
ニットなどを好ましく例示できる。

【００２９】上記脂肪族モノカルボン酸および多価アル
コールから得られるエステルワックスとしては、多価ア
ルコールの水酸基の数にもよるが、モノエステル、ジエ
ステル、トリエステルなどが挙げられる。耐熱性の観点
から、モノエステルよりもジエステルが、ジエステルよ
りもトリエステルが好ましい。好ましいエステルワック
スとしては、具体的にはソルビタントリステアレート、
ペンタエリスリットトリペヘネート、グリセリントリパ
ルミテート、ポリオキシエチレンジステアレートなどが
挙げられる。

【００３０】上記脂肪族モノカルボン酸および多価アル
コールからなる部分ケン化エステルワックスは、炭素数
が８個以上の高級脂肪酸を多価アルコールで部分エステ
ル化したのち、２価以上の金属水酸化物でケン化するこ
とにより得られる。具体例としては、モンタン酸ジオー
ルエステルを水酸化カルシウムでケン化した、ワックス
Ｅ、ワックスＯＰ、ワックスＯ、ワックスＯＭ、ワック
スＦＬ（全て、ヘキスト（株）社製商品名）などが挙げ
られる。

【００３１】上記（部分ケン化）エステルワックスは単
独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。

【００３２】本発明における熱可塑性樹脂層Ａは、上記
（部分ケン化）エステルワックスを、層Ａに対して、
０．００１〜１０重量％、好ましくは０．０１〜５重量
％、さらに好ましくは０．０５〜２重量％、特に好まし
くは０．１〜１重量％含有する。この含有量が０．００
１重量％未満であると、ブロッキング改良効果が得られ
ない。一方、１０重量％を超えると、フィルム製造工程
で、ロール上に巻き上げたときに接する面とは反対面側
に、ブリードアウトによってワックス成分が多量に転写
され、そのため、例えば金属蒸着層とベースフィルムの
接着性を妨げるなどの弊害が生じる。

【００３３】また、本発明における熱可塑性樹脂層Ａ
の、層Ｂと接していない表面の水接触角は７０〜９０
°、好ましくは７１〜８９°、さらに好ましくは７２〜
８８°、特に好ましくは７４〜８６°である。この水接
触角が７０°未満では、ブロッキング改良効果が得られ
ない。一方、９０°を超えると、バックコート層を塗布
する工程で塗布斑などの問題が発生する。

【００３４】上記熱可塑性樹脂層Ａの外表面の中心線平
均粗さRa^Aは２〜２０ｎｍ、さらに３〜１５ｎｍ、特に
４〜１０ｎｍであることが好ましい。このRa^Aがこの範
囲内にあると、層Ａ表面の滑り性及び耐削れ性に対する
効果が大きい。

【００３５】本発明の積層フィルムは、フィルムの製造
時および加工時のハンドリング性向上と、さらに磁気記
録媒体としたときの諸特性向上を目的として、磁性層を
設ける側の面に熱可塑性樹脂層Ｂを設ける。

【００３６】本発明における熱可塑性樹脂層Ｂは、実質
的に不活性粒子を含有しないものでもよく、また不活性
粒子Ｂを含有するものでもよい。

【００３７】上記熱可塑性樹脂層Ｂが実質的に不活性粒
子を含有しない場合、磁気記録媒体としたときの電磁変
換特性に優れるので好ましい。

【００３８】一方、走行耐久性向上の観点からは、上記
熱可塑性樹脂層Ｂに電磁変換特性に悪影響を与えない範
囲の不活性粒子を含有させるのが好ましい。具体的に
は、平均粒径が３０〜２００ｎｍの不活性球状粒子Ｂ
を、層Ｂに対して、０．００１〜０．２重量％含有させ
るのが好ましい。好ましい不活性粒子Ｂとしては、球状
シリカ粒子、球状架橋シリコーン樹脂粒子、球状架橋ポ
リエスチレン樹脂粒子を挙げることができる。不活性粒
子Ｂの平均粒径ｄＢは３０〜２００ｎｍ、さらには４０
〜１５０ｎｍ、特に５０〜１００ｎｍであることが好ま
しい。この平均粒径ｄＢが３０ｎｍ未満であると、フィ
ルムの滑り性が不良となることがあり、一方２００ｎｍ
を超えると、磁気記録媒体の電磁変換特性が不良となる
ことがあるため好ましくない。不活性粒子Ｂは１種また
は２種以上のものを混合して使用してもよい。

【００３９】不活性粒子Ｂを熱可塑性樹脂層Ｂに配合す
る場合の含有量は、層Ｂに対して、０．００１〜０．２
重量％、さらには０．０１〜０．１重量％、特に０．０
２〜０．０５量％であることが好ましい。この含有量が
０，００１重量％未満であると、フィルムの滑り性が不
良となることがあり、一方０．２重量％を超えると、磁
気記録媒体の電磁変換特性が不良となることがあるた
め、好ましくない。

【００４０】本発明の積層熱可塑性樹脂フィルムは、熱
可塑性樹脂層Ｂの熱可塑性樹脂層Ａと接していない表面
に、バインダー樹脂、不活性粒子Ｃ、界面活性剤及びシ
ロキサン共重合アクリル樹脂からなる皮膜層Ｃが塗設さ
れている必要がある。

【００４１】本発明における皮膜層Ｃを構成するバイン
ダー樹脂としては、アルキッド樹脂、フェノール樹脂、
エポキシ樹脂、アミノ樹脂、ポリウレタン樹脂、セルロ
ース樹脂、酢酸ビニル樹脂、塩化ビニル―酢酸ビニル共
重合体等を例示することができる。これらのうち、熱可
塑性樹脂層Ｂ、特にポリエステル層Ｂに対する密着性、
突起保持性、易滑性などの点から、水溶性又は水分散性
の樹脂であり、かつアクリル樹脂、ポリエステル樹脂及
びアクリル―ポリエステル樹脂からなる群から選ばれる
樹脂が好ましい。これら樹脂は単一重合体でも共重合体
でもよく、また混合物でも差支えない。バインダー樹脂
の含有量は、層Ｃに対して、２０〜９０重量％が好まし
い。

