JP2002052656A

JP2002052656A - 積層熱可塑性樹脂フィルム

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Publication number: JP2002052656A
Application number: JP2000239930A
Authority: JP
Inventors: Takeshi Ishida; 剛石田; Hirobumi Murooka; 博文室岡
Original assignee: Teijin Ltd
Current assignee: Teijin Ltd
Priority date: 2000-08-08
Filing date: 2000-08-08
Publication date: 2002-02-19
Anticipated expiration: 2020-08-08
Also published as: JP3856630B2

Abstract

(57)【要約】【課題】巻取り性、加工適性に優れ、金属蒸着薄膜型
磁気記録媒体としたときに電磁変換特性に優れた積層熱
可塑性樹脂フィルムを提供する。【解決手段】熱可塑性樹脂層Ａの片面に、炭素数が８
個以上の脂肪族モノカルボン酸および多価アルコールか
らなる（部分ケン化）エステルワックスを含有する熱可
塑性樹脂層Ｂを積層した積層フィルムであって、Ａ層側
の表面粗さ（ＷＲａＡ）が０．１〜４ｎｍであり、Ｂ層
が平均粒径５０〜１，０００ｎｍの不活性粒子Ａを、Ｂ
層に対して、０．００１〜１重量％含有し、（部分ケン
化）エステルワックスの含有量が０．００１〜１重量％
であり、かつＢ層側表面の十点平均粗さ（ＷＲｚＢ）が
３０ｎｍ〜３００ｎｍであることを特徴とする積層熱可
塑性樹脂フィルム。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は積層熱可塑性樹脂フ
ィルムに関する。さらに詳しくは、耐ブロッキング性、
巻取り性、加工適性にすぐれ、特に金属蒸着薄膜型磁気
記録媒体としたときに電磁変換特性に優れた積層熱可塑
性樹脂フィルムに関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、磁気記録媒体の高密度化の進歩は
めざましく、例えば、強磁性金属薄膜を真空蒸着やスパ
ッタリングなどの物理沈着法またはメッキ法により非磁
性支持体上に形成させた強磁性金属薄膜型磁気記録媒体
の開発実用化が、進められている。例えば、Ｃｏの蒸着
テープ（特開昭５４―１４７０１０号公報）、Ｃｏ―Ｃ
ｒ合金からなる垂直磁気記録媒体（特開昭５２―１３４
７０６号公報）が知られている。

【０００３】従来の塗布型磁気記録媒体（磁性粉末を有
機高分子バインダーに混入させて非磁性支持体上に塗布
してなる磁気記録媒体）は、記録密度が低く、記録波長
も長いために、磁性層の厚みが２μｍ程度以上と厚い。
これに対し、真空蒸着、スパッタリングまたはイオンプ
レーティングなどの薄膜形成手段によって形成される金
属薄膜は、厚みが０．２μｍ以下と非常に薄くなってい
る。

【０００４】このため、高密度磁気記録媒体において
は、非磁性支持体（ベースフィルム）の表面状態が磁気
記録層の表面性に大きな影響を及ぼしている。すなわ
ち、非磁性支持体の表面状態が、そのまま磁気記録層表
面の凹凸として発現し、それが記録・再生信号の雑音の
原因となる。従って、非磁性支持体の表面は、できるだ
け平滑であることが望ましい。

【０００５】一方、非磁性支持体の製膜、製膜工程での
搬送、傷つき、巻き取り、巻出しといったハンドリング
の観点からは、フィルム表面が平滑過ぎるとフィルム―
フィルム相互の滑り性が悪化し、製品歩留りの低下、ひ
いては、製品の製造コストの上昇をきたす。従って、製
造コストという観点では、非磁性支持体の表面は、でき
るだけ粗いことが好ましい。

【０００６】さらに、金属薄膜型磁気記録媒体の場合に
は、金属薄膜とベースフィルムとの密着性を良好にする
ため、金属薄膜成形前に、イオンボンバード処理と呼ば
れる、ベースフィルム表面をイオンにより活性化する処
理が施される。

【０００７】この金属薄膜成形時には、フィルム表面に
高温の熱がかかり、ベースフィルムが融解してしまった
り、あるいは機械特性などの物性の低下を招かぬよう
に、背面冷却を施している。背面冷却の方法としては、
ドラム状冷却体にベースフィルムを巻き付けて実施する
場合が多く、その際、ドラム表面に金属薄膜が形成され
ないようにベースフィルム両端をマスキングしている。

【０００８】従って、上記蒸着工程を通過したサンプル
ロールの両端部には、イオンボンバード処理によって表
面が活性化され、かつ金属薄膜が形成されない部分が、
長手方向に連続的に存在している。この部分は、ロール
状に巻き上げられた状態では、反対面側と高い圧力で接
触することになり、ブロッキングを引き起しやすくな
る。金属薄膜型磁気記録媒体を製造する際には、金属薄
膜を蒸着した後に、バックコート層および必要に応じて
トップコート層を設けるが、これらの加工工程において
上記ブロッキングが発生していると、ベースフィルムの
切断やしわが発生しやすくなり、収率が大幅に低下して
しまうという問題がある。

【０００９】このようなブロッキングを防ぐためには、
非磁性支持体の表面は粗い方が好ましい。

【００１０】このように、非磁性支持体の表面は、電磁
変換特性という観点からは平滑であることが要求され、
ハンドリング性、製造コスト、ブロッキング防止の観点
からは、粗いことが要求される。

【００１１】上記のような相反する要求を満たすため、
Ａ、Ｂの２層からなり、Ａ層表面よりもＢ層表面の方が
粗い積層フィルムが提案されているが、このようなフィ
ルムでは粗面側の高い突起が平坦面側に転写したり、粗
面側に添加した大きな粒子による平坦面側への突き上げ
効果により、磁気記録媒体としたときの電磁変換特性が
悪化してしまうという問題があった。

【００１２】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、この
ような従来技術の欠点を解消し、耐ブロッキング性、巻
き取り性、加工適性に優れ、金属蒸着薄膜型磁気記録媒
体としたときに電磁変換特性に優れた積層熱可塑性樹脂
フィルムを提供することにある。

【００１３】

【課題を解決するための手段】本発明の目的は、本発明
によれば、熱可塑性樹脂層Ａの片面に、炭素数が８個以
上の脂肪族モノカルボン酸および多価アルコールからな
る（部分ケン化）エステルワックスを含有する熱可塑性
樹脂層Ｂを積層した積層フィルムであって、Ａ層側の表
面粗さ（ＷＲａＡ）が０．１〜４ｎｍであり、Ｂ層が平
均粒径５０〜１，０００ｎｍの不活性粒子ＡをＡ層に対
して０．００１〜１重量％含有し、（部分ケン化）エス
テルワックスの含有量が０．００１〜１重量％であり、
かつＢ層側表面の十点平均粗さ（ＷＲｚＢ）が３０〜３
００ｎｍであることを特徴とする積層熱可塑性樹脂フィ
ルムによって達成される。

【００１４】本発明は、好ましい態様として、上記熱可
塑性樹脂層ＡのＢ層と接しない面に塗膜層Ｃが積層され
ていること、該塗膜層Ｃは平均粒径１０〜５０ｎｍ、体
積形状係数０．１〜π／６の不活性粒子Ｃを塗膜層Ｃの
固形分に対して０．５〜３０重量％含有すること、上記
熱可塑性樹脂層Ａは実質的に粒子を含有しないか、体積
形状係数０．１〜π／６、平均粒径３０〜４００ｎｍの
不活性粒子Ａを０．００１〜０．２重量％（Ａ層に対
し）含有すること、上記熱可塑性樹脂がポリエチレンテ
レフタレートまたはポリエチレン−２，６−ナフタレー
トであること等を包含する。