【００４２】上記水溶性又は水分散性のアクリル樹脂
は、例えばアクリル酸エステル（アルコール残基として
は、メチル基、エチル基、ｎ―プロピル基、イソプロピ
ル基、ｎ―ブチル基、イソブチル基、ｔ―ブチル基、２
―エチルヘキシル基、シクロヘキシル基、フェニル基、
ベンジル基、フェニルエチル基等を例示できる）；メタ
クリル酸エステル（アルコール残基は上記と同じ）；２
―ヒドロキシエチルアクリレート、２―ヒドロキシエチ
ルメタクリレート、２―ヒドロキシプロピルアクリレー
ト、２―ヒドロキシプロピルメタクリレート等の如きヒ
ドロキシ含有モノマー；アクリルアミド、メタクリルア
ミド、Ｎ―メチルメタクリルアミド、Ｎ―メチルアクリ
ルアミド、Ｎ―メチロールアクリルアミド、Ｎ―メチロ
ールメタクリルアミド、Ｎ，Ｎ―ジメチロールアクリル
アミド、Ｎ―メトキシメチルアクリルアミド、Ｎ―メト
キシメチルメタクリルアミド、Ｎ―フェニルアクリルア
ミド等の如きアミド基含有モノマー；Ｎ，Ｎ―ジエチル
アミノエチルアクリレート、Ｎ，Ｎ―ジエチルアミノエ
チルメタクリレート等の如きアミノ基含有モノマー；グ
リシジルアクリレート、グリシジルメタクリレート、ア
リルグリシジルエーテル等の如きエポキシ基含有モノマ
ーなどの１種以上の単量体から、あるいはかかる単量体
と例えば、スチレンスルホン酸、ビニルスルホン酸及び
これらの塩（例えばナトリウム塩、カリウム塩、アンモ
ニウム塩等）等の如きスルホン酸基又はその塩を含有す
るモノマー；クロトン酸、イタコン酸、アクリル酸、マ
レイン酸、フマール酸及びそれらの塩（例えばナトリウ
ム塩、カリウム塩、アンモニウム塩等）等の如きカルボ
キシル基又はその塩を含有するモノマー；無水マレイン
酸、無水イタコン酸等の無水物を含有するモノマー；そ
の他ビニルイソシアネート、アリルイソシアネート、ス
チレン、ビニルメチルエーテル、ビニルエチルエーテ
ル、ビニルトリスアルコキシシラン、アルキルマレイン
酸モノエステル、アルキルフマール酸モノエステル、ア
クリロニトリル、メタクリロニトリル、アルキルイタコ
ン酸モノエステル、塩化ビニリデン、酢酸ビニル、塩化
ビニル等の単量体の組合せからつくられたものである
が、アクリル酸誘導体、メタクリル酸誘導体の如き（メ
タ）アクリル単量体の成分が５０モル％以上含まれてい
るものが好ましく、特にメタクリル酸メチルの成分を含
有しているものが好ましい。

【００４３】上記水溶性又は水分散性のアクリル樹脂は
分子内の官能基で自己架橋することができるし、メラミ
ン樹脂やエポキシ化合物等の架橋剤を用いて架橋するこ
ともできる。

【００４４】また、上記水溶性又は水分散性のポリエス
テル樹脂を構成する酸成分としては、例えばテレフタル
酸、イソフタル酸、フタル酸、１，４―シクロヘキサン
ジカルボン酸、２，６―ナフタレンジカルボン酸、４，
４′―ジフェニルジカルボン酸、アジピン酸、セバシン
酸、ドデカンジカルボン酸、コハク酸、５―ナトリウム
スルホイソフタル酸、２―カリウムスルホテレフタル
酸、トリメリット酸、トリメシン酸、無水トリメリット
酸、無水フタル酸、ｐ―ヒドロキシ安息香酸、トリメリ
ット酸モノカリウム塩等の多価カルボン酸を例示するこ
とができる。

【００４５】ヒドロキシ化合物成分としては、例えばエ
チレングリコール、プロピレングリコール、１，３―プ
ロパンジオール、１，４―ブタンジオール、１，６―ヘ
キサンジオール、ネオペンチルグリコール、１，４―シ
クロヘキサンジメタノール、ｐ―キシリレングリコー
ル、ビスフェノールＡのエチレンオキシド付加物、ジエ
チレングリコール、トリエチレングリコール、ポリエチ
レンオキシドグリコール、ポリテトラメチレンオキシド
グリコール、ジメチロールプロピオン酸、グリセリン、
トリメチロールプロパン、ジメチロールエチルスルホン
酸ナトリウム、ジメチロールプロパン酸カリウム等の多
価ヒドロキシ化合物を例示することができる。

【００４６】これらの化合物から常法によってポリエス
テル樹脂をつくることができる。水性塗料をつくる点か
らは、５―ナトリウムスルホイソフタル酸成分又はカル
ボン酸塩基を含有する水性ポリエステル樹脂を用いるの
が好ましい。かかるポリエステル樹脂は分子内に官能基
を有する自己架橋型とすることができるし、メラミン樹
脂、エポキシ樹脂のような硬化剤を用いて架橋すること
もできる。

【００４７】本発明におけるアクリル―ポリエステル樹
脂は、アクリル変性ポリエステル樹脂とポリエステル変
性アクリル樹脂とを包含する意味で用いており、アクリ
ル樹脂成分とポリエステル樹脂成分とが互いに結合した
ものであって、例えばグラフトタイプ、ブロックタイプ
等を包含する。

【００４８】上記水溶性又は水分散性のアクリル―ポリ
エステル樹脂は、例えばポリエステル樹脂の両端にラジ
カル開始剤を付加してアクリル単量体の重合を行わせた
り、ポリエステル樹脂の側鎖にラジカル開始剤を付加し
てアクリル単量体の重合を行わせたり、あるいはアクリ
ル樹脂の側鎖に水酸基を付け、末端にイソシアネート基
やカルボキシル基を有するポリエステルと反応させて櫛
形ポリマーとする等によって製造することができる。か
かるアクリル−ポリエステル樹脂を構成する成分として
は、上記アクリル樹脂を形成する単量体として、またポ
リエステル樹脂を構成する酸成分及びヒドロシキ化合物
成分として例示したものを例示することができる。

【００４９】本発明における皮膜層Ｃに配合される不活
性粒子Ｃの材質としては、ポリスチレン、ポリスチレン
―ジビニルベンゼン、ポリメチルメタクリレート、メチ
ルメタクリレート共重合体、メチルメタクリレート共重
合架橋体、ポリテトラフルオロエチレン、ポリビニリデ
ンフルオライド、ポリアクリロニトリル、ベンゾグアナ
ミン樹脂等の如き有機質、シリカ、アルミナ、二酸化チ
タン、カオリン、タルク、グラファイト、炭酸カルシウ
ム、長石、二硫化モリブデン、カーボンブラック、硫酸
バリウム等の如き無機質のいずれを用いてもよい。ま
た、内外部のそれぞれの性質が異なる物質で構成される
多層構造のコアシェル型粒子として用いてもよい。

【００５０】上記不活性粒子Ｃの平均粒径は５〜１００
ｎｍ、さらには１０〜５０ｎｍであることが好ましい。
粒度分布は均一であるものが好ましい。この平均粒径が
５ｎｍ未満であると、滑り性、耐削れ性が悪化する。一
方、平均粒径が１００ｎｍを超えると、層Ｃからの、粒
子の脱落が発生し、耐削れ性が悪化する。また、磁気ヘ
ッドとのスペーシングが大きくなり、高密度の磁気記録
媒体として供することが困難となる。

【００５１】上記不活性粒子Ｃの含有量は、層Ｃに対し
て、０．５〜３０重量％、さらに０．８〜２０重量％、
特に１．０〜１０重量％であることが好ましい。この含
有量が０．５重量％未満では、磁気記録媒体としたとき
の走行耐久性が不足し、一方３０重量％を超えると、電
磁変換特性に悪影響を及ぼす。

【００５２】本発明における皮膜層Ｃは、シロキサン共
重合アクリル樹脂を含有していることを特徴とする。こ
のシロキサン共重合アクリル樹脂は、シロキサン成分と
アクリル樹脂成分とが互いに結合したものであって、例
えばグラフトタイプ、ブロックタイプ等を包含する共重
合体である。例えばアクリル樹脂の両端にラジカル開始
剤を付加してシロキサンの重合を行わせたり、シロキサ
ンの側鎖に水酸基を付け、末端にイソシアネート基やカ
ルボキシル基を有するアクリルと反応させて櫛形ポリマ
ーとする等によって製造することができる。

【００５３】上記アクリル樹脂成分を構成する成分とし
ては、バインダー樹脂に用いるアクリル樹脂で例示した
ものを例示することができる。

【００５４】上記シロキサン成分としては、鎖状成分と
して

【００５５】

【化１】

【００５６】ただし、Ｒ₁はメチル基、フェニル基又は
水素であり、Ｒ₂はメチル基、フェニル基、水素または
官能性基（例えば、エポキシ基、アミノ基、水酸基）で
あり、ｎは１００〜７０００の数である。を有するポリ
シロキサン化合物であり、末端にエポキシ基、アミノ
基、水酸基、その他の官能性末端基を有するものがあげ
られる。上記シロキサン成分は必ずしもホモポリマーで
ある必要はなく、コポリマーまたは数種のホモポリマー
の混合体であってもよい。

【００５７】上記アクリル樹脂成分とシロキサン成分の
比率は、重量比で、９８：２〜５０：５０、さらには９
５：５〜６０：４０であることが好ましい。

【００５８】上記皮膜層Ｃ中のシロキサン共重合アクリ
ル樹脂の含有量は１〜３０重量％、更には１〜２０重量
％であることが好ましい。この含有量が１重量％未満で
あると、効果が不充分でブロッキングの発生及び帯電の
増加を引き起こし、一方３０重量％を超えると、磁性層
の接着性を悪化させたり、ロール状に巻いたときに接触
面への転写が発生したり、フィルム走行時に接触ロール
の汚れを惹き起こす。

【００５９】上記皮膜層Ｃを構成する界面活性剤につい
ては、特に限定はされないが、ノニオン型界面活性剤、
アニオン型界面活性剤、カチオン型界面活性剤などが例
示できる。これらの中ノニオン型界面活性剤が好まし
い。ノニオン型界面活性剤としては、エステル型、エー
テル型、アルキルフェノール型のものが挙げられ、さら
に具体的にはポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポ
リオキシエチレンアルキルフェニルエーテル、ポリオキ
シエチレンモノステアレート、ソルビタンステアレー
ト、ポリオキシエチレンソルビタンモノステアレート等
が挙げられる。

【００６０】これら界面活性剤の具体例としては、ポリ
オキシエチレンアルキルフェニルエーテル系化合物とし
て、日本油脂株式会社製の商品名「ノニオンＮＳ−２３
０」、「同ＮＳ−２４０］、「同ＨＳ−２２０］、「同
ＨＳ−２４０」、三洋化成株式式会社製の商品名「ノニ
ポール２００」、「ノニポール４００」、「ノニポール
５００」、「オクタポール４０００」；ポリオキシエチ
レンアルキルエーテル系化合物として、日本油脂株式会
社製の商品名「ノニオンＥ−２３０」、「同Ｋ−２２
０」、「同Ｋ−２３０」；高級脂肪酸のポリオキシエチ
レンアルキルエステル系化合物として、日本油脂株式会
社製の商品名「ノニオンＳ−１５．４」、「同Ｓ−４
０］等を例示することができる。

【００６１】界面活性剤の含有量は、皮膜層Ｃに対し
て、５〜４０重量％、さらには５〜４０重量％、特に１
０〜４０重量％、就中１２〜３０重量％の範囲が好まし
い。

【００６２】本発明において、皮膜層Ｃの表面粗さRa^C
は０．１〜２ｎｍ、さらには０．５〜１．５ｎｍである
ことが好ましい。この表面粗さRa^Cが２ｎｍを超える場
合には、特に金属薄膜型磁気記録媒体としたときに電磁
変換特性が悪化する。一方、このRa^Cが０．１ｎｍ未満
の場合は、滑り性が極度に悪化して走行耐久性が不足し
たり、磁気ヘッドに貼り付いてテープ鳴きを生じたりし
て実用に供することが出来なくなり易い。

【００６３】本発明における積層熱可塑性樹脂フィルム
は、全厚みが通常２．５〜２０μｍ、好ましくは３．０
〜１０μｍ、さらに好ましくは４．０〜１０μｍであ
る。熱可塑性樹脂層Ａの層厚みは、積層フィルムの全厚
みの１／２以下、さらには１／３以下、特に１／４以下
であることが好ましい。熱可塑性樹脂層Ｂの厚みは、積
層フィルムの全厚みの１／２以上、さらには２／３以
上、特に３／４以上であることが好ましい。さらに、皮
膜層Ｃの厚みは、通常１〜１００ｎｍ、好ましくは２〜
５ｎｍ、さらに好ましくは３〜１０ｎｍ、特に好ましく
は３〜８ｎｍである。

【００６４】本発明における積層熱可塑性樹脂フィルム
は、従来から知られている、または当業界に蓄積されて
いる方法に準じて製造することができる。そのうち、熱
可塑性樹脂層Ａと熱可塑性樹脂層Ｂとの積層構造は、共
押し出し法により製造するのが好ましく、皮膜層Ｃは塗
布法により設けるのが好ましい。