【００１５】

【発明の実施の形態】本発明において、熱可塑性樹脂層
Ａ、層Ｂを形成する熱可塑性樹脂Ａ、Ｂとしては、ポリ
エステル系樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポ
リエーテル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリビニ
ル系樹脂、ポリオレフィン系樹脂などを例示することが
できる。これらのうち、ポリエステル系樹脂、特に芳香
族ポリエステルが好ましい。

【００１６】熱可塑性樹脂Ａ、Ｂは異なる種類であって
も良いが、同種類の方が好ましい。

【００１７】上記芳香族ポリエステルとしては、ポリエ
チレンテレフタレート、ポリエチレンイソフタレート、
ポリテトラメチレンテレフタレート、ポリ−１，４−シ
クロヘキシレンジメチレンテレフタレート、ポリエチレ
ン−２，６−ナフタレート（ポリエチレン−２，６−ナ
フタレンジカルボキシレート）などを例示することがで
きる。これらのうち、ポリエチレンテレフタレート、ポ
リエチレン−２，６−ナフタレートが好ましい。

【００１８】これらポリエステルは、ホモポリエステル
であっても、コポリエステルであっても良い。コポリエ
ステルの場合、例えば、ポリエチレンテレフタレートま
たはポリエチレン−２，６−ナフタレートの共重合成分
としては、例えばジエチレングリコール、プロピレング
リコール、テトラメチレングリコール、ヘキサメチレン
グリコール、ネオペンチルグリコール、ポリエチレング
リコール、１，４−シクロヘキサンジメタノール、ｐ−
キシリレングリコールなどの他のジオール成分、アジピ
ン酸、セバシン酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタ
ル酸（ただし、ポリエチレン−２，６−ナフタレートの
場合）、２，６−ナフタレンジカルボン酸（ただし、ポ
リエチレンテレフタレートの場合）、５−ナトリウムス
ルホイソフタル酸などの他のジカルボン酸成分、ｐ−オ
キシエトキシ安息香酸などのオキシカルボン酸成分など
が挙げられる。これら共重合成分の量は、２０モル％以
下、さらには１０モル％以下であることが好ましい。

【００１９】さらにトリメリット酸、ピロメリット酸な
どの３官能以上の多官能化合物を共重合させることも出
来る。この場合、ポリマーが実質的に線状である量、例
えば２モル％以下で、共重合させるのが良い。

【００２０】ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレ
ン−２，６−ナフタレート以外の他のポリエステルの場
合の共重合成分についても、上記と同様に考えてよい。

【００２１】上記ポリエステルは、それ自体公知であ
り、かつそれ自体公知の方法で製造することができる。

【００２２】本発明におかる熱可塑性樹脂層Ｂは不活性
粒子Ｂを含有するが、該不活性粒子Ｂの平均粒径（ｄ
Ｂ）は５０〜１，０００ｎｍ、好ましくは１００〜８０
０ｎｍ、さらに好ましくは１５０〜７００ｎｍ、特に好
ましくは２００〜６００ｎｍである。そして、該不活性
粒子Ｂの含有量は、Ｂ層に対し、０．００１〜１重量
％、好ましくは０．００５〜０．８重量％、さらに好ま
しくは０．０１〜０．６重量％、特に好ましくは０．０
１〜０．２重量％である。

【００２３】上記不活性粒子Ｂの平均粒径が５０ｎｍ未
満、または含有量が０．００１重量％未満であると、巻
取り性、耐ブロッキング性が不良となる。一方、平均粒
径が１，０００ｎｍを超えるか、または含有量が１重量
％を超えると、反対面への突起の形状転写や、Ａ層の下
からの突起の突き上げによって電磁変換特性を悪化させ
る。

【００２４】上記不活性粒子Ｂとして好ましい粒子は、
例えば、（１）耐熱性ポリマー粒子（例えば、架橋シリ
コーン樹脂、架橋ポリスチレン、架橋アクリル樹脂、メ
ラミン−ホルムアルデヒド樹脂、芳香族ポリアミド樹
脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、架橋ポリ
エステルなどからなる粒子）、（２）金属酸化物（例え
ば、三二酸化アルミニウム、二酸化チタン、二酸化ケイ
素（シリカ）、酸化マグネシウム、酸化亜鉛、酸化ジル
コニウムなど）、（３）金属の炭酸塩（例えば、炭酸マ
グネシウム、炭酸カルシウムなど）、（４）金属の硫酸
塩（例えば、硫酸カルシウム、硫酸バリウムなど）、
（５）炭素（例えば、カーボンブラック、グラファイ
ト、ダイアモンドなど）、および（６）粘土鉱物（例え
ば、カオリン、クレー、ベントナイトなど）などのよう
な無機化合物からなる微粒子が挙げられる。これらのう
ち、架橋シリコーン樹脂粒子、架橋ポリスチレン樹脂粒
子、メラミン−ホルムアルデヒド樹脂粒子、ポリアミド
イミド樹脂粒子、その他三二酸化アルミニウム（アルミ
ナ）、二酸化チタン、二酸化ケイ素、酸化ジルコニウ
ム、合成炭酸カルシウム、硫酸バリウム、ダイアモン
ド、またはカオリンからなる微粒子が好ましい。さらに
好ましくは、架橋シリコーン樹脂粒子、架橋ポリスチレ
ン樹脂粒子、その他三二酸化アルミニウム（アルミ
ナ）、二酸化チタン、二酸化ケイ素、または炭酸カルシ
ウムからなる微粒子である。

【００２５】上記不活性粒子Ｂは１種または２種以上の
ものを混合して使用してもよい。不活性粒子Ｂが２種以
上の粒子からなる場合、上記不活性粒子Ｂの平均粒径ｄ
Ｂよりも小さい平均粒径の第２、第３の粒子（微細粒
子）として、例えばコロイダルシリカ、α、γ、δ、θ
などの結晶形態を有するアルミナなどの微粒子を好まし
く用いることができる。また、平均粒径ｄＢを有する不
活性粒子Ｂとして例示した粒子種のうち、平均粒径の小
さい微細粒子も、第２、第３の粒子（微細粒子）として
用いることができる。

【００２６】この微細粒子の平均粒径は、好ましくは５
〜４５０ｎｍ、さらに好ましくは１０〜４００ｎｍ、特
に好ましくは３０〜３５０ｎｍである。また、第２、第
３の粒子（微細粒子）の含有量は、Ｂ層に対し、好まし
くは０．００５〜１重量％、さらに好ましくは０．０１
〜０．７重量％、特に好ましくは０．０２〜０．５重量
％である。

【００２７】本発明における積層熱可塑性樹脂層Ｂは、
さらに、炭素数が８個以上の脂肪族モノカルボン酸およ
び多価アルコールからなる（部分ケン化）エステルワッ
クスを０．００１〜１重量％含有する。

【００２８】上記脂肪族モノカルボン酸の炭素数は８個
以上、好ましくは８〜３４個である。この炭素数が８個
未満であると、得られたエステル生成物の耐熱性が不充
分で、熱可塑性樹脂に分散させる際の加熱条件で、脂肪
族モノカルボン酸が容易に分解されてしまうため、不適
切である。

【００２９】炭素数が８個以上の脂肪族モノカルボン酸
としては、ペラルゴン酸、カプリン酸、ウンデシル酸、
ラウリン酸、トリデシル酸、ミリスチン酸、ペンタデシ
ル酸、パルミチン酸、ヘプタデシル酸、ステアリン酸、
ノナデカン酸、アラキン酸、ペヘン酸、リグノセリン
酸、セロチン酸、モンタン酸、メリシン酸、ヘントリア
コンタン酸、ペトロセリン酸、オレイン酸、エルカ酸、
リノール酸およびこれらを含む混合物などが挙げられ
る。

【００３０】上記（部分ケン化）エステルワックスのア
ルコール成分は、水酸基を２個以上有する多価アルコー
ルである。さらに耐熱性の観点から、水酸基を３個以上
有する多価アルコールであることが好ましい。モノアル
コールを用いたのでは、生成した（部分ケン化）エステ
ルワックスの耐熱性が不足する。

【００３１】上記水酸基を２個有する多価アルコールと
しては、エチレングリコール、プロピレングリコール、
トリメチレングリコール、１，４−ブタンジオール、
１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオー
ル、１，７−ヘプタンジオール、１，８−オクタンジオ
ール、１，９−ノナンジオール、１，１０−デカンジオ
ール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコー
ル、ポリエチレングリコールなどが好ましい例として挙
げられる。水酸基を３個以上有する多価アルコールとし
ては、グリセリン、エリスリット、トレイット、ペンタ
エリスリット、アラビット、キシリット、タリット、ソ
ルビット、マンニットなどが好ましい例として挙げられ
る。

【００３２】上記脂肪族モノカルボン酸および多価アル
コールから得られるエステルワックスとしては、多価ア
ルコールの水酸基の数にもよるが、モノエステル、ジエ
ステル、トリエステルなどが挙げられる。これらの中、
耐熱性の観点から、モノエステルよりもジエステルが、
ジエステルよりもトリエステルが好ましい。好ましいエ
ステルワックスとしては、具体的にはソルビタントリス
テアレート、ペンタエリスリットトリペヘネート、グリ
セリントリパルミテート、ポリオキシエチレンジステア
レートなどが挙げられる。

【００３３】上記脂肪族モノカルボン酸および多価アル
コールからなる部分ケン化エステルワックスは、炭素数
が８個以上の高級脂肪酸を多価アルコールで部分エステ
ル化したのち、２価以上の金属水酸化物でケン化するこ
とにより得られる。具体的には、例えばモンタン酸ジオ
ールエステルを水酸化カルシウムでケン化した、ワック
スＥ、ワックスＯＰ、ワックスＯ、ワックスＯＭ、ワッ
クスＦＬ（全て、ヘキスト（株）社製商品名）などが挙
げられる。かかる（部分ケン化）エステルワックスは１
種単独で使用してもよいし、２種以上を使用してもよ
い。

【００３４】上記（部分ケン化）エステルワックスのＢ
層への添加量は、０．００１〜１重量％、好ましくは
０．００３〜０．５重量％、さらに好ましくは０．００
５〜０．５重量％、特に好ましくは０．０１〜０．３重
量％含有する。この（部分ケン化）エステルワックスの
含有量が０．００１重量％未満であると、巻取り性の向
上が不十分であり、ブロッキング改良効果も得られな
い。一方、１重量％を超えると、フィルム製造工程で、
ロール上に巻き上げたときに接する反対側の面に、ブリ
ードアウトによってワックス成分が多量に転写され、そ
のため、例えば金属蒸着層とベースフィルムの接着性を
妨げるなどの弊害を生じる。

【００３５】また、上記熱可塑性樹脂層Ｂの十点平均粗
さＷＲｚＢは３０〜３００ｎｍ、好ましくは４０〜２５
０ｎｍ、特に好ましくは５０〜２００ｎｍである。この
ＷＲｚＢが３０ｎｍ以下では、ハンドリング性が悪く十
分な生産性をあげることができず、また、ブロッキング
改良効果も不十分となる。一方、３００ｎｍを超える
と、反対側の磁気層を設ける側の面への突起の形状転写
が大きくなり、電磁変換特性を損なうことがあり、好ま
しくない。

【００３６】本発明における積層熱可塑性樹脂フィルム
は、磁気テープとした場合の諸特性向上のため、磁性層
を設ける側の面、すなわち、熱可塑性樹脂層Ａの、熱可
塑性樹脂層Ｂと接していない表面に、塗膜層Ｃを設ける
ことが好ましい。

【００３７】該塗膜層Ｃは、平均粒径１０〜５０ｎｍ、
体積形状係数０．１〜π／６の不活性粒子Ｃを０．５〜
３０重量％含有していることが好ましい。

【００３８】上記塗膜層Ｃを形成する樹脂としては、例
えば水性ポリエステル樹脂、水性アクリル樹脂、水性ポ
リウレタン樹脂などが好ましく挙げられ、特に水性ポリ
エステル樹脂が好ましい。

【００３９】この水性ポリエステル樹脂としては、酸成
分が、例えばイソフタル酸、フタル酸、１，４−シクロ
ヘキサンジカルボン酸、２，６−ナフタレンジカルボン
酸、４，４′−ジフェニルジカルボン酸、アジピン酸、
セバシン酸、ドデカンジカルボン酸、コハク酸、５−ス
ルホイソフタル酸ナトリウム、２−スルホテレフタル酸
カリウム、トリメリット酸、トリメシン酸、トリメリッ
ト酸モノカリウム塩、ｐ−ヒドロキシ安息香酸などの多
価カルボン酸の１種以上よりなり、グリコール成分が、
例えばエチレングリコール、ジエチレングリコール、プ
ロピレングリコール、１，４−ブタンジオール、１，６
−ヘキサンジオール、１，４−シクロヘキサンジメタノ
ール、ｐ−キシリレングリコール、ジメチロールプロパ
ン、ビスフェノールＡのエチレンオキサイド付加物など
の多価ヒドロキシ化合物の１種以上より主としてなるポ
リエステル樹脂が好ましく用いられる。また、ポリエス
テル鎖にアクリル重合体鎖を結合させたグラフトポリマ
ーまたはブロックコポリマー、あるいは２種のポリマー
がミクロな粒子内で特定の物理的構成（ＩＰＮ（相互侵
入高分子網目）型、コアシェル型など）を形成したアク
リル変性ポリエステル樹脂であってもよい。この水性ポ
リエステル樹脂としては、水に溶解、乳化、微分散する
タイプを自由に用いることができるが、水に乳化、微分
散するタイプのものが好ましい。また、これらは親水性
を付与するため、分子内に例えばスルホン酸塩基、カル
ボン酸塩基、ポリエーテル単位などが導入されていても
よい。

【００４０】上記塗膜層Ｃに含有される不活性粒子Ｃと
しては、特に限定されないが、塗液中で沈降しにくい、
比較的低比重のものが好ましい。例えば、架橋シリコー
ン樹脂、アクリル樹脂、ポリスチレン、メラミン−ホル
ムアルデヒド樹脂、芳香族ポリアミド樹脂、ポリアミド
イミド樹脂、架橋ポリエステル、全芳香族ポリエステル
などの有機粒子、二酸化ケイ素（シリカ）、炭酸カルシ
ウムなどからなる粒子が好ましく挙げられる。なかで
も、架橋シリコーン樹脂粒子、アクリル樹脂粒子、シリ
カ粒子、コアシェル型有機粒子（コア：架橋ポリスチレ
ン、シェル：ポリメチルメタクリレートの粒子など）が
特に好ましく挙げられる。