【００６５】例えば、積層二軸配向ポリエステルフィル
ムで説明すると、先ず、不活性粒子Ａ及び（部分ケン
化）エステルワックスを均一分散、含有させた熱可塑性
樹脂Ａと、必要に応じて不活性粒子Ｂを含有させた熱可
塑性樹脂Ｂとを、それぞれ高精度ろ過したのち、押し出
し口金内または口金以前（一般に、前者はマルチマニホ
ールド方式、後者はフィードブロック方式と呼ぶ）で溶
融状態にて積層複合し、上記好適な厚み比の積層構造と
なし、次いで口金より融点（Ｔｍ）〜（Ｔｍ＋７０）℃
の温度でフィルム状に共押出し、３０〜９０℃の冷却ロ
ールで急冷固化して未延伸積層フィルムを得る。その
後、該未延伸積層フィルムを常法に従い、一軸方向（縦
方向または横方向）に（Ｔｇ−１０）〜（Ｔｇ＋７０）
℃の温度（ただし、Ｔｇ：ポリエステルのガラス転移温
度）で２．５〜８．０倍の倍率で、好ましくは３．０〜
７．５倍の倍率で延伸し、次いで該延伸方向とは直角方
向（一段目延伸が縦方向の場合には、二段目延伸は横方
向となる）に（Ｔｇ）〜（Ｔｇ＋７０）℃の温度で２．
５〜８．０倍の倍率で、好ましくは３．０〜７．５倍の
倍率で延伸する。その際、必要に応じて、縦方向および
／または横方向に再度延伸してもよい。すなわち、２
段、３段、４段あるいは多段の延伸を行うとよい。面積
延伸倍率としては、通常９倍以上、好ましくは１２〜３
５倍、さらに好ましくは１５〜３０倍である。

【００６６】次いで、上記二軸延伸フィルムは、（Ｔｇ
＋７０）〜（Ｔｍ−１０）℃の温度、例えば、ポリエチ
レンテレフタレートフィルムの場合、１８０〜２５０℃
で熱固定結晶化する。これによって、優れた寸法安定性
が付与される。また、熱固定時間は１〜６０秒が好まし
い。

【００６７】なお、積層熱可塑性樹脂フィルムの製造に
際し、熱可塑性樹脂Ａ、Ｂに所望により上記不活性粒子
以外の添加剤、例えば安定剤、着色剤、溶融ポリマーの
固有抵抗調整剤などを添加含有させることができる。

【００６８】本発明において、熱可塑性樹脂層Ｂへの皮
膜層Ｃの塗設は水性塗液を塗布する方法で行うのが好ま
しい。

【００６９】塗布は最終延伸処理を施す以前の熱可塑性
樹脂層Ｂの表面に行い、塗布後にはフィルムを少なくと
も一軸方向に延伸するのが好ましい。この延伸の前ない
し途中で塗膜は乾燥される。その中で、塗布は未延伸積
層フィルムまたは縦（一軸）延伸積層フィルム、特に縦
（一軸）延伸積層フィルムに行うのが好ましい。塗布方
法としては特に限定されないが、例えばロールコート
法、ダイコート法などが好ましく挙げられる。

【００７０】上記塗液、特に水性塗液の固形分濃度は
０．２〜８重量％、さらに０．３〜６重量％、特に０．
５〜４重量％であることが好ましい。そして、塗液（好
ましくは水性塗液）には、本発明の効果を妨げない範囲
で、他の成分、例えば安定剤、分散剤、紫外線吸収剤、
増粘剤などを添加することができる。

【００７１】本発明において、磁気記録媒体としてのヘ
ッドタッチ、走行耐久性を始めとする各種性能を向上さ
せ、同時に薄膜化を達成するために、積層フィルムのヤ
ング率を縦方向および横方向でそれぞれ、４．４ＧＰａ
以上および５．９ＧＰａ以上、さらに４．７ＧＰａ以
上および６．７ＧＰａ以上、特に５．４ＧＰａ以上お
よび７．８ＧＰａ以上、就中５．５ＧＰａ以上および
９．８Ｇｐａ以上とするのが好ましい。

【００７２】また、熱可塑性樹脂層Ａ、Ｂの結晶化度
は、熱可塑性樹脂がポリエチレンテレフタレートの場合
は３０〜５０％、ポリエチレン−２，６−ナフタレート
の場合は２８〜３８％であることが望ましい。いずれも
下限を下回ると、熱収縮率が大きくなるし、一方、上限
を上回るとフィルムの耐摩耗性が悪化し、ロールやガイ
ドピン表面と摺動した場合に白粉が生じやすくなる。

【００７３】本発明の積層熱可塑性樹脂フィルムは磁気
記録媒体の支持体として好ましく使用される。この積層
熱可塑性樹脂フィルムを磁気記録媒体の支持体として使
用する場合の好ましい実施態様は、下記の通りである。

【００７４】本発明の積層熱可塑性樹脂フィルムは、皮
膜層Ｃの表面に、真空蒸着、スパッタリング、イオンプ
レーティングなどの方法により、鉄、コバルト、クロム
またはこれらを主成分とする合金もしくは酸化物よりな
る強磁性金属薄膜層を形成し、またその表面に、目的、
用途、必要に応じてダイアモンドライクカーボン（ＤＬ
Ｃ）などの保護層、含フッ素カルボン酸系潤滑層を順次
設け、さらに必要により、熱可塑性樹脂層Ａの磁性層と
は反対側の表面に、公知の方法でバックコート層を設け
ることにより、特に短波長領域での出力、Ｓ／Ｎ、Ｃ／
Ｎなどの電磁変換特性に優れ、ドロップアウト、エラー
レートの少ない高密度記録用蒸着型磁気記録媒体とする
ことができる。この蒸着型磁気記録媒体は、アナログ信
号記録用Ｈｉ８、ディジタル信号記録用ディジタルビデ
オカセットレコーダー（ＤＶＣ）、データ８ミリ、ＤＤ
ＳIV用磁気テープ媒体として極めて有用である。