【００４１】上記不活性粒子Ｃの平均粒径ｄＣは１０〜
５０ｎｍ、好ましくは１２〜４５ｎｍ、さらに好ましく
は１５〜４０ｎｍである。この平均粒径が１０ｎｍ未満
であると、フィルムの滑り性が不良となることがあり、
一方、５０ｎｍを超えると、磁気記録媒体の電磁変換特
性が不良となることがあるため好ましくない。

【００４２】上記不活性粒子Ｃの形状は、下式（Ｉ）で
表わされる体積形状係数（ｆ）が０．１〜π／６、好ま
しくは０．２〜π／６、さらに好ましくは０．４〜π／
６であるものである。

【００４３】

【数１】ｆ＝Ｖ／Ｒ³ ・・・・・（Ｉ）〔ここで、ｆは体積形状係数、Ｖは粒子の体積（μ
ｍ³）、Ｒは粒子の平均粒径（μｍ）である。〕

【００４４】なお、体積形状係数（ｆ）がπ／６である
粒子の形状は、球（真球）である。すなわち、体積形状
係数（ｆ）が０．４〜π／６のものは、実質的に球ない
しは真球、ラグビーボールのような楕円球を含むもので
あり、不活性粒子Ｃとして好ましい。体積形状係数
（ｆ）が０．１未満の粒子、例えば薄片状の粒子では、
走行耐久性が低下してしまうので好ましくない。

【００４５】上記不活性粒子Ｃの含有量は、塗膜層Ｃ
（塗液の固形分）に対し、０．５〜３０重量％、好まし
くは２〜２０重量％、さらに好ましくは３〜１０重量％
である。この含有量が０．５重量％未満であると、フィ
ルムの滑り性が不良となることがあり、一方、３０重量
％を超えると、磁気記録媒体の電磁変換特性が不良とな
ることがあるため好ましくない。

【００４６】本発明における積層熱可塑性樹脂フィルム
は、熱可塑性樹脂層Ａの熱可塑性樹脂層Ｂと接しない側
の表面（塗膜層Ｃを設ける場合は塗膜層Ｃの表面）の表
面粗さ（ＷＲａＡ）が０．１〜４ｎｍ、好ましくは０．
２〜３．５ｎｍ、さらに好ましくは０．３〜３．０ｎ
ｍ、特に好ましくは０．４〜２．５ｎｍである。このＷ
ＲａＡが０．１ｎｍ未満であると、滑り性が悪くフィル
ムの製造が極めて困難であり、一方ＷＲａＡが４ｎｍを
超えると、電磁変換特性が悪化するので好ましくない。

【００４７】この表面粗さ（ＷＲａＡ）は、塗膜層Ｃに
含有させる不活性粒子Ｃの粒径と量、および／または熱
可塑性樹脂層Ａに含有させる不活性粒子Ａの粒径と量に
よって調整することができる。

【００４８】本発明における熱可塑性樹脂層Ａは、実質
的に粒子を含有しないものでもよく、不活性粒子Ａを含
有するものでもよい。熱可塑性樹脂層Ａが実質的に粒子
を含有しない場合、磁気記録媒体としたとき優れた電磁
変換特性が得られるが、電磁変換特性に悪影響を与えな
い範囲の粒子を含有させると、走行耐久性の向上を図る
ことができる。具体的には、体積形状係数０．１〜π／
６、平均粒径３０〜４００ｎｍの不活性粒子Ａを、Ａ層
に対し、０．００１〜０．２重量％含有させることが好
ましい。

【００４９】好ましい不活性粒子Ａの種類としては、上
記不活性粒子Ｂと同様のものが挙げられる。

【００５０】上記不活性粒子Ａの形状は、体積形状係数
（ｆ）が０．１〜π／６、さらには０．２〜π／６、特
に０．４〜π／６であることが好ましい。また、上記不
活性粒子Ａの平均粒径ｄＡは３０〜４００ｎｍ、さらに
は４０〜２００ｎｍ、特に５０〜１００ｎｍであること
が好ましい。この平均粒径ｄＡが３０ｎｍ未満である
と、フィルムの滑り性が不良となることがあり、一方４
００ｎｍを超えると、磁気記録媒体の電磁変換特性が不
良となることがあるため好ましくない。

【００５１】上記不活性粒子Ａは１種または２種以上の
ものを混合して使用してもよい。

【００５２】上記不活性粒子Ａを熱可塑性樹脂層Ａに含
有させる場合の含有量は、Ａ層に対し、好ましくは０．
００１〜０．２重量％、さらに好ましくは０．０１〜
０．１重量％、特に好ましくは０．０２〜０．０６重量
％である。この量が０．００１重量％未満であると、フ
ィルムの滑り性が不良となることがあり、一方０．２重
量％を超えると、磁気記録媒体の電磁変換特性が不良と
なることがあるため好ましくない。

【００５３】本発明における積層熱可塑性樹脂フィルム
の全厚みは、通常２．５〜２０μｍ、好ましくは３．０
〜１０μｍ、さらに好ましくは４．０〜１０μｍであ
る。熱可塑性樹脂層Ａと熱可塑性樹脂層Ｂの厚み構成
は、好ましくはＢ層の厚みが積層フィルムの全厚みの１
／２以下、さらに好ましくは１／３以下、特に好ましく
は１／４以下である。塗膜層Ｃの厚みは、通常１〜１０
０ｎｍ、好ましくは２〜５０ｎｍ、さらに好ましくは３
〜１０ｎｍ、特に好ましくは３〜８ｎｍである。

【００５４】本発明における積層熱可塑性樹脂フィルム
は、従来から知られている、または当業界に蓄積されて
いる方法に準じて製造することができる。そのうち、熱
可塑性樹脂層Ａと熱可塑性樹脂層Ｂとの積層構造は、共
押出し法により製造するのが好ましく、塗膜層Ｃの積層
は塗布法により行うのが好ましい。

【００５５】例えば、二軸配向ポリエステルフィルムで
説明すると、押出し口金内または口金以前（一般に、前
者はマルチマニホールド方式、後者はフィードブロック
方式と呼ぶ）で上記（部分ケン化）エステルワックス、
ならびに不活性粒子Ｂを微分散、含有させた熱可塑性樹
脂Ｂと、必要に応じて不活性粒子Ａを含有する熱可塑性
樹脂Ａとを、それぞれさらに高精度ろ過したのち、溶融
状態にて積層複合し、上記好適な厚み比の積層構造とな
し、次いで口金より融点（Ｔｍ）〜（Ｔｍ＋７０）℃の
温度でフィルム状に共押出ししたのち、４０〜９０℃の
冷却ロールで急冷固化し、未延伸積層フィルムを得る。
その後、上記未延伸積層フィルムを常法に従い、一軸方
向（縦方向または横方向）に（Ｔｇ−１０）〜（Ｔｇ＋
７０）℃の温度（ただし、Ｔｇ：ポリエステルのガラス
転移温度）で２．５〜８．０倍の倍率で、好ましくは
３．０〜７．５倍の倍率で延伸し、次いで上記延伸方向
とは直角方向（一段目延伸が縦方向の場合には、二段目
延伸は横方向となる）に（Ｔｇ）〜（Ｔｇ＋７０）℃の
温度で２．５〜８．０倍の倍率で、好ましくは３．０〜
７．５倍の倍率で延伸する。さらに、必要に応じて、縦
方向および／または横方向に再度延伸してもよい。すな
わち、２段、３段、４段あるいは多段の延伸を行うとよ
い。全延伸倍率としては、通常９倍以上、好ましくは１
０〜３５倍、さらに好ましくは１２〜３０倍である。

【００５６】さらに、上記二軸配向フィルムは（Ｔｇ＋
７０）〜（Ｔｍ−１０）℃の温度、例えば、ポリエチレ
ンテレフタレートフィルムの場合、１８０〜２５０℃で
熱固定結晶化することによって、優れた寸法安定性が付
与される。その際、熱固定時間は１〜６０秒が好まし
い。

【００５７】なお、積層熱可塑性樹脂フィルムの製造に
際し、熱可塑性樹脂Ａ、Ｂに所望により上記不活性粒子
以外の添加剤、例えば安定剤、着色剤、溶融ポリマーの
固有抵抗調整剤などを添加含有させることができる。

【００５８】本発明における熱可塑性樹脂層Ａへの塗膜
層Ｃの積層は、水性塗液を塗布する方法で行うのが好ま
しい。

【００５９】塗布は最終延伸処理を施す以前の熱可塑性
樹脂層Ａの表面に行い、塗布後にはフィルムを少なくと
も一軸方向に延伸するのが好ましい。この延伸の前ない
し途中で塗膜は乾燥される。その中で、塗布は、未延伸
積層フィルムまたは縦（一軸）延伸積層フィルム、特に
縦（一軸）延伸積層フィルムに行うのが好ましい。塗布
方法としては特に限定されないが、例えば、ロールコー
ト法、ダイコート法などが挙げられる。

【００６０】上記塗液、特に水性塗液の固形分濃度は、
０．２〜８重量％、さらに０．３〜６重量％、特に０．
５〜４重量％であることが好ましい。そして、水性塗液
には、本発明の効果を妨げない範囲で、他の成分、例え
ば他の界面活性剤、安定剤、分散剤、紫外線吸収剤、増
粘剤などを添加することができる。

【００６１】本発明においては、磁気記録媒体としての
ヘッドタッチ、走行耐久性をはじめとする各種性能を向
上させ、同時に薄膜化を達成するには、積層フィルムの
ヤング率を、縦方向および横方向でそれぞれ、通常４５
００Ｎ／ｍｍ²以上および６０００Ｎ／ｍｍ²以上、好ま
しくは４８００Ｎ／ｍｍ²以上および６８００Ｎ／ｍｍ²
以上、さらに好ましくは５５００Ｎ／ｍｍ²以上および
８０００Ｎ／ｍｍ²以上、特に好ましくは５５００Ｎ／
ｍｍ²以上および１０，０００Ｎ／ｍｍ²以上とする。

【００６２】また、熱可塑性樹脂Ａ、Ｂの結晶化度は、
熱可塑性樹脂がポリエチレンテレフタレートの場合は３
０〜５０％、ポリエチレン−２，６−ナフタレートの場
合は２８〜３８％であることが望ましい。いずれも下限
を下回ると、熱収縮率が大きくなるし、一方上限を上回
るとフィルムの耐摩耗性が悪化し、ロールやガイドピン
表面と摺動した場合に白粉が生じやすくなる。

【００６３】本発明によれば、上記熱可塑性樹脂層Ａの
片面に上記熱可塑性樹脂層Ｂが積層されてなる積層熱可
塑性樹脂フィルム、および、熱可塑性樹脂層Ａの熱可塑
性樹脂層Ｂと接していない表面に塗膜層Ｃが積層されて
いる積層熱可塑性樹脂フィルムのそれぞれをベースフィ
ルムとする磁気記録媒体が同様に提供される。

【００６４】本発明の積層熱可塑性樹脂フィルムから磁
気記録媒体を製造する実施態様は、下記のとおりであ
る。

【００６５】すなわち、本発明の積層フィルムは、熱可
塑性樹脂層Ａ、好ましくは塗膜層Ｃの表面に、真空蒸
着、スパッタリング、イオンプレーティング等の方法に
より、鉄、コバルト、クロムまたはこれらを主成分とす
る合金もしくは酸化物よりなる強磁性金属薄膜層を形成
し、またその表面に、目的、用途、必要に応じてダイア
モンドライクカーボン（ＤＬＣ）などの保護層、含フッ
素カルボン酸系潤滑層を順次設け、さらに必要により、
熱可塑性樹脂層Ｂの磁性層とは反対側の表面に、公知の
方法でバックコート層を設けることにより、特に短波長
領域での出力、Ｓ／Ｎ、Ｃ／Ｎなどの電磁変換特性に優
れ、ドロップアウト、エラーレートの少ない高密度記録
用蒸着型磁気記録媒体とすることができる。この蒸着型
磁気記録媒体は、アナログ信号記録用Ｈｉ８、ディジタ
ル信号記録用ディジタルビデオカセットレコーダー（Ｄ
ＶＣ）、データ８ミリ、ＤＤＳＩＶ用磁気テープ媒体と
して極めて有用である。

【００６６】また、本発明の積層フィルムは、熱可塑性
樹脂層Ａ、好ましくは塗膜層Ｃの表面に、鉄または鉄を
主成分とする針状微細磁性粉（メタル粉）をポリ塩化ビ
ニル、塩化ビニル・酢酸ビニル共重合体などのバインダ
ーに均一に分散し、磁性層厚みが１μｍ以下、好ましく
は０．１〜１μｍとなるように塗布し、さらに必要によ
り、熱可塑性樹脂層Ｂの磁性層とは反対側の表面に、公
知の方法でバックコート層を設けることにより、特に短
波長領域での出力、Ｓ／Ｎ、Ｃ／Ｎなどの電磁変換特性
に優れ、ドロップアウト、エラーレートの少ない高密度
記録用メタル塗布型磁気記録媒体とすることができる。
また、必要に応じて熱可塑性樹脂層Ａまたは塗膜層Ｃの
表面に、上記メタル粉含有磁性層の下地層として微細な
酸化チタン粒子などを含有する非磁性層を磁性層と同様
の有機バインダー中に分散し、塗設することもできる。
このメタル塗布型磁気記録媒体は、アナログ信号記録用
８ミリビデオ、Ｈｉ８、βカムＳＰ、Ｗ−ＶＨＳ、ディ
ジタル信号記録用ディジタルビデオカセットレコーダー
（ＤＶＣ）、データ８ミリ、ＤＤＳＩＶ、ディジタルβ
カム、Ｄ２、Ｄ３、ＳＸなど用磁気テープ媒体として極
めて有用である。

【００６７】さらに、本発明の積層フィルムは、熱可塑
性樹脂層Ａ、好ましくは塗膜層Ｃの表面に、酸化鉄また
は酸化クロムなどの針状微細磁性粉、またはバリウムフ
ェライトなどの板状微細磁性粉をポリ塩化ビニル、塩化
ビニル・酢酸ビニル共重合体などのバインダーに均一に
分散し、磁性層厚みが１μｍ以下、好ましくは０．１〜
１μｍとなるように塗布し、さらに必要により、熱可塑
性樹脂層Ｂの磁性層とは反対側の表面に、公知の方法で
バックコート層を設けることにより、特に短波長領域で
の出力、Ｓ／Ｎ、Ｃ／Ｎ等の電磁変換特性に優れ、ドロ
ップアウト、エラーレートの少ない高密度記録用酸化物
塗布型磁気記録媒体とすることができる。また、必要に
応じて、熱可塑性樹脂層Ａまたは塗膜層Ｃの表面に、上
記酸化物粉末含有磁性層の下地層として微細な酸化チタ
ン粒子などを含有する非磁性層を磁性層と同様の有機バ
インダー中に分散し、塗設することもできる。この酸化
物塗布型磁気記録媒体は、ディジタル信号記録用データ
ストリーマー用ＱＩＣなどの高密度記録用酸化物塗布型
磁気記録媒体として有用である。