【００７５】また、本発明の積層熱可塑性樹脂フィルム
は、皮膜層Ｃの表面に、鉄または鉄を主成分とする針状
微細磁性粉（メタル粉）をポリ塩化ビニル、塩化ビニル
・酢酸ビニル共重合体などのバインダーに均一に分散
し、磁性層厚みが１μｍ以下、好ましくは０．１〜１μ
ｍとなるように塗布し、さらに必要により、熱可塑性樹
脂層Ａの磁性層とは反対側の表面に、公知の方法でバッ
クコート層を設けることにより、特に短波長領域での出
力、Ｓ／Ｎ、Ｃ／Ｎなどの電磁変換特性に優れ、ドロッ
プアウト、エラーレートの少ない高密度記録用メタル塗
布型磁気記録媒体とすることができる。また、必要に応
じて、皮膜層Ｃの表面に、上記メタル粉含有磁性層の下
地層として微細な酸化チタン粒子などを含有する非磁性
層を磁性層と同様の有機バインダー中に分散し、塗設す
ることもできる。このメタル塗布型磁気記録媒体は、ア
ナログ信号記録用８ミリビデオ、Ｈｉ８、βカムＳＰ、
Ｗ−ＶＨＳ、ディジタル信号記録用ディジタルビデオカ
セットレコーダー（ＤＶＣ）、データ８ミリ、ＤＤＳI
V、ディジタルβカム、Ｄ２、Ｄ３、ＳＸなど用磁気テ
ープ媒体として極めて有用である。

【００７６】さらに、本発明の積層熱可塑性樹脂フィル
ムは、皮膜層Ｃの表面に、酸化鉄または酸化クロムなど
の針状微細磁性粉、またはバリウムフェライトなどの板
状微細磁性粉をポリ塩化ビニル、塩化ビニル・酢酸ビニ
ル共重合体などのバインダーに均一に分散し、磁性層厚
みが１μｍ以下、好ましくは０．１〜１μｍとなるよう
に塗布し、さらに必要により、熱可塑性樹脂層Ａの磁性
層とは反対側の表面に、公知の方法でバックコート層を
設けることにより、特に短波長領域での出力、Ｓ／Ｎ、
Ｃ／Ｎなどの電磁変換特性に優れ、ドロップアウト、エ
ラーレートの少ない高密度記録用酸化物塗布型磁気記録
媒体とすることができる。また、必要に応じて、皮膜層
Ｃの表面に、上記酸化物粉末含有磁性層の下地層として
微細な酸化チタン粒子などを含有する非磁性層を磁性層
と同様の有機バインダー中に分散し、塗設することもで
きる。この酸化物塗布型磁気記録媒体は、ディジタル信
号記録用データストリーマー用ＱＩＣなどの高密度記録
用酸化物塗布型磁気記録媒体として有用である。

【００７７】上記のＷ−ＶＨＳはアナログのＨＤＴＶ信
号記録用ＶＴＲであり、またＤＶＣはディジタルのＨＤ
ＴＶ信号記録用として適用可能なものである。それゆ
え、本発明の積層熱可塑性樹脂フィルムは、これらＨＤ
ＴＶ対応ＶＴＲ用磁気記録媒体に極めて有用なベースフ
ィルムということができる。

【００７８】

【実施例】以下、実施例を挙げ、本発明をさらに具体的
に説明するが、本発明はこれら実施例により限定される
ものではない。なお、実施例および比較例における
「部」および「％」は、特に断らない限り重量部および
重量％である。また、本発明における物性値および特性
は、それぞれ下記の方法で測定し、かつ定義されるもの
である。

【００７９】（１）固有粘度オルソクロロフェノール溶媒中３５℃で測定した値から
求めた。

【００８０】（２）粒子の平均粒径（Ｉ）（平均粒径：
６０ｎｍ以上）株式会社島津製作所製「ＣＰ−５０型セントリヒューグ
ルパーティクルサイズアナライザー（Ｃｅｎｔｒ
ｉｆｕｇａｌＰａｒｔｉｃｌｅＳｉｚｅＡｎａｌｙ
ｚｅｒ）」を用いて測定する。得られる遠心沈降曲線を
基に算出した各粒径の粒子とその存在量との積算曲線か
ら、５０マスパーセントに相当する粒径「等価球直径」
を読み取り、この値を上記平均粒径（ｎｍ）とする
（「粒度測定技術」日刊工業新聞社発行、１９７５年、
頁２４２〜２４７）。

【００８１】（３）粒子の平均粒径（II）（平均粒径：
６０ｎｍ未満）小突起を形成する平均粒径６０ｎｍ未満の粒子は、光散
乱法を用いて測定する。すなわち、ニコンプインストゥ
ルメント株式会社（ＮｉｃｏｍｐＩｎｓｔｒｕｍｅｎ
ｔｓＩｎｃ．）製の商品名「ＮＩＣＯＭＰＭＯＤＥ
Ｌ２７０ＳＵＢＭＩＣＲＯＮＰＡＲＴＩＣＬＥ
ＳＩＺＥＲ」により求められる全粒子の５０％の点にあ
る粒子の「等価球直径」をもって、平均粒径（ｎｍ）と
する。

【００８２】（４）熱可塑性樹脂層Ａ、Ｂの厚み、およ
びフィルム全体の厚みフィルム全体の厚みはマイクロメーターにてランダムに
１０点測定し、その平均値を用いる。熱可塑性樹脂層
Ａ、Ｂの層厚については、薄い熱可塑性樹脂層の層厚み
を下記に述べる方法にて測定し、厚い熱可塑性樹脂層の
層厚みは、全厚みより塗膜層および薄い熱可塑性樹脂層
の層厚を引き算して求める。すなわち、二次イオン質量
分析装置（ＳＩＭＳ）を用いて、被覆層を除いた表層か
ら深さ５，０００ｎｍの範囲のフィルム中の粒子の内最
も高濃度の粒子に起因する金属元素（Ｍ+ ）と熱可塑性
樹脂（ポリエステル）の炭化水素（Ｃ+ ）の濃度比（Ｍ
+ ／Ｃ+ ）を粒子濃度とし、表面から深さ５，０００ｎ
ｍまで厚さ方向の分析を行った。表層では表面という界
面のために粒子濃度は低く、表面から遠ざかるにつれて
粒子濃度は高くなる。本発明の場合、粒子濃度は一旦安
定値１になったのち、上昇して安定値２になる場合と、
単調に減少する場合とがある。この分布曲線をもとに、
前者の場合は、（安定値１＋安定値２）／２の粒子濃度
を与える深さをもって、また後者の場合は粒子濃度が安
定値１の１／２になる深さ（この深さは安定値１を与え
る深さよりも深い）をもって、薄い熱可塑性樹脂層の厚
み（μｍ）とする。