【００６８】上述のＷ−ＶＨＳはアナログのＨＤＴＶ信
号記録用ＶＴＲであり、またＤＶＣはディジタルのＨＤ
ＴＶ信号記録用として適用可能なものである。それゆ
え、本発明のフィルムは、これらＨＤＴＶ対応ＶＴＲ用
磁気記録媒体に極めて有用なベースフィルムと言うこと
ができる。

【００６９】

【実施例】以下、実施例を挙げ、本発明をさらに具体的
に説明するが、本発明はこれら実施例により限定される
ものではない。なお、実施例および比較例における
「部」および「％」は、特に断らない限り重量部および
重量％である。また、本発明における物性値および特性
は、それぞれ下記の方法で測定し、かつ定義されるもの
である。

【００７０】（１）固有粘度オルソクロロフェノール溶媒中３５℃で測定した値から
求める。

【００７１】（２）粒子の平均粒径（Ｉ）（平均粒径：
６０ｎｍ以上）株式会社島津製作所製「ＣＰ−５０型セントリヒューグ
ルパーティクルサイズアナライザー（Ｃｅｎｔｒ
ｉｆｕｇａｌＰａｒｔｉｃｌｅＳｉｚｅＡｎａｌｙ
ｚｅｒ）」を用いて測定した。得られる遠心沈降曲線を
基に算出した各粒径の粒子とその存在量との積算曲線か
ら、５０マスパーセントに相当する粒径「等価球直径」
を読み取り、この値を上記平均粒径（ｎｍ）とする
（「粒度測定技術」日刊工業新聞社発行、１９７５年、
頁２４２〜２４７）。

【００７２】（３）粒子の平均粒径（II）（平均粒径：
６０ｎｍ未満）小突起を形成する平均粒径６０ｎｍ未満の粒子は、光散
乱法を用いて測定した。すなわち、ニコンプインストゥ
ルメント株式会社（ＮｉｃｏｍｐＩｎｓｔｒｕｍｅｎ
ｔｓＩｎｃ．）製の商品名「ＮＩＣＯＭＰＭＯＤＥ
Ｌ２７０ＳＵＢＭＩＣＲＯＮＰＡＲＴＩＣＬＥ
ＳＩＺＥＲ」により求められる全粒子の５０％の点にあ
る粒子の「等価球直径」をもって、平均粒径（ｎｍ）と
する。

【００７３】（４）体積形状係数（ｆ）走査型電子顕微鏡により、用いたサイズに応じた倍率に
て各粒子の写真を撮影し、画像解析処理装置ルーゼック
ス５００（日本レギュレーター社製）を用い、投影面最
大径（Ｄ）（μｍ）および粒子の体積（Ｖ）（μｍ³）
を算出し、下式（II）により計算する。

【００７４】

【数２】ｆ＝Ｖ／Ｄ³ ・・・・・（II）

【００７５】（５）熱可塑性樹脂層Ａ、Ｂの厚み、およ
びフィルム全体の厚みフィルム全体の厚みはマイクロメーターにてランダムに
１０点測定し、その平均値を用いた。熱可塑性樹脂層
Ａ、Ｂの層厚については、薄い熱可塑性樹脂層の層厚み
を下記に述べる方法にて測定し、厚い熱可塑性樹脂層の
層厚みは、全厚みより塗膜層および薄い熱可塑性樹脂層
の層厚を引き算して求める。すなわち、二次イオン質量
分析装置（ＳＩＭＳ）を用いて、被覆層を除いた表層か
ら深さ５，０００ｎｍの範囲のフィルム中の粒子の内最
も高濃度の粒子に起因する金属元素（Ｍ⁺）と熱可塑性
樹脂（ポリエステル）の炭化水素（Ｃ⁺）の濃度比（Ｍ⁺
／Ｃ⁺）を粒子濃度とし、表面から深さ５，０００ｎｍ
まで厚さ方向の分析を行う。表層では表面という界面の
ために粒子濃度は低く、表面から遠ざかるにつれて粒子
濃度は高くなる。本発明の場合、粒子濃度は一旦安定値
１になったのち、上昇して安定値２になる場合と、単調
に減少する場合とがある。この分布曲線をもとに、前者
の場合は、（安定値１＋安定値２）／２の粒子濃度を与
える深さをもって、また後者の場合は粒子濃度が安定値
１の１／２になる深さ（この深さは安定値１を与える深
さよりも深い）をもって、薄い熱可塑性樹脂層の厚み
（μｍ）とする。

【００７６】測定条件は、以下のとおりである。（ａ）測定装置二次イオン質量分析装置（ＳＩＭＳ）；パーキン・エル
マー株式会社（ＰＥＲＫＩＮＥＬＭＥＲＩＮＣ．）
製、「６３００」（ｂ）測定条件一次イオン種：Ｏ²⁺ 一次イオン加速電圧：１２ＫＶ一次イオン電流：２００ｎＡラスター領域：４００μｍ□ 分析領域：ゲート３０％測定真空度：６．０×１０^-9ＴｏｒｒＥ−ＧＵＮＮ：０．５ＫＶ−３．０Ａなお、表層から５，０００ｎｍの範囲に最も多く存在す
る粒子がシリコーン樹脂以外の有機高分子粒子の場合は
ＳＩＭＳでは測定が難しいので、表面からエッチングし
ながらＦＴ−ＩＲ（フーリエトランスフォーム赤外分光
法）、粒子によってはＸＰＳ（Ｘ線光電分光法）などで
上記同様の濃度分布曲線を測定し、層厚（μｍ）を求め
る。

【００７７】（６）塗膜層Ｃの厚みフィルムの小片をエポキシ樹脂にて固定成形し、ミクロ
トームにて約６００オングストロームの厚みの超薄切片
（フィルムの流れ方向に平行に切断する）を作成した。
この試料を透過型電子顕微鏡（株式会社日立製作所製：
Ｈ−８００型）にて観察し、塗膜層Ｃの境界面を探して
塗膜層の厚み（ｎｍ）を求める。

【００７８】（７）表面粗さＷＲａＷＹＫＯ株式会社製の非接触三次元粗さ計、商品名「Ｔ
ＯＰＯ−３Ｄ」を用いて、測定倍率４０倍、測定面積２
４２μｍ×２３９μｍ（０．０５８ｍｍ²）の条件にて
測定を行い、表面粗さのプロフィル（オリジナルデー
タ）を得た。上記粗さ計内蔵ソフトによる表面解析によ
り、下式によって定義される中心面平均粗さ（ＷＲａ）
を得る。

【００７９】

【数３】

【００８０】また、Ｚjkは、測定方向（２４２μｍ）、
それと直行する方向（２３９μｍ）を、それぞれＭ分
割、Ｎ分割したときの各方向のｊ番目、ｋ番目の位置に
おける三次元粗さチャート上の高さである。

【００８１】十点平均粗さＷＲｚと同じ測定器を用い、同じ条件で測定して得られたデ
ーターから、同粗さ計内臓のソフトによる表面解析によ
り、ピーク（Ｈｐ）の高い方から５点と谷（Ｈｖ）の低
い方から５点をとった平均値を求めＷＲｚとする。

【００８２】

【数４】ＷＲｚ＝｛（Ｈｐ１＋Ｈｐ２＋Ｈｐ３＋Ｈｐ４
＋Ｈｐ５）−（Ｈｖ１＋Ｈｖ２＋Ｈｖ３＋Ｈｖ４＋Ｈｖ
５）｝／５

【００８３】（８）ヤング率東洋ボールドウィン株式会社製の引っ張り試験機、商品
名「テンシロン」を用いて、温度２０℃、湿度５０％に
調節された室内において、長さ３００ｎｍ、幅１２．７
ｍｍの試料フィルムを１０％／分のひずみ速度で引っ張
り、引っ張り応力−ひずみ曲線の初めの直線部分を用い
て下式（Ｖ）によって計算する。

【００８４】

【数５】Ｅ＝Δσ／Δε ・・・・・（Ｖ）ここで、Ｅはヤング率、Δσは直線上の２点間の元の平
均断面積による応力差、Δεは同じ２点間のひずみ差で
ある。

【００８５】（９）巻き取り性スリット時の巻き取り条件を最適化したのち、幅６００
ｍｍ×１２，０００ｍのサイズで、３０ロールを速度１
００ｍ／分でスリットし、スリット後のフィルム表面
に、ブツ状、突起やシワのないロールを良品として、以
下の基準にて巻き取り性を評価する。 ◎：良品ロールの本数２８本以上 ○：良品ロールの本数２５〜２７本 ×：良品ロールの本数２４本以下

【００８６】（１０）磁気テープの製造および特性（電
磁変換特性）評価積層熱可塑性樹脂フィルムの塗膜層Ｃの表面に、真空蒸
着法により、コバルト１００％の強磁性薄膜を０．２μ
ｍの厚みになるように２層（各層厚約０．１μｍ）形成
する。形成した強磁性薄膜の表面にダイヤモンドライク
カーボン（ＤＬＣ）膜、さらに含フッ素カルボン酸系潤
滑層を順次設け、さらに熱可塑性樹脂層Ａの表面に、公
知の方法でバックコート層を設ける。その後、８ｍｍ幅
にスリットし、市販の８ｍｍビデオカセットにローディ
ングした。次いで、下記の市販の機器を用いてテープの
特性（Ｃ／Ｎ）を測定する。

【００８７】（ａ）使用機器８ｍｍビデオテープレコーダー、ソニー株式会社製、商
品名「ＥＤＶ−６０００」株式会社シバソク製、ノイズ
メーター（ｂ）測定方法記録波長０．５μｍ（周波数約７．４ＭＨｚ）の信号を
記録し、その再生信号の６．４ＭＨｚと７．４ＭＨｚの
値の比をそのテープのＣ／Ｎとし、市販８ｍｍビデオ用
蒸着テープのＣ／Ｎを０ｄＢとし、相対値で評価する。

【００８８】（１１）（部分ケン化）エステルワックス炭素数が８個以上の脂肪族モノカルボン酸および多価ア
ルコールからなる（部分ケン化）エステルワックスとし
て下記のものを使用する。（ａ）；ソルビタントリステアレート（融点５５℃）（ｂ）；モンタン酸ジオールエステルを水酸化カルシウ
ムでケン化したもの、ヘキスト株式会社製、商品名「ワ
ックスＥ」、（融点８６℃）

【００８９】［実施例１］ジメチルテレフタレートとエ
チレングリコールとを、エステル交換触媒として酢酸マ
ンガン、重合触媒としてトリメリット酸チタン、安定剤
として亜リン酸を、さらに滑剤（不活性粒子Ａ）として
平均粒径６０ｎｍの球状シリカ（体積形状係数０．５）
を０．０３％（ポリマーに対し）添加して、常法により
重合し、固有粘度０．６０の熱可塑性樹脂層Ａ用のポリ
エチレンテレフタレート（樹脂Ａ１）を得た。

【００９０】さらに、上記と同様の方法で、滑剤（不活
性粒子Ｂ）として、平均粒径３００ｎｍのシリコーン粒
子および平均粒径１００ｎｍのθ型アルミナを、樹脂中
にそれぞれ０．０５％および０．２％添加して、常法に
より重合し、固有粘度０．６０のポリエチレンテレフタ
レートを得た。

【００９１】得られたポリエチレンテレフタレート９
９．７％に、ソルビタントリステアレート（ａ−１）の
粉末０．１５％をまぶし、ベント付き二軸ルーダーにて
練り込み、固有粘度０．５９の熱可塑性樹脂層Ｂ用のポ
リエチレンテレフタレート（樹脂Ｂ１）を得た。

【００９２】得られた樹脂Ａ１、樹脂Ｂ１を、それぞれ
１７０℃で３時間乾燥後、２台の押し出し機に供給し、
溶融温度２８０〜３００℃にて溶融し、平均目開き１１
μｍの鋼線フィルターで高精度ろ過したのち、マルチマ
ニホールド型共押出しダイを用いて、樹脂層Ａの片面に
樹脂層Ｂを積層させ、急冷して厚さ８９μｍの未延伸積
層熱可塑性樹脂フィルムを得た。

【００９３】得られた未延伸フィルムを予熱し、さらに
低速・高速のロール間でフィルム温度１００℃にて３．
３倍に延伸し、急冷して縦延伸フィルムを得た。次いで
縦延伸フィルムのＡ層側に下記に示す組成（固形分換
算）の水性塗液（全固形分濃度１．０％）をキスコート
法により塗布した。

【００９４】塗液の固形分組成バインダー：アクリル変性ポリエステル（高松油脂株式会社製、ＩＮ−１７０−６）６７％不活性粒子Ｃ：アクリルフィラー（平均粒径３０ｎｍ）（体積形状係数０．４０）（日本触媒株式会社製、エポスター）６％界面活性剤Ｘ：（日本油脂株式会社製、ノニオンＮＳ−２０８．５）１％界面活性剤Ｙ：（日本油脂株式会社製、ノニオンＮＳ−２４０）２６％Ｃ層厚み（乾燥後）：５ｎｍ

【００９５】続いてステンターに供給し、１１０℃にて
横方向に４．２倍に延伸した。得られた二軸延伸フィル
ムを、２２０℃の熱風で４秒間熱固定し、全厚み６．４
μｍで、熱可塑性樹脂層Ｂの厚み１．０μｍの積層二軸
配向ポリエステルフィルムを得た。このフィルムの熱可
塑性樹脂層Ａ、Ｂの厚みについては、２台の押し出し機
の吐出量により調整した。このフィルムの塗膜層Ｃ側の
表面から測定した表面粗さＷＲａは、１．７ｎｍ、この
フィルムのヤング率は縦方向５０００Ｎ／ｍｍ ²、横方
向７０００Ｎ／ｍｍ²であった。この積層フィルムのそ
の他の特性、およびこのフィルムを用いた強磁性薄膜蒸
着型磁気テープの特性を表１に示す。