【００８３】測定条件は、以下のとおりである。（ａ）測定装置二次イオン質量分析装置（ＳＩＭＳ）；パーキン・エル
マー株式会社（ＰＥＲＫＩＮＥＬＭＥＲＩＮＣ．）
製、「６３００」（ｂ）測定条件一次イオン種：Ｏ2+ 一次イオン加速電圧：１２ＫＶ一次イオン電流：２００ｎＡラスター領域：４００μｍ□ 分析領域：ゲート３０％測定真空度：６．０×１０-9ＴｏｒｒＥ−ＧＵＮＮ：０．５ＫＶ−３．０Ａなお、表層から５，０００ｎｍの範囲に最も多く存在す
る粒子がシリコーン樹脂以外の有機高分子粒子の場合は
ＳＩＭＳでは測定が難しいので、表面からエッチングし
ながらＦＴ−ＩＲ（フーリエトランスフォーム赤外分光
法）、粒子によってはＸＰＳ（Ｘ線光電分光法）などで
上記同様の濃度分布曲線を測定し、層厚（μｍ）を求め
る。

【００８４】（５）皮膜層Ｃの厚みフィルムの小片をエポキシ樹脂にて固定成形し、ミクロ
トームにて約６００オングストロームの厚みの超薄切片
（フィルムの流れ方向に平行に切断する）を作成する。
この試料を透過型電子顕微鏡（株式会社日立製作所製：
Ｈ−８００型）にて観察し、塗膜層Ｃの境界面を探して
塗膜層の厚み（ｎｍ）を求める。

【００８５】（６）接触角協和科学（株）製、接触角測定装置を用いて測定する。
フィルムサンプルを温度２５℃、湿度５０％の環境下に
２４時間以上置いたのち、フィルム上に蒸留水を５ｍｇ
滴下し、水平の方向から２０秒後に写真を撮影する。フ
ィルムと水滴の接線が形成する角度を接触角（°）とす
る。

【００８６】（７）フィルムの表面粗さ（中心線平均粗
さ：Ｒａ）中心線平均粗さ（Ｒａ）はＪＩＳ−Ｂ６０１に準じて測
定する。本発明では（株）小坂研究所の触針式表面粗さ
計（SURFCORDER SE，30C）を用い、次の条件で測定し
て求める。（ａ）触針先端半径：２μｍ（ｂ）測定圧力：３０ｍｇ（ｃ）カットオフ：０．０８ｍｍ（ｄ）測定長：８．０ｍｍ（ｅ）データのまとめ方：同一試料について６回繰返し
測定し、最も大きい値を１つ除き、残りの５つのデータ
を用いて平均値として中心線平均粗さ（Ｒａ）を求め
る。

【００８７】（８）ヤング率東洋ボールドウィン株式会社製の引っ張り試験機、商品
名「テンシロン」を用いて、温度２０℃、湿度５０％に
調節された室内において、長さ３００ｍｍ、幅１２．７
ｍｍの試料フィルムを１０％／分のひずみ速度で引っ張
り、引っ張り応力−ひずみ曲線の初めの直線部分を用い
て下式（Ｖ）によって計算する。

【００８８】

【数１】Ｅ＝△σ／△ε ・・・（Ｖ）ここで、Ｅはヤング率（Ｇｐａ）、△σは直線上の２点
間の元の平均断面積による応力差、△εは同じ２点間の
ひずみ差である。

【００８９】（９）ブロッキング剥離力ロール状フィルムの長手方向に１００ｍｍ、幅方向に２
００ｍｍの長方形にサンプリングし、熱可塑性樹脂層Ａ
（ベースフィルム）側に、室温２０±２℃、湿度４０±
５％の環境下で、コロナ処理を施す。上記コロナ処理
は、春日電気株式会社製、商品名「ＣＧ−１０２」型の
高周波電源を用いて、以下の条件にて処理する。電流：４．５Ａ電極間距離：１．０ｍｍ処理時間：１．２ｍ／分の速度で、電極間を通過させて
処理。フィルムの処理した面を、直ちにフィルムの熱可塑性樹
脂層Ａと反対側の面と接触させ、１０Ｍｐａの圧力にて
温度６０℃、湿度８０％の環境下で１７時間エイジング
させたのち、上記引っ張り試験機、商品名「テンシロ
ン」を用いて、幅１００ｍｍ当たりの剥離力を求める。

【００９０】（１０）巻き取り性スリット時の巻き取り条件を最適化したのち、幅６００
ｍｍ×１２，０００ｍのサイズで、３０ロールを速度１
００ｍ／分でスリットし、スリット後のフィルム表面
に、ブツ状、突起やシワのないロールを良品として、以
下の基準にて巻き取り性を評価する。 ◎；良品ロールの本数２８本以上 ○；良品ロールの本数２５〜２７本 ×；良品ロールの本数１６〜２４本 ××；良品ロールの本数１５本以下

【００９１】（１１）バックコート塗布適性（加工適
性）下記磁気テープの製造加工工程において、バックコート
塗布後の熱可塑性樹脂層Ａの表面を目視観察し、以下の
基準にて評価する。 ○；バックコート層に、塗布斑、ハジキがない ×；バックコート層に、塗布斑か、ハジキが認められる

【００９２】（１２）磁気テープの製造および特性（電
磁変換特性）評価積層熱可塑性樹脂フィルムの皮膜層Ｃの表面に、真空蒸
着法により、コバルト１００％の強磁性薄膜を０．２μ
ｍの厚みになるように２層（各層厚約０．１μｍ）形成
する。形成した強磁性薄膜の表面にダイヤモンドライク
カーボン（ＤＬＣ）膜、さらに含フッ素カルボン酸系潤
滑層を順次設け、さらに熱可塑性樹脂層Ａの表面に、公
知の方法でバックコート層を設ける。その後、８ｍｍ幅
にスリットし、市販の８ｍｍビデオカセットにローディ
ングする。次いで、下記の市販の機器を用いてテープの
特性（Ｃ／Ｎ）を測定する。使用機器：８ｍｍビデオテープレコーダー、ソニー株式
会社製、商品名「ＥＤＶ−６０００」Ｃ／Ｎ測定：株式会社シバソク製、ノイズメーター記録波長０．５μｍ（周波数約７．４ＭＨｚ）の信号を
記録し、その再生信号の６．４ＭＨｚと７．４ＭＨｚの
値の比をそのテープのＣ／Ｎとし、市販８ｍｍビデオ用
蒸着テープのＣ／Ｎを０ｄＢとし、相対値で評価する。

【００９３】（１３）不活性粒子Ａ、Ｂの調製不活性粒子Ａとして、下記のものを使用。真球状シリカ；平均粒径６００ｎｍ θ型アルミナ；平均粒径６０ｎｍシリコーン；平均粒径５００ｎｍ架橋ポリスチレン；平均粒径８００ｎｍ不活性粒子Ｂとして、下記のものを使用。球状シリカ；平均粒径６０ｎｍ

【００９４】（１４）（部分ケン化）エステルワックス
の調製炭素数が８個以上の脂肪族モノカルボン酸および多価ア
ルコールからなる（部分ケン化）エステルワックスとし
て下記のものを使用。（ａ−１）：ソルビタントリステアレート（融点５５
℃）（ａ−２）：モンタン酸ジオールエステルを水酸化カル
シウムでケン化したもの、ヘキスト株式会社製、商品名
「ワックスＥ」、（融点８６℃）（ａ−３）：グリセリントリパルミタート

【００９５】［実施例１］ジメチルテレフタレートとエ
チレングリコールとを、エステル交換触媒として酢酸マ
ンガン、重合触媒としてトリメリット酸チタン、安定剤
として亜リン酸を、さらに滑剤（不活性粒子Ｂ）として
平均粒径６０ｎｍの球状シリカを、樹脂中に０．０３％
添加して、常法により重合し、固有粘度０．６０の熱可
塑性樹脂層Ｂ用のポリエチレンテレフタレート（樹脂Ｂ
１）を得た。

【００９６】さらに、上記と同様の方法で、滑剤（不活
性粒子Ａ）として、平均粒径６００ｎｍの真球状シリカ
および平均粒径６０ｎｍのθ型アルミナを、樹脂中にそ
れぞれ０．１２％および０．２％添加して、常法により
重合し、固有粘度０．６０のポリエチレンテレフタレー
トを得た。

【００９７】得られたポリエチレンテレフタレート９
９．７％に、ソルビタントリステアレート（ａ−１）の
粉末０．３％をまぶし、ベント付き二軸ルーダーにて練
り込み、固有粘度０．５９の熱可塑性樹脂層Ａ用のポリ
エチレンテレフタレート（樹脂Ａ１）を得た。

【００９８】得られた樹脂Ａ１、樹脂Ｂ１を、それぞれ
１７０℃で３時間乾燥後、２台の押し出し機に供給し、
溶融温度２８０〜３００℃にて溶融し、平均目開き１１
μｍの鋼線フィルターで高精度ろ過したのち、マルチマ
ニホールド型共押し出しダイを用いて、樹脂層Ａの片面
に樹脂層Ｂを積層させ、急冷して厚さ８９μｍの積層未
延伸フィルムを得た。

【００９９】得られた積層未延伸フィルムを予熱し、さ
らに低速・高速のロール間でフィルム温度１００℃にて
３．３倍に延伸し、急冷して縦延伸フィルムを得た。次
いで縦延伸フィルムの層Ｂ面側に下記に示す組成（固形
分換算）の水性塗液（全固形分濃度１．０％）を皮膜層
Ｃとしてキスコート法により塗布した。

【０１００】バインダー樹脂：共重合ポリエステル（テレフタル酸／イソフタル酸／５−ナトリウムスルホイソフタル酸／／エチレングリコール／ビスフェノールＡのプロピレンオキサイド２モル付加体＝９７／１／２／／６０／４０）６５％不活性粒子Ｃ：架橋アクリル樹脂粒子（平均粒径３０ｎｍ）６％界面活性剤：日本油脂（株）製ノニオンＮＳ−２４０２０％シロキサン共重合アクリル樹脂：信越化学工業（株）製Ｘ−２２−８０５３１０％層Ｃの厚み（乾燥後）：５ｎｍ

【０１０１】続いて、ステンターに供給し、１１０℃に
て横方向に４．２倍に延伸した。得られた二軸延伸フィ
ルムを２２０℃の熱風で４秒間熱固定し、全厚み６．４
μｍ、ベース層（熱可塑性樹脂層Ａ）厚み１．０μｍの
積層二軸配向ポリエステルフィルムを得た。この積層二
軸配向フィルムの熱可塑性樹脂層Ａ、Ｂの厚みについて
は、２台の押し出し機の吐出量により調整した。この積
層フィルムのヤング率は縦方向４．９ＧＰａ、横方向
６．９ＧＰａであった。この積層二軸配向フィルムのそ
の他の特性、およびこのフィルムを用いた強磁性薄膜蒸
着型磁気テープの特性を表１に示す。

【０１０２】［実施例２］熱可塑性樹脂層Ａに含有させ
る不活性粒子Ａの種類、平均粒径及び添加量、かつ（部
分ケン化）エステルワックスの種類及び添加量を表１に
示すとおりに変更し、熱可塑性樹脂Ｂに粒子を含有させ
ない以外は、実施例１と同様にして積層二軸配向ポリエ
ステルフィルムを得た。得られた積層二軸配向フィルム
の特性、およびこのフィルムを用いた強磁性薄膜蒸着型
磁気テープの特性を表１に示す。

【０１０３】［実施例３］熱可塑性樹脂層Ａに含有させ
る不活性粒子Ａの種類、平均粒径及び添加量、かつ（部
分エステル化）エステルワックスの種類及び添加量を表
１に示すとおり変更する以外は、実施例１と同様にして
積層二軸配向ポリエステルフィルムを得た。得られた積
層二軸配向フィルムの特性、およびこのフィルムを用い
た強磁性薄膜蒸着型磁気テープの特性を表１に示す。

【０１０４】［実施例４］熱可塑性樹脂層Ａに含有させ
る不活性粒子Ａの種類、平均粒径及び添加量、かつ（部
分ケン化）エステルワックスの種類及び添加量を表１に
示すとおり変更し、ジメチルテレフタレートの代わりに
２，６−ナフタレンジカルボン酸ジメチルを同モル量使
用した以外は、実施例１と同様にして熱可塑性樹脂層
Ａ、Ｂ用のポリエチレン−２，６−ナフタレート（ＰＥ
Ｎ）（樹脂Ａ２、Ｂ２）を得た。

【０１０５】この樹脂Ａ２、Ｂ２を、それぞれ１７０℃
で６時間乾燥後、実施例１と同様にして、各層厚みを調
整し、厚さ８９μｍの積層未延伸フィルムを得た。

【０１０６】得られた積層未延伸フィルムを予熱し、さ
らに低速・高速のロール間でフィルム温度１３５℃にて
３．６倍に延伸し、急冷して縦延伸フィルムを得た。次
いで縦延伸フィルムの層Ｂ面側に表１に示す組成（固形
分換算）の水性塗液（全固形分濃度１．０％）を皮膜層
Ｃとして実施例１と同様に塗布した。