【００９６】［実施例２］熱可塑性樹脂層Ａに粒子を含
有させないようにし、熱可塑性樹脂層Ｂに含有させる不
活性粒子Ｂの種類、平均粒径、添加量、および（部分ケ
ン化）エステルワックスの種類、添加量、塗膜層Ｃに添
加する不活性粒子Ｃの粒径を表１に示すとおり変更した
以外は、実施例１と同様にして積層熱可塑性樹脂フィル
ムを得た。得られたフィルムの特性、およびそのフィル
ムを用いた強磁性薄膜蒸着型磁気テープの特性を表１に
示す。

【００９７】［実施例３］熱可塑性樹脂層Ａに粒子を含
有させないようにし、熱可塑性樹脂層Ｂに含有させる不
活性粒子Ｂの種類、平均粒径、添加量、および（部分ケ
ン化）エステルワックスの添加量を表１に示すとおり変
更し、ジメチルテレフタレートの代わりに２，６−ナフ
タレンジカルボン酸ジメチルを同モル量使用した以外
は、実施例１と同様にして熱可塑性樹脂層Ａ、Ｂ用のポ
リエチレン−２，６−ナフタレート（ＰＥＮ）（樹脂Ａ
３、Ｂ３）を得た。

【００９８】この樹脂Ａ３、Ｂ３を、それぞれ１７０℃
で６時間乾燥後、実施例１と同様にして、各層厚みを調
整し、厚さ８９μｍの未延伸積層熱可塑性樹脂フィルム
を得た。

【００９９】得られた未延伸フィルムを予熱し、さらに
低速・高速のロール間でフィルム温度１３５℃にて３．
６倍に延伸し、急冷して縦延伸フィルムを得た。次いで
縦延伸フィルムのＡ層側に、不活性粒子Ｃをコアシェル
フィラー（コア；架橋ポリスチレン、シェル；ポリメチ
ルメタクリレート）（平均粒径；３０ｎｍ、体積形状係
数０．４５）ジェイエスアール株式会社製、「ＳＸ８７
２１」に変更した以外は実施例１と同じ組成の水性塗液
（全固形分濃度１．０％）を実施例１と同様に塗布し
た。

【０１００】続いてステンターに供給し、１５５℃にて
横方向に５．７倍に延伸した。得られた二軸延伸フィル
ムを、２００℃の熱風で４秒間熱固定し、全厚み４．４
μｍ、熱可塑性樹脂層Ｂの厚み０．６μｍの積層二軸配
向ポリエステルフィルムを得た。このフィルムの熱可塑
性樹脂層Ａ、Ｂの厚みについては、２台の押し出し機の
吐出量により調整した。このフィルムの塗膜層Ｃ側の表
面から測定した表面粗さＷＲａは、１．２ｎｍ、このフ
ィルムのヤング率は縦方向５５００Ｎ／ｍｍ²、横方向
１０，５００Ｎ／ｍｍ²であった。この積層フィルムの
その他の特性、およびこのフィルムを用いた強磁性薄膜
蒸着型磁気テープの特性を表１に示す。

【０１０１】［比較例１］熱可塑性樹脂層Ｂに（部分ケ
ン化）エステルワックスを含有させない以外は、実施例
１と同様にして積層熱可塑性樹脂フィルムを得た。得ら
れたフィルムは、ハンドリング性が悪く、十分な巻き取
り性を得ることができなかった。また、ブロッキング剥
離力を測定すると、フィルムが密着しており、むりやり
剥がそうとすると破れてしまった。その他の特性、およ
びこのフィルムを用いた強磁性薄膜蒸着型磁気テープの
特性を表１に示す。

【０１０２】［比較例２］熱可塑性樹脂層Ｂに含有させ
る不活性粒子Ｂの種類、平均粒径、添加量を表１に示す
ようにした以外は、実施例２と同様にして積層熱可塑性
樹脂フィルムを得た。得られたフィルムは、ハンドリン
グ性は良好であったが、Ｂ層側の突起の反対面への形状
転写の程度が強く、磁気テープにした際、十分な電磁変
換特性を得ることができなかった。その他の特性、およ
びこのフィルムを用いた強磁性薄膜蒸着型磁気テープの
特性を表１に示す。

【０１０３】

【表１】

【０１０４】表１から明らかなように、本発明による積
層熱可塑性樹脂フィルムは、片面が非常に平坦で、反対
面からの突起の形状転写も少なく、優れた電磁変換特性
を示すとともに、ワックス成分を添加した効果により、
巻き取り性が極めて良好である。一方、本発明の要件を
満たさないものは、これらの特性を同時に満足できな
い。

【０１０５】

【発明の効果】本発明によれば、巻き取り性、加工適性
に優れ、特に金属蒸着薄膜型磁気記録媒体としたときに
電磁変換特性に優れた積層熱可塑性樹脂フィルムを得る
ことができる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号ＦＩテーマコート゛(参考）Ｃ０８Ｌ 91/06 Ｃ０８Ｌ 91/06 Ｇ１１Ｂ 5/73 Ｇ１１Ｂ 5/73 // Ｃ０８Ｌ 101/00 Ｃ０８Ｌ 101/00 Ｆターム(参考） 4F100 AA20 AH02B AK01A AK01B AK42A AK42B BA02 BA03 BA10B BA10C BA15 CA23A CA23B CA23C CC00C DE01A DE01B DE01C DE04 EH20 EJ38 GB41 JB16A JB16B JK14A JK14B JL00 JL01 YY00B YY00C 4J002 BB001 BF001 CF031 CF061 CF071 CF081 CG001 CH001 CL001 CM041 EA016 EH026 EH046 GF00 5D006 CB01 CB05 CB06 CB07 CB08

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】熱可塑性樹脂層Ａの片面に、炭素数が８
個以上の脂肪族モノカルボン酸および多価アルコールか
らなる（部分ケン化）エステルワックスを含有する熱可
塑性樹脂層Ｂを積層した積層フィルムであって、下記
（１）〜（４）を満足することを特徴とする積層熱可塑
性樹脂フィルム。（１）Ａ層表面の表面粗さ（ＷＲａＡ）：０．１〜４ｎ
ｍ（２）Ｂ層中の平均粒径５０〜１，０００ｎｍの不活性
粒子Ｂの含有量：０．００１〜１重量％（３）（部分ケン化）エステルワックスの含有量：０．
００１〜１重量％（４）Ｂ層表面の十点平均粗さ（ＷＲｚＢ）：３０ｎｍ
〜３００ｎｍ
【請求項２】熱可塑性樹脂層ＡのＢ層と接しない面に
塗膜層Ｃが積層されている請求項１に記載の積層熱可塑
性樹脂フィルム。
【請求項３】塗膜層Ｃが、平均粒径１０〜５０ｎｍ、
体積形状係数０．１〜π／６の不活性粒子Ｃを０．５〜
３０重量％含有する請求項２に記載の積層熱可塑性樹脂
フィルム。
【請求項４】熱可塑性樹脂層Ａが実質的に粒子を含有
しない請求項１または２に記載の積層熱可塑性樹脂フィ
ルム。
【請求項５】熱可塑性樹脂層Ａが体積形状係数０．１
〜π／６、平均粒径３０〜４００ｎｍの不活性粒子Ａを
０．００１〜０．２重量％含有する請求項１または２に
記載の積層熱可塑性樹脂フィルム。
【請求項６】熱可塑性樹脂がポリエチレンテレフタレ
ートからなる請求項１〜５のいずれかに記載の積層熱可
塑性樹脂フィルム。
【請求項７】熱可塑性樹脂がポリエチレン−２，６−
ナフタレートからなる請求項１〜５のいずれかに記載の
積層熱可塑性樹脂フィルム。