【０１０７】続いて、ステンターに供給し、１５５℃に
て横方向に５．７倍に延伸した。得られた二軸延伸フィ
ルムを、２００℃の熱風で４秒間熱固定し、全厚み４．
４μｍ、ベース層（熱可塑性樹脂層Ａ）厚み０．６μｍ
の積層二軸配向ポリエステルフィルムを得た。この積層
二軸配向フィルムの熱可塑性樹脂層Ａ、Ｂの厚みについ
ては、２台の押し出し機の吐出量により調整した。この
フィルムのヤング率は縦方向５．４ＧＰａ、横方向１
０．３ＧＰａであった。この積層フィルムのその他の特
性、およびこのフィルムを用いた強磁性薄膜蒸着型磁気
テープの特性を表１に示す。

【０１０８】［実施例５］熱可塑性樹脂Ｂに粒子を含有
させない以外は実施例４と同様にして積層二軸配向ポリ
エステルフィルムを得た。得られた積層二軸配向フィル
ムの特性、およびこのフィルムを用いた強磁性薄膜蒸着
型磁気テープの特性を表１に示す。

【０１０９】［比較例１］熱可塑性樹脂層Ａに（部分ケ
ン化）エステルワックスを含有させず、かつ皮膜層Ｃを
設けない以外は、実施例１と同様にして積層二軸配向ポ
リエステルフィルムを得た。得られた積層二軸配向フィ
ルムは、ブロッキング剥離力を測定する際に、フィルム
が密着しており、むりやり剥がそうとすると破れてしま
った。その他の特性、およびこのフィルムを用いた強磁
性薄膜蒸着型磁気テープの特性を表１に示す。

【０１１０】［比較例２］ソルビタントリステアレート
（ａ−１）の添加量を１２％にした以外は、実施例１と
同様にして積層二軸配向ポリエステルフィルムを得た。
得られた積層二軸配向フィルムは、磁気テープの製造工
程においてバックコートに塗布する際、ハジキが発生し
てしまい、通常の塗布ができなかった。その他の特性、
およびこのフィルムを用いた強磁性薄膜蒸着型磁気テー
プの特性を表１に示す。

【０１１１】［比較例３］熱可塑性樹脂層Ａに不活性粒
子を含有させず、かつ皮膜層Ｃを設けない以外は、実施
例４と同様にして積層二軸配向ポリエステルフィルムを
得た。得られた積層二軸配向フィルムは、ブロッキング
剥離力を測定する際に、フィルムが密着しており、測定
不能であった。その他の特性、およびこのフィルムを用
いた強磁性薄膜蒸着型磁気テープの特性を表１に示す。

【０１１２】

【表１】

【０１１３】表１から明らかなように、本発明による積
層二軸配向ポリエステルフィルムは、片面が非常に平坦
で、優れた電磁変換特性を示すとともに、巻き取り性が
極めて良好であり、かつ耐ブロッキング性が良好であ
る。一方、本発明の要件を満たさないものは、これらの
特性を同時に満足できない。

【０１１４】

【発明の効果】本発明によれば、耐ブロッキング性、巻
き取り性、加工適性に優れ、また金属蒸着薄膜型磁気記
録媒体の支持体とて用いると電磁変換特性に優れる、積
層熱可塑性樹脂フィルムを提供することができる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続きＦターム(参考） 4F100 AH02B AK01A AK01B AK01C AK25C AK41C AK42A AK42B AK52C AL01C AS00C BA03 BA10B BA10C BA15 BA16 CA18C DE01B DE01C DE04A EH46C EJ38 GB41 JB05C JB09C JB16A JB16B JK14B JK14C JL00 JL01 YY00A YY00B YY00C 5D006 CB01 CB05 CB06 CB07 CB08

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】熱可塑性樹脂層Ｂの一方の面に熱可塑性
樹脂層Ａが積層され、他方の面にバインダー樹脂、不活
性粒子Ｃ、界面活性剤及びシロキサン共重合アクリル樹
脂からなる皮膜層Ｃが塗設されてなる積層フィルムであ
って、該熱可塑性樹脂層Ａが平均粒径１００〜２，００
０ｎｍの不活性粒子Ａを０．００１〜５重量％（層Ａに
対して）及び炭素数が８個以上の脂肪族モノカルボン酸
および多価アルコールからなる、部分ケン化していても
良い、エステルワックスを０．００１〜１０重量％（層
Ａに対して）含有し、かつ該熱可塑性樹脂層Ａの、熱可
塑性樹脂層Ｂと接していない表面の水接触角が７０〜９
０°であることを特徴とする積層熱可塑性樹脂フィル
ム。
【請求項２】皮膜層Ｃを構成する成分のバインダー樹
脂が水溶性又は水分散性の樹脂であり、かつアクリル樹
脂、ポリエステル樹脂及びアクリル−ポリエステル樹脂
からなる群より選ばれる少なくとも一種である請求項１
に記載の積層熱可塑性樹脂フィルム。
【請求項３】皮膜層Ｃを構成する成分の不活性粒子Ｃ
の平均粒径が５〜１００ｎｍであり、該粒子Ｃの含有量
が０．５〜３０重量％（層Ｃに対して）である請求項１
または２に記載の積層熱可塑性樹脂フィルム。
【請求項４】皮膜層Ｃを構成する成分のシロキサン共
重合アクリル樹脂の含有量が１〜３０重量％（層Ｃに対
して）である請求項１、２または３に記載の積層熱可塑
性樹脂フィルム。
【請求項５】皮膜層Ｃの外表面の中心線平均粗さRa^C
が０．１〜２ｎｍである請求項１〜４のいずれか１項に
記載の積層熱可塑性樹脂フィルム。
【請求項６】熱可塑性樹脂層Ａの外表面の中心線平均
粗さRa^Aが２〜２０ｎｍである請求項１に記載の積層熱
可塑性樹脂フィルム。
【請求項７】熱可塑性樹脂層Ｂが実質的に不活性粒子
を含有しない請求項１に記載の積層熱可塑性樹脂フィル
ム。
【請求項８】熱可塑性樹脂層Ｂが平均粒径３０〜２０
０ｎｍの不活性球状粒子Ｂを０．００１〜０．２重量％
（層Ｂに対して）含有する請求項１に記載の積層熱可塑
性樹脂フィルム。
【請求項９】層Ａ、層Ｂを構成する熱可塑性樹脂がそ
れぞれポリエチレンテレフタレートである請求項１、
６、７または８に記載の積層熱可塑性樹脂フィルム。
【請求項１０】層Ａ、層Ｂを構成する熱可塑性樹脂が
それぞれポリエチレン−２，６−ナフタレートである請
求項１、６、７または８に記載の積層熱可塑性樹脂フィ
ルム。
【請求項１１】積層熱可塑性樹脂フィルムが磁気記録
媒体の支持体として使用される請求項１〜１０のいずれ
か１項に記載の積層熱可塑性樹脂フィルム。